レジスト剥離残渣の完全除去とは？課題と対策・製品を解説

電子機器業界では、製品の信頼性と性能を維持するために、基板の精密な洗浄が不可欠です。フラックスや異物の付着は、電気的接続不良や短絡を引き起こし、製品の故障につながる可能性があります。Pulse300は、光の衝撃を利用してこれらの問題を解決し、基板を傷つけずに迅速かつ効果的にクリーニングします。

【活用シーン】
・電子基板製造工程
・修理・メンテナンス
・研究開発

【導入の効果】
・洗浄時間の短縮
・品質向上
・作業効率の改善

半導体業界では、製造工程における微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密な電子部品や基板の洗浄においては、残留物のないクリーンな洗浄が求められます。従来の洗浄方法では、洗浄剤の残留や部品の損傷といった問題が発生する可能性があります。当社のドライアイスブラスト洗浄は、瞬時に気化するドライアイスを使用することで、2次汚染を発生させることなく、精密部品を傷つけずに洗浄できます。

【活用シーン】
・半導体製造装置の部品洗浄
・電子基板の異物除去
・精密金型の洗浄

【導入の効果】
・洗浄後の回収作業が不要になり、作業効率が向上
・被洗浄物の分解・組立工程を削減
・有害物質の排出を抑制し、環境負荷を低減

半導体製造業界では、ウェーハの微細加工に伴い、異物や金属イオンの混入が製品の品質を大きく左右します。洗浄工程では、これらの不純物を徹底的に除去し、高い清浄度を維持することが求められます。不適切な洗浄は、歩留まりの低下やデバイスの性能劣化につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。半導体製造における高品質な洗浄をサポートします。

【活用シーン】
・半導体ウェーハ洗浄
・電子部品製造
・クリーンルーム環境

【導入の効果】
・高い洗浄力による歩留まり向上
・金属不純物によるデバイスへの影響を抑制
・クリーンルーム環境での安定した使用

ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する異物除去が重要です。特に、微細な異物が混入すると、表示不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のラジカル洗浄ユニットは、OHラジカルを効率的に生成し、ディスプレイ製造工程における異物除去を強力にサポートします。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造工程での異物除去
・フォトレジスト残渣の除去
・金属汚染の抑制

【導入の効果】
・高純度洗浄による品質向上
・省スペース化によるコスト削減
・環境負荷低減

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・ウェーハ製造工程における異物除去
・精密部品の洗浄
・薬液洗浄後のリンス工程

【導入の効果】
・洗浄時間の短縮
・洗浄品質の向上
・歩留まりの改善

電子機器業界の精密洗浄工程では、異物の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、洗浄液中の微細な異物は、配管詰まりを引き起こし、洗浄効率の低下や製品不良の原因となります。MAGPICKERは、配管の上流でカスや端材に含まれる磁性体と非磁性体を同時に回収することで、配管詰まりのリスクを軽減し、安定した洗浄工程をサポートします。

【活用シーン】
・電子機器製造における精密洗浄工程
・ケミカル材料製造工程
・配管詰まりによる生産停止リスクの低減

【導入の効果】
・配管清掃費用、修繕費の軽減
・洗浄工程の安定化
・製品品質の向上

半導体業界では、製造工程における微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高密度化が進む中で、従来の洗浄方法では対応しきれないケースが増えています。Pulse300は、光の衝撃を利用した非接触のクリーニングにより、デリケートな半導体部品を傷つけることなく、精密な洗浄を実現します。100V電源対応で、設置場所を選ばず、手軽に導入できます。

【活用シーン】
・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄
・製造ラインにおける異物除去
・品質管理におけるクリーン度向上

【導入の効果】
・製品の品質向上と歩留まりの改善
・洗浄時間の短縮とコスト削減
・環境負荷の低減

フォトマスク業界では、製造プロセスにおける微細なパーティクルの除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェハーやフォトマスクの洗浄においては、サブミクロンレベルの異物除去が求められます。不適切な洗浄は、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、基板直近での洗浄を可能にし、サブミクロンのパーティクルを除去することで、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・シリコンウェハーの洗浄
・フォトマスクの洗浄
・CMP後の洗浄
・枚葉式洗浄

【導入の効果】
・高い洗浄性能による歩留まり向上
・製品の品質向上
・洗浄時間の短縮

電子部品業界の表面処理工程では、微細な有機物や金属汚染の除去が、製品の品質と信頼性を左右します。特に、高密度化が進む電子部品においては、コンタミを徹底的に除去し、高品質な表面処理を行うことが重要です。ラジカル洗浄ユニットは、高効率なOHラジカル生成により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・フォトレジスト除去
・金属膜酸化防止
・有機・金属汚染除去

【導入の効果】
・洗浄効率の向上
・環境負荷の低減
・製品品質の向上

半導体製造業界では、製品の品質を左右するパーティクルの除去が重要です。微細なパーティクルは、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、金属板に付着したパーティクルや油汚れを効果的に除去します。これにより、次工程の品質向上に貢献し、歩留まりの改善に繋がります。

【活用シーン】
・半導体製造工程における金属部品の洗浄
・パーティクルや油汚れの除去が必要な工程
・品質管理を徹底したい工程

【導入の効果】
・パーティクル除去による品質向上
・歩留まりの改善
・洗浄剤コストの削減

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高精度なデバイス製造においては、コンタミネーションが製品の性能低下や不良品の発生につながるため、徹底したクリーン化が求められます。CW2000レーザークリーナーは、光のエネルギーを利用して表面付着物を除去し、半導体製造における精密洗浄の課題に応えます。

【活用シーン】
・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄
・製造ラインにおける異物除去
・微細な付着物の除去

【導入の効果】
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
・洗浄時間の短縮

電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・電子部品製造
・基板実装
・半導体製造

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・不良率の低減
・製品信頼性の向上

半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・半導体製造工程における異物除去
・洗浄工程の最適化による歩留まり改善
・洗浄剤選定によるコスト削減

【導入の効果】
・洗浄品質の向上による歩留まり改善
・不良率の低減
・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上

電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、基板や部品に付着したフラックスを完全に除去することが重要です。フラックスの残留は、電気的接続の不良や腐食を引き起こし、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、フラックスや油汚れを確実に除去することで、電子機器の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・電子基板製造
・電子部品製造
・各種電子機器のメンテナンス

【導入の効果】
・フラックス除去による製品品質の向上
・洗浄剤コストの削減
・作業時間の短縮
・環境負荷の低減

半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。

再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施
異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。

既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。
（再生成績証明書の発行可能）
ランニングコスト低減のお役に立ちます。

【活用シーン】
・半導体製造工場の洗浄工程
・精密部品の洗浄
・研究開発における純水利用

【導入の効果】
・高品質な純水による製品品質の向上
・ランニングコストの削減
・安定した純水供給による生産効率の向上

半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。

【導入の効果】
・液ダレによる製品不良の削減
・洗浄液の使用量最適化
・洗浄工程の効率化

電気電子業界の基板洗浄において、異物や付着物の除去は、製品の品質と信頼性を確保する上で非常に重要です。特に、微細な電子部品が密集する基板では、従来の洗浄方法による残留物や基板へのダメージが問題となることがあります。ドライアイスブラスト洗浄は、ブラスト材が残留せず、基板を傷つけにくいという特長から、精密な基板洗浄に最適です。

【活用シーン】
・基板実装後のフラックスや異物の除去
・電子部品製造工程における汚れの除去
・精密機器のメンテナンス

【導入の効果】
・洗浄後の2次汚染リスクを低減
・基板や電子部品へのダメージを最小限に抑制
・作業効率の向上とコスト削減に貢献

電子部品製造業界において、研磨工程は製品の品質を左右する重要なプロセスです。研磨後の表面清浄度を確保することは、製品の性能を最大限に引き出すために不可欠です。不純物の混入は、製品の不良や性能低下を引き起こす可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。電子材料製造に求められる高水準の清浄度を提供します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハ研磨後の洗浄
・光学ガラス研磨後の洗浄
・電子部材製造工程での洗浄

【導入の効果】
・研磨後の残留物を除去し、製品の品質向上
・高い洗浄力で、歩留まり向上に貢献
・クリーンルーム環境での安定した使用が可能

精密機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の徹底的な洗浄が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。クリンベストZEROは、フッ素系洗浄剤に対応し、微細部品まで均一に洗浄することで、高品質な製品製造をサポートします。乾燥時間の短縮も実現し、生産効率の向上にも貢献します。

【活用シーン】
* 精密機器製造における部品洗浄
* 高精度な製造ラインでの異物除去
* 品質管理部門での検査工程

【導入の効果】
* 洗浄性の向上による品質向上
* 乾燥時間短縮による生産効率アップ
* 環境負荷低減による企業イメージ向上

半導体業界では、製造工程における微細な異物や汚れの除去が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高密度化が進む中で、コンタミネーションは深刻な問題となっています。MAXナノバブルは、0.01mm未満の超微細泡で、従来の洗浄方法では落としきれない微細な汚れを浮き上がらせ、除去します。電気分解や薬品を使用しないため、環境負荷を低減しつつ、洗浄コストの削減にも貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの精密洗浄
・製造装置部品の洗浄
・クリーンルーム内の清掃

【導入の効果】
・洗浄力の向上による歩留まり改善
・洗浄コストの削減
・環境負荷の低減

半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細なパーティクルや異物の除去は、製品の歩留まりと信頼性を左右する重要な課題です。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・レーザー加工後の異物除去
・微細部品のクリーニング
・精密な表面処理

【導入の効果】
・加工品質の向上
・歩留まりの改善
・製品の信頼性向上

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・電子部品の洗浄
・製造装置の洗浄

【導入の効果】
・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減
・洗浄力の向上による品質向上
・ランニングコストの削減

電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、電子部品の小型化が進む中で、接合面のわずかな汚れや異物が、接合不良や製品の性能劣化につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・電子基板の接合前処理
・コネクタ端子のクリーニング
・半田付け前の表面処理

【導入の効果】
・接合不良の低減
・製品の信頼性向上
・作業効率の向上

半導体業界の精密洗浄工程では、微細加工技術の進歩に伴い、より高い洗浄精度と、環境負荷の低減が求められています。特に、有機汚染物やフォトレジスト残渣の完全除去、金属汚染の抑制は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。ラジカル洗浄ユニットは、高純度洗浄を実現し、これらの課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・SPMレスなフォトレジスト除去プロセス
・有機・金属汚染の抑制
・金属膜酸化防止プロセス

【導入の効果】
・洗浄効率の向上
・環境負荷の低減
・製品品質の向上

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に製造するために、薬液供給の正確性と信頼性が求められます。特に、微細加工プロセスにおいては、薬液の脈動や気泡が、製造不良や歩留まりの低下につながる可能性があります。FP70シリーズ ダイアフラム液体ポンプは、脈動を抑制し、安定した薬液供給を実現することで、半導体製造における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・薬液供給システム
・洗浄液供給システム
・試薬供給

【導入の効果】
・脈動の少ない安定した薬液供給
・チューブ内圧損の軽減
・気泡の抑制
・オプショナルパーツ削減

電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、精密な電子部品においては、接合面の清浄度が製品の性能に大きく影響します。不適切な処理は、接合不良や製品の故障につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力で、これまで除去が難しかった付着物も除去し、接合前の表面処理を強力にサポートします。

【活用シーン】
・電子部品の接合前処理
・基板実装前の表面処理
・コネクタ接合部のクリーニング

【導入の効果】
・接合不良の低減
・製品の信頼性向上
・作業効率の向上

電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・電子部品の製造工程における精密洗浄
・基板や半導体部品の洗浄
・製造後の最終クリーニング

【導入の効果】
・高い洗浄力で、電子部品の品質向上
・水のみを使用するため、環境負荷を低減
・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現
・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能

半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細な異物や残留物は、製品の性能や信頼性を損なう可能性があります。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・レーザー加工後の異物除去
・微細部品のクリーニング
・精密な表面処理

【導入の効果】
・加工品質の向上
・歩留まりの改善
・製品の信頼性向上

■石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄
　薬液を半導体ウェーハに浸し、石英ガラスを通じて超音波振動を伝播させることで、接触部の薬液が振動して、その加速度によって表面の汚れを除去します。
■半導体ウェーハにダメージが少ない、クリーンな洗浄
　薬液との接液部に石英を用いることで、パッキン等ゴム材を使用した装置と比べてゴムの溶出や摩耗がなくクリーンな洗浄を実現します。
■振動子冷却機能付き
　振動子を気体(窒素等)で冷却することで周波数変動がなく安定した連続運転が可能です。また、冷却することで急激な温度変化がなく長寿命です。

純水系洗浄装置は、真空洗浄、QDRシステム、超音波洗浄、温純水低速引き上げ、真空乾燥システムなど優れたテクノロジーを組合せた洗浄システムです。あらゆる純水系洗浄システムに対応しておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問い合わせ下さい。

【ラインアップ】
■自動純水器
■純水再生ユニット
■自動BGA、CSP半導体洗浄装置
■6槽式純水洗浄装置
■自動NMP剥離装置など

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

『SC-9000』は、親水状態のウェーハからも汚染を回収できる
簡易型微量汚染物質回収装置です。

シリコン以外の材質のウェーハや、バルクエッチング等で
表面が荒れてしまったウェーハに対してもサンプリングが可能できます。

【特長】
■ウェーハの状態やサンプリング用薬液の種類に対する制限が緩和され、
　重金属以外のイオン等の回収も可能
■従来の疎水面サンプリングも可能
■サンプリング用薬液の供給や保持具の移動を装置側が自動で実施　など

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

当製品は、シンプルな処理構造で好適なプロセスを実現する
シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置です。

メンテナンス性を考慮した部品配置。洗浄装置は各ユニットが
モジュール化されています。

「ワイヤーソー後洗浄」「ラップ後洗浄」「アルカリエッチング洗浄」など
様々なプロセスに対応しています。

【特長】
■高いプロセス性能
■ハイスループット
■メンテナンス性の向上
■装置設計
■豊富な実績

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。

本ページでは、水のレジストへの浸透を処理前と処理後の比較資料を掲載しております。

【特長】
■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減
■使用するのは「純水」のみ
■化学薬品の使用量を大幅に削減
■洗浄力を大幅に向上
■半導体用洗浄にも使用

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

『APS-HQシリーズ』は、洗浄ワークを上下から洗浄することでムラのない
洗浄が可能な精密洗浄機です。

洗浄ワークは水中を貫通するため、汚れの再付着を防ぎます。

また、中高圧揺動シャワーでムラのない洗浄ができ、洗浄ワークに合った
ノズルを選定いたします。

【特長】
■上下対向超音波波振動子
■サインジェット
■吹き飛ばし乾燥

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

ノースヒルズ溶接工業は、航空宇宙、エネルギー、半導体、検査機器、
防衛関連のコア部分の製品づくりを行っている会社です。
製造・ご注文の流れより、表面処理の中の精密洗浄について説明いたします。

当社では、ベーパー式超音波洗浄装置を使用した精密洗浄を行っております。
ベーパー式超音波洗浄装置を使用することにより、高品質な溶接が可能となり、
半導体の部品を綺麗な状態で提供することができます。

500×500×500（ｍｍ）までの部品を洗浄可能。
納期は、最短で即日出荷、単価は1500円より承っております。

【特長】
■ベーパー洗浄槽：専用液から出る蒸気で汚れを浮かせ洗浄
■超音波槽：超音波の振動により細部の汚れを浮かし取り除く
■リンス槽：最終的な汚れを取り除く
■ベーパー洗浄槽：蒸気で乾かしながら、細部の汚れを落とす

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ヴァリアス社製の「自動洗浄装置、レジスト剥離装置」は、
多種の洗浄物に対応した洗浄レシピを搭載。
処理能力に対応した自動搬送型で、剥離液にはリークの無い配管を使用。
ポンプもシールレス採用しています。

【特徴】
○溶剤により防爆仕様対応
○超音波は各メーカー、周波数に対応
○装置内はFFU搭載も可能

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

●マルチ周波数
※マルチソフトは40KHz、72KHz、104KHz、170KHzのそれぞれの周波数により設定された
　数値に基づき、最短0.75秒からの切り替え操作による対応が可能です。

●デュアルスイープ機能
※従来の周波数変調方式（スイープ機能）にパーツの共振を防ぐデュアルスイープを更に加えました。
※定在波、共振作用による洗浄ムラ、ダメージを解決しました。

●多周波振動子ユニット
※今まで困難と言われていた多周波に完全対応する振動子を開発しました。
※どの周波数でも確実な出力が可能になりました。

●PLCコントローラー
※10ステップまでの発振切替設定が可能で、周波数・出力・時間を任意に設定することにより
　幅広い種類のワークに対応します。

●ディガス＆アップスイープ機能
※槽内の液の溶存酸素の脱気と、コンタミを水面に浮かせるアップスイープ機能により
　より確実な洗浄を可能にしました。

化学的力・物理的力・温度の3要素をうまく組み合わせることにより、洗浄効果が最大に発揮でき【品質向上】【洗浄時間短縮】【生産効率向上】がはかれます。

●高性能、高信頼性で長期安定稼働
●微細かつ均一洗浄で生産性向上
●環境配慮に省電力・コンパクト設計


※詳しくはお問い合わせ、もしくはPDF資料をダウンロードしてご覧ください。

新オオツカの取り扱う『純水、準水系、水切り洗浄システム』について
ご紹介します。

当製品は、HDD 部品をはじめ、ウエハーや液晶関連、携帯電話部品、
レンズ、各種部品等の分野に適応可能。

洗浄・すすぎは、ワーク材質に適した洗浄剤の選択が多岐にわたり可能です。
尚、速乾性を考慮した当社独自の「溶剤乾燥システム」が併用出来ます。

【特長】
＜洗浄・すすぎ部＞
■ワーク材質に適した洗浄剤の選択が多岐にわたり可能
■イオン残渣汚れの除去ができる
■引火性が無く、環境に配慮している
■有機、無機汚れに対応

※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

小物基板に対応！両面スクラブ洗浄装置

■□■特徴■□■

■ワークの形状を問わない
■ただ置くだけで簡単に両面スクラブができる
■座って作業ができる
■便利なワーク保管水槽装備
■メンテナンスしやすい透明テーブル
■厚み0.05〜1mmなら段取り換えなし
■ソフトで強力な20μ極細ブラシ搭載
■事務所机ほどのコンパクトなサイズ
■移動が簡単なキャスタ付き
■スクラブ下に超音波付き
　 ブラッシングと超音波の強力コンビネーション洗浄が実現

■その他機能や詳細については、カタログダウンロード
　 もしくはお問い合わせ下さい。

「2槽式フッ素系洗浄装置」は、フッ素系溶剤を用いて、パーティクル除去を行う溶剤系洗浄システムです。
第1槽で浸漬洗浄、第2槽でベーパー洗浄を行うことにより、高い洗浄精度と乾燥性を実現します。
また、大型設備へのスケールアップを行うことも可能です。

【特長】
○多孔板を用いた洗浄槽内の濾過システム
→洗浄槽に多孔板を設置し、洗浄剤を吐出あるいは回収、槽内の清浄度を高める
→パーティクルの比重や水流に左右されずに、効率よく浄化をする事が可能
→排出されるバランスは、調整バルブA～Cにより調節する事が可能

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

物理力と化学力のW（ダブル）効果リフトオフ！

W効果リフトオフとは？
・当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェット（MAX20MPa）により、物理力による剥離
・溶剤にNMPやDMSOなどの有機溶剤を使用し、化学的な力で剥離

また、枚葉による高速処理・高剥離力・高安定性を実現し、さらに薬液の使用量も削減できます。

この他にレジスト、ポリマー、 マスクの洗浄装置としても使用でき、熱処理後やドライエッチング後の頑固なレジストも剥離可能です。

また、DIP処理で問題となるバリやメタルの再付着がありません。

厚膜のメタル、酸化膜など、エッチングで困難な厚膜のパターニングに好適な高圧ジェットリフトオフ装置です。

【特長】
■W（ダブル）効果リフトオフによる驚きの剥離能力！
■枚葉式によるプロセス安定性
■リフトオフ時のバリの除去
■再付着なし
■温調薬液のリサイクルシステム （オプション）

※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。

本ページでは、太陽電池用シリコン基板の切削粉を除去処理した際のデータ資料を掲載しております。

【特長】
■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減
■使用するのは「純水」のみ
■化学薬品の使用量を大幅に削減
■洗浄力を大幅に向上
■半導体用洗浄にも使用

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

当製品は、洗浄液中の液粒子に振動を与えて、発生する液粒子の移動する
加速度を利用し、洗浄対象物表面の汚れを剥離させる発振器です。

波長が短く、定在波に起因する洗浄ムラがなく、サブミクロンレベルの
超微細な汚れに対しても有効です。

超精密洗浄システムに不可欠な製品です。

【特長】
■洗浄対象物表面の汚れを剥離
■波長が短い
■洗浄ムラがない

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『NC-250』は、基板表面に付着したクズ・ゴミをブラシによりクリーニング
する装置です。

ブラシ＋エアーブローによりクリーニングを行い、上面からのエアーブロー
によりスルーホール内のゴミを除去。ブラシユニットの清掃及びブラシ交換は、
簡単に取り外しが行える構造となっています。

また、ブラシと基板が接触するため、従来では基板の厚みによりブラシ高さ
調整が必要でしたが、基板厚追従により調整が不要となりました。

【特長】
■基板表面に付着したゴミをブラシ＋エアーブローによりクリーニングを行う
■ブラシユニットは運転モードに合わせて自動で昇降動作を行う
■上面からのエアーブローにより、スルーホール内のゴミを除去
■ブラシユニットの清掃及びブラシ交換は、簡単に取り外しが行える構造
■基板搬出側の上面にイオナイザーが標準装備

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『WPA800S』は、同軸バレル構造をチャンバーに持つウエハ50枚のバッチ式
プラズマアッシング装置です。

ウエハサイズ200mm（8インチ）に対応しており、シリコンウエハ上に
形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起によって、
低ダメージアッシング（灰化除去）や表面改質等の多様なプロセス用途に
利用が可能です。

【特長】
■同軸バレル構造
■50枚バッチ式
■ウエハサイズ200mm（8インチ）に対応
■簡単レシピ入力

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社ファイコーポレーションでは『現像・エッチング・剥離装置』を
取り扱っております。

ドライフィルムのパターン形成において、現像後のワークを投入する事により
塩化第二銅にてエッチングを行いその後、苛性ソーダによって
ドライフィルムを剥離。

この時、ドライフィルムは膨潤剥離型のフィルムとし、剥離片の回収装置が
ついています。これは剥離液の全量濾過を行うものとします。

【特長】
■メンテナンス性を重視
■使いやすい設計
■設置場所に合わせて各チャンバーやポンプのレイアウトを設計可能
■すべてオーダーメイドにて設計・製作

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

メルコジャパン株式会社の精密洗浄部門について、ご紹介いたします。

液晶パネルや半導体チップの製造工程に使われる真空容器など関連装置の
高精度化に伴い、これら装置部品の不純物を確実に除去する精密洗浄が
求められる現状。

当社では、常に徹底した精密洗浄を施してお客様に納品しています。

【大型チャンバー精密洗浄プロセス】
■1.純水を90℃の高温にしてチャンバーを1時間から2時間、洗浄槽内に浸漬け投入
■2.チャンバーの温度が90℃に行き渡ったところで引き上げ
■3.瞬時に起きる蒸発作用で急速乾燥
■4.ネジ山、溶接の穴から酸を除去し、表面を撹拌し精密洗浄

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

■グリコールエーテル
低金属管理された高品質グリコールエーテルは、半導体や液晶などの製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています。当社は各金属を数ppbレベルに管理した高品質なグリコールエーテルを豊富に取り揃えており、構造や沸点を広範囲で選択可能です。また、原料調達、合成、蒸留を一貫して行いトレーサビリティの体制を整えることで電子材料業界のお客様からの厳しい品質管理要求に応えています。
更なる管理体制の充実により、pptレベルの管理の実現を目指しています。

■アミン
当社で製造しているアミンにおいても、低金属管理を行っています。
添加剤として、半導体製造プロセス薬剤に使用されています。
当社で生産していないアミン類に関しましても、精製によりお客様のご要望にお応えできる低金属管理品を提供できますので、お気軽にご相談ください。

※詳細はPDF資料をダウンロードし、ご覧ください。

横浜油脂工業の『Semi Clean』は、フラットパネルディスプレイから光学部品、
金属部品まで、サブミクロンオーダーの精密洗浄をサポートする精密洗浄剤です。

弊社独自設計の生産ラインによって、高品質・低コストを確立。
常に安定した高品質の製品を供給すべく、
専門技術者による徹底した分析を行い、ISO9001を取得しています。

弊社では、この『Semi Clean』を使った様々な精密洗浄製品を取り扱っています。


【特長】
■エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂に効果大
■銅、真鍮の変色抑制能が高い
■非塩素系、非危険物の環境配慮型
■臭いの弱い低臭タイプ
■接着剤、塗膜、保護膜剥離・インク洗浄・酸洗い、製品リペアに好適

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。