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半導体製造装置・材料

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膜厚均一性の確保とは?課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における膜厚均一性の確保とは?

半導体製造において、微細な回路パターンを形成するために、基板上に極めて薄い膜を均一な厚さで形成する技術です。この膜厚の均一性は、半導体の性能や信頼性を左右する重要な要素となります。

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スマートフォン業界では、画面の傷つきやすさが課題となっています。日常的な使用による擦り傷は、製品の外観を損なうだけでなく、画面の見やすさも低下させます。JSコートは、このような課題に対し、耐傷性、防汚性、撥水性を付与することで、スマートフォンの画面を保護します。JSコートを適用することで、画面の美しさを長く保ち、製品の価値を高めることが期待できます。

【活用シーン】
・スマートフォンの画面
・タッチパネル
・保護ガラス

【導入の効果】
・画面の傷つきを抑制
・指紋や汚れの付着を軽減
・画面の視認性向上

【スマートフォン向け】JSコート

携帯端末業界では、製品の小型化と高性能化が同時に求められています。燃料電池金属セパレータは、小型化において重要な役割を担いますが、その製造には高い精度が要求されます。HyFormionは、金属セパレータの製造に適した特性を持ち、携帯端末の小型化と性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・小型燃料電池搭載の携帯端末
・薄型・軽量化が求められる携帯端末

【導入の効果】
・精密な流路成型による性能向上
・薄肉化による軽量化
・コーティング密着性の向上

【携帯端末向け】HyFormion 広幅ステンレス箔

産業機械業界では、過酷な環境下での長期的な稼働が求められ、電子基板の信頼性が非常に重要です。温度変化、湿度、振動、腐食性ガスなど、様々な要因が電子基板の性能劣化を引き起こす可能性があります。当社の無溶剤UV硬化型コンフォーマルコーティング剤は、これらの課題に対し、高い耐久性と保護性能を提供します。UV光で瞬時に硬化し、生産効率向上にも貢献します。

【活用シーン】
・屋外設置の産業機械
・高温多湿環境で使用される機器
・腐食性ガスにさらされる基板

【導入の効果】
・長期的な製品寿命の実現
・メンテナンスコストの削減
・製品の信頼性向上

【産業機械向け】UV硬化型コンフォーマルコーティング剤

電子機器業界では、製品の小型化・高密度化に伴い、放熱性能の向上が重要な課題となっています。特に、熱は電子部品の性能劣化や故障の原因となるため、効果的な放熱対策が求められます。DLC-UM・Wは、高硬度と低摩擦係数により、金型や切削工具の摩耗を抑制し、長寿命化に貢献します。これにより、電子機器製造における品質向上とコスト削減を両立します。

【活用シーン】
・電子部品製造における精密金型
・リードフレーム製造における金型
・アルミ・銅加工における切削工具

【導入の効果】
・金型の長寿命化
・メンテナンス頻度の削減
・製品の品質向上

【電子機器向け】DLC-UM・Wによる放熱対策

電子部品業界において、絶縁性は製品の信頼性と安全性を確保する上で非常に重要な要素です。特に、高電圧環境や高温環境で使用される電子部品では、絶縁性の高い材料が不可欠です。絶縁性が低いと、漏電や短絡を引き起こし、製品の故障や事故につながる可能性があります。当社の特殊セラミック部品は、高い絶縁性を実現し、電子部品の性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・高電圧回路
・高温環境下での使用
・精密電子機器

【導入の効果】
・絶縁性の向上
・製品の信頼性向上
・安全性の確保

【電子部品向け】特殊セラミック部品

エレクトロニクス業界のスパッタ用途では、高品質な薄膜形成が求められます。特に、半導体デバイスや電子部品の製造においては、ターゲット材の純度や均一性が製品の性能を左右します。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、耐食性や耐熱性に優れ、様々な電子部品の製造に利用されています。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高品質な薄膜形成を可能にし、お客様の製品の信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造
・電子部品製造
・薄膜形成

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成
・製品の信頼性向上
・スパッタリング効率の向上

【エレクトロニクス向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット

電池業界では、高性能な電池を開発するために、スラリーの均一な混合が求められます。特に、電極材料の分散性が電池の性能を左右するため、スラリーの品質が重要です。不適切な混合は、電池の容量低下や寿命短縮につながる可能性があります。IKA magic LABは、インライン式による均一な混合・分散を卓上ラボスケールで実現し、電池スラリーの研究開発をサポートします。

【活用シーン】
・電池材料(正極材、負極材、電解液など)のスラリー調製
・ラボスケールでのスラリー混合条件の検討
・少量しか使用できない高価な原料の研究

【導入の効果】
・スラリーの均一性向上による電池性能の向上
・スケールアップを見据えた研究開発の効率化
・材料の有効活用によるコスト削減

【電池向け】小型インラインミキサー magic LAB

電子機器業界では、製品の信頼性と長寿命化のため、冷却システムの性能が重要です。特に、高温環境や化学物質にさらされる電子部品においては、冷却効率の維持と、チューブの耐久性が不可欠です。不適切な冷却やチューブの劣化は、部品の故障や性能低下につながる可能性があります。当社の耐薬柔軟フッ素系チューブは、耐薬品性と耐熱性に優れ、-50℃~200℃の幅広い温度範囲で使用可能です。電子機器の冷却システムの信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・電子機器の冷却システム
・半導体製造装置
・化学プラント

【導入の効果】
・冷却システムの信頼性向上
・チューブ交換頻度の削減
・幅広い温度範囲での使用が可能

【電子機器向け】耐薬柔軟フッ素系チューブ

家電業界では、製品の安全性と耐久性を確保するために、絶縁材料の信頼性が重要です。特に、高温環境や振動にさらされる家電製品においては、絶縁性能の劣化が製品の故障につながる可能性があります。当社のシリコーンコートグラスファイバーは、耐熱200℃、耐放射線性、耐摩耗性に優れており、過酷な環境下でも高い機械的・電気的特性を維持します。これにより、家電製品の安全性と信頼性を向上させます。

【活用シーン】
・モーターリード線の絶縁
・変圧器リード線の保護
・家電製品内部の配線保護

【導入の効果】
・製品の長寿命化
・安全性の向上
・故障リスクの低減

【家電向け】シリコーンコートグラスファイバー

半導体製造業界では、薬液の正確な供給が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、高純度な薬液を使用する工程においては、薬液の汚染やチューブからの成分溶出が問題となります。これらの問題は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。当社の耐薬柔軟フッ素系チューブは、FFKMと同等の耐薬品性を持ち、-50℃~200℃の幅広い温度範囲で使用できるため、半導体製造における薬液供給の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・各種分析装置
・半導体製造装置

【導入の効果】
・薬液の純度を維持
・幅広い温度環境に対応
・チューブ交換頻度の削減

【半導体向け】耐薬柔軟フッ素系チューブ

半導体製造業界では、純水供給システムの信頼性が重要です。純水は、半導体製造プロセスにおける洗浄や冷却に不可欠であり、その純度を維持するために、配管やタンクの材質、接合方法が重要になります。プラスチック溶接加工は、耐薬品性、耐食性に優れたプラスチック材料を接合し、純水環境を維持する上で重要な役割を果たします。当社のプラスチック溶接加工は、塩ビ(PVC)、PP、フッ素系樹脂など、様々なプラスチック材料に対応し、お客様のニーズに合わせた最適なソリューションを提供します。

【活用シーン】
・純水タンク
・純水配管
・各種継手

【導入の効果】
・純水システムの信頼性向上
・異物混入のリスク低減
・長期的なコスト削減

【半導体向け】プラスチック溶接加工

半導体製造業界では、真空環境下での精密なプロセスが製品の品質を左右します。特に、真空封止は、コンタミネーションを防ぎ、高精度な製造を支える上で不可欠です。シール性能のわずかな劣化が、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。当社の膨張シールは、真空0.133Paから高圧まで、-50℃から+250℃の温度範囲に対応し、半導体製造における厳しい環境下での真空封止を強力にサポートします。

【活用シーン】
* クリーンルームドアシール
* 半導体製造装置のパネルシール
* 真空搬送システム

【導入の効果】
* 高いシール性による真空度の維持
* コンタミネーションのリスク低減
* 装置の安定稼働と製品品質の向上

【半導体向け】真空用・クリーンルーム用膨張シール セフィリア

電子機器業界において、絶縁材料の選定は製品の安全性と性能を左右する重要な要素です。特に、高電圧環境や高温環境で使用される電子機器では、絶縁性能の信頼性が不可欠です。適切な絶縁材料の選定には、量産時に使用する材料での試作が有効です。量産材料での試作により、実際の使用環境下での性能評価が可能となり、製品の信頼性向上に貢献します。当社では、量産前の試作を量産材料で製作する方法をご提案します。

【活用シーン】
・電子機器の絶縁部品の試作
・高電圧機器の絶縁性能評価
・高温環境下での絶縁材料の選定
・少量生産向けの絶縁部品製造

【導入の効果】
・量産材料での試作による信頼性向上
・イニシャルコストの抑制
・短納期での試作対応
・多様な材料への対応

【電子機器向け】量産材料で試作(プラスチック・ゴム)

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、ウェーハや基板の均熱は、製造プロセスにおける歩留まりや製品性能に大きく影響します。温度ムラは、製品の品質低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社のシリコンラバーヒーターは、均熱性に優れ、精密な温度管理を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・ウェーハの均熱
・基板の均熱
・半導体製造装置の温度管理

【導入の効果】
・温度分布の均一化による品質向上
・歩留まりの改善
・製品の信頼性向上

【半導体製造向け】シリコンラバーヒーター

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、精密な電子部品や高密度実装された基板においては、局所的な温度上昇が性能劣化や故障の原因となる可能性があります。密着冷却用空冷サーモ・クーラーは、半導体デバイスや基板に直接取り付けて冷却することで、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・半導体製造装置内の温度管理
・電子部品の冷却
・基板の局所冷却

【導入の効果】
・製品の信頼性向上
・歩留まりの改善
・製造プロセスの安定化

【半導体製造向け】密着冷却用空冷サーモ・クーラー

電子部品業界において、絶縁性は製品の信頼性と安全性を確保する上で非常に重要な要素です。絶縁性の低い材料は、漏電や短絡を引き起こし、製品の故障や性能低下につながる可能性があります。アクリルモノマー、メタクリルモノマーは、絶縁性に優れたポリマー材料の原料として不可欠です。当社製品は、高品質なモノマーを提供することで、電子部品の絶縁性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・絶縁材料の製造
・電子部品のコーティング
・プリント基板の製造

【導入の効果】
・絶縁性の高い製品の実現
・製品の信頼性向上
・歩留まりの向上

【電子部品向け】アクリルモノマー、メタクリルモノマーの合成・精製

電子機器業界において、コンデンサは製品の小型化と高性能化を両立するために重要な役割を担っています。特に、高い信頼性と長寿命が求められるコンデンサにおいては、高品質な材料の選定が不可欠です。タンタル(Ta)ターゲットは、このようなニーズに応えるために開発されました。

【活用シーン】
・コンデンサ製造
・電子デバイス製造

【導入の効果】
・コンデンサの性能向上
・製品の信頼性向上
・薄膜堆積効率の向上

【電子機器向け】タンタル(Ta)ターゲット

半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、薄膜の品質が重要視されています。特に、Hf(ハフニウム)ターゲットを用いた薄膜形成においては、ターゲット材の純度と均一性が、薄膜の特性を大きく左右します。不純物の混入や結晶粒径のばらつきは、薄膜の信頼性低下につながる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高品質な薄膜形成をサポートします。

【活用シーン】
・半導体製造における薄膜形成
・スパッタリングによるHf薄膜の作製
・高性能デバイス製造

【導入の効果】
・高品質な薄膜の実現
・デバイス性能の向上
・歩留まりの改善

【半導体向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット

半導体業界では、配線の微細化と高品質化が求められています。配線の信頼性を高めるためには、材料の純度と導電性が重要です。不適切な材料や製造プロセスは、配線の断線や性能劣化につながる可能性があります。当社の錫(Sn)ターゲットは、高純度と優れた導電性により、半導体配線の高品質化に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造における配線形成
・ITO薄膜の製造

【導入の効果】
・高純度材料による配線信頼性の向上
・優れた導電性による性能向上
・均一な成膜による歩留まり向上

【半導体向け】錫(Sn)ターゲット

精密機器業界では、製品の高性能化と小型化に伴い、薄膜技術の精度が重要視されています。特に、耐久性や信頼性が求められる精密部品においては、高品質な薄膜の形成が不可欠です。薄膜の品質が低いと、製品の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高品質なスパッタリング成膜を実現し、精密機器の薄膜形成に最適な素材を提供します。

【活用シーン】
・センサー
・MEMSデバイス
・光学部品
・電子部品

【導入の効果】
・高精度な薄膜形成
・高い耐久性
・均一な膜厚
・多様な材料への対応

【精密機器向け】タングステン(W)ターゲット

電池製造業界では、電解液の正確な注入が製品の性能と安全性を左右します。特に、アルカリ性の電解液を使用する電池製造においては、耐腐食性と微量定量注入が求められます。不適切な注入は、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。当社のアルカリ液対応 TSPポンプ BSモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の電解液を正確に送るのに最適なソレノイド駆動方式を採用しています。

【活用シーン】
・電池製造工場での電解液注入
・アルカリ性電解液を使用する工程
・微量定量注入が必要な場面

【導入の効果】
・電解液注入の精度向上
・製品の品質安定化
・長期的なコスト削減

【電池製造向け】アルカリ液対応 TSPポンプ BSモデル

電子機器業界では、製品の小型化と高性能化が進むにつれて、放熱対策が重要な課題となっています。高温環境下での電子部品の保護は、製品の信頼性と寿命を左右します。特に、熱による絶縁劣化は、機器の誤作動や故障の原因となります。当社のシリコンコートグラスファイバー グレードCは、耐熱性に優れ、電子機器内部のリード線やコイルを熱から保護し、安定した動作をサポートします。

【活用シーン】
・高温環境下で使用される電子機器
・モーター、変圧器などのリード線絶縁
・放熱対策が必要な電子部品

【導入の効果】
・耐熱性により、機器の信頼性向上
・絶縁性により、短絡事故を防止
・柔軟性により、施工性の向上

【電子機器向け】シリコンコートグラスファイバー グレードC

電子材料業界では、材料の均一な混合が製品の品質を左右します。特に、精密な配合が求められる材料においては、混合の均一性が重要です。不均一な混合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。IKA magic LABは、卓上ラボスケールでインライン混合を実現し、電子材料の研究開発を支援します。

【活用シーン】
・電子材料の混合研究
・新しい配合の研究
・少量多品種の材料開発

【導入の効果】
・均一な混合による製品品質の向上
・スケールアップを見据えた研究開発
・高価な原料の有効活用

【電子材料向け】卓上インラインミキサー magic LAB

半導体製造における薬液供給では、高い純度と温度管理が求められます。特に、薬液の劣化や異物混入は、製品の品質に深刻な影響を与える可能性があります。また、高温環境下での使用は、バルブの耐久性や信頼性を大きく左右します。高温対応ダイヤフラムバルブ『ZDシリーズ』『ZDーKシリーズ』は、これらの課題に対応し、安定した薬液供給を実現します。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・材料容器への供給
・高温環境下での使用

【導入の効果】
・シート交換によるメンテナンス性の向上
・高温環境下での安定した性能
・高い製品純度の維持

【半導体向け】高温対応ダイヤフラムバルブ

半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、基板の小型化、高密度化、高放熱性が求められています。特に、高周波特性や熱対策は、デバイスの性能を左右する重要な要素です。不適切な基板は、信号の劣化や過熱による故障を引き起こす可能性があります。当社の薄膜回路基板は、成膜技術と薄膜加工技術を駆使し、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・レーザーダイオード(LD)実装基板
・発光ダイオード(LED)実装基板
・フォトダイオード(PD)実装基板

【導入の効果】
・高精度な微細回路パターン形成による高密度実装
・優れた熱伝導性によるデバイスの長寿命化
・立体面へのパターニングや厚膜Cuめっき対応による設計自由度の向上

【半導体向け】薄膜回路基板(サブマウント・キャリア)

半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、アルカリ性の薬液は腐食性が高く、使用するポンプには高い耐薬品性が求められます。また、微量な薬液を正確に注入できる能力も不可欠です。当社のアルカリ液対応 TSPポンプ BSモデルは、耐腐食性に優れた材質を使用し、正確な薬液供給を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造工程における薬液供給
・薬液の微量定量注入が必要な場面
・アルカリ性薬品を取り扱う場面

【導入の効果】
・薬液供給の精度向上
・製品品質の安定化
・ランニングコストの削減

【半導体向け】アルカリ液対応 TSPポンプ BSモデル

有機ELデバイスの分野では、高い発光効率と長寿命化が求められています。電荷輸送材料の品質は、これらの性能を左右する重要な要素です。特に、電荷の移動効率を高めるためには、高純度な材料が必要不可欠です。当社の『ヨード-9,9-ジメチルフルオレン』は、有機ELデバイスの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・有機ELディスプレイ
・有機EL照明

【導入の効果】
・電荷輸送効率の向上
・デバイス性能の向上
・高品質な有機ELデバイスの実現

【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン

半導体業界では、製造プロセスにおける不純物の混入は、製品の性能低下や歩留まりの悪化に直結します。特に、高純度試薬は、半導体デバイスの品質を左右する重要な要素であり、その精製技術が求められます。蒸留では困難な物質でも、カラム精製を用いることで効率的に高純度化が可能です。福井キヤノンマテリアルのカラム精製は、研究開発から量産まで対応し、お客様のニーズに応えます。

【活用シーン】
・半導体製造プロセスにおける高純度試薬の精製
・熱に弱い物質や沸点の近い物質の精製
・研究開発段階での少量精製から量産対応

【導入の効果】
・高純度試薬の安定供給による半導体デバイスの品質向上
・歩留まりの改善
・多様な物質への対応による研究開発の加速

【半導体向け】カラム精製による高純度試薬の精製

計測器業界では、高精度な測定結果を得るために、基板の微細加工技術と高い熱伝導率が求められます。特に、温度変化や電気的ノイズの影響を受けやすい計測器においては、安定した性能を維持することが重要です。不適切な基板は、測定誤差や故障の原因となる可能性があります。当社の薄膜回路基板は、高精度な微細回路パターン形成技術と、優れた熱伝導率を持つ材料を使用しており、高精度な計測を可能にします。

【活用シーン】
・高精度計測器
・レーザーダイオード実装基板
・発光ダイオード(LED)実装基板
・フォトダイオード(PD)実装基板

【導入の効果】
・高精度な計測結果の実現
・製品の信頼性向上
・長期的な安定性の確保

【計測器向け】薄膜回路基板

電池業界では、電極材料のスラリー混合において、均一性と生産効率が求められます。特に、電極の性能を左右するスラリーの品質は、粒子の分散性や混合の均一性が重要です。混合が不十分な場合、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。MHD2000インラインミキサーは、粉体と液体を1パスで連続的に混合、分散できる装置です。短時間で大量のスラリー製造に適しており、高粘度スラリーにも対応できます。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池、全固体電池、その他の次世代電池
・電極合材(活物質、導電助剤、バインダーなど)のスラリー製造
・電解液添加

【導入の効果】
・均一なスラリー混合による電池性能の向上
・生産時間の短縮と生産性の向上
・材料ロスを削減し、コスト削減に貢献
・スケールアップが容易

【電池向け】MHD2000 インラインミキサー

ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能と品質を左右する重要な要素です。特に、ディスプレイの表示性能を向上させるためには、均一で高品質な薄膜の形成が不可欠です。不適切なターゲット材の使用は、薄膜の品質を低下させ、ディスプレイの輝度やコントラストに悪影響を及ぼす可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度で均一な薄膜形成を可能にし、ディスプレイの高性能化に貢献します。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造における薄膜形成
・高精細ディスプレイ、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ
・スパッタリングによる薄膜形成

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成によるディスプレイ性能向上
・均一な膜厚と高い密着性
・歩留まり向上とコスト削減

【ディスプレイ向け】タングステン(W)ターゲット

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、精密な冷却が求められる工程においては、温度ムラや急激な温度変化が、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。ジェットクーラは、可動部分がなく、冷媒や電気を使用しないため、安定した冷風供給を実現し、精密冷却のニーズに応えます。

【活用シーン】
・半導体製造装置の局所冷却
・電子部品の冷却
・検査工程での温度管理

【導入の効果】
・スポット冷却による温度管理精度の向上
・電気代削減によるコストダウン
・長寿命設計によるメンテナンス頻度の低減

【半導体製造向け】ジェットクーラ

半導体業界では、製造プロセスにおける超純水の品質が製品の歩留まりと性能を大きく左右します。特に、微細化が進む中で、ppm、ppbオーダーの微量な不純物の混入が、製品の品質劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。Muromac HGシリーズは、これらの課題に対応するため、高純度な超純水製造を可能にするイオン交換樹脂です。

【活用シーン】
* 半導体製造プロセスにおける超純水製造
* 電子材料薬品やプロセス液の高純度化

【導入の効果】
* ppm、ppbオーダーのイオン性不純物除去による製品品質向上
* 歩留まりの改善
* 安定した製造プロセスの実現

【半導体向け】Muromac HG シリーズ

家電業界では、製品の安全性と耐久性を確保するために、電線やケーブルの絶縁が重要です。特に、高温環境や化学物質にさらされる可能性のある家電製品においては、絶縁性能の劣化は、製品の故障や火災のリスクを高めます。HELIX2スリーブは、耐熱性、耐薬品性に優れ、家電製品の絶縁保護に貢献します。

【活用シーン】
・高温になる箇所での電線保護
・化学薬品や溶剤を使用する環境でのケーブル保護
・家電製品内部のケーブル絶縁

【導入の効果】
・高い絶縁性能による製品の安全性向上
・製品寿命の延長
・幅広い温度範囲での安定した性能維持

【家電向け】HELIX2スリーブ

セキュリティ業界、特に監視システムにおいては、カメラやセンサーの安定した動作が不可欠です。高温環境下では、これらの電子機器の性能が低下し、誤作動や故障のリスクが高まります。これにより、監視の精度が落ち、セキュリティ上の問題につながる可能性があります。密着冷却用空冷サーモ・クーラーは、これらの問題を解決するために開発されました。

【活用シーン】
・監視カメラ
・熱源となる電子機器
・屋外設置のセンサー

【導入の効果】
・機器の安定動作
・誤作動のリスク低減
・長寿命化

【監視システム向け】密着冷却用空冷サーモ・クーラー

電子部品業界において、誘電体膜の性能は製品の信頼性を左右する重要な要素です。特に、小型化が進む中で、薄膜の均一性、高純度、内部欠陥の無さが求められます。Hfターゲットは、これらの要求に応えることで、電子部品の性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・誘電体膜の形成
・コンデンサ、メモリデバイス
・薄膜トランジスタ

【導入の効果】
・高純度による誘電特性の向上
・均一な膜厚による性能安定化
・内部欠陥の排除による信頼性向上

【電子部品向け】高純度Hfターゲット

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や特殊な材料を使用する工程においては、温度のわずかな変動が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。冷却能力が不足している場合、熱による歪みや変質が発生し、不良品の増加につながるリスクがあります。サーモクーラー VLシリーズは、-50℃までの極低温環境を精密に制御し、半導体製造における冷却ニーズに応えます。

【活用シーン】
* 半導体ウェーハの冷却
* 電子部品の冷却
* 精密機器の温度管理

【導入の効果】
* 製品の品質向上
* 歩留まりの改善
* 製造プロセスの安定化

【半導体製造向け】極低温サーモクーラー

ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能を左右します。特に、スパッタリング技術を用いた高品質な薄膜形成には、高純度Hfターゲットが不可欠です。Hfターゲットの純度と均一性が、ディスプレイの表示性能や耐久性に大きく影響します。当社製品は、高純度Hfターゲットを提供し、お客様のディスプレイ製品の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造におけるスパッタリング工程
・薄膜トランジスタ(TFT)製造
・タッチパネル製造

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成による表示性能の向上
・製品の耐久性向上
・歩留まりの改善

【ディスプレイ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット

半導体業界において、薄膜はデバイスの性能を左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薄膜の均一性、密着性、耐熱性、耐食性が求められます。不適切な薄膜形成は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のタンタル(Ta)ターゲットは、高品質な薄膜形成を可能にし、半導体デバイスの信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・PVD/CVDプロセスにおける薄膜形成
・半導体デバイスの配線形成
・高密度記録媒体の製造

【導入の効果】
・薄膜の均一性向上
・デバイスの性能向上
・歩留まりの改善

【半導体薄膜向け】タンタル(Ta)ターゲット

電子機器業界では、製品の安全性と信頼性を確保するために、高い絶縁性が求められます。特に、高電圧環境や湿度の高い場所で使用される電子機器においては、絶縁不良による事故を防ぐことが重要です。適切な絶縁材料の選定と、精密な試作プロセスが不可欠です。当社では、お客様のニーズに合わせた最適な製法をご提案し、絶縁性を最大限に高めるプラスチック製品の試作をサポートします。

【活用シーン】
・電子部品の絶縁保護
・基板や筐体の絶縁対策
・高電圧機器の絶縁部品

【導入の効果】
・絶縁性能の向上
・製品の安全性向上
・開発期間の短縮とコスト削減

【電子機器向け】プラスチック製品試作

半導体業界における薄膜形成プロセスでは、均一な膜厚と高品質な薄膜を得るために、温度管理が非常に重要です。特に、反応液の温度制御は、薄膜の結晶性や組成に大きな影響を与え、製品の性能を左右します。温度が不均一であったり、制御が不安定な場合、薄膜の品質が低下し、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、温度を精密に制御しながら、液体の撹拌を可能にし、薄膜形成プロセスの品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・薄膜形成における反応液の温度制御
・前駆体溶液の撹拌と温度管理
・成膜プロセスの最適化

【導入の効果】
・薄膜の均一性向上
・成膜プロセスの再現性向上
・歩留まりの改善

【半導体 薄膜形成向け】スターラー付き温調ステージ

ディスプレイ業界における成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成が求められます。特に、ディスプレイの表示性能を左右する薄膜の均一性や密着性は重要です。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、これらの要求に応えるための材料です。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造におけるスパッタリング成膜
・高品質な薄膜形成が必要な場面

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成によるディスプレイ性能の向上
・安定した成膜プロセスの実現

【ディスプレイ向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に製造するために、薬液供給の正確性と信頼性が求められます。特に、微細加工プロセスにおいては、薬液の脈動や気泡が、製造不良や歩留まりの低下につながる可能性があります。FP70シリーズ ダイアフラム液体ポンプは、脈動を抑制し、安定した薬液供給を実現することで、半導体製造における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・薬液供給システム
・洗浄液供給システム
・試薬供給

【導入の効果】
・脈動の少ない安定した薬液供給
・チューブ内圧損の軽減
・気泡の抑制
・オプショナルパーツ削減

【半導体製造向け】FP70シリーズ ダイアフラム液体ポンプ

通信業界、特に高周波用途においては、信号の伝送効率とデバイスの耐久性が重要な課題です。高周波デバイスは、高温環境や電磁波の影響を受けやすく、使用される材料の品質が性能を大きく左右します。タンタル(Ta)ターゲットは、高耐熱性、優れた耐蝕性、良好な導電性を持ち、これらの課題に対応します。当社タンタル(Ta)ターゲットは、高品質な薄膜形成を実現し、通信デバイスの高性能化に貢献します。

【活用シーン】
・高周波フィルター
・高周波アンプ
・通信衛星部品
・5G基地局

【導入の効果】
・高周波特性の向上
・デバイスの長寿命化
・信号伝送の安定性向上
・薄膜堆積効率の向上

【通信向け】タンタル(Ta)ターゲット

半導体製造における成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、高精度な電源制御が求められます。特に、均一な膜厚と高い再現性を実現するためには、電源の安定性が重要です。不適切な電源は、膜質の低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のカスタム対応特殊高圧電源は、成膜プロセスに最適な仕様で、1台から対応可能です。

【活用シーン】
・スパッタリング
・CVD(化学気相成長)
・ALD(原子層堆積)

【導入の効果】
・成膜プロセスの最適化
・膜質の向上
・歩留まりの改善

【半導体製造向け】カスタム対応特殊高圧電源

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、高温環境下での精密な温度制御は、半導体デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠です。不適切な断熱は、温度ムラやエネルギー損失を引き起こし、生産効率の低下につながる可能性があります。イソライト工業のLTC-ES超低熱伝導率材料、1600SFブランケットは、優れた断熱性能により、安定した温度環境を提供し、半導体製造における課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造装置の断熱
・高温環境下での部品保護
・熱処理工程における温度管理

【導入の効果】
・温度分布の均一化
・エネルギーコストの削減
・製品品質の向上

LTC-ES超低熱伝導率材料、1600SFブランケット

半導体業界において、薄膜形成はデバイスの性能を左右する重要な工程です。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、高い純度と均一な膜質が求められます。特に、薄膜の密着性や耐食性は、製品の信頼性を大きく左右するため、高品質なターゲット材の選定が不可欠です。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高い純度と厳格な品質管理により、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・スパッタリングによる薄膜形成
・半導体デバイス製造
・高品質な薄膜が必要な研究開発

【導入の効果】
・高品質な薄膜形成によるデバイス性能向上
・歩留まりの向上
・信頼性の高い製品の提供

【半導体薄膜向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット

電子部品業界では、製品の高機能化に伴い、半導体材料の品質が重要になっています。特に、金属不純物やパーティクルの混入は、製品の性能劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。当社製品は、半導体材料製造における吸着剤およびフィルター技術により、これらの課題を解決します。

【活用シーン】
・半導体製造プロセスにおける金属不純物除去
・半導体材料のパーティクル低減

【導入の効果】
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
・信頼性の高い製品の提供

【電子部品向け】低メタル・低パーティクル化ソリューション

ディスプレイ製造業界の成膜プロセスでは、高品質な製品を安定的に製造するために、材料の純度管理が重要です。特に、金属不純物は成膜の均一性を阻害し、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の高純度溶剤は、pptレベルの金属管理を実現し、成膜プロセスの課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・ディスプレイ製造における成膜プロセス
・フォトレジスト塗布
・反射防止膜形成

【導入の効果】
・成膜品質の向上
・歩留まりの改善
・製品の信頼性向上

【ディスプレイ製造向け】pptレベル金属管理 高純度溶剤

家電業界では、製品の小型化と高性能化が進む中で、放熱対策が重要な課題となっています。特に、太陽光や熱源にさらされる家電製品においては、内部温度の上昇が製品の寿命や性能に影響を与える可能性があります。COOL BLACKは、赤外線反射特性により、太陽光による温度上昇を抑制し、製品の信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・屋外設置型の家電製品
・太陽光が当たる場所に設置される家電製品
・高温になる可能性のある家電製品

【導入の効果】
・製品の温度上昇を抑制
・製品の耐久性向上
・製品の性能維持

【家電向け】COOL BLACK

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薄膜形成における膜厚均一性の確保

薄膜形成における膜厚均一性の確保とは?

半導体製造において、微細な回路パターンを形成するために、基板上に極めて薄い膜を均一な厚さで形成する技術です。この膜厚の均一性は、半導体の性能や信頼性を左右する重要な要素となります。

課題

成膜プロセスのばらつき

成膜装置内の温度、圧力、ガス流量などの制御が不十分だと、基板上の場所によって膜厚にばらつきが生じます。

材料供給の不均一性

成膜材料の供給が均一でない場合、特に広範囲の基板全体で膜厚のムラが発生しやすくなります。

基板表面の状態

基板表面の微細な凹凸や異物付着は、膜の成長に影響を与え、膜厚の不均一を引き起こす原因となります。

装置設計の限界

既存の成膜装置では、物理的な制約から、基板全体に完全に均一な膜を形成することが困難な場合があります。

​対策

プロセスパラメータの最適化

温度、圧力、ガス流量などの成膜条件を精密に制御し、ばらつきを最小限に抑えることで、均一な膜厚を実現します。

材料供給システムの改良

成膜材料を均一かつ安定的に供給できるシステムを導入・改善し、広範囲での膜厚ムラを抑制します。

基板前処理の徹底

基板表面を清浄化し、平坦性を高めることで、膜の均一な成長を促進します。

先進的な成膜技術の採用

原子層堆積(ALD)などの、より精密な膜厚制御が可能な成膜技術を導入します。

​対策に役立つ製品例

高精度プロセス制御システム

成膜装置内の微細な環境変化をリアルタイムで検知・補正し、プロセスパラメータの安定性を高めることで、膜厚の均一性を向上させます。

均一材料供給ユニット

成膜材料を基板全体に均等に分散させて供給する機構を備え、材料供給の不均一性に起因する膜厚ムラを低減します。

基板表面クリーニング装置

基板表面の微細な汚れや異物を効果的に除去し、平坦で均一な膜形成を可能にします。

次世代成膜チャンバー

革新的なガス分配機構や温度制御技術を搭載し、基板全体で極めて高い膜厚均一性を実現する成膜装置です。

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