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配線パターンの高精度形成とは?課題と対策・製品を解説

電極形成における配線パターンの高精度形成とは?
半導体デバイスの性能を決定づける重要な工程であり、微細化・高密度化が進む現代において、極めて高い精度で配線パターンを形成することが求められています。これは、デバイスの小型化、高速化、低消費電力化を実現するために不可欠な技術です。
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【半導体向け】スパッタ装置
【電子機器向け】ニッケル系原料・ステンレス原料等 取扱製品紹介
【情報通信向け】金属射出成形(MIM)
情報通信業界、特に光ファイバー部品においては、高い精度と耐久性が求められます。光ファイバー部品は、光信号の伝送を担うため、わずかな寸法のずれや表面の粗さが、信号の減衰や接続不良を引き起こす可能性があります。金属射出成形(MIM)は、これらの課題に対し、高い寸法精度と優れた表面処理によって、高品質な光ファイバー部品の製造を可能にします。第一商工のMIMは、お客様の製品の信頼性向上に貢献します。
【活用シーン】
・光ファイバーコネクタ
・光トランシーバー部品
・光通信モジュール
【導入の効果】
・高い 寸法精度による製品品質の向上
・表面処理による光信号伝送効率の改善
・少量多品種への対応による柔軟な生産体制の構築
【半導体製造向け】ろう付け加工の基礎
多工程・多層貼りも対応|通信向け軟質素材の複合精密加工





