top of page
半導体製造装置・材料

半導体製造装置・材料に関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。

ホーム

>

半導体製造装置・材料

>

成膜プロセスの効率化とは?課題と対策・製品を解説

mushimegane.png

薄膜形成における成膜プロセスの効率化とは?

半導体製造において、微細かつ均一な薄膜を形成する成膜プロセスは、デバイス性能を左右する重要な工程です。このプロセスの効率化は、生産性向上、コスト削減、そしてより高性能な半導体チップの実現に不可欠です。

各社の製品

​▼チェックした製品のカタログをダウンロード

絞り込み条件:

​一度にダウンロードできるカタログは20件までです。

​▼チェックした製品のカタログをダウンロード

【ディスプレイ向け】真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』

【ディスプレイ向け】真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』
ディスプレイ業界の真空蒸着工程では、高品質な製品を安定的に生産するために、真空ポンプの信頼性が重要です。真空ポンプの不具合は、蒸着膜の品質低下や生産効率の悪化につながり、大きな損失を招く可能性があります。真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』は、真空ポンプの長寿命化と装置停止期間の短縮を支援します。 【活用シーン】 ・真空蒸着装置の真空ポンプメンテナンス ・ディスプレイ製造における生産ラインの安定化 ・真空ポンプの緊急修理対応 【導入の効果】 ・真空ポンプの信頼性向上による製品品質の安定化 ・装置停止時間の短縮による生産効率の向上 ・トータルコストの削減

【半導体製造向け】AL-Easy アルミフレーム用結束チューブ

【半導体製造向け】AL-Easy アルミフレーム用結束チューブ
半導体製造業界のクリーンルーム環境では、微細な塵埃の発生を抑制し、高い清浄度を維持することが重要です。配線の結束や保護は、清浄度を損なう要因の一つとなり得ます。配線がむき出しの状態では、塵埃の付着や発生のリスクが高まります。AL-Easy アルミフレーム用結束チューブは、アルミフレーム内の配線を保護し、クリーンルーム内の清浄度を維持するのに役立ちます。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内のアルミフレームを使用した設備 ・半導体製造装置 ・検査装置 【導入の効果】 ・配線からの塵埃発生を抑制 ・クリーンルーム内の清浄度維持に貢献 ・配線作業の効率化

【半導体成膜向け】真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』

【半導体成膜向け】真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』
半導体成膜プロセスにおいて、真空ポンプの安定稼働は、高品質な薄膜形成に不可欠です。真空ポンプの不調は、成膜不良や装置停止につながり、生産効率を著しく低下させる可能性があります。特に、成膜プロセスは高度な真空環境を要求されるため、真空ポンプのメンテナンスは非常に重要です。真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』は、メーカー対応終了品の対応、エクスチェンジ、レンタル対応等多様な対応で貴社の生産安定に協力します。 【活用シーン】 ・成膜装置の真空ポンプメンテナンス ・装置停止時の緊急対応 ・メーカー対応終了品の修理 【導入の効果】 ・成膜プロセスの安定化 ・装置停止リスクの低減 ・生産効率の向上

【半導体製造向け】薬液移送ポンプ『PL』

【半導体製造向け】薬液移送ポンプ『PL』
半導体製造業界では、微細化・高集積化が進む中で、製造プロセスにおける薬液の純度維持と精密な供給が極めて重要視されています。特に、高純度薬液の移送においては、コンタミネーションの防止や液質の変化を防ぐことが、製品の歩留まりや信頼性に直結します。従来のポンプでは、異物混入のリスクや圧力変動による流量の不安定さ、液漏れなどが課題となるケースがありました。当社のスムーズフローポンプ『PL』は、これらの課題を解決し、半導体製造プロセスにおける高純度薬液の安定供給を実現します。 【活用シーン】 ・高純度薬液の長距離移送 ・添加剤の精密注入 ・コンタミネーションを避けたいプロセス ・液質変化を避けたい薬液の移送 【導入の効果】 ・薬液の純度維持 ・安定した流量供給によるプロセス安定化 ・液漏れリスクの低減 ・歩留まり向上に貢献

【電子機器向け】バーチャルコミッショニング

【電子機器向け】バーチャルコミッショニング
電子機器業界では、製品の品質と生産効率の向上が常に求められています。特に、複雑化する製造プロセスにおいては、設備の立ち上げ期間の短縮、コスト削減、実機据付後の不具合解消が重要です。RF::Suiteのバーチャルコミッショニング技術は、現実の生産システムを仮想空間で再現し、PLC制御プログラムやロボットプログラムとの連携により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・電子機器製造工場の生産ライン ・ロボットシステムの導入・改善 ・PLC制御プログラムの検証 ・生産設備の立ち上げ 【導入の効果】 ・設備の立ち上げ期間の短縮 ・コスト削減 ・実機据付後の想定外不具合の解消 ・生産効率の向上 ・品質の安定化

【電子部品向け】真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』

【電子部品向け】真空ポンプメンテナンス『ヨミガエル』
電子部品業界では、製品の信頼性を高めるために、真空環境の維持が重要です。封止工程において、真空ポンプの性能維持は、製品の品質と歩留まりを左右します。真空ポンプの不具合は、封止不良や製品の性能劣化につながる可能性があります。当社『ヨミガエル』は、メーカー対応終了品の対応、エクスチェンジ、レンタル対応等多様な対応で貴社の生産安定に協力する真空ポンプメンテナンスです。 【活用シーン】 ・電子部品の封止工程 ・真空ポンプのメンテナンス ・緊急時のバックアップ体制 【導入の効果】 ・装置停止リスクの低減 ・生産性の向上 ・トータルコストの削減

【半導体製造向け】部材管理システム[スマートラックドライ]

【半導体製造向け】部材管理システム[スマートラックドライ]
半導体製造業界では、製品の品質を維持するために、吸湿性のある部品の適切な管理が求められます。特に、アルミパック開封後の部品は、湿度の影響を受けやすく、品質トラブルの原因となる可能性があります。これらの部品の防湿管理は、経験に依存しがちで、作業効率やヒューマンエラーの観点からも課題があります。当社の『スマートラックドライ』は、これらの課題を解決するために開発されました。 【活用シーン】 ・アルミパック開封後の吸湿部品の保管 ・トレー品、基板、箱もの部材の保管 ・温湿度管理の自動化 【導入の効果】 ・品質トラブルの未然防止 ・入出庫作業の大幅な効率化 ・ヒューマンエラーの防止

【電子材料向け】試験室用ミキサー【L5シリーズ】インラインモデル

【電子材料向け】試験室用ミキサー【L5シリーズ】インラインモデル
電子材料業界のコーティング工程では、均一な混合が製品の品質を左右します。 特に、微粒子を含む材料や粘度の高い材料を扱う場合、混合の均一性が課題となります。 不均一な混合は、コーティングの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。 インライン型ミキサー L5シリーズは、ラボスケールでのインライン混合を可能にし、 コーティング材料の均一な混合を実現します。 研究開発から生産工程へのスケールアップをスムーズにサポートします。 【活用シーン】 ・電子材料のコーティング ・塗料、インク、接着剤などの混合 ・研究開発におけるインライン混合のシミュレーション 【導入の効果】 ・均一な混合によるコーティング品質の向上 ・スケールアップ時の工程分析の効率化 ・材料の無駄を削減

【半導体 薄膜形成向け】スターラー付き温調ステージ

【半導体 薄膜形成向け】スターラー付き温調ステージ
半導体業界における薄膜形成プロセスでは、均一な膜厚と高品質な薄膜を得るために、温度管理が非常に重要です。特に、反応液の温度制御は、薄膜の結晶性や組成に大きな影響を与え、製品の性能を左右します。温度が不均一であったり、制御が不安定な場合、薄膜の品質が低下し、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、温度を精密に制御しながら、液体の撹拌を可能にし、薄膜形成プロセスの品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・薄膜形成における反応液の温度制御 ・前駆体溶液の撹拌と温度管理 ・成膜プロセスの最適化 【導入の効果】 ・薄膜の均一性向上 ・成膜プロセスの再現性向上 ・歩留まりの改善

【電池材料向け】高速分散ミキサー「ウルトラミックス」

【電池材料向け】高速分散ミキサー「ウルトラミックス」
電池材料業界では、高性能化を実現するために、材料の均一な混合が求められます。 特に、電極材料の分散性や、電解液の均一性は、電池の性能を大きく左右します。 不適切な混合は、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。 高速分散ミキサー「ウルトラミックス」は、粉体を素早く湿潤し、 均一な混合を実現することで、高性能電池材料の製造をサポートします。 【活用シーン】 ・電極材料(正極材、負極材)のスラリー調製 ・電解液の混合 ・バインダーや添加剤の分散 【導入の効果】 ・材料の均一性の向上 ・電池性能の向上(出力、寿命) ・製造プロセスの効率化 ・品質の安定化

【電子材料向け】卓上型分散機 magic PLANT

【電子材料向け】卓上型分散機 magic PLANT
電子材料業界における薄膜化プロセスでは、材料の均一な分散と精密な混合が、薄膜の品質を左右する重要な要素となります。特に、薄膜の性能を最大限に引き出すためには、材料の凝集を防ぎ、微細な粒子を均一に分散させることが不可欠です。magic PLANTは、真空、加圧、温調といった機能を備え、材料の状態を最適に保ちながら、均一な分散を実現します。これにより、薄膜の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料の研究開発 ・薄膜材料の試作 ・材料の分散・混合プロセス 【導入の効果】 ・薄膜の均一性向上 ・材料の無駄を削減 ・研究開発期間の短縮

【電池業界向け】Volkmannランプブレーカー

【電池業界向け】Volkmannランプブレーカー
電池材料は凝集しやすい傾向が有り、次工程の歩留まりを発生する事が見られます。Volkmannランプブレーカーは、これらの凝集塊を効率的に解砕し、材料の均一性を高めることで、生産工程の工場に貢献します。 【導入の効果】 ・材料の均一化による反応効率の向上 ・生産の安定化 ・歩留まりの向上

【電池向け】卓上型分散機 magic PLANT

【電池向け】卓上型分散機 magic PLANT
電池業界における電極作製では、均一な材料混合と分散が、電池の性能を左右する重要な要素です。電極材料の粒子径や分散状態が不均一な場合、電池の充放電効率が低下し、寿命が短くなる可能性があります。magic PLANTは、材料の特性に合わせて最適な混合・分散プロセスを提供し、電極作製の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電池材料(スラリー)の混合・分散 ・電極合材の調製 ・研究開発における少量サンプル作製 【導入の効果】 ・均一な材料分散による電池性能の向上 ・スケールアップを見据えた研究開発の効率化 ・多様な材料への対応による研究の幅の拡大

【半導体成膜向け】GP200シリーズ

【半導体成膜向け】GP200シリーズ
半導体製造における成膜プロセスでは、ガス流量のわずかな変動が膜厚や膜質に大きな影響を与えます。特にCVD・PVD・ALD工程では、高精度かつ再現性の高い流量制御が、デバイス性能と歩留まりを左右する重要な要素です。GP200シリーズは、差圧センサーと最適化されたコントロールバルブ設計により、高精度な流量計測と優れた再現性を実現。安定したプロセス制御を支援し、高品質な薄膜形成に貢献します。 【活用シーン】 ・CVD(化学気相成長)プロセス ・PVD(物理気相成長)プロセス ・ALD(原子層堆積)プロセス 【導入メリット】 ・膜厚均一性の向上 ・組成制御精度の向上 ・プロセス安定化による歩留まり改善 ・ガス供給の再現性向上

【電子材料向け】MSローラミル

【電子材料向け】MSローラミル
電子材料業界では、製品の高性能化に伴い、原料の微細化が求められています。特に、電子部品の製造においては、材料の均一な粒子径と高品質な粉砕が、製品の性能を左右する重要な要素となります。不適切な粉砕は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。MSローラミルは、粉砕、分級、空気輸送を組み合わせ、電子材料の微細化ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・電子材料の微粉砕 ・粉体材料の乾燥と粉砕 【導入の効果】 ・幅広い範囲の微粉砕に対応 ・乾燥工程の削減 ・粉塵の発生を抑制

【電池製造向け】リチウムイオン電池 電極材スラリー混合・分散機

【電池製造向け】リチウムイオン電池 電極材スラリー混合・分散機
電池製造業界では、電極材スラリーの均一性が、電池の性能を左右する重要な要素となります。特に、リチウムイオン電池においては、電極材の均一な分散が、充放電効率や寿命に大きく影響します。ダマの発生や均一性の低さは、電池の性能低下や不良品の増加につながる可能性があります。当社の混合・分散機は、粉体と液体を1パスで連続的に混合・分散し、均一なスラリー製造を可能にします。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池電極材スラリー製造 ・高粘度スラリー製造 ・短時間での大量スラリー製造 【導入の効果】 ・均一なスラリーによる電池性能の向上 ・生産時間の短縮 ・材料ロス削減

【監視システム向け】密着冷却用空冷サーモ・クーラー

【監視システム向け】密着冷却用空冷サーモ・クーラー
セキュリティ業界、特に監視システムにおいては、カメラやセンサーの安定した動作が不可欠です。高温環境下では、これらの電子機器の性能が低下し、誤作動や故障のリスクが高まります。これにより、監視の精度が落ち、セキュリティ上の問題につながる可能性があります。密着冷却用空冷サーモ・クーラーは、これらの問題を解決するために開発されました。 【活用シーン】 ・監視カメラ ・熱源となる電子機器 ・屋外設置のセンサー 【導入の効果】 ・機器の安定動作 ・誤作動のリスク低減 ・長寿命化

【半導体向け】光学薄膜コーティングの特性を計算『TFCalc』

【半導体向け】光学薄膜コーティングの特性を計算『TFCalc』
半導体業界では、デバイスの性能向上と歩留まり改善のため、光の反射を抑制する技術が不可欠です。特に、高密度化が進む中で、光の干渉による影響を最小限に抑えることが重要になります。TFCalcは、光学薄膜コーティングの設計とシミュレーションを行い、反射率を最小化するコーティングの最適化を支援します。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおける反射防止膜の設計 ・光学部品(レンズ、フィルター等)の反射防止コーティング設計 ・各種センサーデバイスの反射対策 【導入の効果】 ・反射率を低減し、デバイスの性能向上に貢献 ・コーティング設計の効率化と最適化 ・試作回数の削減とコスト削減

【半導体製造向け】カスタム対応特殊高圧電源

【半導体製造向け】カスタム対応特殊高圧電源
半導体製造における成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、高精度な電源制御が求められます。特に、均一な膜厚と高い再現性を実現するためには、電源の安定性が重要です。不適切な電源は、膜質の低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のカスタム対応特殊高圧電源は、成膜プロセスに最適な仕様で、1台から対応可能です。 【活用シーン】 ・スパッタリング ・CVD(化学気相成長) ・ALD(原子層堆積) 【導入の効果】 ・成膜プロセスの最適化 ・膜質の向上 ・歩留まりの改善

【電子材料向け】超高圧ホモジナイザーNAGS20

【電子材料向け】超高圧ホモジナイザーNAGS20
電子材料業界では、高性能化・高機能化を実現するために、材料の微細構造制御が求められます。特に、電子デバイスの性能を左右する材料においては、ナノレベルでの均一な分散・混合が重要です。不均一な分散は、デバイスの性能低下や信頼性の低下につながる可能性があります。当社の湿式ナノ分散機「超高圧ホモジナイザーNAGS20」は、電子材料のナノ分散を可能にし、材料の機能性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・導電性ペースト、インクの分散 ・バッテリー材料(正極、負極)の混合 ・全個体電池材料の分散 【導入の効果】 ・材料の均一な分散による性能向上 ・高機能材料開発の効率化 ・スケールアップの容易さ

【半導体製造装置向け】RedHawk Linux

【半導体製造装置向け】RedHawk Linux
半導体製造装置の分野では、高度な制御と精密な動作が求められます。製造プロセスにおけるわずかな遅延やエラーは、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。リアルタイムOSは、これらの課題に対し、正確なタイミング制御と高い信頼性を提供することで、製造効率の向上に貢献します。RedHawk Linuxは、5マイクロ秒未満のイベント応答を保証し、半導体製造装置のミッションクリティカルな環境に安全性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の精密制御 ・ウェーハ搬送システムのリアルタイム制御 ・検査装置の高速データ処理 【導入の効果】 ・製造プロセスの安定化 ・歩留まりの向上 ・装置の高性能化

【電子機器向け】レヒラー社製フラットジェットノズル

【電子機器向け】レヒラー社製フラットジェ��ットノズル
電子機器業界では製品の性能維持と長寿命化のために効果的なエッチング、冷却など不可欠です 特に高密度実装が進む現代の電子機器においては、局所的な過熱が性能劣化や故障の原因となるため、精密なエッチング、冷却技術が求められます。 レヒラー社製フラットジェットスプレーノズルは、均一な液体の散布により、電子機器の冷却効率を最適化し、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 1. ウェハー洗浄(純水・薬液スプレー) 有機物・金属汚染の洗浄 スプレー角度を最適化して均一洗浄 2. リンス工程(純水置換) 薬液残渣を均一に洗い流す ウェットプロセスの後工程で必須 3. 現像・エッチング工程の薬液スプレー 現像液・エッチング液を均一に供給 過剰現像やエッチングムラを防止 4. 冷却(ウェハー・基板・装置部品) 高密度実装基板やウェハーの冷却 均一な液膜で熱ムラを抑制 5. パーティクル除去(高圧洗浄) フラットノズルで微粒子を除去 ウェハー・FPD・ガラス基板の精密洗浄 【導入の効果】 ・均一な冷却による製品寿命の延長 ・過熱による性能劣化の防止 ・製造プロセスの安定化

【電池向け】小型インラインミキサー magic LAB

【電池向け】小型インラインミキサー magic LAB
電池業界では、高性能な電池を開発するために、スラリーの均一な混合が求められます。特に、電極材料の分散性が電池の性能を左右するため、スラリーの品質が重要です。不適切な混合は、電池の容量低下や寿命短縮につながる可能性があります。IKA magic LABは、インライン式による均一な混合・分散を卓上ラボスケールで実現し、電池スラリーの研究開発をサポートします。 【活用シーン】 ・電池材料(正極材、負極材、電解液など)のスラリー調製 ・ラボスケールでのスラリー混合条件の検討 ・少量しか使用できない高価な原料の研究 【導入の効果】 ・スラリーの均一性向上による電池性能の向上 ・スケールアップを見据えた研究開発の効率化 ・材料の有効活用によるコスト削減

【半導体製造向け】ロストワックス精密鋳造

【半導体製造向け】ロストワックス精密鋳造
半導体製造業界では、チャンバー部品の耐久性と精密性が求められます。特に、高温・高圧環境にさらされるチャンバー部品においては、高い耐性と精密な形状が、製造プロセスの安定性に不可欠です。不適切な部品は、チャンバーの故障や性能劣化につながる可能性があります。ロストワックス精密鋳造は、複雑な形状の部品を高い精度で製造し、コストダウンにも貢献します。 【活用シーン】 ・チャンバー部品 ・真空チャンバー部品 ・プラズマチャンバー部品 【導入の効果】 ・コストダウン ・部品の一体化による組立工程の削減 ・複雑形状の部品製造 ・幅広い材質への対応

【産業機器向け】DDR4 SDRAM

【産業機器向け】DDR4 SDRAM
製造業の品質管理においては、製品の信頼性を確保するために、データの高速処理が求められます。特に、検査装置や計測機器から得られる大量のデータをリアルタイムに処理し、品質異常を早期に発見することが重要です。DDR4 SDRAMは、高速なデータ転送速度と安定した性能により、品質管理システムのパフォーマンス向上に貢献します。ProMOSのDDR4 SDRAMは、幅広い温度範囲に対応しており、製造現場の厳しい環境下でも高い信頼性を発揮します。 【活用シーン】 ・検査装置のデータ処理 ・計測機器からのデータ収集 ・品質管理システムの高速化 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・品質異常の早期発見 ・生産効率の向上

【半導体製造装置向け】部品製造トータルサポート

【半導体製造装置向け】部品製造トータルサポート
半導体製造装置業界では、高度な精密性と安定性が求められます。微細加工においては、寸法の正確さ、表面の滑らかさ、そして異物混入の防止が、装置の性能を左右する重要な要素です。これらの要素が満たされない場合、歩留まりの低下や装置の故障につながる可能性があります。TBMの部品製造トータルサポートは、JISQ9100認証に裏打ちされた厳格な品質管理体制のもと、高精度かつ安定した品質の部品を提供することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の微細加工部品 ・高精度が求められる部品 ・品質と納期を両立したい場合 【導入の効果】 ・高品質な部品の安定供給 ・リードタイムの短縮 ・コストの最適化

【電池材料向け】粉砕機 スクリューフィーダー付き

【電池材料向け】粉砕機 スクリューフィーダー付き
電池材料業界では、均一なペーストの混練と、所望の粒度への微細化が、製品性能に影響を与える重要な工程です。不均一な混練や粒度のばらつきは、電池の充放電特性や寿命に影響を及ぼす可能性があります。当社の『モデル コミトロール3640A』は、ペースト状の材料を、設定したサイズの粒状に微細化するプロセッサであり、この課題に対応します。 【活用シーン】 ・ペースト状電池材料の微粉砕 ・均一な粒度分布の実現 ・少量から大容量の処理 【導入の効果】 ・電池材料の品質向上 ・安定した生産性の確保 ・多様な材料への対応力向上

【電子機器向け】マルジョウアルマイト

【電子機器向け】マルジョウアルマイト
電子機器業界では、デバイスの高密度化と高性能化に伴い、効果的な放熱対策が不可欠です。熱は電子部品の性能劣化や故障の原因となり、製品寿命を縮める可能性があります。アルミニウムは優れた熱伝導性を持ち、アルマイト処理を施すことで、放熱性能をさらに向上させることが可能です。株式会社マルジョウアルマイトの製品は、電子機器の放熱問題を解決し、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子機器筐体 ・ヒートシンク ・放熱板 【導入の効果】 ・放熱性の向上 ・製品寿命の延長 ・製品の信頼性向上

【電池向け】MHD2000 インラインミキサー

【電池向け】MHD2000 インラインミキサー
電池業界では、電極材料のスラリー混合において、均一性と生産効率が求められます。特に、電極の性能を左右するスラリーの品質は、粒子の分散性や混合の均一性が重要です。混合が不十分な場合、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。MHD2000インラインミキサーは、粉体と液体を1パスで連続的に混合、分散できる装置です。短時間で大量のスラリー製造に適しており、高粘度スラリーにも対応できます。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池、全固体電池、その他の次世代電池 ・電極合材(活物質、導電助剤、バインダーなど)のスラリー製造 ・電解液添加 【導入の効果】 ・均一なスラリー混合による電池性能の向上 ・生産時間の短縮と生産性の向上 ・材料ロスを削減し、コスト削減に貢献 ・スケールアップが容易

【半導体向け】Haskel社製 ガスブースター

【半導体向け】Haskel社製 ガスブースター
半導体業界の封入工程では、精密なガス圧制御が製品の品質と信頼性に直結します。特に、封入プロセスにおけるガスの正確な昇圧は、均一な充填と不良率の低減に不可欠です。不適切なガス圧は、封入不良や製品性能のばらつきを引き起こす可能性があります。ハスケル社製ガスブースターは、エア駆動で電気不要、かつエアラインの潤滑も不要なため、クリーンな環境が求められる半導体製造プロセスに適しています。エア駆動セクションとガスセクションが隔離されているため、ハイドロカーボンの混入がなく、高純度ガスを使用する封入工程の要求に応えます。 【活用シーン】 ・半導体封止材のガス注入 ・精密機器のガス充填 ・研究開発における高圧ガス供給 【導入の効果】 ・封入工程におけるガス圧の安定化 ・製品の品質向上と不良率の低減 ・クリーンな環境でのガス昇圧を実現

【電池材料向け】ハイフローSC型

【電池材料向け】ハイフローSC型
電池材料業界では、材料の均一な分散が製品の性能を左右します。特に、電極材料の製造においては、粉体の供給精度が重要であり、不均一な分散は、電池の性能低下や寿命短縮につながる可能性があります。ハイフローSC型は、スクレーパ式テーブルフィーダにより、精度の高い粉体定量供給を実現します。 【活用シーン】 ・電池材料の混合工程 ・電極材料の製造工程 ・粉体材料の分散工程 【導入の効果】 ・粉体供給量の高精度化 ・材料の均一な分散 ・製品の品質向上 ・歩留まりの向上

【電池材料向け】二軸式連続混合機

【電池材料向け】二軸式連続混合機
電池材料業界では、活物質の均一な混合と安定した搬送が、製品の性能と品質に大きく影響します。特に、製造プロセスの効率化とコスト削減は重要な課題です。不均一な混合は、電池の性能低下やばらつきの原因となる可能性があります。当社の二軸式連続混合機は、活物質の混合と搬送を同時に行うことで、これらの課題に対応し、インライン生産を可能にします。 【活用シーン】 ・活物質の混合・搬送 ・電池材料製造ライン ・粉体原料の連続処理 【導入の効果】 ・生産効率の向上 ・品質の安定化 ・省スペース化と低コスト化

【エレクトロニクス向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット

【エレクトロニクス向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット
エレクトロニクス業界のスパッタ用途では、高品質な薄膜形成が求められます。特に、半導体デバイスや電子部品の製造においては、ターゲット材の純度や均一性が製品の性能を左右します。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、耐食性や耐熱性に優れ、様々な電子部品の製造に利用されています。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高品質な薄膜形成を可能にし、お客様の製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造 ・電子部品製造 ・薄膜形成 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成 ・製品の信頼性向上 ・スパッタリング効率の向上

【電子部品向け】リチウムイオン電池電極材スラリー混合・分散機

【電子部品向け】リチウムイオン電池電極材スラリー混合・分散機
電子部品業界、特にリチウムイオン電池の電極材製造においては、材料の均一な混合が製品の性能を左右する重要な要素です。電極材スラリーの品質は、電池の充放電効率や寿命に直接影響するため、精密な混合技術が不可欠です。ダマの発生や均一性の低さは、製品の品質低下につながり、生産効率を著しく低下させる可能性があります。MHD2000インラインミキサーは、粉体と液体を1パスで連続的に混合・分散し、短時間で大量のスラリー製造を可能にします。高粘度スラリーにも対応し、電子部品製造における品質向上と生産効率の改善に貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池電極材の製造 ・高粘度スラリーの製造 ・粉体と液体の混合 ・均一な混合が必要な材料の製造 【導入の効果】 ・高品質な電極材スラリーの安定供給 ・生産時間の短縮 ・材料ロスを削減 ・スケールアップの容易さ ・テストによる製品適合性の確認

【半導体製造向け】PEEKチューブ<耐熱・耐薬品用途>

【半導体製造向け】PEEKチューブ<耐熱・耐薬品用途>
半導体製造の搬送ラインでは、微細な部品の正確な搬送と、製造プロセスにおける温度管理が重要となります。特に、高温環境下での安定した搬送や、微細な流体の制御が求められる場面では、高い耐熱性、機械的強度、そして精密な寸法精度を持つ素材が不可欠です。不適切な素材の使用は、搬送エラーや製品汚染のリスクを高め、製造効率の低下につながる可能性があります。当社のPEEK極細チューブは、これらの課題に対応するため、優れた耐熱性、機械的強度、耐摩耗性を持ち、-50~260℃(目安)の温度環境に対応します。内径φ0.025mmからの製造実績があり、特殊な搬送ラインのニーズにも柔軟に対応可能です。 【活用シーン】 ・高温環境下での搬送ライン ・微細部品の搬送 ・精密流体制御が必要なライン ・クリーンルームでの使用 【導入の効果】 ・搬送ラインの安定稼働に貢献 ・製品の汚染リスク低減 ・特殊サイズへの対応による設計自由度の向上 ・試作から量産までスムーズな導入

【電子部品向け】誘導発熱ジャケットロール

【電子部品向け】誘導発熱ジャケットロール
電子部品業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、乾燥工程における温度管理が重要です。温度ムラは、部品の特性に影響を与え、製品の性能を低下させる可能性があります。当社の誘導発熱ジャケットロールは、1℃以下の均一なロール表面温度を実現し、高品質な乾燥をサポートします。さらに、最大60%の省エネを実現し、ランニングコストを削減します。 【活用シーン】 * 電子部品の乾燥工程 * コーティング工程 【導入の効果】 * 高品質な電子部品の製造 * 省エネによるコスト削減 * 温度管理の安定化

【電池電極作製向け】湿式粉砕機、分散機、撹拌機

【電池電極作製向け】湿式粉砕機、分散機、撹拌機
電池業界の電極作製においては、電極材料の均一な混合と分散が、電池の性能を左右する重要な要素となります。特に、電極の耐久性や充放電効率を向上させるためには、材料の凝集を防ぎ、均一なスラリーを生成することが不可欠です。不均一な混合は、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。当社の湿式粉砕機、分散機、撹拌機は、短時間で均一な混合・分散を実現し、電極作製の課題を解決します。 【活用シーン】 ・電極材料(活物質、導電助剤、バインダーなど)の混合 ・スラリーの均一化 ・ダマの解消 ・高粘度材料の混合 【導入の効果】 ・混合時間の短縮 ・均一なスラリーの生成 ・電池性能の向上 ・生産効率の改善

【半導体製造プロセス向け】Orizuru 3D活用提案

【半導体製造プロセス向け】Orizuru 3D活用提案
半導体製造プロセスにおいては、設計データの3D化が進み、製造工程におけるデータ連携の効率化が求められています。3Dデータから2D図面への変換や見積もり作成に時間がかかり、製造リードタイムが長くなることが課題です。Orizuru 3Dは、3D形状処理技術を活用し、これらの課題を解決します。3Dデータから直接部品手配を可能にし、製造プロセスの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・3Dデータからの部品調達 ・見積もり時間の短縮 ・製造リードタイムの短縮 【導入の効果】 ・2D図面作成が不要になり、調達業務の効率化 ・開発期間の短縮 ・コア技術の内製化による競争力強化

【スマートフォン】リチウムイオン電池電極材スラリー混合・分散機

【スマートフォン】リチウムイオン電池電極材スラリー混合・分散機
スマートフォン業界では、製品の小型化と長寿命化を実現するために、高性能なリチウムイオン電池が求められます。電池の性能は電極材スラリーの均一性に大きく左右され、その品質は電池の充放電効率や寿命に直接影響します。ダマの発生や均一性の低さは、製品の品質低下や性能のばらつきにつながる可能性があります。MHD2000インラインミキサーは、粉体と液体を1パスで連続的に混合・分散し、高品質な電極材スラリーの安定供給を可能にします。これにより、スマートフォンの小型化と長寿命化に貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池電極材の製造 ・高粘度スラリーの製造 ・粉体と液体の混合 ・均一な混合が必要な材料の製造 【導入の効果】 ・高品質な電極材スラリーの安定供給 ・生産時間の短縮 ・材料ロスを削減 ・スケールアップの容易さ ・テストによる製品適合性の確認

【半導体製造向け】大型溶剤回収装置(連続式)

【半導体製造向け】大型溶剤回収装置(連続式)
半導体製造業界では、精密な洗浄工程において、使用済み洗浄液の再生・再利用が、コスト削減と環境負荷低減の観点から重要視されています。特に、洗浄液の品質維持と安定供給は、製品の歩留まりに直結するため、信頼性の高い再生プロセスが求められます。当社の『大型溶剤回収装置 CA-800シリーズ』は、廃溶剤の排出量が月1ton以上の処理に適しており、洗浄液の安定的な再生をサポートします。回収対象溶剤の沸点が凡そ250℃以下であれば、非防爆エリア、防爆エリアを問わず設置・溶剤回収が可能です。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における洗浄液の再生 ・廃溶剤排出量の削減 ・洗浄液の安定供給 【導入の効果】 ・洗浄液購入費の削減 ・廃溶剤処理費の削減 ・環境負荷の低減

【電子部品向け】スイングハンマミル

【電子部品向け】スイングハンマミル
電子部品業界では、材料の均一な粉末化が製品の品質と性能を左右します。特に、精密な配合が求められる電子材料においては、粉砕の均一性が重要です。不均一な粉砕は、製品の性能ばらつきや歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のスイングハンマミルは、小型ながらも効率的な粉砕を実現し、電子部品材料の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子部品材料の粉末化 ・研究開発における少量粉砕 ・材料の粒度調整 【導入の効果】 ・均一な粉砕による製品品質の向上 ・作業効率の向上 ・材料の無駄を削減

【半導体製造装置向け】汎用2次元CAD

【半導体製造装置向け】汎用2次元CAD
半導体製造装置業界では、装置の小型化と高密度化が進み、レイアウト設計の精度が重要になっています。特に、限られたスペースの中で、部品配置の最適化、配線経路の確保、干渉チェックなどが求められます。EASYDRAW Ver.30は、これらの課題に対し、大容量図面の編集、図面比較機能、PDF図面読込機能を提供することで、効率的かつ正確なレイアウト設計を支援します。 【活用シーン】 * 半導体製造装置のレイアウト設計 * 部品配置の検討 * 配線経路の設計 * 図面修正と変更管理 【導入の効果】 * 設計時間の短縮 * 設計ミスの削減 * コスト削減 * 設計品質の向上

【ディスプレイ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット

【ディスプレイ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能を左右します。特に、スパッタリング技術を用いた高品質な薄膜形成には、高純度Hfターゲットが不可欠です。Hfターゲットの純度と均一性が、ディスプレイの表示性能や耐久性に大きく影響します。当社製品は、高純度Hfターゲットを提供し、お客様のディスプレイ製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造におけるスパッタリング工程 ・薄膜トランジスタ(TFT)製造 ・タッチパネル製造 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成による表示性能の向上 ・製品の耐久性向上 ・歩留まりの改善

【電子機器向け】フラットジェットスプレーノズル

【電子機器向け】フラットジェットスプレーノズル
電子機器業界では、製品の性能を維持するために、冷却が重要な課題です。特に、高密度実装が進む中で、熱対策は製品寿命を左右する重要な要素となっています。冷却性能が低いと、部品の故障や性能劣化につながる可能性があります。レヒラーのフラットジェットノズルは、均一な液体の散布と強力なジェット圧により、電子機器の効率的な冷却を実現します。 【活用シーン】 ・電子基板の冷却 ・半導体製造工程での冷却 ・各種電子部品の冷却 ・エッチング 【導入の効果】 ・均一な冷却による製品寿命の向上 ・高い冷却効率による性能維持 ・幅広いラインナップによる多様なニーズへの対応

【半導体成膜向け】グラファイトヒーター

【半導体成膜向け】グラファイトヒーター
半導体業界の成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、精密な温度管理が不可欠です。特に、高温環境下での均一な温度分布と、高い耐久性が求められます。不適切な温度管理は、薄膜の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のグラファイト加工事例である高温炉・真空炉用ヒーター(エレメント)は、電気エネルギーを熱に変換し、炉内の温度を上昇させることで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・CVD(化学気相成長) ・PVD(物理蒸着) ・ALD(原子層堆積) 【導入の効果】 ・均一な温度分布による高品質な成膜 ・高い耐久性による安定した稼働 ・オーダーメイド対応による最適なサイズと形状

【電子材料向け】スケールアップ 分散機2000シリーズ

【電子材料向け】スケールアップ 分散機2000シリーズ
電子材料業界では、高性能化・高機能化が進む中で、材料の均一な分散と微細化が求められています。特に、ナノ材料や複合材料においては、分散状態が製品の性能を大きく左右します。不均一な分散は、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。IKA 2000シリーズ分散機は、卓上機から生産機まで同一の粉砕機構でシームレスなスケールアップを実現し、電子材料の高機能化をサポートします。 【活用シーン】 ・高機能電子材料の開発 ・ナノ材料の分散 ・複合材料の製造 ・高濃度スラリーの製造 【導入の効果】 ・均一な分散による製品性能の向上 ・スケールアップによる生産効率の向上 ・多様なモジュールによる幅広い材料への対応 ・研究開発から量産まで一貫したプロセス

【半導体製造向け】組立時間を「1/3」に短縮 アルミフレーム

【半導体製造向け】組立時間を「1/3」に短縮 アルミフレーム
半導体製造業界やクリーンルームにおいては、微細な塵埃の混入を防ぎ、高い清浄度を維持することが製品の品質に直結します。そのため、構造物の設置や改修においては、迅速かつ確実な施工が求められます。特に、デリケートな製造プロセスを中断させないための短納期対応や、限られた人員での作業効率向上が重要となります。当社の構造用アルミフレームシステム『レコフレーム』は、これらの課題に対し、独自のTロック結合方式により、従来のブラケット接続に比べ組立時間を約1/3に短縮し、現場作業の大幅な効率化を実現します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の作業ブース、パーティション設置 ・検査装置、製造装置周辺の架台・フレーム構築 ・短納期でのレイアウト変更や増設 ・人手不足の現場での省力化 【導入の効果】 ・組立時間の短縮による工期短縮 ・作業員の負担軽減と省力化 ・ブラケット不要によるスマートな外観と設計自由度の向上 ・高精度・高剛性による安定した構造物の実現

【半導体検査装置向け】最大荷重10kg・Zステージ L-310

【半導体検査装置向け】最大荷重10kg・Zステージ L-310
半導体検査工程では、ウェーハやチップの微細な欠陥を正確に検出するため、ナノレベルでの精密な位置制御が求められます。特に検査カメラやセンサーのフォーカス調整、ウェーハ高さ位置の制御では、安定したZ方向の位置決めが検査精度を左右します。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性により、半導体検査装置における安定したZ方向ポジショニングを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置 ・半導体チップ検査装置 ・画像処理検査装置 ・検査カメラのフォーカス調整 ・プローブ高さ調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置制御による検査精度の向上 ・安定した動作による検査データの信頼性向上 ・高デューティサイクル対応による長時間運転 ・不良検出精度向上による歩留まり改善

【通信高速化向け】半導体製造装置用部品

【通信高速化向け】半導体製造装置用部品
通信業界における高速化のニーズに応えるためには、半導体製造装置の信頼性と性能が不可欠です。 特に、5Gやそれ以降の通信規格に対応するためには、高精度な部品が求められます。 部品の品質が、通信速度や安定性に直接影響を与えるため、信頼性の高い部品調達が重要です。 TAITOHの半導体製造装置用部品は、多様な材質と加工方法に対応し、通信インフラの高速化を支えます。 【活用シーン】 ・5G基地局 ・データセンター ・高速通信機器 【導入の効果】 ・通信速度の向上 ・システムの安定性向上 ・長期的な運用コストの削減

【半導体製造向け】KNF N96シリーズ 真空・コンプレッサー

【半導体製造向け】KNF N96シリーズ 真空・コンプレッサー
半導体製造業界では、製造プロセスにおける真空搬送が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、デリケートな半導体ウェーハや部材を扱う際には、正確な圧力制御とリーク対策が不可欠です。不適切な真空環境は、製品の汚染や性能劣化を引き起こす可能性があります。KNF N96シリーズは、これらの課題に対応するために設計されました。 【活用シーン】 ・真空搬送システム ・真空チャンバー ・ガス供給システム 【導入の効果】 ・ウエットなガス、凝縮ガスの移送が可能 ・大気開放することなく、減圧状態または陽圧状態からの再起動が可能 ・リークタイト設計により、真空度の維持に貢献
nowloading.gif

​お探しの製品は見つかりませんでした。

1 / 7

薄膜形成における成膜プロセスの効率化

薄膜形成における成膜プロセスの効率化とは?

半導体製造において、微細かつ均一な薄膜を形成する成膜プロセスは、デバイス性能を左右する重要な工程です。このプロセスの効率化は、生産性向上、コスト削減、そしてより高性能な半導体チップの実現に不可欠です。

​課題

成膜時間の長期化

要求される膜厚や均一性を得るために、成膜に長時間要し、生産ライン全体のスループットを低下させている。

歩留まりの低下

成膜中の欠陥発生や膜質ムラにより、良品率が低下し、材料ロスや再加工コストが増大している。

材料消費量の増大

成膜効率が悪く、目的とする膜厚を得るために過剰な原料ガスやターゲット材を消費し、コストアップに繋がっている。

プロセス制御の複雑化

微細化・多層化に伴い、成膜条件の最適化や管理が複雑化し、熟練オペレーターへの依存度が高まっている。

​対策

成膜速度の向上

より高密度なプラズマ生成技術や、反応効率の高いガス種・プロセス条件の採用により、単位時間あたりの成膜量を増加させる。

均一性・再現性の改善

ウェーハ全面に均一な成膜を可能にする装置設計や、精密なプロセス制御システムにより、膜厚ムラや組成バラつきを抑制する。

原料利用効率の最適化

成膜反応を促進する触媒技術や、原料ガスの供給・制御技術の高度化により、無駄なく材料を成膜に利用する。

自動化・知能化の推進

AIや機械学習を活用したプロセス最適化、リアルタイムモニタリング、自動レシピ生成により、人的ミスを削減し、効率的な運用を実現する。

​対策に役立つ製品例

高密度プラズマ発生装置

より少ないエネルギーで高密度のプラズマを生成し、成膜速度と膜質を向上させることで、成膜時間の短縮と歩留まり改善に貢献する。

精密ガス供給・制御システム

原料ガスの流量や混合比を極めて高精度に制御し、成膜反応の安定化と均一性を実現することで、材料消費量の削減と歩留まり向上に寄与する。

インライン膜質評価・フィードバックシステム

成膜中にリアルタイムで膜質を評価し、そのデータをプロセス制御にフィードバックすることで、欠陥の早期発見と歩留まりの安定化を可能にする。

プロセス最適化支援ソフトウェア

過去の成膜データやシミュレーション結果に基づき、最適な成膜条件を提案・自動設定することで、プロセス開発期間の短縮と効率的な運用を支援する。

目的・課題で絞り込む

​カテゴリで絞り込む

検査・測定装置
材料
自動化・ITソリューション
製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
nowloading.gif

⭐今週のピックアップ

noimage_l.gif

読み込み中

ikkatsu_maru_flat_shadow.png
bottom of page