半導体製造装置・材料に関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。
イオン注入装置の安定稼働とは？課題と対策・製品を解説
目的・課題で絞り込む
カテゴリで絞り込む
検査・測定装置 |
材料 |
自動化・ITソリューション |
製造装置 |
関連技術 |
その他半導体製造装置・材料 |
イオン注入におけるイオン注入装置の安定稼働とは？
各社の製品
絞り込み条件：
▼チェックした製品のカタログをダウンロード
一度にダウンロードできるカタログは20件までです。
1. DDR3 Hynix オリジナルDRAMチップ
2. DDR4 Hynix/SamsungオリジナルDRAMチップ
3. 迅速なサンプル注文の為の完璧な在庫ポートフォリオ
4. 産業用途アプリケーション向けの長期供給と固定BOM
【産業用】SODIMM/UDIMM DRAMモジュール
「アルミナセラミックス」は、ファインセラミックの中でも、
非常に汎用性のある素材です。
アルミナは、耐食性や耐摩耗性、機械的強度の高さに加え、高い
電気絶縁性を兼ね備えていることから、構造材料や耐摩耗材料、
電気部品などに幅広く利用。
また、強化アルミナ系は、機械的強度や放熱性、破壊靭性が高く、
特に対衝撃部材、対磨耗部材の用途に向いています。
【アルミナ系の特長】
■サファイヤと同じ結晶、コランダム(α-Al2O2)の結晶体
■機械的強度が高く、ダイヤモンドに次ぐ硬さを持つ
■耐磨耗性・熱伝導性・耐熱性に優れる
■電気的にも高温絶縁性や高周波特性に優れる
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
アルミナセラミックス製品の設計・開発・製造・販売
『イオン注入装置 ディスク再生サービス』は、バリアン、SEN、AMATすべての
バッチ式インプラディスクのフル再生、ヒートシンク再生ディスク修理、
Finger、Restraint等の部品販売も承るCore Systems社のサービスです。
ハイカレント・高エネルギーイオン注入装置バッチ式エンドステーション
ディスクは、長時間にわたるイオン照射によりウェハへのパーティクル付着、
元素レベルの汚染、エラストマーの経時変化による冷却能力低下やウェハ脱着の
不具合といった、管理上見過ごすことの出来ない問題が発生します。
部品洗浄やエラストマー交換を始めとするディスク再生を定期的に実施し、
これらの問題を未然に防ぐ必要があります。
高品質なディスク再生を低価格にてご提供いたします。
【特長】
■各メーカーのイオン注入装置に対応
■OEM仕様同等以上のウェハインターフェースをご提供
■新品パーツ購入よりも、格段に低価格でご提供
※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
イオン注入装置 ディスク再生サービス
『AT-520』は、VCSEL モジュール用の定電流/定電圧駆動電源です。
最大16チャンネル (1ボード4ch×4) の同時駆動が可能。
駆動条件はチャンネル毎に設定することができます。
また、インターフェースはRS-485とUSBを標準装備しています。
その他製品に関する詳細は、お問い合わせください。
【特長】
■小型
■最大16チャンネル (1ボード4ch×4) の同時駆動が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
VCSEL モジュール用マルチチャンネル通電装置『AT-520』
福興システムの取り扱う『簡易型APC駆動電源』についてご紹介します。
当製品は、簡単な操作でレーザーダイオード(LD)のACC(定電流)/
APC(定光出力)駆動が可能。また、インターフェースはRS232Cと
USBを標準装備しています。
尚、ジョグダイヤル、照光式スイッチ、トグルスイッチにより
操作が行えます。
【特長】
■小型
■軽量
■インターフェースはRS232CとUSBを標準装備
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
簡易型APC駆動電源
『オリジナルイオンゲージケーブル』は、接触不良や断線を起こしにくい
ケーブルです。
イオンゲージ側のコネクターを廃止し、ケーブルの柔軟性と耐久性を
よりよくする為の素材を選抜しました。
イオンゲージのPINに差し込む際も従来品より簡単かつ外れにくく、
ピンを1本差し替えるだけでフィラメントの入れ替えが可能です。
【特長】
■コネクターの接触不良が減少
■ケーブルの柔軟性がUP
■配線が容易
■取付簡単、クリップと5本差し込むだけでOK
■フィラメントの交換もスムーズ
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
オリジナルイオンゲージケーブル
お探しの製品は見つかりませんでした。
1 / 1
イオン注入におけるイオン注入装置の安定稼働
イオン注入におけるイオン注入装置の安定稼働とは？
半導体製造プロセスにおいて、特定の元素を半導体基板に打ち込む「イオン注入」は、デバイスの電気的特性を決定する重要な工程です。イオン注入装置は、このプロセスを担う精密機器であり、その安定稼働は半導体製品の品質と生産性を左右します。安定稼働とは、装置が設計通りの性能を維持し、予期せぬ停止や性能低下なく、長期間にわたり高品質なイオン注入を継続できる状態を指します。これは、歩留まり向上、製造コスト削減、そして市場への安定供給に不可欠です。
課題
装置内部の汚染による性能低下
イオン源やビームライン、ターゲットチャンバー内部に微細なパーティクルや残留物が蓄積し、イオンビームの均一性や注入精度が低下する。
真空度維持の困難さ
高真空環境がイオン注入の前提となるが、部品の劣化やシール材の不備により真空度が不安定になり、プロセス異常を引き起こす。
高電圧・高電流印加時の安定性
イオン加速に必要な高電圧・高電流印加時に、放電やアーク発生のリスクがあり、装置の損傷やプロセスの中断を招く。
消耗部品の寿命と交換頻度
イオン源フィラメントやターゲットホルダーなどの消耗部品は、使用に伴い劣化し、定期的な交換が必要となるが、そのタイミングの見極めや交換作業が安定稼働の妨げとなる。
対策
定期的な装置内クリーニングとメンテナンス
専門的な洗浄剤や清掃方法を用いて、装置内部の汚染物質を定期的に除去し、クリーンな状態を維持する。
高精度真空ポンプと漏洩検知システムの導入
高性能な真空ポンプシステムと、微細な真空漏れも早期に検知できる監視システムを導入し、常に最適な真空度を維持する。
高度な放電抑制・保護回路の搭載
放電やアーク発生を検知し、瞬時に電源を遮断する保護回路や、電圧・電流の変動を抑制する制御システムを搭載する。
予知保全による消耗部品管理
センサーデータや稼働実績に基づき、消耗部品の劣化度合いを予測し、最適なタイミングで交換することで、突発的な故障を防ぐ。
対策に役立つ製品例
高純度洗浄溶剤
装置内部の微細な汚染物質を効果的に除去し、イオンビームの品質を維持する。残留物が少なく、プロセスへの影響を最小限に抑える。
高性能真空シール材
長期間にわたり高い真空度を維持できる、耐熱性・耐薬品性に優れたシール材。真空漏れのリスクを低減し、安定したプロセス環境を提供する。
精密電源制御ユニット
高電圧・高電流印加時の微細な変動を抑制し、安定したイオンビームを生成する。放電やアーク発生のリスクを低減し、装置保護に貢献する。
稼働状況監視・分析ソフトウェア
装置の稼働データをリアルタイムで収集・分析し、消耗部品の劣化予測や異常検知を行う。予知保全を可能にし、計画的なメンテナンスを実現する。
