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半導体製造装置・材料

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レジスト剥離残渣の完全除去とは？課題と対策・製品を解説

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レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去とは？

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程でパターン形成に用いられる感光性樹脂（レジスト）を、後続工程の前に完全に除去し、基板表面を清浄な状態に戻す技術です。微細化が進む半導体デバイスでは、わずかなレジスト残渣も歩留まり低下やデバイス性能劣化の原因となるため、その完全な除去が極めて重要となります。

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【半導体向け】MAXナノバブル

【半導体向け】MAXナノバブル
千代田交易株式会社
半導体業界では、製造工程における微細な異物や汚れの除去が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高密度化が進む中で、コンタミネーションは深刻な問題となっています。MAXナノバブルは、0.01mm未満の超微細泡で、従来の洗浄方法では落としきれない微細な汚れを浮き上がらせ、除去します。電気分解や薬品を使用しないため、環境負荷を低減しつつ、洗浄コストの削減にも貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの精密洗浄 ・製造装置部品の洗浄 ・クリーンルーム内の清掃 【導入の効果】 ・洗浄力の向上による歩留まり改善 ・洗浄コストの削減 ・環境負荷の低減
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【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル

【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
エンバイロ・ビジョン株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・電子部品の洗浄 ・製造装置の洗浄 【導入の効果】 ・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減 ・洗浄力の向上による品質向上 ・ランニングコストの削減
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【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO

【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。微細な異物や不純物が混入した水は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。TW-020-SROはRO膜による高い浄水能力で、90～99％の分子レベルでの除去性能により、高品質な純水を供給し、半導体製造における洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部品の洗浄 ・製造設備の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生

【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
株式会社栄光
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。 再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施 異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。 既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。 （再生成績証明書の発行可能） ランニングコスト低減のお役に立ちます。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の洗浄工程 ・精密部品の洗浄 ・研究開発における純水利用 【導入の効果】 ・高品質な純水による製品品質の向上 ・ランニングコストの削減 ・安定した純水供給による生産効率の向上
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【精密機器向け】クリンベストZEROによる品質向上

【精密機器向け】クリンベストZEROによる品質向上
タイセイクリンケミカル株式会社
精密機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の徹底的な洗浄が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。クリンベストZEROは、フッ素系洗浄剤に対応し、微細部品まで均一に洗浄することで、高品質な製品製造をサポートします。乾燥時間の短縮も実現し、生産効率の向上にも貢献します。 【活用シーン】 * 精密機器製造における部品洗浄 * 高精度な製造ラインでの異物除去 * 品質管理部門での検査工程 【導入の効果】 * 洗浄性の向上による品質向上 * 乾燥時間短縮による生産効率アップ * 環境負荷低減による企業イメージ向上
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【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置

【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置
テクノアルファ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や有機物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェーハや基板の洗浄は、デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠です。プラズマ洗浄は、これらの課題に対し、高い洗浄力と材質への適合性を提供します。当社の低圧・大気圧プラズマ装置は、半導体製造における洗浄工程の最適化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ、基板の洗浄 ・有機物、異物の除去 ・表面改質による接着性向上 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット

【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する異物除去が重要です。特に、微細な異物が混入すると、表示不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のラジカル洗浄ユニットは、OHラジカルを効率的に生成し、ディスプレイ製造工程における異物除去を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造工程での異物除去 ・フォトレジスト残渣の除去 ・金属汚染の抑制 【導入の効果】 ・高純度洗浄による品質向上 ・省スペース化によるコスト削減 ・環境負荷低減
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【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー

【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細なパーティクルや異物の除去は、製品の歩留まりと信頼性を左右する重要な課題です。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工後の異物除去 ・微細部品のクリーニング ・精密な表面処理 【導入の効果】 ・加工品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【半導体向け】ラジカル洗浄ユニット

【半導体向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
半導体業界の精密洗浄工程では、微細加工技術の進歩に伴い、より高い洗浄精度と、環境負荷の低減が求められています。特に、有機汚染物やフォトレジスト残渣の完全除去、金属汚染の抑制は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。ラジカル洗浄ユニットは、高純度洗浄を実現し、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・SPMレスなフォトレジスト除去プロセス ・有機・金属汚染の抑制 ・金属膜酸化防止プロセス 【導入の効果】 ・洗浄効率の向上 ・環境負荷の低減 ・製品品質の向上
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【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における異物除去 ・洗浄工程の最適化による歩留まり改善 ・洗浄剤選定によるコスト削減 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上による歩留まり改善 ・不良率の低減 ・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子機器向け】Pulse300 基板洗浄ソリューション

【電子機器向け】Pulse300 基板洗浄ソリューション
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性と性能を維持するために、基板の精密な洗浄が不可欠です。フラックスや異物の付着は、電気的接続不良や短絡を引き起こし、製品の故障につながる可能性があります。Pulse300は、光の衝撃を利用してこれらの問題を解決し、基板を傷つけずに迅速かつ効果的にクリーニングします。 【活用シーン】 ・電子基板製造工程 ・修理・メンテナンス ・研究開発 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・品質向上 ・作業効率の改善
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【半導体製造向け】洗浄性にも優れたロータリーポンプ

【半導体製造向け】洗浄性にも優れたロータリーポンプ
株式会社ナカキン
半導体製造業界では、製造プロセスの品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、微細な回路を形成する工程においては、薬液の純度を保ち、異物の混入を防ぐことが重要です。不適切な薬液供給は、製品の歩留まり低下や品質不良につながる可能性があります。ナカキンのロータリーポンプは、非接触でありながら自吸力があり、定量性に優れているため、薬液供給に最適です。 【活用シーン】 ・薬液の移送 ・純水供給 ・各種洗浄液供給 【導入の効果】 ・薬液の純度を維持 ・安定した供給量の確保 ・異物混入のリスク低減
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【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型

【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。特に、微細な回路を扱う半導体製造においては、不純物の混入は製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースを有効活用し、高純度な純水を安定供給することで、半導体製造における洗浄工程の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・製造装置の洗浄 ・各種試薬の希釈 【導入の効果】 ・洗浄工程における異物混入リスクの低減 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
ガラス表面処理業界では、高品質な表面処理を実現するために、基材の徹底的な洗浄が不可欠です。特に、異物や油分が残っていると、その後のコーティングや加工の品質を著しく損なう可能性があります。洗浄ムラや洗浄力の不足は、製品の不良や歩留まりの低下につながります。ファインジェットは、多彩な周波数を選択できるため、ガラス基板の特性や表面処理工程に最適な洗浄条件を設定できます。 【活用シーン】 ・ガラス基板のCMP後洗浄 ・各種ガラス基板洗浄 ・表面処理前処理 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・表面処理工程の効率化
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界、特に微細化プロセスにおいては、レジストの除去精度が製品の品質を大きく左右します。微細なパターン形成においては、レジスト残渣や異物の混入は致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、高い剥離性能と均一性を実現し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・微細配線加工 ・高アスペクト比構造のレジスト除去 ・ウェーハレベルでのリフトオフ処理 【導入の効果】 ・歩留まり向上 ・品質安定化 ・ランニングコスト削減
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【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置

【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置
株式会社Eプラン
電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子部品の製造工程における精密洗浄 ・基板や半導体部品の洗浄 ・製造後の最終クリーニング 【導入の効果】 ・高い洗浄力で、電子部品の品質向上 ・水のみを使用するため、環境負荷を低減 ・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現 ・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能
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【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー

【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、精密な電子部品においては、接合面の清浄度が製品の性能に大きく影響します。不適切な処理は、接合不良や製品の故障につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力で、これまで除去が難しかった付着物も除去し、接合前の表面処理を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品の接合前処理 ・基板実装前の表面処理 ・コネクタ接合部のクリーニング 【導入の効果】 ・接合不良の低減 ・製品の信頼性向上 ・作業効率の向上
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【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG

【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG
興和株式会社
半導体製造業界では、ウェーハの微細加工に伴い、異物や金属イオンの混入が製品の品質を大きく左右します。洗浄工程では、これらの不純物を徹底的に除去し、高い清浄度を維持することが求められます。不適切な洗浄は、歩留まりの低下やデバイスの性能劣化につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。半導体製造における高品質な洗浄をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ洗浄 ・電子部品製造 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・高い洗浄力による歩留まり向上 ・金属不純物によるデバイスへの影響を抑制 ・クリーンルーム環境での安定した使用
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【半導体洗浄向け】TRIシリーズ カートリッジ純水器

【半導体洗浄向け】TRIシリーズ カートリッジ純水器
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、不純物のない高純度イオン交換水が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながります。TRIシリーズは、RO純水設備の後段に設置することで、手軽に高純度イオン交換水を供給し、洗浄工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部材の精密洗浄 ・製造装置のリンス 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・安定した製品供給
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【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ

【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ
三和油化工業株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の洗浄が重要です。特に、製造工程における油分や異物の除去は、製品の性能や寿命に大きく影響します。不適切な洗浄は、製品の誤作動や故障を引き起こす可能性があります。当社の洗浄剤総合カタログは、電子機器の製造における様々な洗浄ニーズに対応します。 【活用シーン】 * 電子部品の製造工程 * 基板実装工程 * 精密機器の洗浄 【導入の効果】 * 製品の信頼性向上 * 歩留まりの改善 * 品質の安定化
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【半導体製造向け】SAIWシートメタル洗浄機

【半導体製造向け】SAIWシートメタル洗浄機
株式会社Eプラン
半導体製造業界では、製品の品質を左右するパーティクルの除去が重要です。微細なパーティクルは、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、金属板に付着したパーティクルや油汚れを効果的に除去します。これにより、次工程の品質向上に貢献し、歩留まりの改善に繋がります。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における金属部品の洗浄 ・パーティクルや油汚れの除去が必要な工程 ・品質管理を徹底したい工程 【導入の効果】 ・パーティクル除去による品質向上 ・歩留まりの改善 ・洗浄剤コストの削減
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【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー

【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高精度なデバイス製造においては、コンタミネーションが製品の性能低下や不良品の発生につながるため、徹底したクリーン化が求められます。CW2000レーザークリーナーは、光のエネルギーを利用して表面付着物を除去し、半導体製造における精密洗浄の課題に応えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄 ・製造ラインにおける異物除去 ・微細な付着物の除去 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・洗浄時間の短縮
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【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO

【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO
株式会社トップウォーターシステムズ
電子部品製造業界では、製品の品質を左右する洗浄工程や、製造プロセスにおける純水の利用が不可欠です。特に、微細な回路や精密部品の製造においては、不純物の混入は製品の性能劣化や不良品の発生につながる可能性があります。TW-300-LROは、RO（逆浸透膜）方式により原水中の有機物・無機物・微生物等を90～99%除去、高純度な水を安定供給し、電子部品製造における品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品の洗浄工程 ・製造プロセスにおける純水供給 ・研究開発用途 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・安定した製造プロセスの実現
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置/高田工業

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置/高田工業
日精株式会社
半導体業界の微細化プロセスにおいては、レジストの精密な剥離が不可欠です。特に、高密度化が進む中で、レジスト残渣や異物の混入は、歩留まりを大きく低下させる要因となります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの組み合わせにより、高い剥離性能を実現します。 【活用シーン】 * 微細加工プロセスにおけるレジスト剥離 * 研究開発用途 * 少量生産 【導入の効果】 * 高い剥離性能による歩留まり向上 * 省スペース化による設置効率向上 * 薬液再利用によるランニングコスト削減
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【半導体向け】Pulse300による精密洗浄

【半導体向け】Pulse300による精密洗浄
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界では、製造工程における微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高密度化が進む中で、従来の洗浄方法では対応しきれないケースが増えています。Pulse300は、光の衝撃を利用した非接触のクリーニングにより、デリケートな半導体部品を傷つけることなく、精密な洗浄を実現します。100V電源対応で、設置場所を選ばず、手軽に導入できます。 【活用シーン】 ・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄 ・製造ラインにおける異物除去 ・品質管理におけるクリーン度向上 【導入の効果】 ・製品の品質向上と歩留まりの改善 ・洗浄時間の短縮とコスト削減 ・環境負荷の低減
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【フォトマスク向け】近接型メガソニック PA10-Q60AE-S

【フォトマスク向け】近接型メガソニック PA10-Q60AE-S
株式会社プレテック　静岡製作所
フォトマスク業界では、製造プロセスにおける微細なパーティクルの除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェハーやフォトマスクの洗浄においては、サブミクロンレベルの異物除去が求められます。不適切な洗浄は、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、基板直近での洗浄を可能にし、サブミクロンのパーティクルを除去することで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・シリコンウェハーの洗浄 ・フォトマスクの洗浄 ・CMP後の洗浄 ・枚葉式洗浄 【導入の効果】 ・高い洗浄性能による歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・洗浄時間の短縮
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【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ

【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ
ユニコントロールズ株式会社
半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。 【導入の効果】 ・液ダレによる製品不良の削減 ・洗浄液の使用量最適化 ・洗浄工程の効率化
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【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー

【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、電子部品の小型化が進む中で、接合面のわずかな汚れや異物が、接合不良や製品の性能劣化につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・電子基板の接合前処理 ・コネクタ端子のクリーニング ・半田付け前の表面処理 【導入の効果】 ・接合不良の低減 ・製品の信頼性向上 ・作業効率の向上
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【半導体製造向け】先端産業用向けフッ素高機能性液体・潤滑剤

【半導体製造向け】先端産業用向けフッ素高機能性液体・潤滑剤
Halocarbon合同会社
半導体製造業界では、微細な回路の清浄度維持が製品の信頼性に直結します。特に、製造プロセスにおける洗浄工程では、微細な異物や残留物を確実に除去し、かつ基板や部材へのダメージを最小限に抑えることが求められます。不十分な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良の原因となり得ます。当社のフッ素高機能性液体・潤滑剤は、ルイス酸耐性を持つように特別に調合されており、半導体製造における精密洗浄のニーズに応えます。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおける精密洗浄 ・洗浄後の基板や部材の保護 【導入の効果】 ・洗浄工程における異物除去性能の向上 ・部材へのダメージ抑制による歩留まり改善
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【電子機器向け】SAIWシートメタル洗浄機

【電子機器向け】SAIWシートメタル洗浄機
株式会社Eプラン
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、基板や部品に付着したフラックスを完全に除去することが重要です。フラックスの残留は、電気的接続の不良や腐食を引き起こし、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、フラックスや油汚れを確実に除去することで、電子機器の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子基板製造 ・電子部品製造 ・各種電子機器のメンテナンス 【導入の効果】 ・フラックス除去による製品品質の向上 ・洗浄剤コストの削減 ・作業時間の短縮 ・環境負荷の低減
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【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品製造 ・基板実装 ・半導体製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・不良率の低減 ・製品信頼性の向上
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電気電子向け｜ドライアイスブラスト洗浄

電気電子向け｜ドライアイスブラスト洗浄
株式会社東洋ユニオン
電気電子業界の基板洗浄において、異物や付着物の除去は、製品の品質と信頼性を確保する上で非常に重要です。特に、微細な電子部品が密集する基板では、従来の洗浄方法による残留物や基板へのダメージが問題となることがあります。ドライアイスブラスト洗浄は、ブラスト材が残留せず、基板を傷つけにくいという特長から、精密な基板洗浄に最適です。 【活用シーン】 ・基板実装後のフラックスや異物の除去 ・電子部品製造工程における汚れの除去 ・精密機器のメンテナンス 【導入の効果】 ・洗浄後の2次汚染リスクを低減 ・基板や電子部品へのダメージを最小限に抑制 ・作業効率の向上とコスト削減に貢献
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【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策

【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策
株式会社サノテック
電子機器業界の精密洗浄工程では、異物の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、洗浄液中の微細な異物は、配管詰まりを引き起こし、洗浄効率の低下や製品不良の原因となります。MAGPICKERは、配管の上流でカスや端材に含まれる磁性体と非磁性体を同時に回収することで、配管詰まりのリスクを軽減し、安定した洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・電子機器製造における精密洗浄工程 ・ケミカル材料製造工程 ・配管詰まりによる生産停止リスクの低減 【導入の効果】 ・配管清掃費用、修繕費の軽減 ・洗浄工程の安定化 ・製品品質の向上
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【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム

【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム
株式会社HCI
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、部品の精密洗浄が不可欠です。特に、微細な埃や異物が製品の性能に悪影響を与える可能性があるため、徹底した洗浄が求められます。当社の金属表面処理・ブラストロボット洗浄ロボットシステムは、協働ロボットにより、ムラなく金属表面処理を行い、電子機器の精密洗浄ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・電子部品の表面処理 ・基板の洗浄 ・コネクタなどの精密部品の洗浄 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・作業効率の向上
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【電子部品向け】ラジカル洗浄ユニット

【電子部品向け】ラ�ジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
電子部品業界の表面処理工程では、微細な有機物や金属汚染の除去が、製品の品質と信頼性を左右します。特に、高密度化が進む電子部品においては、コンタミを徹底的に除去し、高品質な表面処理を行うことが重要です。ラジカル洗浄ユニットは、高効率なOHラジカル生成により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・フォトレジスト除去 ・金属膜酸化防止 ・有機・金属汚染除去 【導入の効果】 ・洗浄効率の向上 ・環境負荷の低減 ・製品品質の向上
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【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
電子機器業界において、基板洗浄は製品の品質と信頼性を確保する上で重要な工程です。特に、微細化が進む電子部品においては、異物や残留物の徹底的な除去が求められます。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振により、電子機器基板洗浄の幅広いニーズに対応します。 【活用シーン】 ・各種ウエハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウエハー洗浄 【導入の効果】 ・多様な基板に対応 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【精密機器向け】AS-300実機洗浄テストのご案内

【精密機器向け】AS-300実機洗浄テストのご案内
タイセイクリンケミカル株式会社
精密機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、油分の完全な除去が不可欠です。油分は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化にもつながります。特に、精密な部品や電子機器においては、微細な油分が製品の動作不良を引き起こす可能性があります。タイセイクリンケミカル株式会社のAS-300実機洗浄テストは、AGC株式会社のフッ素系溶剤「AMOLEA AS-300」を使用し、お客様の精密機器に最適な洗浄条件を見つけるためのテストを提供します。経験豊富なスタッフが、洗浄条件や洗浄液の回収再利用についてもご提案いたします。 【活用シーン】 ・精密機器部品の油分除去 ・電子部品の洗浄 ・金属部品の脱脂 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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半導体向け｜ドライアイスブラスト洗浄

半導体向け｜ドライアイスブラスト洗浄
株式会社東洋ユニオン
半導体業界では、製造工程における微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密な電子部品や基板の洗浄においては、残留物のないクリーンな洗浄が求められます。従来の洗浄方法では、洗浄剤の残留や部品の損傷といった問題が発生する可能性があります。当社のドライアイスブラスト洗浄は、瞬時に気化するドライアイスを使用することで、2次汚染を発生させることなく、精密部品を傷つけずに洗浄できます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の部品洗浄 ・電子基板の異物除去 ・精密金型の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄後の回収作業が不要になり、作業効率が向上 ・被洗浄物の分解・組立工程を削減 ・有害物質の排出を抑制し、環境負荷を低減
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【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
半導体業界における精密洗浄は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な工程です。特に、微細化が進む中で、ウェハーや基板に付着した微細な異物や残留物は、デバイスの性能低下や不良の原因となります。そのため、高い洗浄能力と、基板へのダメージを最小限に抑えることが求められます。ファインジェットは、低出力から高出力まで安定した発振により、様々な洗浄ニーズに対応し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウェハー洗浄 【導入の効果】 ・幅広い洗浄ニーズへの対応 ・高品質な洗浄による歩留まり向上 ・多様なノズルバリエーションによる最適な洗浄
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【電子部品製造向け】高純度アンモニア水　EG

【電子部品製造向け】高純度アンモニア水　EG
興和株式会社
電子部品製造業界において、研磨工程は製品の品質を左右する重要なプロセスです。研磨後の表面清浄度を確保することは、製品の性能を最大限に引き出すために不可欠です。不純物の混入は、製品の不良や性能低下を引き起こす可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。電子材料製造に求められる高水準の清浄度を提供します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ研磨後の洗浄 ・光学ガラス研磨後の洗浄 ・電子部材製造工程での洗浄 【導入の効果】 ・研磨後の残留物を除去し、製品の品質向上 ・高い洗浄力で、歩留まり向上に貢献 ・クリーンルーム環境での安定した使用が可能
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【半導体向け】電解超音波洗浄機クリピカエース

【半導体向け】電解超音波洗浄機クリピカエース
ソマックス株式会社
半導体業界では、製造工程における微細な異物の混入が、製品の性能や信頼性に大きな影響を与えます。特に、微細な金型部品や金属部品の洗浄は、高品質な製品を製造する上で不可欠です。腐食性のガス焼け、樹脂付着物、ゴム付着物、酸化物被膜、薄錆など、従来の洗浄方法では落としきれなかった汚れを、クリピカエースは電気分解の力で除去します。これにより、製品の歩留まり向上、不良品の削減に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における金型部品の洗浄 ・微細金属部品の洗浄 ・精密部品のメンテナンス 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・メンテナンス回数の削減 ・成形機の稼働率向上 ・製品品質の向上
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【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー

【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細な異物や残留物は、製品の性能や信頼性を損なう可能性があります。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工後の異物除去 ・微細部品のクリーニング ・精密な表面処理 【導入の効果】 ・加工品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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精密洗浄サービス(ウェット洗浄)

精密洗浄サービス(ウェット洗浄)
株式会社エム・エー・シーテクノロジー
株式会社エム・エー・シーテクノロジーの洗浄再生事業部では、 『精密洗浄サービス(ウェット洗浄)』を行っております。 半導体製造装置の部品を中心にこれまで培ってきた知識・経験を活かし、 母材・生成物の状況に応じて薬剤を選定し、ウェット洗浄サービスを展開。 また、イオン注入、スパッタ、CVD装置の構成部品を中心に精密洗浄を行い、 拡散炉、エッチング、リソグラフィ工程の精密洗浄も対応可能です。 【対象材質品目】 ■石英 ■セラミック ■ステンレス ■モリブデン ■タングステン等の各種金属や樹脂部品 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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バレルタイププラズマ処理装置　ＰＢシリーズ

バレルタイププラズマ処理装置　ＰＢシリーズ
株式会社電子技研
バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液（Ｗｅt）を使用すること無く行える装置です。良環境性（クリーンな作業環境、無廃液）と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理（円筒形処理室／等方性プラズマ） ■多様なプロセス：Ａｓｈｉｎｇ（洗浄）、Ｅｔｃｈｉｎｇ、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応（半導体製造装置として使用可能） ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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【高周波】石英振動体型洗浄機　W-357-1MQG-SKC

【高周波】石英振動体型洗浄機　W-357-1MQG-SKC
本多電子株式会社
■石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄 　薬液を半導体ウェーハに浸し、石英ガラスを通じて超音波振動を伝播させることで、接触部の薬液が振動して、その加速度によって表面の汚れを除去します。 ■半導体ウェーハにダメージが少ない、クリーンな洗浄 　薬液との接液部に石英を用いることで、パッキン等ゴム材を使用した装置と比べてゴムの溶出や摩耗がなくクリーンな洗浄を実現します。 ■振動子冷却機能付き 　振動子を気体(窒素等)で冷却することで周波数変動がなく安定した連続運転が可能です。また、冷却することで急激な温度変化がなく長寿命です。
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クリーニング装置『ROBO-STICKY RBシリーズ』

クリーニング装置『ROBO-STICKY RBシリーズ』
株式会社FTMテクニカルサービス
当社が取り扱う、クリーニング装置『ROBO-STICKY RBシリーズ』を ご紹介いたします。 「MC-2000RB」は、クリーンローラとダブルにドッキングする事により 強力な除塵効果を発揮します。 「GT-2890RB」は、基板上の塵や埃を集塵機で吸引しながらブラシローラで 除去します。 【MC-2000RB 特長】 ■クリーンローラとドッキングにより強力な集塵効果を発揮 ■耐摩耗性に優れた50μmの極細ナイロンブラシを採用 ■基板を傷つける事なく表面の塵や埃をかき落とす ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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純水、準水系、水切り洗浄システム

純水、準水系、水切り洗浄システム
新オオツカ株式会社
新オオツカの取り扱う『純水、準水系、水切り洗浄システム』について ご紹介します。 当製品は、HDD 部品をはじめ、ウエハーや液晶関連、携帯電話部品、 レンズ、各種部品等の分野に適応可能。 洗浄・すすぎは、ワーク材質に適した洗浄剤の選択が多岐にわたり可能です。 尚、速乾性を考慮した当社独自の「溶剤乾燥システム」が併用出来ます。 【特長】 ＜洗浄・すすぎ部＞ ■ワーク材質に適した洗浄剤の選択が多岐にわたり可能 ■イオン残渣汚れの除去ができる ■引火性が無く、環境に配慮している ■有機、無機汚れに対応 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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板状ワーク用ウェットブラスト装置（PFE300T/N,600N）

板状ワーク用ウェットブラスト装置（PFE300T/N,600N）
マコー株式会社
PFE 300T/N・600Nは、最大600mm幅の大判板材をインラインで全自動処理できるウェットブラスト装置です。 独自の幅広ガンで上下両面を均一加工し、基板の現像残渣除去や樹脂・ガラス・フィルムの表面改質など幅広い用途に対応します。 【特長】・ ・最大600mm幅の大判板材に対応し、高品質な処理が可能 ・独自の幅広ガンで、上下両面の均一に加工 ・ウェットブラストから水洗・水切りまでインラインで全自動処理
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多周波超音波洗浄機

多周波超音波洗浄機
日本アレックス株式会社
●マルチ周波数 ※マルチソフトは40KHz、72KHz、104KHz、170KHzのそれぞれの周波数により設定された 　数値に基づき、最短0.75秒からの切り替え操作による対応が可能です。 ●デュアルスイープ機能 ※従来の周波数変調方式（スイープ機能）にパーツの共振を防ぐデュアルスイープを更に加えました。 ※定在波、共振作用による洗浄ムラ、ダメージを解決しました。 ●多周波振動子ユニット ※今まで困難と言われていた多周波に完全対応する振動子を開発しました。 ※どの周波数でも確実な出力が可能になりました。 ●PLCコントローラー ※10ステップまでの発振切替設定が可能で、周波数・出力・時間を任意に設定することにより 　幅広い種類のワークに対応します。 ●ディガス＆アップスイープ機能 ※槽内の液の溶存酸素の脱気と、コンタミを水面に浮かせるアップスイープ機能により 　より確実な洗浄を可能にしました。
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レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去

レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去とは？

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程でパターン形成に用いられる感光性樹脂（レジスト）を、後続工程の前に完全に除去し、基板表面を清浄な状態に戻す技術です。微細化が進む半導体デバイスでは、わずかなレジスト残渣も歩留まり低下やデバイス性能劣化の原因となるため、その完全な除去が極めて重要となります。

​課題

微細パターンへの残渣付着

微細化された回路パターン間にレジスト残渣が入り込み、除去が困難になる。

異種材料との複合残渣

レジストだけでなく、エッチング工程などで生じた異種材料とレジストが複合した残渣の除去が難しい。

基板ダメージのリスク

強力な洗浄方法を用いると、デリケートな半導体基板や微細構造にダメージを与える可能性がある。

洗浄液の選択と管理

レジストの種類や基板材料に適した洗浄液の選定、および洗浄液の性能維持・管理が複雑である。

​対策

高機能洗浄液の開発

レジスト残渣を効率的に溶解・分散させ、基板への影響を最小限に抑える特殊な洗浄液を開発・使用する。

精密洗浄装置の導入

超音波、プラズマ、または特殊な流体制御技術を用いた、残渣を効果的に除去できる精密な洗浄装置を導入する。

プロセス条件の最適化

洗浄液の種類、温度、時間、圧力などのプロセス条件を、レジストの種類や基板の状態に合わせて最適化する。

インライン検査による確認

洗浄後の基板をリアルタイムで検査し、レジスト残渣の有無を確実に確認する体制を構築する。

​対策に役立つ製品例

低ダメージ型洗浄溶剤

レジスト残渣を効果的に分解しつつ、基板材料への化学的・物理的ダメージを極めて低く抑えるように設計されているため、微細構造を保護しながら残渣を除去できる。

精密超音波洗浄システム

微細な超音波振動を精密に制御することで、微細パターン内部に隠れたレジスト残渣も物理的に剥離・除去し、基板表面を均一に洗浄できる。

プラズマアシスト洗浄装置

低ダメージのプラズマを照射しながら洗浄液を作用させることで、化学反応を促進し、通常では除去困難な複合レジスト残渣も効率的に分解・除去する。

自動洗浄液管理システム

洗浄液の濃度、温度、不純物レベルを常に監視・調整し、最適な洗浄性能を維持することで、安定した残渣除去効果を実現する。

目的・課題で絞り込む

回路・パターン設計

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

フォトマスク作成

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

シリコンインゴット切断

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ウェーハの研磨

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ウェーハ表面の酸化

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

薄膜形成

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

フォトレジスト塗布

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

露光・現像

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

エッチング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

イオン注入

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

平坦化

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

電極形成

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ウェーハ検査

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ダイシング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ワイヤーボンディング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

モールディング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

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