不純物再付着の防止とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、クリーンルーム環境の維持が非常に重要です。微細な塵や埃が製品の品質を著しく低下させる可能性があるため、徹底した防汚対策が求められます。また、製造プロセスにおける湿気や薬品の影響も、製品の信頼性を損なう要因となります。当社のフッ素コーティング剤は、これらの課題に対し、防汚性、撥水性、防湿性を付与することで、クリーンルーム環境を維持し、歩留まり向上に貢献します。

【活用シーン】
・クリーンルーム内の設備や部品の防汚対策
・半導体製造装置の撥水・防湿保護
・ウェハー搬送用治具の汚れ防止

【導入の効果】
・異物付着による不良率の低減
・装置メンテナンス頻度の削減
・製品の品質向上

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。

【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上

電子部品業界では、製品の品質を維持するために、製造プロセスにおける異物混入対策が重要です。特に、微細な部品を扱う工程においては、異物の混入が製品の不良や性能低下につながる可能性があります。当社のステンレス製撹拌機は、クリーンな環境での使用を前提に設計されており、異物混入のリスクを低減します。

【活用シーン】
・電子部品製造における液体の混合・溶解工程
・異物混入が許されない工程

【導入の効果】
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
・顧客からの信頼獲得

半導体製造業界のクリーンルーム環境では、微粒子や化学物質による汚染が製品の品質を大きく左右します。特に、配線保護に使用する部材は、清浄度を維持し、アウトガスを抑制することが重要です。PFAスリーブは、耐薬品性、耐熱性、防炎性に優れており、クリーンルーム環境下での使用に最適です。PFAモノフィラメントから編組されており、高い清浄度を保ちながら、配線を保護します。

【活用シーン】
・クリーンルーム内の配線保護
・半導体製造装置内のケーブル保護
・化学薬品を使用する環境でのケーブル保護

【導入の効果】
・クリーンルーム環境の維持
・製品の品質向上
・ケーブルの保護と長寿命化

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高精度なデバイス製造においては、コンタミネーションが製品の性能低下や不良品の発生につながるため、徹底したクリーン化が求められます。CW2000レーザークリーナーは、光のエネルギーを利用して表面付着物を除去し、半導体製造における精密洗浄の課題に応えます。

【活用シーン】
・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄
・製造ラインにおける異物除去
・微細な付着物の除去

【導入の効果】
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
・洗浄時間の短縮

半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の清浄度が重要です。超純水中に混入する微細な異物は、製品の歩留まりを低下させるだけでなく、製造装置の故障の原因にもなり得ます。アキュームレーターフィルターは、超純水中の不純物を効果的に除去し、高品質な製品製造をサポートします。

【活用シーン】
・超純水製造プロセス
・半導体製造装置
・クリーンルーム環境

【導入の効果】
・製品の歩留まり向上
・製造装置の安定稼働
・高品質な製品の安定供給

電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・電子部品製造
・基板実装
・半導体製造

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・不良率の低減
・製品信頼性の向上

半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを向上させるために不可欠です。微粒子や粉体は、デバイスの性能を低下させ、不良品発生の原因となります。Neutronics ブローバックプレフィルターは、サンプルガス中の粉体や粒子状物質を効率的に除去し、酸素センサーやサンプリング機器の汚損や損傷を防ぎます。自動クリーニング機能により、メンテナンス頻度を削減し、システムの信頼性を向上させます。

【活用シーン】
・半導体製造プロセスにおけるガス供給ライン
・クリーンルーム内のサンプリングポイント
・分析装置へのガス供給

【導入の効果】
・清浄度の高いガス供給による製品品質の向上
・メンテナンスコストの削減
・システムの安定稼働

半導体製造業界のクリーンルーム環境では、微細な粒子や液体の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、ガスサンプリングラインや関連機器に蓄積する液体や液滴は、システムの誤作動や汚染の原因となり、歩留まりの低下を招く可能性があります。負圧オートドレーンは、これらの問題を解決するために設計されました。蓄積された液体を連続的に自動排出することで、クリーンルーム環境の清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。

【活用シーン】
・クリーンルーム内のガスサンプリングライン
・半導体製造装置の排液処理
・プレフィルター、スプレースクラバー、リキッドトラップからの排水

【導入の効果】
・クリーンルーム環境の汚染リスクを低減
・システムの信頼性向上とメンテナンス頻度の削減
・製品品質の安定化と歩留まり向上

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。

【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上

電子機器の製造工程では、各種薬液や洗浄液などを使用する設備において、流体状態を把握することが工程管理の一助となります。
PFA樹脂製フローサイトは、透明性に優れたフッ素樹脂を採用し、配管内の流体を目視確認する用途に適した製品です。

ガラス製サイトグラスと比較し、破損リスク低減が期待できる点も特長の一つです。

【活用シーン】
・電子部品製造工程の薬液ライン
・洗浄工程用配管
・製造設備の確認用ライン

【導入の効果】
・流体状態の可視化による工程確認性の向上
・破損リスク低減への配慮
・保守・点検作業の効率化

【適合規格】
食品衛生法

半導体製造業界では、製品の品質を左右する微細な異物の混入を防ぐことが重要です。特に、クリーンルーム環境下での製造プロセスにおいては、圧縮空気やガス中の微粒子が製品の歩留まりを低下させる可能性があります。Micra Gold フィルターは、これらの課題に対し、最小0.01μmの粒子を除去することで、高品質な半導体製造をサポートします。

【活用シーン】
* クリーンルーム内の圧縮空気ライン
* 真空ポンプ排気ライン
* ガス分析装置の前段

【導入の効果】
* 製品の歩留まり向上
* 品質の安定化
* 装置の長寿命化

半導体製造業界では、製品の品質を左右する清浄度が非常に重要です。
微細な異物の混入は、製品の歩留まりを低下させ、性能に悪影響を及ぼす可能性があります。
特に、製造プロセスで使用される部材の表面処理は、清浄度を維持する上で重要な要素となります。

アルマイトは、素地と一体化し剥がれる心配がありません。
これにより、清浄度を高く保ち、高品質な製品製造をサポートします。

1250×2500のサイズまで、一般アルマイト、硬質アルマイト、両方とも対応可能です。
【活用シーン】
・半導体製造装置部品
・クリーンルーム内使用部品
・高精度が求められる部品

【導入の効果】
・異物混入リスクの低減
・製品の歩留まり向上
・高い清浄度の維持

半導体業界の精密洗浄工程では、微細加工技術の進歩に伴い、より高い洗浄精度と、環境負荷の低減が求められています。特に、有機汚染物やフォトレジスト残渣の完全除去、金属汚染の抑制は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。ラジカル洗浄ユニットは、高純度洗浄を実現し、これらの課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・SPMレスなフォトレジスト除去プロセス
・有機・金属汚染の抑制
・金属膜酸化防止プロセス

【導入の効果】
・洗浄効率の向上
・環境負荷の低減
・製品品質の向上

半導体業界では、高品質な製品を製造するために、超純水の利用が不可欠です。超純水は、製造プロセスにおける異物混入を防ぎ、製品の歩留まりを向上させるために重要です。ポンプの選定においては、高い清浄度を維持し、安定した水質を供給できることが求められます。グルンドフォスのポンプは、これらの要求に応えるべく設計されています。

【活用シーン】
・超純水製造プラント
・半導体製造ライン
・各種洗浄工程

【導入の効果】
・高い清浄度の維持
・安定した水質供給
・製品歩留まりの向上

『SC-3000』は、疎水性ウェーハ表面の微量汚染物質を回収できる
簡易型微量汚染物質回収装置です。

パソコンと接続して多彩な回収パターンを作成し、シリコンウェーハの
表面や側面（ベベル部）から微量金属汚染を回収（サンプリング）します。

また、外部資源をあまり必要とせず、また場所もとらないため、
装置の導入が容易です。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■ウェーハサイズ：100mm～300mmに対応
■疎水性ウェーハのベベル部の回収が可能
■半径r1、r2で設定された中心部、ドーナツ部、外周部、全面の回収が可能
■回収液の供給、サンプリング後の回収液の吸上げが自動
■回収液を吸上げて汚染されたチップは自動洗浄　など

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

プロセス分析計での包括的な測定例を一覧で紹介

株式会社妙徳では、本体およびノズル材質がオールステンレスの
耐薬品･耐ガス用CVコンバムをオーダーメイドにて提供しています。

材質はSUS303,SUS316を準備しております。
薬品・ガスなどの吸引に適しており、半導体製造装置で使用可能。

耐薬品性に優れるPTFEタイプ、さらにノズルと本体を
PTFE溶接したタイプも製作いたします。

【特長】
■本体およびノズル材質がオールステンレス
■半導体製造装置で使用可能
■オールPTFEタイプも製作

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高温環境下にて、優れた耐熱性能を示します。
また、真空環境下でも、優れた低アウトガス性能を示します。

実績ございます。
詳細情報はお気軽にお問い合わせください。

ふっ素樹脂PFAを溶融押出成形した透明性が高いチューブです。
透明性が高く、一般の汎用プラスチック製に比べ、耐熱性、耐薬品性、非粘着性、電気絶縁性などの特性に優れています。
一般用樹脂グレードのEN品と半導体用樹脂グレードのES品（チューブ内面の平滑性に優れ、溶出イオンを押えた高純度PFAチューブ）があります。

■寸法
　規格品　Φ2×Φ3〜Φ22×Φ25　　
　インチサイズ規格もあります。

当社では、Perlast社製の『ウェハハンドリング製品』を取り扱っております。

材料は、完全に有機物のみで構成されているため、ウェハとの接触時に
パーティクル汚染を起こしません。

また、エンドエフェクター・パッドをカスタムデザインすることができます。
このようなデザインにより、パッドが相手側ハードウェアに確実に捕捉され、
アッセンブリが簡単になります。

【特長】
■完全に有機物のみで構成
■ウェハとの接触時にパーティクル汚染を起こさない
■低接触力ソリューションを最適化
■エンドエフェクター・パッドをカスタムデザインできる
■パッドが相手側ハードウェアに確実に捕捉され、アッセンブリが簡単

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、トレイ清掃装置『ハリケーン』を取り扱っております。

『ハリケーン』は、半導体製品を収納するトレイをエアブローで清掃する
トレイ清掃装置です。

トレイは、複数枚を重ねて供給でき、1枚ずつ自動的に取り出して清掃します。
清掃済みのトレイは、供給したときと同じように重ねて格納できます。

【特長】
■装置内部循環式のエアブローでトレイを清掃
■トレイは複数枚を重ねて供給できる
■清掃済みのトレイは重ねて格納
■トレイ厚みは都度検討対応可能
■特殊仕様にも対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ROBO-STICKY MCシリーズ』は、基板先端ジャンプ機構を標準装備した
クリーニング装置です。

クリーンローラ駆動部のギヤーやベルトを無くし、非接触でクリーンローラを
駆動するMDC駆動方式を採用し、装置の発塵対策を行いました。

従来機の薄板に強い特長を継承した上で、操作性、メンテ性も一段と向上した
装置となりました。

【特長】
■MDC駆動方式を採用
■板厚40μの基板もOK
■クリーンローラ1本にクリーニングテープ1本を使用
■クリーニングテープとクリーンローラは引き出し式
■基板先端ジャンプ機構が標準装備

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。