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半導体製造装置・材料

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半導体製造装置・材料

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不純物再付着の防止とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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検査・測定装置
材料
自動化・ITソリューション
製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
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レジスト剥離・洗浄における不純物再付着の防止とは？

半導体製造プロセスにおいて、回路パターン形成に用いられるレジストを剥離・洗浄する工程で、微細な不純物がウェハー表面に再び付着してしまうことを指します。これは、後工程での歩留まり低下やデバイス性能の劣化に直結するため、厳格な管理が求められる重要な課題です。

各社の製品

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【半導体クリーンルーム向け】負圧オートドレーン

【半導体クリーンルーム向け】負圧オートドレーン
株式会社テクネ計測
半導体製造業界のクリーンルーム環境では、微細な粒子や液体の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、ガスサンプリングラインや関連機器に蓄積する液体や液滴は、システムの誤作動や汚染の原因となり、歩留まりの低下を招く可能性があります。負圧オートドレーンは、これらの問題を解決するために設計されました。蓄積された液体を連続的に自動排出することで、クリーンルーム環境の清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内のガスサンプリングライン ・半導体製造装置の排液処理 ・プレフィルター、スプレースクラバー、リキッドトラップからの排水 【導入の効果】 ・クリーンルーム環境の汚染リスクを低減 ・システムの信頼性向上とメンテナンス頻度の削減 ・製品品質の安定化と歩留まり向上
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【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品製造 ・基板実装 ・半導体製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・不良率の低減 ・製品信頼性の向上
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【半導体製造向け】Micra Gold フィルター

【半導体製造向け】Micra Gold フィルター
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、製品の品質を左右する微細な異物の混入を防ぐことが重要です。特に、クリーンルーム環境下での製造プロセスにおいては、圧縮空気やガス中の微粒子が製品の歩留まりを低下させる可能性があります。Micra Gold フィルターは、これらの課題に対し、最小0.01μmの粒子を除去することで、高品質な半導体製造をサポートします。 【活用シーン】 * クリーンルーム内の圧縮空気ライン * 真空ポンプ排気ライン * ガス分析装置の前段 【導入の効果】 * 製品の歩留まり向上 * 品質の安定化 * 装置の長寿命化
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【半導体クリーンルーム向け】PFAスリーブ

【半導体クリーンルーム向け】PFAスリーブ
株式会社ハギテック
半導体製造業界のクリーンルーム環境では、微粒子や化学物質による汚染が製品の品質を大きく左右します。特に、配線保護に使用する部材は、清浄度を維持し、アウトガスを抑制することが重要です。PFAスリーブは、耐薬品性、耐熱性、防炎性に優れており、クリーンルーム環境下での使用に最適です。PFAモノフィラメントから編組されており、高い清浄度を保ちながら、配線を保護します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の配線保護 ・半導体製造装置内のケーブル保護 ・化学薬品を使用する環境でのケーブル保護 【導入の効果】 ・クリーンルーム環境の維持 ・製品の品質向上 ・ケーブルの保護と長寿命化
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【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型

【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型
株式会社トップウォーターシステムズ
電子部品業界の精密製造においては、洗浄、めっき、その他製造工程において、不純物のない高純度な水が不可欠です。不純物が混入すると、製品の品質低下や歩留まりの悪化を招く可能性があります。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースでも高純度のRO純水を供給し、電子部品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密電子部品の洗浄工程 ・半導体製造における薬液調整 ・電子部品製造工場の冷却水 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【半導体製造向け】ブローバックプレフィルター

【半導体製造向け】ブローバックプレフィルター
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを向上させるために不可欠です。微粒子や粉体は、デバイスの性能を低下させ、不良品発生の原因となります。Neutronics ブローバックプレフィルターは、サンプルガス中の粉体や粒子状物質を効率的に除去し、酸素センサーやサンプリング機器の汚損や損傷を防ぎます。自動クリーニング機能により、メンテナンス頻度を削減し、システムの信頼性を向上させます。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおけるガス供給ライン ・クリーンルーム内のサンプリングポイント ・分析装置へのガス供給 【導入の効果】 ・清浄度の高いガス供給による製品品質の向上 ・メンテナンスコストの削減 ・システムの安定稼働
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【半導体製造・温調機器向け】継手「ハイフローカプラ」フランジ固定

【半導体製造・温調機器向け】継手「ハイフローカプラ」フランジ固定
日東工器株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの効率化と品質向上が常に求められています。 特に冷却システムにおける流量制御は、装置の安定稼働および製品品質に大きな影響を与えます。 一方で、冷却効率の低下や配管の接続・分離に時間を要することは、生産性低下の要因となります。 「ハイフローカプラ」フランジ固定型は、大流量設計により冷却効率を高めるとともに、 パネルへの設置性およびメンテナンス性を向上させ、これらの課題を解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の冷却システム ・流量制御が必要な各種製造プロセス ・装置パネル内での配管接続 【導入の効果】 ・冷却効率の向上による装置の安定稼働 ・パネル取付作業時間の短縮 ・メンテナンス性の向上によるダウンタイム削減
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【半導体製造向け】塗るだけフッ素コーティング剤

【半導体製造向け】塗るだけフッ素コーティング剤
株式会社フロロテクノロジー
半導体製造業界では、クリーンルーム環境の維持が非常に重要です。微細な塵や埃が製品の品質を著しく低下させる可能性があるため、徹底した防汚対策が求められます。また、製造プロセスにおける湿気や薬品の影響も、製品の信頼性を損なう要因となります。当社のフッ素コーティング剤は、これらの課題に対し、防汚性、撥水性、防湿性を付与することで、クリーンルーム環境を維持し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の設備や部品の防汚対策 ・半導体製造装置の撥水・防湿保護 ・ウェハー搬送用治具の汚れ防止 【導入の効果】 ・異物付着による不良率の低減 ・装置メンテナンス頻度の削減 ・製品の品質向上
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【電子部品向け】回転式エアーナイフによる基板除塵

【電子部品向け】回転式エアーナイフによる基板除塵
ティックコーポレーション株式会社
電子部品業界では、基板の品質を確保するために、製造工程における異物混入の防止が重要です。特に、基板上の微細な埃は、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。従来のエアブローでは、埃を完全に除去することが難しい場合があり、作業効率の低下を招くこともあります。ソニック社製回転式エアーナイフは、エアーナイフを回転させることで、基板の複雑な形状にも対応し、埃を効果的に除去します。 【活用シーン】 ・電子基板製造工程での除塵 ・実装前の基板清掃 ・電子部品組み立てラインでの異物除去 【導入の効果】 ・基板の品質向上 ・不良品の削減 ・作業効率の改善
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【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
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【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置

【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置
テクノアルファ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や有機物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェーハや基板の洗浄は、デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠です。プラズマ洗浄は、これらの課題に対し、高い洗浄力と材質への適合性を提供します。当社の低圧・大気圧プラズマ装置は、半導体製造における洗浄工程の最適化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ、基板の洗浄 ・有機物、異物の除去 ・表面改質による接着性向上 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子機器製造関連設備向け】テフロン（PFA）フローサイト

【電子機器製造関連設備向け】テフロン（PFA）フローサイト
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
電子機器の製造工程では、各種薬液や洗浄液などを使用する設備において、流体状態を把握することが工程管理の一助となります。 PFA樹脂製フローサイトは、透明性に優れたフッ素樹脂を採用し、配管内の流体を目視確認する用途に適した製品です。 ガラス製サイトグラスと比較し、破損リスク低減が期待できる点も特長の一つです。 【活用シーン】 ・電子部品製造工程の薬液ライン ・洗浄工程用配管 ・製造設備の確認用ライン 【導入の効果】 ・流体状態の可視化による工程確認性の向上 ・破損リスク低減への配慮 ・保守・点検作業の効率化 【適合規格】 食品衛生法
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【半導体向け】小型・軽量レーザークリーナー「CLMシリーズ」

【半導体向け】小型・軽量レーザークリーナー「CLMシリーズ」
イデア株式会社
半導体業界のウェハー清掃においては、微細な汚れを母材にダメージを与えずに除去する精密な洗浄が求められます。特に、ウェハー表面の微細な傷や汚染は、製品の歩留まりや性能に直接影響を与えるため、高度な清浄度が不可欠です。従来の洗浄方法では、ウェハーへの物理的な負荷や、残留物の問題が生じる可能性がありました。当社の小型・軽量レーザークリーナー「CLMシリーズ」は、非接触で精密な洗浄を実現し、ウェハーの清浄度維持に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェハー表面の微細な異物除去 ・製造工程における部分的な汚れの除去 ・デリケートな素材の精密洗浄 【導入の効果】 ・母材へのダメージを低減し、ウェハーの品質を維持 ・非接触洗浄により、精密な清掃が可能 ・薬品やブラストを使用しないため、環境負荷が少ない
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界の微細化プロセスにおいては、レジストの精密な剥離が不可欠です。特に、高密度化が進む中で、レジスト残渣や異物の混入は、歩留まりを大きく低下させる要因となります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの組み合わせにより、高い剥離性能を実現します。 【活用シーン】 * 微細加工プロセスにおけるレジスト剥離 * 研究開発用途 * 少量生産 【導入の効果】 * 高い剥離性能による歩留まり向上 * 省スペース化による設置効率向上 * 薬液再利用によるランニングコスト削減
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【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
ピュアトラスト株式会社
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
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【半導体向け】超純水製造用ポンプ

【半導体向け】超純水製造用ポンプ
グルンドフォスポンプ株式会社
半導体業界では、高品質な製品を製造するために、超純水の利用が不可欠です。超純水は、製造プロセスにおける異物混入を防ぎ、製品の歩留まりを向上させるために重要です。ポンプの選定においては、高い清浄度を維持し、安定した水質を供給できることが求められます。グルンドフォスのポンプは、これらの要求に応えるべく設計されています。 【活用シーン】 ・超純水製造プラント ・半導体製造ライン ・各種洗浄工程 【導入の効果】 ・高い清浄度の維持 ・安定した水質供給 ・製品歩留まりの向上
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【電子機器向け】レヒラー社製エアーノズル

【電子機器向け】レヒラー社製エアーノズル
ティックコーポレーション株式会社
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、製造工程における異物混入の防止が重要です。特に、精密な電子部品においては、微細な塵や埃が製品の性能に悪影響を及ぼす可能性があります。オープンパイプによるエアーブローでは、騒音や空気消費量の問題も発生します。レヒラー社製エアーノズルは、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・電子基板の清浄 ・電子部品の表面清浄 ・製造ラインでの異物除去 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・不良品の削減 ・作業環境の改善
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【電子部品向け】異物混入のお悩み解消！ステンレス製撹拌機

【電子部品向け】異物混入のお悩み解消！ステンレス製撹拌機
ユニコントロールズ株式会社
電子部品業界では、製品の品質を維持するために、製造プロセスにおける異物混入対策が重要です。特に、微細な部品を扱う工程においては、異物の混入が製品の不良や性能低下につながる可能性があります。当社のステンレス製撹拌機は、クリーンな環境での使用を前提に設計されており、異物混入のリスクを低減します。 【活用シーン】 ・電子部品製造における液体の混合・溶解工程 ・異物混入が許されない工程 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・顧客からの信頼獲得
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【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー

【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高精度なデバイス製造においては、コンタミネーションが製品の性能低下や不良品の発生につながるため、徹底したクリーン化が求められます。CW2000レーザークリーナーは、光のエネルギーを利用して表面付着物を除去し、半導体製造における精密洗浄の課題に応えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄 ・製造ラインにおける異物除去 ・微細な付着物の除去 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・洗浄時間の短縮
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【半導体向け】ラジカル洗浄ユニット

【半導体向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
半導体業界の精密洗浄工程では、微細加工技術の進歩に伴い、より高い洗浄精度と、環境負荷の低減が求められています。特に、有機汚染物やフォトレジスト残渣の完全除去、金属汚染の抑制は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。ラジカル洗浄ユニットは、高純度洗浄を実現し、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・SPMレスなフォトレジスト除去プロセス ・有機・金属汚染の抑制 ・金属膜酸化防止プロセス 【導入の効果】 ・洗浄効率の向上 ・環境負荷の低減 ・製品品質の向上
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【半導体向け】アキュームレーターフィルター

【半導体向け】アキュームレーターフィルター
株式会社バンテック
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の清浄度が重要です。超純水中に混入する微細な異物は、製品の歩留まりを低下させるだけでなく、製造装置の故障の原因にもなり得ます。アキュームレーターフィルターは、超純水中の不純物を効果的に除去し、高品質な製品製造をサポートします。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセス ・半導体製造装置 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製造装置の安定稼働 ・高品質な製品の安定供給
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【半導体向け】各種薬品の配管に｜迅速流体継手「セミコンカプラ」

【半導体向け】各種薬品の配管に｜迅速流体継手「セミコンカプラ」
日東工器株式会社
半導体業界の薬液供給では、高純度薬品の漏れや汚染を防ぎ、 製造プロセスの安定性を確保することが重要です。 特に、微細化が進む半導体製造においては、薬液のわずかな異物混入や漏れが 製品の品質を大きく左右する可能性があります。 当社のセミコンカプラは、各種高純度薬品に対応し 高いシール性と耐食性を持つことで、これらの課題を解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置における薬液供給ライン ・高純度薬品を使用する製造プロセス ・薬液漏れのリスクを低減したい現場 【導入の効果】 ・薬液供給ラインの信頼性向上 ・製品品質の安定化 ・設備での段取り替え時間の短縮
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【半導体製造向け】大型板材アルマイト処理

【半導体製造向け】大型板材アルマイト処理
富商
半導体製造業界では、製品の品質を左右する清浄度が非常に重要です。 微細な異物の混入は、製品の歩留まりを低下させ、性能に悪影響を及ぼす可能性があります。 特に、製造プロセスで使用される部材の表面処理は、清浄度を維持する上で重要な要素となります。 アルマイトは、素地と一体化し剥がれる心配がありません。 これにより、清浄度を高く保ち、高品質な製品製造をサポートします。 1250×2500のサイズまで、一般アルマイト、硬質アルマイト、両方とも対応可能です。 【活用シーン】 ・半導体製造装置部品 ・クリーンルーム内使用部品 ・高精度が求められる部品 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品の歩留まり向上 ・高い清浄度の維持
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クリーニング装置『ROBO-STICKY MCシリーズ』

クリーニング装置『ROBO-STICKY MCシリーズ』
株式会社FTMテクニカルサービス
『ROBO-STICKY MCシリーズ』は、基板先端ジャンプ機構を標準装備した クリーニング装置です。 クリーンローラ駆動部のギヤーやベルトを無くし、非接触でクリーンローラを 駆動するMDC駆動方式を採用し、装置の発塵対策を行いました。 従来機の薄板に強い特長を継承した上で、操作性、メンテ性も一段と向上した 装置となりました。 【特長】 ■MDC駆動方式を採用 ■板厚40μの基板もOK ■クリーンローラ1本にクリーニングテープ1本を使用 ■クリーニングテープとクリーンローラは引き出し式 ■基板先端ジャンプ機構が標準装備 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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高真空・耐熱グリースLOGENEST LAMBDA TKM-03

高真空・耐熱グリースLOGENEST LAMBDA TKM-03
株式会社ニッペコ
高温環境下にて、優れた耐熱性能を示します。 また、真空環境下でも、優れた低アウトガス性能を示します。 実績ございます。 詳細情報はお気軽にお問い合わせください。
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ウェハハンドリング製品

ウェハハンドリング製品
デリクソンテクノロジージャパン株式会社
当社では、Perlast社製の『ウェハハンドリング製品』を取り扱っております。 材料は、完全に有機物のみで構成されているため、ウェハとの接触時に パーティクル汚染を起こしません。 また、エンドエフェクター・パッドをカスタムデザインすることができます。 このようなデザインにより、パッドが相手側ハードウェアに確実に捕捉され、 アッセンブリが簡単になります。 【特長】 ■完全に有機物のみで構成 ■ウェハとの接触時にパーティクル汚染を起こさない ■低接触力ソリューションを最適化 ■エンドエフェクター・パッドをカスタムデザインできる ■パッドが相手側ハードウェアに確実に捕捉され、アッセンブリが簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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ふっ素樹脂　PFAチューブ

ふっ素樹脂　PFAチューブ
中興化成工業株式会社
ふっ素樹脂PFAを溶融押出成形した透明性が高いチューブです。 透明性が高く、一般の汎用プラスチック製に比べ、耐熱性、耐薬品性、非粘着性、電気絶縁性などの特性に優れています。 一般用樹脂グレードのEN品と半導体用樹脂グレードのES品（チューブ内面の平滑性に優れ、溶出イオンを押えた高純度PFAチューブ）があります。 ■寸法 　規格品　Φ2×Φ3〜Φ22×Φ25　　 　インチサイズ規格もあります。
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【分析事例】ウェハの粘着シート成分の分析

【分析事例】ウェハの粘着シート成分の分析
一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
半導体デバイスの製造工程では、ダイシング用テープなど様々な粘着シートが使用されます。粘着シートは異物・汚染の原因となることがあります。そこで、本事例ではTOF-SIMS・SWA-GC/MSを用いて複合 的に評価した結果をご紹介します。TOF-SIMSでは、粘着シート各材料の定性を行うことで、異物・汚染がどの粘着シートに起因するのか、また粘着シートのどの層に起因するのか同定が可能です。またSWA-GC/MSでは、どの粘着シートがもっとも汚染が少ないかを定量的に確認することができます。
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【技術資料】半導体製造と品質管理に欠かせない分析法

【技術資料】半導体製造と品質管理に欠かせない分析法
メトロームジャパン株式会社
プロセス分析計での包括的な測定例を一覧で紹介
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

トレイ清掃装置『ハリケーン』

トレイ清掃装置『ハリケーン』
大洋電産株式会社
当社では、トレイ清掃装置『ハリケーン』を取り扱っております。 『ハリケーン』は、半導体製品を収納するトレイをエアブローで清掃する トレイ清掃装置です。 トレイは、複数枚を重ねて供給でき、1枚ずつ自動的に取り出して清掃します。 清掃済みのトレイは、供給したときと同じように重ねて格納できます。 【特長】 ■装置内部循環式のエアブローでトレイを清掃 ■トレイは複数枚を重ねて供給できる ■清掃済みのトレイは重ねて格納 ■トレイ厚みは都度検討対応可能 ■特殊仕様にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

簡易型微量汚染物質回収装置『SC-3000』

簡易型微量汚染物質回収装置『SC-3000』
有限会社NAS技研
『SC-3000』は、疎水性ウェーハ表面の微量汚染物質を回収できる 簡易型微量汚染物質回収装置です。 パソコンと接続して多彩な回収パターンを作成し、シリコンウェーハの 表面や側面（ベベル部）から微量金属汚染を回収（サンプリング）します。 また、外部資源をあまり必要とせず、また場所もとらないため、 装置の導入が容易です。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ウェーハサイズ：100mm～300mmに対応 ■疎水性ウェーハのベベル部の回収が可能 ■半径r1、r2で設定された中心部、ドーナツ部、外周部、全面の回収が可能 ■回収液の供給、サンプリング後の回収液の吸上げが自動 ■回収液を吸上げて汚染されたチップは自動洗浄　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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真空エジェクタ『耐薬品･耐ガス用CVコンバム(オーダメイド)』

真空エジェクタ『耐薬品･耐ガス用CVコンバム(オーダメイド)』
コンバム株式会社
株式会社妙徳では、本体およびノズル材質がオールステンレスの 耐薬品･耐ガス用CVコンバムをオーダーメイドにて提供しています。 材質はSUS303,SUS316を準備しております。 薬品・ガスなどの吸引に適しており、半導体製造装置で使用可能。 耐薬品性に優れるPTFEタイプ、さらにノズルと本体を PTFE溶接したタイプも製作いたします。 【特長】 ■本体およびノズル材質がオールステンレス ■半導体製造装置で使用可能 ■オールPTFEタイプも製作 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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レジスト剥離・洗浄における不純物再付着の防止

レジスト剥離・洗浄における不純物再付着の防止とは？

半導体製造プロセスにおいて、回路パターン形成に用いられるレジストを剥離・洗浄する工程で、微細な不純物がウェハー表面に再び付着してしまうことを指します。これは、後工程での歩留まり低下やデバイス性能の劣化に直結するため、厳格な管理が求められる重要な課題です。

​課題

微細パーティクルの残存と再付着

レジスト剥離時に発生する微細なパーティクルが、洗浄液中に浮遊し、ウェハー表面に再付着するリスクがあります。

洗浄液中の不純物混入

洗浄液自体に含まれる微量な金属イオンや有機物、あるいは装置からの溶出物が、ウェハー表面に不純物として付着する可能性があります。

洗浄後の乾燥工程での汚染

洗浄後の乾燥工程において、空気中のパーティクルや、乾燥装置内部の汚染物質がウェハー表面に付着するケースが考えられます。

洗浄液の劣化と効果低下

繰り返し使用される洗浄液は時間とともに劣化し、レジスト残渣や不純物を効率的に除去する能力が低下し、再付着を招くことがあります。

​対策

高純度洗浄液の採用

金属イオンや有機物含有量が極めて低い、高純度の洗浄液を使用することで、洗浄液由来の不純物混入を防ぎます。

精密ろ過システムの導入

洗浄液を微細なフィルターでろ過し、浮遊するパーティクルを除去することで、再付着のリスクを低減します。

クリーンな乾燥環境の維持

クリーンルーム内の環境管理を徹底し、乾燥装置の清浄度を維持することで、乾燥工程でのパーティクル付着を防ぎます。

洗浄液の定期的な交換・管理

洗浄液の品質を定期的にチェックし、劣化が見られる場合は速やかに交換することで、常に高い洗浄効果を維持します。

​対策に役立つ製品例

超高純度洗浄剤

金属イオンや有機物含有量を極限まで低減した洗浄剤は、ウェハー表面への不純物付着を根本から抑制します。

高性能パーティクルフィルター

微細なパーティクルを効率的に捕捉するフィルターは、洗浄液中の汚染物質を除去し、再付着を防ぎます。

クリーン乾燥装置

クリーンな環境下でウェハーを乾燥させる装置は、空気中のパーティクルによる汚染を防ぎます。

洗浄液管理システム

洗浄液の品質をモニタリングし、最適な交換時期を管理することで、常に安定した洗浄効果を保証します。

⭐今週のピックアップ

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