成膜プロセスの効率化とは？課題と対策・製品を解説

エレクトロニクス業界のスパッタ用途では、高品質な薄膜形成が求められます。特に、半導体デバイスや電子部品の製造においては、ターゲット材の純度や均一性が製品の性能を左右します。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、耐食性や耐熱性に優れ、様々な電子部品の製造に利用されています。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高品質な薄膜形成を可能にし、お客様の製品の信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造
・電子部品製造
・薄膜形成

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成
・製品の信頼性向上
・スパッタリング効率の向上

電池業界では、高性能な電池を開発するために、スラリーの均一な混合が求められます。特に、電極材料の分散性が電池の性能を左右するため、スラリーの品質が重要です。不適切な混合は、電池の容量低下や寿命短縮につながる可能性があります。IKA magic LABは、インライン式による均一な混合・分散を卓上ラボスケールで実現し、電池スラリーの研究開発をサポートします。

【活用シーン】
・電池材料（正極材、負極材、電解液など）のスラリー調製
・ラボスケールでのスラリー混合条件の検討
・少量しか使用できない高価な原料の研究

【導入の効果】
・スラリーの均一性向上による電池性能の向上
・スケールアップを見据えた研究開発の効率化
・材料の有効活用によるコスト削減

電子機器業界では、製造工程の効率化が、コスト削減と納期短縮に不可欠です。特に、部品点数の増加や複雑化する工程において、生産リードタイムの長さは、在庫の増加や機会損失につながる可能性があります。この動画では、在庫管理の基本として、生産リードタイムの短縮について解説しています。

【活用シーン】
・電子機器の製造工程における在庫管理
・部品の調達から製造、納品までのリードタイム短縮

【導入の効果】
・在庫金額の削減
・製品の供給体制の安定化
・顧客満足度の向上

電子機器業界において、コンデンサは製品の小型化と高性能化を両立するために重要な役割を担っています。特に、高い信頼性と長寿命が求められるコンデンサにおいては、高品質な材料の選定が不可欠です。タンタル(Ta)ターゲットは、このようなニーズに応えるために開発されました。

【活用シーン】
・コンデンサ製造
・電子デバイス製造

【導入の効果】
・コンデンサの性能向上
・製品の信頼性向上
・薄膜堆積効率の向上

精密機器業界では、製品の高性能化と小型化に伴い、薄膜技術の精度が重要視されています。特に、耐久性や信頼性が求められる精密部品においては、高品質な薄膜の形成が不可欠です。薄膜の品質が低いと、製品の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高品質なスパッタリング成膜を実現し、精密機器の薄膜形成に最適な素材を提供します。

【活用シーン】
・センサー
・MEMSデバイス
・光学部品
・電子部品

【導入の効果】
・高精度な薄膜形成
・高い耐久性
・均一な膜厚
・多様な材料への対応

電池材料の輸送・供給においては、粉塵の発生が問題となり、作業環境の悪化や製品不良のリスクを高めます。特に作業員の方の粉体の吸込みリスクは非常に重要視されています。
VOLKMANNバキュームコンベアは、密閉構造により発塵を抑制し、クリーンな環境を提供することで、これらの課題を解決します。

【活用シーン】
・電池材料(リチウム、ニッケル・コバルト・マンガン酸化物等)の製造工場での粉体輸送
・クリーンルーム内での粉体搬送
・粉塵爆発のリスクがある環境での粉体搬送

【導入の効果】
・作業環境の改善
・製品品質の向上
・生産効率の向上
・安全性の確保

電池業界では、電極材料のスラリー混合において、均一性と生産効率が求められます。特に、電極の性能を左右するスラリーの品質は、粒子の分散性や混合の均一性が重要です。混合が不十分な場合、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。MHD2000インラインミキサーは、粉体と液体を1パスで連続的に混合、分散できる装置です。短時間で大量のスラリー製造に適しており、高粘度スラリーにも対応できます。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池、全固体電池、その他の次世代電池
・電極合材（活物質、導電助剤、バインダーなど）のスラリー製造
・電解液添加

【導入の効果】
・均一なスラリー混合による電池性能の向上
・生産時間の短縮と生産性の向上
・材料ロスを削減し、コスト削減に貢献
・スケールアップが容易

セキュリティ業界、特に監視システムにおいては、カメラやセンサーの安定した動作が不可欠です。高温環境下では、これらの電子機器の性能が低下し、誤作動や故障のリスクが高まります。これにより、監視の精度が落ち、セキュリティ上の問題につながる可能性があります。密着冷却用空冷サーモ・クーラーは、これらの問題を解決するために開発されました。

【活用シーン】
・監視カメラ
・熱源となる電子機器
・屋外設置のセンサー

【導入の効果】
・機器の安定動作
・誤作動のリスク低減
・長寿命化

半導体製造業界では、製造プロセスにおける排気ガスの効率的な処理が求められます。特に、真空環境下でのガス排出は、製品の品質と製造効率に大きく影響します。不適切な排気は、製品の不良や製造時間の増加につながる可能性があります。KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプは、高い真空度と圧力性能により、半導体製造における排気プロセスを最適化します。

【活用シーン】
・半導体製造装置の排気
・真空チャンバーからのガス排出
・分析装置におけるガス排出

【導入の効果】
・高い真空度と圧力性能による効率的な排気
・製品品質の向上
・製造プロセスの最適化

ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能を左右します。特に、スパッタリング技術を用いた高品質な薄膜形成には、高純度Hfターゲットが不可欠です。Hfターゲットの純度と均一性が、ディスプレイの表示性能や耐久性に大きく影響します。当社製品は、高純度Hfターゲットを提供し、お客様のディスプレイ製品の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造におけるスパッタリング工程
・薄膜トランジスタ（TFT）製造
・タッチパネル製造

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成による表示性能の向上
・製品の耐久性向上
・歩留まりの改善

半導体業界において、薄膜はデバイスの性能を左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薄膜の均一性、密着性、耐熱性、耐食性が求められます。不適切な薄膜形成は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のタンタル(Ta)ターゲットは、高品質な薄膜形成を可能にし、半導体デバイスの信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・PVD/CVDプロセスにおける薄膜形成
・半導体デバイスの配線形成
・高密度記録媒体の製造

【導入の効果】
・薄膜の均一性向上
・デバイスの性能向上
・歩留まりの改善

半導体業界における薄膜形成プロセスでは、均一な膜厚と高品質な薄膜を得るために、温度管理が非常に重要です。特に、反応液の温度制御は、薄膜の結晶性や組成に大きな影響を与え、製品の性能を左右します。温度が不均一であったり、制御が不安定な場合、薄膜の品質が低下し、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、温度を精密に制御しながら、液体の撹拌を可能にし、薄膜形成プロセスの品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・薄膜形成における反応液の温度制御
・前駆体溶液の撹拌と温度管理
・成膜プロセスの最適化

【導入の効果】
・薄膜の均一性向上
・成膜プロセスの再現性向上
・歩留まりの改善

半導体製造業界では、製造プロセスにおける真空搬送が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、デリケートな半導体ウェーハや部材を扱う際には、正確な圧力制御とリーク対策が不可欠です。不適切な真空環境は、製品の汚染や性能劣化を引き起こす可能性があります。KNF N96シリーズは、これらの課題に対応するために設計されました。

【活用シーン】
・真空搬送システム
・真空チャンバー
・ガス供給システム

【導入の効果】
・ウエットなガス、凝縮ガスの移送が可能
・大気開放することなく、減圧状態または陽圧状態からの再起動が可能
・リークタイト設計により、真空度の維持に貢献

ディスプレイ業界における成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成が求められます。特に、ディスプレイの表示性能を左右する薄膜の均一性や密着性は重要です。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、これらの要求に応えるための材料です。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造におけるスパッタリング成膜
・高品質な薄膜形成が必要な場面

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成によるディスプレイ性能の向上
・安定した成膜プロセスの実現

通信業界、特に高周波用途においては、信号の伝送効率とデバイスの耐久性が重要な課題です。高周波デバイスは、高温環境や電磁波の影響を受けやすく、使用される材料の品質が性能を大きく左右します。タンタル(Ta)ターゲットは、高耐熱性、優れた耐蝕性、良好な導電性を持ち、これらの課題に対応します。当社タンタル(Ta)ターゲットは、高品質な薄膜形成を実現し、通信デバイスの高性能化に貢献します。

【活用シーン】
・高周波フィルター
・高周波アンプ
・通信衛星部品
・5G基地局

【導入の効果】
・高周波特性の向上
・デバイスの長寿命化
・信号伝送の安定性向上
・薄膜堆積効率の向上

半導体製造における成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、高精度な電源制御が求められます。特に、均一な膜厚と高い再現性を実現するためには、電源の安定性が重要です。不適切な電源は、膜質の低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のカスタム対応特殊高圧電源は、成膜プロセスに最適な仕様で、1台から対応可能です。

【活用シーン】
・スパッタリング
・CVD（化学気相成長）
・ALD（原子層堆積）

【導入の効果】
・成膜プロセスの最適化
・膜質の向上
・歩留まりの改善

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、高温環境下での精密な温度制御は、半導体デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠です。不適切な断熱は、温度ムラやエネルギー損失を引き起こし、生産効率の低下につながる可能性があります。イソライト工業のLTC-ES超低熱伝導率材料、１６００ＳＦブランケットは、優れた断熱性能により、安定した温度環境を提供し、半導体製造における課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造装置の断熱
・高温環境下での部品保護
・熱処理工程における温度管理

【導入の効果】
・温度分布の均一化
・エネルギーコストの削減
・製品品質の向上

半導体業界において、スパッタリングは高品質な薄膜形成に不可欠です。特に、高集積化が進む中で、ターゲット材の純度と均一性が、デバイスの性能を左右する重要な要素となります。不純物の混入や膜厚のばらつきは、製品の歩留まり低下や信頼性問題を引き起こす可能性があります。当社タングステン(W)ターゲットは、高純度（≧5N）を実現し、スパッタリング効率を向上させることで、これらの課題を解決します。

【活用シーン】
・半導体製造における薄膜形成
・高密度デバイス製造
・スパッタリングによる金属膜形成

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成によるデバイス性能向上
・歩留まりの改善
・信頼性の高い製品の実現

電池業界の電極作製においては、電極材料の均一な混合と分散が、電池の性能を左右する重要な要素となります。特に、電極の耐久性や充放電効率を向上させるためには、材料の凝集を防ぎ、均一なスラリーを生成することが不可欠です。不均一な混合は、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。当社の湿式粉砕機、分散機、撹拌機は、短時間で均一な混合・分散を実現し、電極作製の課題を解決します。

【活用シーン】
・電極材料（活物質、導電助剤、バインダーなど）の混合
・スラリーの均一化
・ダマの解消
・高粘度材料の混合

【導入の効果】
・混合時間の短縮
・均一なスラリーの生成
・電池性能の向上
・生産効率の改善

羽生田鉄工所では、真空／加圧／加熱、等の雰囲気処理装置の仕様検討から設計・製作・組み立て・納品までをワンストップで行っております。
これまで半導体製造工程で使用する様々な装置向けの圧力容器を手掛けて参りました。
半導体デバイスのボイド対策に適した圧力容器の製作や新たな製造工法の研究などで試作機を作るお手伝いをさせていただくことが多いです。
ご要望に合わせて全てオーダーメイドで対応いたします。

新たな製造工法をご検討の場合、弊社常設の加圧加熱処理装置にて実験も可能です。

【特長】
■φ250の小型容器からφ3000の大型容器まで製作いたします。

※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『フレキシブル ジャケットヒーター』は、半導体配管の最適化アイテムとして、
副生成物付着防止、供給ガスのヒーティングシステムです。

多重絶縁構造のアース付きフレキシブル発熱エレメントは安全性が高く丈夫で、
専用の温調＆モニターシステムにより、温度制御とモニターをします。

また、ダウンタイムを減らし、配管の洗浄費用を低減。
排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管に使用されています。

【特長】
■脱着が簡単
■丈夫で長持ち
■最小径φ6.3mm
■フレキシブルで複雑な形状にもフィット
■クリーンルームClass10

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体配管の最適化重要アイテム、ジャケットヒーターシステムです。

配管内の副生成物付着防止・供給ガスのヒーティングや
排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管の加熱用ヒーター

【特長】
・200℃までの高温まで加熱可能
・多重絶縁構造のアース付きフレキシブル発熱エレメントは高安全性で丈夫
・コールドスポットがなく、温度均一性に優れます
・半導体装置用のクリーンルーム用途を目的とした低発塵性タイプを用意
・フレキシブルで脱着性、フィット感がよい
・CEマーク、UL認定有り

【専用の温調 & モニターシステム 】
・通信機能で各ジャケットヒーターの温度制御とモニターします
・各ジャケット毎のPID制御でさらに温度均一性を高めます
・異常箇所はすぐ認知
・１台でジャケットヒーター40ヶ分をモニター可能
・コンパクトで場所をとりません
・温度制御線、電源供給線、モニター費を低減します

■導入メリット
・ダウンタイムの削減
・洗浄費用を低減
・機器への接触事故を防止
・副生成物の飛散を抑え、作業環境を改善

当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。

【特長】
■最大150wphのスループット
■ばらつきが1％未満の均一性
■設置面積2m2未満
■タンクシステムによる化学物質の再循環
■sic/GaNでプロセス実行可能
■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能
■抽出可能なプロセスチャンバー



※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

日本機能材料株式会社では、欧米を中心とした、プロセス会社＋基板材料会社の世界的な連合との間の適切な橋渡しをしております。
「エピ成長」「酸化」「装着・スパッター」「ウェーハ研磨」「レーザー加工」「その他プロセス」などのプロセスサービス及び「FZウェーハ」「CZウェーハ」「SOIウェーハ」「SOSウェーハ」「その他ウェーハ」などのウェーハ基板を提供いたします。

【特長】
○装置不要
○専門技術者不要
○オペレータ不要
⇒プロセスサービス外注

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『RAMフォース』は、プラスティックフィルム上へ光学膜やメタル等の
多層成膜をすることができるロールtoロールスパッタリング装置です。

RAMカソード（低ダメージカソード）の性能評価ばかりでなく、
ラボの条件下で自分のアプリケーションをテストし、パイロットラインから
量産ラインへと展開することができます。

【特長】
■特許取得
■基板へのダメージを60%以上低減
※従来の平板式スパッタリングとRAMカソードとの比較
■成膜速度を3倍以上向上
※従来の対向式スパッタリングとRAMカソードとの比較
■京浜ラムテックの独自技術

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

洗浄王Fシリーズはパーティクル（微粒子）を除去するコンパクト洗浄機です。
フッ素系溶剤を使用するため熱をかけずに乾燥することが可能で、コスト削減につながります。
弊社では各種メーカーの溶剤を取り揃えており、お客様のニーズに合った溶剤を提案いたします。
センサーや液晶の洗浄に最適です。
テストルームのご用意もございます。

詳細はお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

エドワーズでは、リチウム電池の製造工程において、特に乾燥工程にて多くの真空ポンプ（ドライポンプ）の設置実績がございます。
これまでの豊富な知識と実績により、最適な真空ソリューションをご提供いたします。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『TruPlasma MF 7000（G2）シリーズ』のジェネレータを使用すれば、
非常に重要なプロセスでも完全にコントロールを握ることができます。

たとえば、建築用ガラスへのSiOxなど難度の高い材料のコーティング、
フラットパネルスクリーンへのAlxOyコーティング、ソーラーガラスへの
TCOコーティングなどです。

当社が開発した高度なMF技術により、非常に薄く（nmレベル）、高強度で
完全に均質なレイヤにすることが可能。豊富な周波数ラインアップにより、
様々なプロセスで活用いただけます。

【主な利点】
■高い反応速度とそれに対応する残留エネルギーの低減により、
　安定したプロセスと最大限のスパッタ率が確保される
■フレキシブルな冷却コンセプト
■独自技術"イグニッションサポート"技術により、効果的なプラズマ点火
■豊富な周波数ラインアップにより、様々なプロセスで活用可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社のコンポーネントは、ドロップインのマグネット リッドまたは広範囲の
アプリケーションに対応した側面取り付けプロセスユニットとして、
パッケージでも使用可能です。

ノズルまたはバイナリーチャンネルとして、シングルまたはマルチセグメントの
ガス導入設計。様々な磁界設計とエンドブロックタイプのツールボックスです。

お客様のプロセスのニーズに応じたガス導入設計。アプリケーション依存の
セットアップが制限なく可能です。

【特長】
■アプリケーションのさまざまな分野で、現場実証済みのテクノロジー
■ポンプ内臓プロセス リッドを提供
■様々な種類のアプリケーションに対応した幅広い範囲の平板型および
　回転型カソード設計
■ノズルまたはバイナリーチャンネルとして、シングルまたはマルチセグメントの
　ガス導入設計
■水平、垂直およびR2R製膜アプリケーションの高温プロセス条件に対応した
　マルチアノードソリューションとマグネトロン設計

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

70台以上の販売実績を誇る多目的ＰＬＤ装置です。豊富な実績に基づいた設計により安定した動作が可能で、他のスパッタ源や蒸着源を組み合わせることも可能です。

エアメンブレンは高品質グラフェンの量産に成功しました。CVD法等を用いて大面積で高品質なグラフェンおよび二次元材料を合成しています。さらにそれらを用いた製品開発を行っています。当社の特長は、グラフェン大面積高速成膜、グラフェン層数制御などに優れている点にあります。

【期待される用途】
■高速トランジスタ、センサー
■放熱シート
■フレキシブルディスプレイ、タッチパネル等

※グラフェンの事が分かる資料進呈中！詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。

−ASM Epsilon(R) 150mm, 200mm, 300mmに対応
−ANSISpecial(JISクラス１相当）Rタイプ熱電対
−石英は半導体グレードのGE214を使用
−短納期
−全てのセンサーのコネクタにレーザー刻印にてシリアル番号を付加

パワー半導体デバイスやモーターコアなど熱容量の大きなワークや治具の場合、
そのままリフロー炉で搬送しても加熱能力不足で未溶融が発生するケースがあります。

そこで本加熱時の加熱能力不足を補うために当社の開発した超小型予備加熱炉「HAS-1016」を
リフロー炉の前に設置してワークや治具に予め一定以上の予備加熱をすることで問題を解消します。

これまでの納入実績として、リフローだけでなく、はんだ槽前の予備加熱炉としても使用されており、
本加熱用のリフローやはんだ槽の前に設置する以上、設置スペースに限りがあるため、弊社の小型加熱炉が求められます。

PROSOL JAPAN株式会社は、TURBO PUMPの修理、販売及び真空システム設計を行っています。
現在国内外に多くの顧客を有し、サービス向上、迅速化を目指し、2005年に中国上海市に子会社を設立し、現地のお客様へのサービスを提供しております。
「独自技術と永続経営」を会社の経営理念とし、「できないことはない」の精神のもと、技術革新に努め、高真空のターボ分子ポンプにおける真空技術で、積極的に海外展開しています。

【事業内容】
○TURBO PUMPの修理・販売
○真空システム設計
○メンテナンスサービス
○半導体装置
○電子モジュール

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。

電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の
成膜が可能となっています。

整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、
成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。

オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を
行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。

【特長】
■3インチ用カソードを3源搭載
■電源は500Wの高周波電源を1台搭載
■金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能
■整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタも可能
■成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載
■オペレートタッチ画面を採用、初心者でも簡単に排気系の自動操作が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ゲッターポンプ　Insi torr「Fast Pump」は、サエスグループが開発した非蒸発型ゲッターNEG技術に基づく超高真空ポンプです。
このポンプは、アプライドマテリアルズ製PVD、アルミニウムスパッターのために開発されました。
このポンプの開発によってチャンバーがベントしてから復帰して操業に戻るまでの時間が大幅に短縮されます。

【特徴】
○インシトールファーストポンプをチャンバー内に設置することで
　ダウンタイムを11時間から7時間に短縮される
○既存設備に改造取付が可能
○フットプリントに影響を与えず、アップグレーディングに威力を発揮
○パーティクル特性やフィルム特性に何らネガティブな影響を与えない

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

複合材（金属基材含む）・フィルム材用のスリッターです。
コンデンサー・FCCL・セパレーター材など幅広い分野で数多くの実績があります。
素材開発の分野ではラボ用の設備もご提案できます。

【特長】
・調整可能な切断面
・多様な巻取りに対応
・低張力での巻取りを実現
・コンデンサー材に対応
・ラボ用設備もご提案可能
・切断方式の選択が可能

※詳細は以下の関連リンクからご確認いただくか、お問い合わせください。

当社は、精密機械の総合エンジニアリング会社として、リチウムイオン
電池製造設備や各種開発設備、多品種・大量生産設備を提供しています。

各種電池製造設備においては、国内外から高い評価をいただいており、
その中でもリチウムイオン電池用設備については、研究開発用、
実験検証用、少量生産用等さまざまな装置を手がけてきました。

このほか、各種自動化装置、医療向け装置等を設計・製作しています。

【お取引先様の業種】
■電池メーカー様
■電子部品メーカー様
■自動車メーカー様
■医療用製品メーカー様

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。
高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。
CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、地球環境に優しい成膜技術です。

【特長】
■高絶縁膜特性
■多層膜
■緻密・平坦膜
■低ダメージ
■長期安定稼働

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

広田製作所は、石英ヒーター､半導体用各種ヒーター、シーズヒーター､
カートリッジヒーター、半導体製造装置、理化学用電気炉･装置を
提供しています。

小型管状炉や 薬液加熱用のテフロンヒーター、二重管・4本組の
石英ヒーター等、お取扱しています。

ご要望の際はお気軽にお問合せください。

【営業品目】
■石英ヒーター
■半導体用各種ヒーター
■シーズヒーター
■カートリッジヒーター
■半導体製造装置
■理化学用電気炉･装置

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

当社では、起動時間の最適化・システム性能チューニングなどの
組み込みOSの高速化コンサルティング＆サポートを行っております。

リアルタイムOS(RTOS),Linux,Android等の組み込みOSは、3rdPartyや
SoCベンダが提供するSDKをそのまま利用することは少なく、限られたハード
ウェアリソースで目標性能/信頼性を実現するために性能チューニングが必要。

お客様の組み込みOS製品導入を経験豊富なエンジニアが支援します。

【実績】
■アプリケーション起動までの時間を大幅削減(SoCベンダ提供30秒→8秒)
■ボトルネック解析を実施し、処理並列化などの高速化処理を実施することで
　起動時間を短縮
■製造時検査時間を大幅短縮し、製造コストを約1200万円削減
■起動処理の高速化により検査工数を削減

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

台湾GRACEの7G-ハイフローレートカートリッジフィルターはTFT-LCDウェットプロセス専用に特別に開発されました。特徴は高流量、ロングライフ、低圧損でございます。使用寿命を延ばし、より長くご使用いただくことができ、メンテナンスの作業も効率化、簡単に行えます。豊富な素材バリエーションは幅広い用途に適用可能です。

大型機もシリーズに追加しました。

ファーストゲートは、果てしない進化を続けるエレクトロニクス業界、半導体業界において、常に革新となりうる夢のような装置と技術を提供していく会社でありたいと考えます。
ファーストゲートという社名は、『どこよりも早くお客様が求めるソリューションを提供するFAST（早い）GATE（道）になりたい』という願いを表しています。半導体商社として広く世界に革新技術を求め、また半導体製造装置メーカーとして自社技術への飽くなき挑戦を続けて行きます。孟子曰く『天の時は地の利に如かず、地の利は人の和に如かず』。
ファーストゲートは与えられたチャンスを活かして自社の技術力を向上させ、社員一人ひとりが能力を発揮して研鑚しあい協力しあう人の和を強みとする企業として、限りない飛躍を目指します。そしてお客様、株主の皆様、社員、社員の家族を大切にして出会えた縁（えにし）に感謝する、社会に貢献し続ける企業でありたいと思います。

詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

【効果】絶縁性、耐プラズマ性向上のアルミナ溶射技術

【課題】
半導体製造装置部品において、静電気障害を防止する解決策としてアルミナ溶射技術が利用されてきたが、高純度被膜である事、及び短納期対応が課題であった。

【解決策】
当社のアルミナ溶射により高純度被膜を生成、短納期にも対応しました。

【当社の売り】
当社のプラズマ溶射設備は、単発品や試作品への対応を得意としております。

※ネット上には、出していない資料もございます。
　詳しくはPDFをダウンロードいただくかお気軽にお問合せください。
※導入事例資料はカタログのアイ・シイ・エス導入事例集からダウンロード可能です。

『ファーストゲート株式会社　総合カタログ』は、半導体製造装置、検査装置の
輸出入販売、技術サポートなどを行っている、ファーストゲート株式会社の
総合カタログです。

当カタログでは、半導体製造部品「テフロン製フローメーター」や、「フローコントローラー」、
「テフロン製薬液供給ポンプ」、「各種ヒータ」等の製品をご紹介しています。

【掲載内容】
■会社概要
■沿革
■プロダクトラインアップ

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる
3元RFスパッタリング装置です。

基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。

また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や
様々な異種積層成膜が可能です。

【特長】
■自動スパッタ機能により、長時間のスパッタリング作業も省力で可能
■GenCore社製矩形カソードを使用。ターゲット付近から均一なスパッタ
　ガス導入が可能
■スパッタコンタミの拡散を防ぐためプロセス室3室を回転シャッターで
　仕切っている
■基板を定速で移動させながらのスパッタが可能　など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ホットプレート・クールプレート』は、シーズヒーターを熱源とし、
アルミ合金の素材を使用して製作された一体型のホットプレートアルミ
鋳込みヒーターです。

ヒーターと本体が完全に一体化しているため、挟み込み方式やカートリッジ
ヒーター挿入方式などで心配されるスキマからの空焚きの心配がありません。

また、ホットプレートの表面粗度、平面度、平行度、取付穴などが自由
かつ精密に機械加工ができ、精度の高い機器にインプラントが可能です。

ホットプレート表面の温度分布は高温時でも良好で、
更に各種表面処理をすることで耐腐食性に優れた表面を形成できます。

【特長】
■第6世代～第8世代にも対応可能
■断線の心配なし
■温度ムラがないため効率が抜群
■コスト・性能・納期に優れたパフォーマンスを発揮
■オリジナルシーズヒータ使用だから、形は自由自在　

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

コミヤマエレクトロンは、まじめにモノづくりをしている企業です。
近年、注目されている液晶テレビなどのフラットパネルディスプレー
製造用の真空装置や、真空部品などの製造を手がけています。

真空装置は日常生活では目に触れる機会の少ない部品ですが、
その装置をつくり出している技術は、私たちの生活を豊かにし、
社会を発展させていくために欠くことのできないものとなっています。

真空技術をさらに追及し、発展させていくため、
当社は常に無限の可能性に挑戦し続けていきたいと思っております。

【事業内容】
■FPD・有機EL製造装置
■光学膜製造装置
■フィルム用スパッタ装置
■次世代エネルギー機器
■航空宇宙関連機器(スペースチェンバー 他)
■各種真空装置　など

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社は、1967年の設立以来今日まで長年培った真空技術や成膜加工技術で、
真空薄膜製造装置や真空コンポーネント製品の開発・製造・販売・サービス事業を
展開しております。

「真空技術で未来を拓く」をテーマに掲げ、高付加価値製品を
お客さまへ提供し、市場の発展に貢献してまいりました。

2005年にキヤノングループ会社となり、今日ではキヤノン産業機器グループの
一員として、グローバルなグループネットワークの強みを最大限に活かした
事業展開を目指しております。

【事業内容】
■真空成膜加工装置製造・販売
■真空コンポーネント製品製造・販売
■保守サービス

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