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半導体製造装置・材料

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半導体製造装置・材料

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レジスト剥離残渣の完全除去とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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材料
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その他半導体製造装置・材料
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レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去とは？

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程でパターン形成に用いられる感光性樹脂（レジスト）を、後続工程の前に完全に除去し、基板表面を清浄な状態に戻す技術です。微細化が進む半導体デバイスでは、わずかなレジスト残渣も歩留まり低下やデバイス性能劣化の原因となるため、その完全な除去が極めて重要となります。

各社の製品

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【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル

【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
エンバイロ・ビジョン株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・電子部品の洗浄 ・製造装置の洗浄 【導入の効果】 ・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減 ・洗浄力の向上による品質向上 ・ランニングコストの削減
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【半導体向け】電解超音波洗浄機クリピカエース

【半導体向け】電解超音波洗浄機クリピ�カエース
ソマックス株式会社
半導体業界では、製造工程における微細な異物の混入が、製品の性能や信頼性に大きな影響を与えます。特に、微細な金型部品や金属部品の洗浄は、高品質な製品を製造する上で不可欠です。腐食性のガス焼け、樹脂付着物、ゴム付着物、酸化物被膜、薄錆など、従来の洗浄方法では落としきれなかった汚れを、クリピカエースは電気分解の力で除去します。これにより、製品の歩留まり向上、不良品の削減に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における金型部品の洗浄 ・微細金属部品の洗浄 ・精密部品のメンテナンス 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・メンテナンス回数の削減 ・成形機の稼働率向上 ・製品品質の向上
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【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー

【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、電子部品の小型化が進む中で、接合面のわずかな汚れや異物が、接合不良や製品の性能劣化につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・電子基板の接合前処理 ・コネクタ端子のクリーニング ・半田付け前の表面処理 【導入の効果】 ・接合不良の低減 ・製品の信頼性向上 ・作業効率の向上
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【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー

【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細なパーティクルや異物の除去は、製品の歩留まりと信頼性を左右する重要な課題です。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工後の異物除去 ・微細部品のクリーニング ・精密な表面処理 【導入の効果】 ・加工品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
電子機器業界において、基板洗浄は製品の品質と信頼性を確保する上で重要な工程です。特に、微細化が進む電子部品においては、異物や残留物の徹底的な除去が求められます。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振により、電子機器基板洗浄の幅広いニーズに対応します。 【活用シーン】 ・各種ウエハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウエハー洗浄 【導入の効果】 ・多様な基板に対応 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー

【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高精度なデバイス製造においては、コンタミネーションが製品の性能低下や不良品の発生につながるため、徹底したクリーン化が求められます。CW2000レーザークリーナーは、光のエネルギーを利用して表面付着物を除去し、半導体製造における精密洗浄の課題に応えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄 ・製造ラインにおける異物除去 ・微細な付着物の除去 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・洗浄時間の短縮
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【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型

【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。特に、微細な回路を扱う半導体製造においては、不純物の混入は製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースを有効活用し、高純度な純水を安定供給することで、半導体製造における洗浄工程の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・製造装置の洗浄 ・各種試薬の希釈 【導入の効果】 ・洗浄工程における異物混入リスクの低減 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置

【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置
テクノアルファ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や有機物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェーハや基板の洗浄は、デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠です。プラズマ洗浄は、これらの課題に対し、高い洗浄力と材質への適合性を提供します。当社の低圧・大気圧プラズマ装置は、半導体製造における洗浄工程の最適化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ、基板の洗浄 ・有機物、異物の除去 ・表面改質による接着性向上 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG

【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG
興和株式会社
半導体製造業界では、ウェーハの微細加工に伴い、異物や金属イオンの混入が製品の品質を大きく左右します。洗浄工程では、これらの不純物を徹底的に除去し、高い清浄度を維持することが求められます。不適切な洗浄は、歩留まりの低下やデバイスの性能劣化につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。半導体製造における高品質な洗浄をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ洗浄 ・電子部品製造 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・高い洗浄力による歩留まり向上 ・金属不純物によるデバイスへの影響を抑制 ・クリーンルーム環境での安定した使用
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【電子機器向け】SAIWシートメタル洗浄機

【電子機器向け】SAIWシートメタル洗浄機
株式会社Eプラン
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、基板や部品に付着したフラックスを完全に除去することが重要です。フラックスの残留は、電気的接続の不良や腐食を引き起こし、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、フラックスや油汚れを確実に除去することで、電子機器の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子基板製造 ・電子部品製造 ・各種電子機器のメンテナンス 【導入の効果】 ・フラックス除去による製品品質の向上 ・洗浄剤コストの削減 ・作業時間の短縮 ・環境負荷の低減
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】ラジカル洗浄ユニット

【半導体向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
半導体業界の精密洗浄工程では、微細加工技術の進歩に伴い、より高い洗浄精度と、環境負荷の低減が求められています。特に、有機汚染物やフォトレジスト残渣の完全除去、金属汚染の抑制は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。ラジカル洗浄ユニットは、高純度洗浄を実現し、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・SPMレスなフォトレジスト除去プロセス ・有機・金属汚染の抑制 ・金属膜酸化防止プロセス 【導入の効果】 ・洗浄効率の向上 ・環境負荷の低減 ・製品品質の向上
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電気電子向け｜ドライアイスブラスト洗浄

電気電子向け｜ドライアイスブラスト洗浄
株式会社東洋ユニオン
電気電子業界の基板洗浄において、異物や付着物の除去は、製品の品質と信頼性を確保する上で非常に重要です。特に、微細な電子部品が密集する基板では、従来の洗浄方法による残留物や基板へのダメージが問題となることがあります。ドライアイスブラスト洗浄は、ブラスト材が残留せず、基板を傷つけにくいという特長から、精密な基板洗浄に最適です。 【活用シーン】 ・基板実装後のフラックスや異物の除去 ・電子部品製造工程における汚れの除去 ・精密機器のメンテナンス 【導入の効果】 ・洗浄後の2次汚染リスクを低減 ・基板や電子部品へのダメージを最小限に抑制 ・作業効率の向上とコスト削減に貢献
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【半導体製造向け】SAIWシートメタル洗浄機

【半導体製造向け】SAIWシートメタル洗浄機
株式会社Eプラン
半導体製造業界では、製品の品質を左右するパーティクルの除去が重要です。微細なパーティクルは、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、金属板に付着したパーティクルや油汚れを効果的に除去します。これにより、次工程の品質向上に貢献し、歩留まりの改善に繋がります。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における金属部品の洗浄 ・パーティクルや油汚れの除去が必要な工程 ・品質管理を徹底したい工程 【導入の効果】 ・パーティクル除去による品質向上 ・歩留まりの改善 ・洗浄剤コストの削減
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【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品製造 ・基板実装 ・半導体製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・不良率の低減 ・製品信頼性の向上
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【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置

【電子部品製造向け】スーパーアルカ��リイオン水生成装置
株式会社Eプラン
電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子部品の製造工程における精密洗浄 ・基板や半導体部品の洗浄 ・製造後の最終クリーニング 【導入の効果】 ・高い洗浄力で、電子部品の品質向上 ・水のみを使用するため、環境負荷を低減 ・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現 ・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能
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【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策

【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策
株式会社サノテック
電子機器業界の精密洗浄工程では、異物の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、洗浄液中の微細な異物は、配管詰まりを引き起こし、洗浄効率の低下や製品不良の原因となります。MAGPICKERは、配管の上流でカスや端材に含まれる磁性体と非磁性体を同時に回収することで、配管詰まりのリスクを軽減し、安定した洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・電子機器製造における精密洗浄工程 ・ケミカル材料製造工程 ・配管詰まりによる生産停止リスクの低減 【導入の効果】 ・配管清掃費用、修繕費の軽減 ・洗浄工程の安定化 ・製品品質の向上
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【電子部品向け】ラジカル洗浄ユニット

【電子部品向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
電子部品業界の表面処理工程では、微細な有機物や金属汚染の除去が、製品の品質と信頼性を左右します。特に、高密度化が進む電子部品においては、コンタミを徹底的に除去し、高品質な表面処理を行うことが重要です。ラジカル洗浄ユニットは、高効率なOHラジカル生成により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・フォトレジスト除去 ・金属膜酸化防止 ・有機・金属汚染除去 【導入の効果】 ・洗浄効率の向上 ・環境負荷の低減 ・製品品質の向上
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半導体向け｜ドライアイスブラスト洗浄

半導体向け｜ドライアイスブラスト洗浄
株式会社東洋ユニオン
半導体業界では、製造工程における微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密な電子部品や基板の洗浄においては、残留物のないクリーンな洗浄が求められます。従来の洗浄方法では、洗浄剤の残留や部品の損傷といった問題が発生する可能性があります。当社のドライアイスブラスト洗浄は、瞬時に気化するドライアイスを使用することで、2次汚染を発生させることなく、精密部品を傷つけずに洗浄できます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の部品洗浄 ・電子基板の異物除去 ・精密金型の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄後の回収作業が不要になり、作業効率が向上 ・被洗浄物の分解・組立工程を削減 ・有害物質の排出を抑制し、環境負荷を低減
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム

【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム
株式会社HCI
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、部品の精密洗浄が不可欠です。特に、微細な埃や異物が製品の性能に悪影響を与える可能性があるため、徹底した洗浄が求められます。当社の金属表面処理・ブラストロボット洗浄ロボットシステムは、協働ロボットにより、ムラなく金属表面処理を行い、電子機器の精密洗浄ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・電子部品の表面処理 ・基板の洗浄 ・コネクタなどの精密部品の洗浄 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・作業効率の向上
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【半導体向け】MAXナノバブル

【半導体向け】MAXナノバブル
千代田交易株式会社
半導体業界では、製造工程における微細な異物や汚れの除去が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高密度化が進む中で、コンタミネーションは深刻な問題となっています。MAXナノバブルは、0.01mm未満の超微細泡で、従来の洗浄方法では落としきれない微細な汚れを浮き上がらせ、除去します。電気分解や薬品を使用しないため、環境負荷を低減しつつ、洗浄コストの削減にも貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの精密洗浄 ・製造装置部品の洗浄 ・クリーンルーム内の清掃 【導入の効果】 ・洗浄力の向上による歩留まり改善 ・洗浄コストの削減 ・環境負荷の低減
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【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生

【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
株式会社栄光
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。 再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施 異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。 既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。 （再生成績証明書の発行可能） ランニングコスト低減のお役に立ちます。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の洗浄工程 ・精密部品の洗浄 ・研究開発における純水利用 【導入の効果】 ・高品質な純水による製品品質の向上 ・ランニングコストの削減 ・安定した純水供給による生産効率の向上
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【電子部品製造向け】高純度アンモニア水　EG

【電子部品製造向け】高純度アンモニア水　EG
興和株式会社
電子部品製造業界において、研磨工程は製品の品質を左右する重要なプロセスです。研磨後の表面清浄度を確保することは、製品の性能を最大限に引き出すために不可欠です。不純物の混入は、製品の不良や性能低下を引き起こす可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。電子材料製造に求められる高水準の清浄度を提供します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ研磨後の洗浄 ・光学ガラス研磨後の洗浄 ・電子部材製造工程での洗浄 【導入の効果】 ・研磨後の残留物を除去し、製品の品質向上 ・高い洗浄力で、歩留まり向上に貢献 ・クリーンルーム環境での安定した使用が可能
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【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
半導体業界における精密洗浄は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な工程です。特に、微細化が進む中で、ウェハーや基板に付着した微細な異物や残留物は、デバイスの性能低下や不良の原因となります。そのため、高い洗浄能力と、基板へのダメージを最小限に抑えることが求められます。ファインジェットは、低出力から高出力まで安定した発振により、様々な洗浄ニーズに対応し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウェハー洗浄 【導入の効果】 ・幅広い洗浄ニーズへの対応 ・高品質な洗浄による歩留まり向上 ・多様なノズルバリエーションによる最適な洗浄
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【精密機器向け】AS-300実機洗浄テストのご案内

【精密機器向け】AS-300実機洗浄テストのご案内
タイセイクリンケミカル株式会社
精密機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、油分の完全な除去が不可欠です。油分は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化にもつながります。特に、精密な部品や電子機器においては、微細な油分が製品の動作不良を引き起こす可能性があります。タイセイクリンケミカル株式会社のAS-300実機洗浄テストは、AGC株式会社のフッ素系溶剤「AMOLEA AS-300」を使用し、お客様の精密機器に最適な洗浄条件を見つけるためのテストを提供します。経験豊富なスタッフが、洗浄条件や洗浄液の回収再利用についてもご提案いたします。 【活用シーン】 ・精密機器部品の油分除去 ・電子部品の洗浄 ・金属部品の脱脂 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【精密機器向け】クリンベストZEROによる品質向上

【精密機器向け】クリンベストZEROによる品質向上
タイセイクリンケミカル株式会社
精密機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の徹底的な洗浄が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。クリンベストZEROは、フッ素系洗浄剤に対応し、微細部品まで均一に洗浄することで、高品質な製品製造をサポートします。乾燥時間の短縮も実現し、生産効率の向上にも貢献します。 【活用シーン】 * 精密機器製造における部品洗浄 * 高精度な製造ラインでの異物除去 * 品質管理部門での検査工程 【導入の効果】 * 洗浄性の向上による品質向上 * 乾燥時間短縮による生産効率アップ * 環境負荷低減による企業イメージ向上
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【フォトマスク向け】近接型メガソニック PA10-Q60AE-S

【フォトマスク向け】近接型メガソニック PA10-Q60AE-S
株式会社プレテック　静岡製作所
フォトマスク業界では、製造プロセスにおける微細なパーティクルの除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェハーやフォトマスクの洗浄においては、サブミクロンレベルの異物除去が求められます。不適切な洗浄は、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、基板直近での洗浄を可能にし、サブミクロンのパーティクルを除去することで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・シリコンウェハーの洗浄 ・フォトマスクの洗浄 ・CMP後の洗浄 ・枚葉式洗浄 【導入の効果】 ・高い洗浄性能による歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・洗浄時間の短縮
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【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット

【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する異物除去が重要です。特に、微細な異物が混入すると、表示不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のラジカル洗浄ユニットは、OHラジカルを効率的に生成し、ディスプレイ製造工程における異物除去を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造工程での異物除去 ・フォトレジスト残渣の除去 ・金属汚染の抑制 【導入の効果】 ・高純度洗浄による品質向上 ・省スペース化によるコスト削減 ・環境負荷低減
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【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー

【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細な異物や残留物は、製品の性能や信頼性を損なう可能性があります。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工後の異物除去 ・微細部品のクリーニング ・精密な表面処理 【導入の効果】 ・加工品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー

【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、精密な電子部品においては、接合面の清浄度が製品の性能に大きく影響します。不適切な処理は、接合不良や製品の故障につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力で、これまで除去が難しかった付着物も除去し、接合前の表面処理を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品の接合前処理 ・基板実装前の表面処理 ・コネクタ接合部のクリーニング 【導入の効果】 ・接合不良の低減 ・製品の信頼性向上 ・作業効率の向上
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【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO

【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。微細な異物や不純物が混入した水は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。TW-020-SROはRO膜による高い浄水能力で、90～99％の分子レベルでの除去性能により、高品質な純水を供給し、半導体製造における洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部品の洗浄 ・製造設備の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO

【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO
株式会社トップウォーターシステムズ
電子部品製造業界では、製品の品質を左右する洗浄工程や、製造プロセスにおける純水の利用が不可欠です。特に、微細な回路や精密部品の製造においては、不純物の混入は製品の性能劣化や不良品の発生につながる可能性があります。TW-300-LROは、RO（逆浸透膜）方式により原水中の有機物・無機物・微生物等を90～99%除去、高純度な水を安定供給し、電子部品製造における品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品の洗浄工程 ・製造プロセスにおける純水供給 ・研究開発用途 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・安定した製造プロセスの実現
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【電子機器向け】Pulse300 基板洗浄ソリューション

【電子機器向け】Pulse300 基板洗浄ソリューション
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性と性能を維持するために、基板の精密な洗浄が不可欠です。フラックスや異物の付着は、電気的接続不良や短絡を引き起こし、製品の故障につながる可能性があります。Pulse300は、光の衝撃を利用してこれらの問題を解決し、基板を傷つけずに迅速かつ効果的にクリーニングします。 【活用シーン】 ・電子基板製造工程 ・修理・メンテナンス ・研究開発 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・品質向上 ・作業効率の改善
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【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
ガラス表面処理業界では、高品質な表面処理を実現するために、基材の徹底的な洗浄が不可欠です。特に、異物や油分が残っていると、その後のコーティングや加工の品質を著しく損なう可能性があります。洗浄ムラや洗浄力の不足は、製品の不良や歩留まりの低下につながります。ファインジェットは、多彩な周波数を選択できるため、ガラス基板の特性や表面処理工程に最適な洗浄条件を設定できます。 【活用シーン】 ・ガラス基板のCMP後洗浄 ・各種ガラス基板洗浄 ・表面処理前処理 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・表面処理工程の効率化
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【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における異物除去 ・洗浄工程の最適化による歩留まり改善 ・洗浄剤選定によるコスト削減 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上による歩留まり改善 ・不良率の低減 ・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界の微細化プロセスにおいては、レジストの精密な剥離が不可欠です。特に、高密度化が進む中で、レジスト残渣や異物の混入は、歩留まりを大きく低下させる要因となります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの組み合わせにより、高い剥離性能を実現します。 【活用シーン】 * 微細加工プロセスにおけるレジスト剥離 * 研究開発用途 * 少量生産 【導入の効果】 * 高い剥離性能による歩留まり向上 * 省スペース化による設置効率向上 * 薬液再利用によるランニングコスト削減
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【半導体向け】Pulse300による精密洗浄

【半導体向け】Pulse300による精密洗浄
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界では、製造工程における微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高密度化が進む中で、従来の洗浄方法では対応しきれないケースが増えています。Pulse300は、光の衝撃を利用した非接触のクリーニングにより、デリケートな半導体部品を傷つけることなく、精密な洗浄を実現します。100V電源対応で、設置場所を選ばず、手軽に導入できます。 【活用シーン】 ・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄 ・製造ラインにおける異物除去 ・品質管理におけるクリーン度向上 【導入の効果】 ・製品の品質向上と歩留まりの改善 ・洗浄時間の短縮とコスト削減 ・環境負荷の低減
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界、特に微細化プロセスにおいては、レジストの除去精度が製品の品質を大きく左右します。微細なパターン形成においては、レジスト残渣や異物の混入は致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、高い剥離性能と均一性を実現し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・微細配線加工 ・高アスペクト比構造のレジスト除去 ・ウェーハレベルでのリフトオフ処理 【導入の効果】 ・歩留まり向上 ・品質安定化 ・ランニングコスト削減
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【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ

【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ
三和油化工業株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の洗浄が重要です。特に、製造工程における油分や異物の除去は、製品の性能や寿命に大きく影響します。不適切な洗浄は、製品の誤作動や故障を引き起こす可能性があります。当社の洗浄剤総合カタログは、電子機器の製造における様々な洗浄ニーズに対応します。 【活用シーン】 * 電子部品の製造工程 * 基板実装工程 * 精密機器の洗浄 【導入の効果】 * 製品の信頼性向上 * 歩留まりの改善 * 品質の安定化
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【半導体洗浄向け】TRIシリーズ カートリッジ純水器

【半導体洗浄向け】TRIシリーズ カートリッジ純水器
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、不純物のない高純度イオン交換水が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながります。TRIシリーズは、RO純水設備の後段に設置することで、手軽に高純度イオン交換水を供給し、洗浄工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部材の精密洗浄 ・製造装置のリンス 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・安定した製品供給
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【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ

【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ
ユニコントロールズ株式会社
半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。 【導入の効果】 ・液ダレによる製品不良の削減 ・洗浄液の使用量最適化 ・洗浄工程の効率化
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溶剤系洗浄システム「2槽式フッ素系洗浄装置」

溶剤系洗浄システム「2槽式フッ素系洗浄装置」
株式会社プリス
「2槽式フッ素系洗浄装置」は、フッ素系溶剤を用いて、パーティクル除去を行う溶剤系洗浄システムです。 第1槽で浸漬洗浄、第2槽でベーパー洗浄を行うことにより、高い洗浄精度と乾燥性を実現します。 また、大型設備へのスケールアップを行うことも可能です。 【特長】 ○多孔板を用いた洗浄槽内の濾過システム →洗浄槽に多孔板を設置し、洗浄剤を吐出あるいは回収、槽内の清浄度を高める →パーティクルの比重や水流に左右されずに、効率よく浄化をする事が可能 →排出されるバランスは、調整バルブA～Cにより調節する事が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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精密除塵洗浄装置『SAUBER FV-500B4/FP』

精密除塵洗浄装置『SAUBER FV-500B4/FP』
富士ハイテック株式会社
『SAUBER FV-500B4/FP』は、減圧での密閉状態を維持し、洗浄～乾燥を行う 独自のシステムにより、使用する洗浄剤の消耗を極力少なくした洗浄装置です。 パーティクル除去洗浄に優れた効果を発揮。 洗浄するワークに合わせたレシピの選択をしていただくことにより、 好適条件での洗浄が簡単に行えます。 【特長】 ■海外工場などでの洗浄品質確保に好適 ■電解研磨処理をした4面オーバーフロー形状 ■超音波は4周波を搭載、様々な粒径のパーティクルを効率よく除去 ■豊富な洗浄条件選択 ■有機性汚れの洗浄にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置

シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置
PHT株式会社
当製品は、シンプルな処理構造で好適なプロセスを実現する シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置です。 メンテナンス性を考慮した部品配置。洗浄装置は各ユニットが モジュール化されています。 「ワイヤーソー後洗浄」「ラップ後洗浄」「アルカリエッチング洗浄」など 様々なプロセスに対応しています。 【特長】 ■高いプロセス性能 ■ハイスループット ■メンテナンス性の向上 ■装置設計 ■豊富な実績 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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レジスト剥離液『PURMS＋Y』

レジスト剥離液『PURMS＋Y』
株式会社山縣機械
『PURMS＋Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、 剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。 液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。 また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。 【特長】 ■リンス排水は生化学処理が可能 ■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い ■下地の金属にダメージを与えない　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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超音波発振器『メガヘルツシリーズ』

超音波発振器『メガヘルツシリーズ』
新サン電子株式会社
当製品は、洗浄液中の液粒子に振動を与えて、発生する液粒子の移動する 加速度を利用し、洗浄対象物表面の汚れを剥離させる発振器です。 波長が短く、定在波に起因する洗浄ムラがなく、サブミクロンレベルの 超微細な汚れに対しても有効です。 超精密洗浄システムに不可欠な製品です。 【特長】 ■洗浄対象物表面の汚れを剥離 ■波長が短い ■洗浄ムラがない ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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精密洗浄サービス

精密洗浄サービス
クリテックサービス株式会社
クリテックサービス株式会社では、目に見えない汚れや残留物までも 取り除き、電子分野や精密機械分野等において微粒子やイオン状物質を 製品製造上問題とならないレベルにまで除去する「精密洗浄」サービスを 展開しております。 お預かりした部材を解析し、精密洗浄技術を核としたメンテナンス技術、 表面改質技術、評価分析技術を通じて、部材そのものの機能を回復または 新たな機能を付与することでお客様製造工程の生産性向上に貢献いたします。 【洗浄技術】 ■化学洗浄技術 ■物理洗浄技術 ■仕上げ技術 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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事例紹介（白金残渣洗浄）蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」

事例紹介（白金残渣洗浄）蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」
HUGパワー株式会社
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、半導体工程（白金残渣）での洗浄前と洗浄後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
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簡易型微量汚染物質回収装置『SC-9000』

簡易型微量汚染物質回収装置『SC-9000』
有限会社NAS技研
『SC-9000』は、親水状態のウェーハからも汚染を回収できる 簡易型微量汚染物質回収装置です。 シリコン以外の材質のウェーハや、バルクエッチング等で 表面が荒れてしまったウェーハに対してもサンプリングが可能できます。 【特長】 ■ウェーハの状態やサンプリング用薬液の種類に対する制限が緩和され、 　重金属以外のイオン等の回収も可能 ■従来の疎水面サンプリングも可能 ■サンプリング用薬液の供給や保持具の移動を装置側が自動で実施　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去

レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去とは？

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程でパターン形成に用いられる感光性樹脂（レジスト）を、後続工程の前に完全に除去し、基板表面を清浄な状態に戻す技術です。微細化が進む半導体デバイスでは、わずかなレジスト残渣も歩留まり低下やデバイス性能劣化の原因となるため、その完全な除去が極めて重要となります。

​課題

微細パターンへの残渣付着

微細化された回路パターン間にレジスト残渣が入り込み、除去が困難になる。

異種材料との複合残渣

レジストだけでなく、エッチング工程などで生じた異種材料とレジストが複合した残渣の除去が難しい。

基板ダメージのリスク

強力な洗浄方法を用いると、デリケートな半導体基板や微細構造にダメージを与える可能性がある。

洗浄液の選択と管理

レジストの種類や基板材料に適した洗浄液の選定、および洗浄液の性能維持・管理が複雑である。

​対策

高機能洗浄液の開発

レジスト残渣を効率的に溶解・分散させ、基板への影響を最小限に抑える特殊な洗浄液を開発・使用する。

精密洗浄装置の導入

超音波、プラズマ、または特殊な流体制御技術を用いた、残渣を効果的に除去できる精密な洗浄装置を導入する。

プロセス条件の最適化

洗浄液の種類、温度、時間、圧力などのプロセス条件を、レジストの種類や基板の状態に合わせて最適化する。

インライン検査による確認

洗浄後の基板をリアルタイムで検査し、レジスト残渣の有無を確実に確認する体制を構築する。

​対策に役立つ製品例

低ダメージ型洗浄溶剤

レジスト残渣を効果的に分解しつつ、基板材料への化学的・物理的ダメージを極めて低く抑えるように設計されているため、微細構造を保護しながら残渣を除去できる。

精密超音波洗浄システム

微細な超音波振動を精密に制御することで、微細パターン内部に隠れたレジスト残渣も物理的に剥離・除去し、基板表面を均一に洗浄できる。

プラズマアシスト洗浄装置

低ダメージのプラズマを照射しながら洗浄液を作用させることで、化学反応を促進し、通常では除去困難な複合レジスト残渣も効率的に分解・除去する。

自動洗浄液管理システム

洗浄液の濃度、温度、不純物レベルを常に監視・調整し、最適な洗浄性能を維持することで、安定した残渣除去効果を実現する。

⭐今週のピックアップ

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