レジスト剥離残渣の完全除去とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、ウェーハの微細加工に伴い、異物や金属イオンの混入が製品の品質を大きく左右します。洗浄工程では、これらの不純物を徹底的に除去し、高い清浄度を維持することが求められます。不適切な洗浄は、歩留まりの低下やデバイスの性能劣化につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。半導体製造における高品質な洗浄をサポートします。

【活用シーン】
・半導体ウェーハ洗浄
・電子部品製造
・クリーンルーム環境

【導入の効果】
・高い洗浄力による歩留まり向上
・金属不純物によるデバイスへの影響を抑制
・クリーンルーム環境での安定した使用

半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・半導体製造工程における異物除去
・洗浄工程の最適化による歩留まり改善
・洗浄剤選定によるコスト削減

【導入の効果】
・洗浄品質の向上による歩留まり改善
・不良率の低減
・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上

ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する異物除去が重要です。特に、微細な異物が混入すると、表示不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のラジカル洗浄ユニットは、OHラジカルを効率的に生成し、ディスプレイ製造工程における異物除去を強力にサポートします。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造工程での異物除去
・フォトレジスト残渣の除去
・金属汚染の抑制

【導入の効果】
・高純度洗浄による品質向上
・省スペース化によるコスト削減
・環境負荷低減

電子部品業界の表面処理工程では、微細な有機物や金属汚染の除去が、製品の品質と信頼性を左右します。特に、高密度化が進む電子部品においては、コンタミを徹底的に除去し、高品質な表面処理を行うことが重要です。ラジカル洗浄ユニットは、高効率なOHラジカル生成により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・フォトレジスト除去
・金属膜酸化防止
・有機・金属汚染除去

【導入の効果】
・洗浄効率の向上
・環境負荷の低減
・製品品質の向上

半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。

【導入の効果】
・液ダレによる製品不良の削減
・洗浄液の使用量最適化
・洗浄工程の効率化

電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・電子部品製造
・基板実装
・半導体製造

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・不良率の低減
・製品信頼性の向上

半導体業界では、製造工程における微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高密度化が進む中で、従来の洗浄方法では対応しきれないケースが増えています。Pulse300は、光の衝撃を利用した非接触のクリーニングにより、デリケートな半導体部品を傷つけることなく、精密な洗浄を実現します。100V電源対応で、設置場所を選ばず、手軽に導入できます。

【活用シーン】
・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄
・製造ラインにおける異物除去
・品質管理におけるクリーン度向上

【導入の効果】
・製品の品質向上と歩留まりの改善
・洗浄時間の短縮とコスト削減
・環境負荷の低減

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・電子部品の洗浄
・製造装置の洗浄

【導入の効果】
・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減
・洗浄力の向上による品質向上
・ランニングコストの削減

電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、基板や部品に付着したフラックスを完全に除去することが重要です。フラックスの残留は、電気的接続の不良や腐食を引き起こし、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、フラックスや油汚れを確実に除去することで、電子機器の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・電子基板製造
・電子部品製造
・各種電子機器のメンテナンス

【導入の効果】
・フラックス除去による製品品質の向上
・洗浄剤コストの削減
・作業時間の短縮
・環境負荷の低減

電気電子業界の基板洗浄において、異物や付着物の除去は、製品の品質と信頼性を確保する上で非常に重要です。特に、微細な電子部品が密集する基板では、従来の洗浄方法による残留物や基板へのダメージが問題となることがあります。ドライアイスブラスト洗浄は、ブラスト材が残留せず、基板を傷つけにくいという特長から、精密な基板洗浄に最適です。

【活用シーン】
・基板実装後のフラックスや異物の除去
・電子部品製造工程における汚れの除去
・精密機器のメンテナンス

【導入の効果】
・洗浄後の2次汚染リスクを低減
・基板や電子部品へのダメージを最小限に抑制
・作業効率の向上とコスト削減に貢献

半導体業界の精密洗浄工程では、微細加工技術の進歩に伴い、より高い洗浄精度と、環境負荷の低減が求められています。特に、有機汚染物やフォトレジスト残渣の完全除去、金属汚染の抑制は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。ラジカル洗浄ユニットは、高純度洗浄を実現し、これらの課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・SPMレスなフォトレジスト除去プロセス
・有機・金属汚染の抑制
・金属膜酸化防止プロセス

【導入の効果】
・洗浄効率の向上
・環境負荷の低減
・製品品質の向上

半導体製造業界では、製品の品質を左右するパーティクルの除去が重要です。微細なパーティクルは、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、金属板に付着したパーティクルや油汚れを効果的に除去します。これにより、次工程の品質向上に貢献し、歩留まりの改善に繋がります。

【活用シーン】
・半導体製造工程における金属部品の洗浄
・パーティクルや油汚れの除去が必要な工程
・品質管理を徹底したい工程

【導入の効果】
・パーティクル除去による品質向上
・歩留まりの改善
・洗浄剤コストの削減

電子部品製造業界において、研磨工程は製品の品質を左右する重要なプロセスです。研磨後の表面清浄度を確保することは、製品の性能を最大限に引き出すために不可欠です。不純物の混入は、製品の不良や性能低下を引き起こす可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。電子材料製造に求められる高水準の清浄度を提供します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハ研磨後の洗浄
・光学ガラス研磨後の洗浄
・電子部材製造工程での洗浄

【導入の効果】
・研磨後の残留物を除去し、製品の品質向上
・高い洗浄力で、歩留まり向上に貢献
・クリーンルーム環境での安定した使用が可能

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・ウェーハ製造工程における異物除去
・精密部品の洗浄
・薬液洗浄後のリンス工程

【導入の効果】
・洗浄時間の短縮
・洗浄品質の向上
・歩留まりの改善

電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、電子部品の小型化が進む中で、接合面のわずかな汚れや異物が、接合不良や製品の性能劣化につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・電子基板の接合前処理
・コネクタ端子のクリーニング
・半田付け前の表面処理

【導入の効果】
・接合不良の低減
・製品の信頼性向上
・作業効率の向上

半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。

再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施
異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。

既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。
（再生成績証明書の発行可能）
ランニングコスト低減のお役に立ちます。

【活用シーン】
・半導体製造工場の洗浄工程
・精密部品の洗浄
・研究開発における純水利用

【導入の効果】
・高品質な純水による製品品質の向上
・ランニングコストの削減
・安定した純水供給による生産効率の向上

フォトマスク業界では、製造プロセスにおける微細なパーティクルの除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェハーやフォトマスクの洗浄においては、サブミクロンレベルの異物除去が求められます。不適切な洗浄は、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、基板直近での洗浄を可能にし、サブミクロンのパーティクルを除去することで、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・シリコンウェハーの洗浄
・フォトマスクの洗浄
・CMP後の洗浄
・枚葉式洗浄

【導入の効果】
・高い洗浄性能による歩留まり向上
・製品の品質向上
・洗浄時間の短縮

電子機器業界の精密洗浄工程では、異物の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、洗浄液中の微細な異物は、配管詰まりを引き起こし、洗浄効率の低下や製品不良の原因となります。MAGPICKERは、配管の上流でカスや端材に含まれる磁性体と非磁性体を同時に回収することで、配管詰まりのリスクを軽減し、安定した洗浄工程をサポートします。

【活用シーン】
・電子機器製造における精密洗浄工程
・ケミカル材料製造工程
・配管詰まりによる生産停止リスクの低減

【導入の効果】
・配管清掃費用、修繕費の軽減
・洗浄工程の安定化
・製品品質の向上

電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、精密な電子部品においては、接合面の清浄度が製品の性能に大きく影響します。不適切な処理は、接合不良や製品の故障につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力で、これまで除去が難しかった付着物も除去し、接合前の表面処理を強力にサポートします。

【活用シーン】
・電子部品の接合前処理
・基板実装前の表面処理
・コネクタ接合部のクリーニング

【導入の効果】
・接合不良の低減
・製品の信頼性向上
・作業効率の向上

半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細なパーティクルや異物の除去は、製品の歩留まりと信頼性を左右する重要な課題です。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・レーザー加工後の異物除去
・微細部品のクリーニング
・精密な表面処理

【導入の効果】
・加工品質の向上
・歩留まりの改善
・製品の信頼性向上

半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細な異物や残留物は、製品の性能や信頼性を損なう可能性があります。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・レーザー加工後の異物除去
・微細部品のクリーニング
・精密な表面処理

【導入の効果】
・加工品質の向上
・歩留まりの改善
・製品の信頼性向上

半導体業界では、製造工程における微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密な電子部品や基板の洗浄においては、残留物のないクリーンな洗浄が求められます。従来の洗浄方法では、洗浄剤の残留や部品の損傷といった問題が発生する可能性があります。当社のドライアイスブラスト洗浄は、瞬時に気化するドライアイスを使用することで、2次汚染を発生させることなく、精密部品を傷つけずに洗浄できます。

【活用シーン】
・半導体製造装置の部品洗浄
・電子基板の異物除去
・精密金型の洗浄

【導入の効果】
・洗浄後の回収作業が不要になり、作業効率が向上
・被洗浄物の分解・組立工程を削減
・有害物質の排出を抑制し、環境負荷を低減

電子機器業界では、製品の信頼性と性能を維持するために、基板の精密な洗浄が不可欠です。フラックスや異物の付着は、電気的接続不良や短絡を引き起こし、製品の故障につながる可能性があります。Pulse300は、光の衝撃を利用してこれらの問題を解決し、基板を傷つけずに迅速かつ効果的にクリーニングします。

【活用シーン】
・電子基板製造工程
・修理・メンテナンス
・研究開発

【導入の効果】
・洗浄時間の短縮
・品質向上
・作業効率の改善

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高精度なデバイス製造においては、コンタミネーションが製品の性能低下や不良品の発生につながるため、徹底したクリーン化が求められます。CW2000レーザークリーナーは、光のエネルギーを利用して表面付着物を除去し、半導体製造における精密洗浄の課題に応えます。

【活用シーン】
・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄
・製造ラインにおける異物除去
・微細な付着物の除去

【導入の効果】
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
・洗浄時間の短縮

精密機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の徹底的な洗浄が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。クリンベストZEROは、フッ素系洗浄剤に対応し、微細部品まで均一に洗浄することで、高品質な製品製造をサポートします。乾燥時間の短縮も実現し、生産効率の向上にも貢献します。

【活用シーン】
* 精密機器製造における部品洗浄
* 高精度な製造ラインでの異物除去
* 品質管理部門での検査工程

【導入の効果】
* 洗浄性の向上による品質向上
* 乾燥時間短縮による生産効率アップ
* 環境負荷低減による企業イメージ向上

半導体業界では、製造工程における微細な異物や汚れの除去が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高密度化が進む中で、コンタミネーションは深刻な問題となっています。MAXナノバブルは、0.01mm未満の超微細泡で、従来の洗浄方法では落としきれない微細な汚れを浮き上がらせ、除去します。電気分解や薬品を使用しないため、環境負荷を低減しつつ、洗浄コストの削減にも貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの精密洗浄
・製造装置部品の洗浄
・クリーンルーム内の清掃

【導入の効果】
・洗浄力の向上による歩留まり改善
・洗浄コストの削減
・環境負荷の低減

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に製造するために、薬液供給の正確性と信頼性が求められます。特に、微細加工プロセスにおいては、薬液の脈動や気泡が、製造不良や歩留まりの低下につながる可能性があります。FP70シリーズ ダイアフラム液体ポンプは、脈動を抑制し、安定した薬液供給を実現することで、半導体製造における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・薬液供給システム
・洗浄液供給システム
・試薬供給

【導入の効果】
・脈動の少ない安定した薬液供給
・チューブ内圧損の軽減
・気泡の抑制
・オプショナルパーツ削減

電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・電子部品の製造工程における精密洗浄
・基板や半導体部品の洗浄
・製造後の最終クリーニング

【導入の効果】
・高い洗浄力で、電子部品の品質向上
・水のみを使用するため、環境負荷を低減
・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現
・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能

クリーンクロスを用い汚れを落とします。
独自ヘッドの動きと、極少量アルコール(溶剤可)塗布のW機構で、指紋痕や、油性な洗浄が難しい汚れも確実に落とします。
薬液を洗い流したり、乾燥したりする工程は不要です。

チカミ ミルテック株式会社が取り扱うクリーニング液である
『ASB/AMB/ABBシリーズ』についてご紹介します。

1本あたり約600回の吹き付けが可能で、使い勝手の良いスプレータイプの
「ASB-100」をはじめ、クリーニングカード・ワイパーと併用できる
「ASB-31」や、携帯に便利な点眼容器タイプの「AMB-17」などを
豊富にご用意。

ご要望に合わせてお選びいただけます。

【ラインアップ】
■ASB-100、101、103、200、31、32
■AMB-17、18
■ABB-250

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

当製品は、洗浄液中の液粒子に振動を与えて、発生する液粒子の移動する
加速度を利用し、洗浄対象物表面の汚れを剥離させる発振器です。

波長が短く、定在波に起因する洗浄ムラがなく、サブミクロンレベルの
超微細な汚れに対しても有効です。

超精密洗浄システムに不可欠な製品です。

【特長】
■洗浄対象物表面の汚れを剥離
■波長が短い
■洗浄ムラがない

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

第５世代と呼ばれる液晶生産システムに対応！

【特徴】
○ガラス厚みは液晶ガラス0.4tからPDPガラス2.8tまで対応
○ガラス幅は『第５世代』と呼ばれる１４００ミリまで対応
○ガラス搬送スピードは0.5～2m/min無断可変（インバーター）

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。

本ページでは、水のレジストへの浸透を処理前と処理後の比較資料を掲載しております。

【特長】
■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減
■使用するのは「純水」のみ
■化学薬品の使用量を大幅に削減
■洗浄力を大幅に向上
■半導体用洗浄にも使用

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

精密洗浄は目に見えない汚れや残留物の除去が目的です。
特に半導体製造過程では異物が付着してしまうと生産に不具合が生じます。
光伸産業では独自の洗浄技術をいかしクリーンな製品に仕上がります。

UV(紫外線)表面処理技術の用途例 -洗浄と改質-

・パネル・ディスプレイ
製品　フラットパネル、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機EL
用途・効果
ガラス表面の有機系皮膜の除去、ITOと絶縁膜との密着度向上、ガラスとITOの密着向上、各種塗布膜の親水化

・光学部品
製品　ピックアップレンズ、センサー、半導体製造用レンズ、水晶振動子
用途・効果
レンズ表面の有機系皮膜の除去、樹脂レンズ表面の親水化コーティング、金属系蒸着膜との密着性向上、貼合せ前処理

・基板
製品　プリント基板、銅基板、セラミック基板ほか
用途・効果
メッキ加工の前処理、レジスト膜表面の有機物除去、はんだとの部品密着性向上

・樹脂
製品　携帯電話外装、コネクタースイッチ、自動車内装品ほか
用途・効果
塗装と樹脂基材との密着性向上、蒸着膜と樹脂基材との密着性向上、接着剤と樹脂基材との接着性向上、布と樹脂基材との接着性向上

株式会社エム・エー・シーテクノロジーの洗浄再生事業部では、
『精密洗浄サービス(ウェット洗浄)』を行っております。

半導体製造装置の部品を中心にこれまで培ってきた知識・経験を活かし、
母材・生成物の状況に応じて薬剤を選定し、ウェット洗浄サービスを展開。

また、イオン注入、スパッタ、CVD装置の構成部品を中心に精密洗浄を行い、
拡散炉、エッチング、リソグラフィ工程の精密洗浄も対応可能です。

【対象材質品目】
■石英
■セラミック
■ステンレス
■モリブデン
■タングステン等の各種金属や樹脂部品

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

株式会社プリスは、工業用精密洗浄プロセスにおいて、高い洗浄精度と環境保全を両立させた洗浄システムを提供します。
プリスの「水系・準水系洗浄システム」は、水溶性フラックスの除去洗浄から脱脂洗浄、微細パーティクル除去、精密加工品や半導体部品の精密洗浄など、幅広い実績を誇ります。

【特長】
○シャワー洗浄や超音波洗浄をはじめとして、あらゆる技術に対応
→減圧超音波、噴流、揺動およびそれらの複合型にいたるまで対応
○ユーザーの要望に合致したカスタムメイドのシステム設計
→搬送方式や制御・自動化水準、導入後のランニングコストも踏まえて実施

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

常に『ベストな洗浄』を提案する
スピードファムクリーンシステム社の『ＨＤＤパーツの洗浄サービス』

■□■洗浄工程■□■

【1】加工後の洗浄
【2】表面処理前後の洗浄
【3】アセンブリー前の洗浄
【4】出荷前の洗浄
【5】ケース洗浄

■□■洗浄方法■□■

■流水スクラブ(PAT.PEND)
■流水超音波洗浄（PAT.）
■超音波併用・4面オーバーフロー洗浄
■シャワー洗浄付ＱＤＲ（クイック・ダンプ・リンス）

■□■乾燥方法■□■

■ＮＥＯ乾燥
■温純水引き上げ乾燥（ＰＡＴ.）
■ＩＰＡ蒸気乾燥
■スピン乾燥
■真空乾燥
■温風乾燥

■その他詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

当製品は、シンプルな処理構造で好適なプロセスを実現する
シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置です。

メンテナンス性を考慮した部品配置。洗浄装置は各ユニットが
モジュール化されています。

「ワイヤーソー後洗浄」「ラップ後洗浄」「アルカリエッチング洗浄」など
様々なプロセスに対応しています。

【特長】
■高いプロセス性能
■ハイスループット
■メンテナンス性の向上
■装置設計
■豊富な実績

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

横浜油脂工業の『Semi Clean』は、フラットパネルディスプレイから光学部品、
金属部品まで、サブミクロンオーダーの精密洗浄をサポートする精密洗浄剤です。

弊社独自設計の生産ラインによって、高品質・低コストを確立。
常に安定した高品質の製品を供給すべく、
専門技術者による徹底した分析を行い、ISO9001を取得しています。

弊社では、この『Semi Clean』を使った様々な精密洗浄製品を取り扱っています。


【特長】
■エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂に効果大
■銅、真鍮の変色抑制能が高い
■非塩素系、非危険物の環境配慮型
■臭いの弱い低臭タイプ
■接着剤、塗膜、保護膜剥離・インク洗浄・酸洗い、製品リペアに好適

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

三友製作所は新たなマイクロプラズマ加工技術の開発に成功しました。

当社が開発したマイクロプラズマ加工では、
プラズマ密度を高くしながらも、プラズマ径を小さくしているため、
高速加工とマスクレス局所加工の両方を可能にするスポットプラズマ技術です。

局所化プラズマにより深堀平坦加工や局所加工が可能となり、
半導体故障解析用試料の前処理時間の大幅な短縮を実現します！

この技術を応用した局所プラズマ加工装置では、
反応生成物を直接排気できるので加工残渣の低減を可能とし、
さらに、基板表面にプロセスガスを吹き付けずに局所加工が行えます。

【進呈資料】
■プラズマ源の比較資料（スポットプラズマの紹介）
■局所プラズマ加工装置の紹介資料

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
※特許の詳細もPDF資料をご覧ください。

『セミクリーンA-1』は、アルミ対応型のアルカリ系洗浄剤です。

低泡性ですので、ブラシ洗浄、スプレー洗浄ができ、アルミ製金属部品の
脱油洗浄剤としても使用可能。

レジストなどの樹脂残渣や金属イオンなどを除去し、清浄な仕上がりが
得られます。

【特長】
■アルミニウムへのダメージを最小限に抑える
■レジストなどの樹脂残渣や金属イオンなどを除去
■清浄な仕上がりが得られる
■アルミ製金属部品の脱油洗浄剤としても使用可能
■ブラシ洗浄、スプレー洗浄が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する
高周波超音波洗浄処理システムです。

半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。

ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを
ラインアップしています。

【特長】
■微細凹凸部のダストを超音波で除去
■400kHz～5MHzのトランスデューサを備える
■最小0.1μmからのパーティクルを除去
■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

急速水切　乾燥　冷却　バイブローノズル

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。

本ページでは、半導体工程（白金残渣）での洗浄前と洗浄後の比較資料を掲載しております。

【特長】
■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減
■使用するのは「純水」のみ
■化学薬品の使用量を大幅に削減
■洗浄力を大幅に向上
■半導体用洗浄にも使用

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

『APS-HQシリーズ』は、洗浄ワークを上下から洗浄することでムラのない
洗浄が可能な精密洗浄機です。

洗浄ワークは水中を貫通するため、汚れの再付着を防ぎます。

また、中高圧揺動シャワーでムラのない洗浄ができ、洗浄ワークに合った
ノズルを選定いたします。

【特長】
■上下対向超音波波振動子
■サインジェット
■吹き飛ばし乾燥

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置

◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型
◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレート）やSiC（炭化ケイ素）他、
　　各種ウェハに対応
◇　異物（有機物・無機物）の除去、金属イオンの除去
◇　洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

部品等の精密洗浄用途に好適なオゾン水生成装置です。
小型でありながら大流量かつ安定的にオゾン水が使用できます。

【特長】
■循環方式採用：溜まり水・捨て水が極めて少ない
　　　　　　　　濃度の立ち上がりが早い（1分でオゾン水を生成）
　　　　　　　　洗浄プロセスでのオゾン水濃度・流量が安定
■メタルフリーオゾン水：独自技術により半導体洗浄に適したオゾン水を生成
■小型・軽量・冷却水不要：外寸611Ｗ×590Ｄ×1317Ｈ、重量約87ｋｇ
　　　　　　　　　　　　　冷却用ラジエータを搭載

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する
高周波超音波洗浄処理システムです。

半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。

ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを
ラインアップしています。

【特長】
■微細凹凸部のダストを超音波で除去
■400kHz～5MHzのトランスデューサを備える
■最小0.1μmからのパーティクルを除去
■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

■石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄
　薬液を半導体ウェーハに浸し、石英ガラスを通じて超音波振動を伝播させることで、接触部の薬液が振動して、その加速度によって表面の汚れを除去します。
■半導体ウェーハにダメージが少ない、クリーンな洗浄
　薬液との接液部に石英を用いることで、パッキン等ゴム材を使用した装置と比べてゴムの溶出や摩耗がなくクリーンな洗浄を実現します。
■振動子冷却機能付き
　振動子を気体(窒素等)で冷却することで周波数変動がなく安定した連続運転が可能です。また、冷却することで急激な温度変化がなく長寿命です。