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半導体製造装置・材料

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エッチング後の洗浄効率向上とは?課題と対策・製品を解説

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エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは?

半導体製造プロセスにおけるエッチング工程後、ウェハー表面に残存するエッチング副生成物やレジスト残渣を効果的かつ迅速に除去し、次工程への影響を最小限に抑えるための技術や手法全般を指します。これにより、歩留まり向上、製造コスト削減、デバイス性能の安定化に貢献します。

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【半導体向け】FEP/PFA被覆O-リング

【半導体向け】FEP/PFA被覆O-リング
半導体製造業界では、薬液や洗浄液への高い耐性が求められます。これらの薬品は、O-リングなどのシール材を劣化させ、リークや汚染を引き起こす可能性があります。FEP/PFA被覆O-リングは、フッ素系樹脂で被覆されているため、優れた耐薬品性を発揮し、半導体製造プロセスにおける信頼性を向上させます。 【活用シーン】 ・薬液を使用する装置 ・洗浄工程 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・薬液による劣化を抑制 ・リークや汚染のリスクを低減 ・装置の稼働率向上

【半導体向け】ボールバルブ NA1T シリーズ

【半導体向け】ボールバルブ NA1T シリーズ
半導体製造業界では、製品の品質を左右する高純度ガスや液体の厳密な流量制御が求められます。特に、微細な粒子や不純物の混入は、製造プロセスに深刻な影響を与え、歩留まりの低下や製品不良を引き起こす可能性があります。ボールバルブは、配管内の水・空気・ガス等の流れを止めたり流したりするという重要な役割を担っており、高純度環境下での信頼性の高い制御が不可欠です。ボールバルブ NA1T シリーズは、ローコストでありながら、高純度環境に対応する材質を採用し、半導体製造プロセスにおける品質維持に貢献します。 【活用シーン】 ・高純度ガス供給ライン ・薬液供給ライン ・クリーンルーム内配管 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・プロセスの安定化 ・コスト削減

半導体向け|ドライアイスブラスト洗浄

半導体向け|ドライアイスブラスト洗浄
半導体業界では、製造工程における微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密な電子部品や基板の洗浄においては、残留物のないクリーンな洗浄が求められます。従来の洗浄方法では、洗浄剤の残留や部品の損傷といった問題が発生する可能性があります。当社のドライアイスブラスト洗浄は、瞬時に気化するドライアイスを使用することで、2次汚染を発生させることなく、精密部品を傷つけずに洗浄できます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の部品洗浄 ・電子基板の異物除去 ・精密金型の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄後の回収作業が不要になり、作業効率が向上 ・被洗浄物の分解・組立工程を削減 ・有害物質の排出を抑制し、環境負荷を低減

【半導体製造向け】ブローバックプレフィルター

【半導体製造向け】ブローバックプレフィルター
半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを向上させるために不可欠です。微粒子や粉体は、デバイスの性能を低下させ、不良品発生の原因となります。Neutronics ブローバックプレフィルターは、サンプルガス中の粉体や粒子状物質を効率的に除去し、酸素センサーやサンプリング機器の汚損や損傷を防ぎます。自動クリーニング機能により、メンテナンス頻度を削減し、システムの信頼性を向上させます。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおけるガス供給ライン ・クリーンルーム内のサンプリングポイント ・分析装置へのガス供給 【導入の効果】 ・清浄度の高いガス供給による製品品質の向上 ・メンテナンスコストの削減 ・システムの安定稼働

【半導体向け】MAGPICKERによる微粒子除去

【半導体向け】MAGPICKERによる微粒子除去
半導体製造工程では、微粒子の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、ケミカル材料を使用する工程では、配管内の微粒子が堆積し、配管詰まりを引き起こすことで、生産効率の低下や修繕費用の増加につながる可能性があります。MAGPICKERは、配管の上流で使用することで、カス・端材に含まれる磁性体と共に非磁性体も同時に約30パーセント回収することが確認されており、配管詰まりや沈殿層清掃頻度の軽減に貢献します。 【活用シーン】 ・ケミカル材料製造工程 ・配管詰まりによる生産停止のリスクを低減したい場合 ・配管清掃や交換にかかる費用を削減したい場合 【導入の効果】 ・配管清掃費用、修繕費の軽減 ・生産効率の向上 ・製品品質の安定化

【半導体向け】ケミカルポンプ修理

【半導体向け】ケミカルポンプ修理
半導体業界の薬液供給用途では、製品の品質維持のため、ポンプの安定稼働が不可欠です。薬液の漏れや異物混入は、製品不良につながる可能性があります。当社ケミカルポンプ修理サービスは、全工程をクリーンルーム内で実施し、ポンプの安定稼働をサポートします。 【活用シーン】 ・薬液供給ラインにおけるポンプのオーバーホール ・ポンプの故障修理 ・ポンプの機体改善延命対策 【導入の効果】 ・製品品質の維持 ・設備信頼性の向上 ・コスト削減

【半導体向け】ガスケット流体適合表

【半導体向け】ガスケット流体適合表
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な汚染物質の混入が、製品の品質と性能に深刻な影響を与える可能性があります。特に、高純度を要求される環境下では、ガスケットからの微量成分の溶出や、流体との適合性が重要な課題となります。適切なガスケット選定は、製品の歩留まり向上、製造コスト削減に不可欠です。当社の「ガスケット流体適合表」は、半導体製造プロセスで使用される様々な流体に対応したガスケットの適合性を、◎・A・Xの3段階で評価し、直感的に判断できるように設計されています。これにより、最適なガスケットを迅速に選定し、高純度環境を維持することが可能になります。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での配管 ・薬液供給ライン ・純水製造設備 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品の品質向上 ・製造プロセスの安定化

【半導体向け】アドロンコーティング

【半導体向け】アドロンコーティング
半導体業界では、製造プロセスにおける薬品への耐性が求められます。特に、高純度な薬品を使用する工程では、コーティングの劣化や剥離が、製品の品質低下や製造効率の悪化につながる可能性があります。アドロンコーティングは、耐薬品性に優れ、半導体製造プロセスにおける様々な課題を解決します。 【活用シーン】 ・薬品タンク ・ウェハー搬送用治具 ・各種配管 【導入の効果】 ・薬品への高い耐性 ・製品の品質安定化 ・製造コスト削減

【半導体向け】小型高精度面積式流量計 NFMシリーズ

【半導体向け】小型高精度面積式流量計 NFMシリーズ
半導体製造における薬液管理では、正確な流量測定が製品の品質と安全性を確保するために不可欠です。薬液の流量が不正確だと、ウェーハの洗浄やエッチング工程に悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品の不良につながる可能性があります。小型高精度面積式流量計 NFMシリーズは、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・洗浄液の流量管理 ・エッチング液の流量制御 【導入の効果】 ・正確な流量測定による品質向上 ・リークの低減による安全性の向上 ・設置の容易さによる作業効率の改善

【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター

【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター
半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、高度な清浄化が不可欠です。特に、微細な粒子や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。グローバルフィルターのカートリッジフィルターは、これらの課題に対し、高いろ過性能と幅広い製品ラインナップで対応します。トータルコストの削減にも貢献します。 【活用シーン】 ・純水、薬液、現像液などのろ過 ・製造工程における異物除去 ・クリーンルーム内の空気清浄化 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減

【半導体向け】高い柔軟性と耐久性を両立。薬液ラインに最適RH27

【半導体向け】高い柔軟性と耐久性を両立。薬液ラインに最適RH27
【製品紹介】 半導体製造工程では、製品品質を維持するために、高純度薬液の安定供給が求められます。特に、薬液の種類や使用条件によっては、ホースに対して高い耐薬品性・耐久性・柔軟性が必要となります。 不適切なホースは、薬液漏洩や配管負荷、異物混入による製品不良につながる可能性があります。 当社の高耐久PTFEコルゲーションホースは、細波状PTFE構造により、高い柔軟性と耐久性を両立。半導体製造装置の薬液供給ラインや可動配管部に対応します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の薬液供給ライン ・高純度薬液ライン ・高圧・高温環境下での薬液輸送 ・腐食性薬液の取り扱い ・クリーンルーム内配管 ・振動・可動を伴う配管部 【導入の効果】 ・薬液漏洩リスク軽減 ・製品品質維持に貢献 ・配管負荷低減による設備保護 ・製造プロセスの安定化

【半導体向け】アルカリ液対応 TSPポンプ BSモデル

【半導体向け】アルカリ液対応 TSPポンプ BSモデル
半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、アルカリ性の薬液は腐食性が高く、使用するポンプには高い耐薬品性が求められます。また、微量な薬液を正確に注入できる能力も不可欠です。当社のアルカリ液対応 TSPポンプ BSモデルは、耐腐食性に優れた材質を使用し、正確な薬液供給を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における薬液供給 ・薬液の微量定量注入が必要な場面 ・アルカリ性薬品を取り扱う場面 【導入の効果】 ・薬液供給の精度向上 ・製品品質の安定化 ・ランニングコストの削減

【半導体製造向け】スプリングリターンボールバルブ

【半導体製造向け】スプリングリターンボールバルブ
半導体製造業界では、製造プロセスの純度を厳格に管理することが求められます。特に、薬液や純水などの流体管理において、異物混入や漏洩は、製品の品質を著しく低下させる要因となります。閉め忘れや誤操作による流体の意図しない流出は、製造ラインの停止や製品の不良につながる可能性があります。スプリングリターンボールバルブは、自動で閉止(または開放)することで、これらのリスクを低減し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・純水供給ライン ・各種ガス供給ライン 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品品質の向上 ・製造ラインの安定稼働

【半導体向け】バブルスクラバー

【半導体向け】バブルスクラバー
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの清浄化が不可欠です。特に、微量な汚染物質が製品の性能に大きな影響を与えるため、サンプリングガス中の酸性ガスや粒子状物質を効果的に除去することが求められます。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を除去し、サンプリングシステムの信頼性を高めるように設計されています。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおけるガス分析 ・クリーンルーム環境におけるガスモニタリング ・サンプリングシステムの保護 【導入の効果】 ・酸性ガスや粒子状物質によるセンサーやコンポーネントの損傷を防止 ・メンテナンス頻度の削減 ・システムの信頼性向上

【ディスプレイ製造向け】インド産 アンモニア水(29%)EG

【ディスプレイ製造向け】インド産 アンモニア水(29%)EG
ディスプレイ製造業界では、高品質な製品を安定的に供給するために、エッチング工程における精密な制御が求められます。特に、微細なパターン形成においては、エッチング液の純度と均一性が重要であり、不純物の混入は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水(29%)Electronic Gradeは、RO+DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。エッチング工程における高い品質と安定性をサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ基板のエッチング ・フォトレジストの除去 ・洗浄工程 【導入の効果】 ・高純度アンモニア水によるエッチング品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上

【半導体向け】アシッドスクラバー

【半導体向け】アシッドスクラバー
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの清浄度が重要です。特に、サンプリングガス中の酸性物質は、装置の腐食や性能劣化を引き起こし、製品の品質に悪影響を与える可能性があります。アシッドスクラバーは、これらの問題を解決するために設計されました。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおけるガス分析 ・サンプリング装置の保護 ・酸素センサーの保護 【導入の効果】 ・サンプリングガス中の酸性物質を効果的に除去 ・装置の腐食や性能劣化を抑制 ・製品の品質向上に貢献

【半導体向け】視認性・耐薬品性・柔軟性を一体化 PFAホース

【半導体向け】視認性・耐薬品性・柔軟性を一体化 PFAホース
半導体製造プロセスでは、薬液の品質管理が製品の歩留まりを大きく左右します。特に、高純度な薬液を扱う際には、コンタミネーションのリスクを最小限に抑え、薬液の状態を常に把握できることが重要です。TH50は、高い内面視認性により、薬液の流れを目視で確認でき、異物混入や異常を早期に発見できます。PFAの耐薬品性と、プラチナシリコーンの柔軟性を兼ね備え、多様な温度条件下での使用にも対応します。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・純水供給ライン ・各種洗浄液供給 【導入の効果】 ・薬液の品質維持 ・プロセスの安定化 ・メンテナンス性の向上 【主な適用業界】 ■食品・醸造・飲料・調味料 ■医薬品・化粧品・化成品 ■電子材料・半導体・超純水 【機能】 ■負圧吸引 ■視認性 ■耐油 ■非粘着 ■防臭

海外装置の国内立ち上げに!BSPP⇒JIS変換アダプタ

海外装置の国内立ち上げに!BSPP⇒JIS変換アダプタ
半導体製造業界では、精密な機器の接続が求められます。海外製マシンのBSPP規格と国内JIS規格の接続でお困りではありませんか?シールテープの使用は、異物混入のリスクを高め、作業効率を低下させる可能性があります。当社の変換アダプタは、Oリング仕様によりシールテープが不要で、工数削減に貢献します。また、国内JIS規格のホースが利用できるため、メンテナンスも容易になります。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の配管接続 ・クリーンルーム内での配管接続 ・精密機器への接続 【導入の効果】 ・シールテープ不要による異物混入リスクの低減 ・工数削減による作業効率の向上 ・国内ホース利用によるメンテナンス性の向上

【半導体向け】ふっ素樹脂コーティングの効果

【半導体向け】ふっ素樹脂コーティングの効果
半導体業界では、製造プロセスにおける薬品への耐性が求められます。特に、薬液への高い耐久性は、製品の品質維持に不可欠です。不適切なコーティングは、部品の腐食や性能劣化につながる可能性があります。当社のふっ素樹脂コーティングは、耐薬品性に優れ、半導体製造プロセスにおける部材の保護に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・薬液を使用する環境下での部品保護 【導入の効果】 ・耐薬品性の向上 ・製品寿命の延長 ・コスト削減

【半導体製造向け】アルファクールNVシリーズ

【半導体製造向け】アルファクールNVシリーズ
半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。切削油の腐敗やべたつきは、微細な部品への汚染を引き起こし、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。アルファクールNVシリーズは、耐腐敗性の向上により、清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造における切削・研削工程 ・クリーンルーム内での使用 ・精密部品加工 【導入の効果】 ・腐敗臭や油煙の抑制による作業環境の改善 ・製品へのべたつきを抑制し、清浄度を向上 ・切削油の交換頻度を減らし、廃棄コストを削減

【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ

【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ
半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、コンプレッサーから排出される凝縮水の管理が重要です。特に、精密な製造工程においては、凝縮水による汚染や、それによる装置の故障は、生産効率の低下や製品品質の劣化につながる可能性があります。エコ・ドレンシリーズは、空気損失なく安全で信頼性の高い凝縮水排水を実現し、半導体製造における高い品質基準をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内でのコンプレッサー設置場所 ・精密機器製造ライン ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・凝縮水による汚染リスクの低減 ・装置の安定稼働 ・製品品質の向上

【電子業界向け】圧縮空気不純物簡易測定サービス

【電子業界向け】圧縮空気不純物簡易測定サービス
電子業界において、製品の歩留まりを向上させるためには、製造環境の品質管理が重要です。特に、圧縮空気中の不純物は、製品の品質劣化や不良品の発生につながる可能性があります。歩留まりの低下は、コスト増につながるため、圧縮空気の品質管理は重要な課題です。当社の圧縮空気不純物簡易測定サービスは、圧縮空気中のオイルミスト、水分、一酸化炭素、二酸化炭素、酸素を測定し、品質管理をサポートします。これにより、歩留まりの向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子部品製造工場 ・半導体製造工場 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・圧縮空気品質の可視化 ・不良品発生率の低減 ・歩留まりの向上 ・コスト削減

【半導体向け】SilcoTekコーティングで高純度環境を維持

【半導体向け】SilcoTekコーティングで高純度環境を維持
半導体業界では、高純度な環境が製品の品質を左右します。薬液やガスによる金属部品の腐食は、コンタミネーションを引き起こし、歩留まりの低下や製品の性能劣化につながる可能性があります。SilcoTekコーティングは、1~2.4μm程度の膜厚で、金属表面を保護し、腐食を抑制します。これにより、部品の交換頻度を減らし、安定した製造プロセスを実現します。 【活用シーン】 ・高純度ガス供給配管 ・薬液供給ライン ・反応チャンバー内部品 【導入の効果】 ・コンタミネーションのリスク低減 ・部品寿命の延長 ・材料コストの削減

【半導体向け】焼結金網フィルター

【半導体向け】焼結金網フィルター
半導体製造においては、薬液の純度が製品の品質を大きく左右します。薬液中に不純物が混入すると、歩留まりの低下や製品不良を引き起こす可能性があります。焼結金網フィルターは、薬液中の微細な異物を高い精度で除去し、高品質な半導体製造を支えます。 【活用シーン】 ・フォトレジスト、現像液、エッチング液などの薬液濾過 ・CMPスラリーからの研磨剤除去 ・洗浄液からのコンタミ除去 【導入の効果】 ・歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・装置の長寿命化

【電子業界向け】インド産アンモニア水(25%)

【電子業界向け】インド産アンモニア水(25%)
電子業界のエッチングプロセスでは、精密な加工精度と高い製品品質が求められます。特に、半導体製造においては、アンモニア水の純度が製品の性能を左右する重要な要素となります。不純物の混入は、エッチングの均一性を損ない、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水(25%)は、高純度原料と厳格な品質管理により、エッチングプロセスにおける高い信頼性と安定供給を実現します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハのエッチング ・プリント基板のエッチング ・金属部品のエッチング 【導入の効果】 ・高純度によるエッチング品質の向上 ・歩留まりの改善 ・安定供給による生産効率の向上

【電子部品向け】ナノバブルで切削クーラントを長寿命化!

【電子部品向け】ナノバブルで切削クーラントを長寿命化!
電子部品業界の微細加工においては、クーラントの品質維持が重要です。クーラントの腐敗は、加工精度を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。また、洗浄性の低下は、加工後の部品に残留物を残し、不良品の発生につながることもあります。ナノブースターは、クーラントの腐敗を抑制し、洗浄性を向上させることで、微細加工における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・加工機 ・洗浄機 ・熱交換器 【導入の効果】 ・クーラントの長寿命化 ・加工精度の向上 ・不良品率の低減

ファーストゲート株式会社 会社概要

ファーストゲート株式会社 会社概要
ファーストゲートは、果てしない進化を続けるエレクトロニクス業界、半導体業界において、常に革新となりうる夢のような装置と技術を提供していく会社でありたいと考えます。 ファーストゲートという社名は、『どこよりも早くお客様が求めるソリューションを提供するFAST(早い)GATE(道)になりたい』という願いを表しています。半導体商社として広く世界に革新技術を求め、また半導体製造装置メーカーとして自社技術への飽くなき挑戦を続けて行きます。孟子曰く『天の時は地の利に如かず、地の利は人の和に如かず』。 ファーストゲートは与えられたチャンスを活かして自社の技術力を向上させ、社員一人ひとりが能力を発揮して研鑚しあい協力しあう人の和を強みとする企業として、限りない飛躍を目指します。そしてお客様、株主の皆様、社員、社員の家族を大切にして出会えた縁(えにし)に感謝する、社会に貢献し続ける企業でありたいと思います。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

フッ素樹脂コーティング 耐食性と純粋性で化学・半導体に業界採用

フッ素樹脂コーティング 耐食性と純粋性で化学・半導体に業界採用
■厚膜フッ素樹脂コーティング(膜厚300~2000μm)とは 【耐薬品性に優れるフッ素樹脂】 フッ素樹脂は、化学的に安定しているため、 ほとんどの酸やアルカリなどの化学薬品に侵されたり、 分子が溶けて流出することがありません。 【フッ素樹脂厚膜ピンホールレスコーティング】 ライニング及び成型品が不可能な缶体や基材に、 ピンホールレスの厚膜コーティングをすることにより、 酸やアルカリなどの腐食性のある液体やガスからの保護、 または金属イオンなどの溶出防止が可能です。 ※下記リンクより詳しい内容をご覧いただけます。

電子材料

電子材料
当社では、半導体製造工程で使用される薬剤や消耗品、精密部品の 洗浄剤を提供しております。 その他、金属加工及び表面処理に使用される各種薬剤および メッキ廃水処理剤や、原材料及び食品添加物から衛生管理面で 必須なサニテーション商品などを提供。 また、医薬品原料関連、化粧品原料関連、試薬関連、プール・スパ・ 温泉関連、防疫薬剤関連、リネン・クリーニング関連、塗料・印刷関連も 取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【取扱品目】 ■高純度薬品 ■フッ素系溶剤 ■リチウムイオン電池材料 ■イオン液体 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

Milli-Q IQ 7005/10/15 微量元素分析タイプ

Milli-Q IQ 7005/10/15 微量元素分析タイプ
当社で取り扱う、ICP-MS(極微量元素分析)、半導体洗浄用完全水銀 フリー超純水製造装置『Milli-Q IQ 7005/10/15およびMilli-Q IQ 7000 微量元素分析タイプ』をご紹介いたします。 当製品の精製ユニットでの超純水精製に加え、Milli-Q IQ Element によりホウ素を含む極微量の金属を極限まで除去。 これにより、水由来のバックグラウンドを抑えられ、極微量元素分析に おいて安定した結果を出すことができます。 【特長】 ■極微量元素分析ワークフローに合わせた設計 ■コンタミネーション防止 ■メンテナンスの最小化 ■圧倒的な使いやすさ ■タッチスクリーンで簡単操作 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

精密洗浄機『APS-HQシリーズ』

精密洗浄機『APS-HQシリーズ』
『APS-HQシリーズ』は、洗浄ワークを上下から洗浄することでムラのない 洗浄が可能な精密洗浄機です。 洗浄ワークは水中を貫通するため、汚れの再付着を防ぎます。 また、中高圧揺動シャワーでムラのない洗浄ができ、洗浄ワークに合った ノズルを選定いたします。 【特長】 ■上下対向超音波波振動子 ■サインジェット ■吹き飛ばし乾燥 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

半導体装置部品のひずみを低減した帯電防止フッ素樹脂コーティング

半導体装置部品のひずみを低減した帯電防止フッ素樹脂コーティング
■解決したかったお悩み、実現したかったこと 半導体装置に使用される薄肉のアルミ部品へ帯電防止コーティングをしたいとご相談をいただきました。 従来のフッ素系帯電防止コーティングは高い加工温度での焼成が必要であったため、 アルミ部品のひずみを気にされていました。 帯電防止性能を付与でき、薄肉のアルミ部品でもひずみにくいコーティングを探していました。 ■採用されたコーティング セーフロンLF+ ■実現できた効果 帯電防止性能に優れたセーフロンシリーズのうち、セーフロンLF+は最低焼成温度が100℃以下と低く、 焼成によるひずみの軽減が期待できるため、ご提案しました。 テスト、実機での試作にて帯電防止性能の付与、ひずみ問題の解決が確認できたため、 製品のコーティングにご採用いただきました。 新開発のセーフロンLF+は、お客様のさまざまな環境や用途に対応できる帯電防止フッ素樹脂コーティングです。 詳細な情報やその他の製品についてのご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

【高周波】石英振動体型洗浄機 W-357-1MQG-SKC

【高周波】石英振動体型洗浄機 W-357-1MQG-SKC
■石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄  薬液を半導体ウェーハに浸し、石英ガラスを通じて超音波振動を伝播させることで、接触部の薬液が振動して、その加速度によって表面の汚れを除去します。 ■半導体ウェーハにダメージが少ない、クリーンな洗浄  薬液との接液部に石英を用いることで、パッキン等ゴム材を使用した装置と比べてゴムの溶出や摩耗がなくクリーンな洗浄を実現します。 ■振動子冷却機能付き  振動子を気体(窒素等)で冷却することで周波数変動がなく安定した連続運転が可能です。また、冷却することで急激な温度変化がなく長寿命です。

板状ワーク用ウェットブラスト装置(PFE300T/N,600N)

板状ワーク用ウェットブラスト装置(PFE300T/N,600N)
PFE 300T/N・600Nは、最大600mm幅の大判板材をインラインで全自動処理できるウェットブラスト装置です。 独自の幅広ガンで上下両面を均一加工し、基板の現像残渣除去や樹脂・ガラス・フィルムの表面改質など幅広い用途に対応します。 【特長】・ ・最大600mm幅の大判板材に対応し、高品質な処理が可能 ・独自の幅広ガンで、上下両面の均一に加工 ・ウェットブラストから水洗・水切りまでインラインで全自動処理

【資料】プラズマ技術

【資料】プ�ラズマ技術
当資料は、『プラズマ技術』に関する内容を詳しくご紹介しております。 「真空プラズマとは何か」をはじめ、「真空プラズマによる表面活性化」や 「表面高度洗浄」などを掲載。 当社は、様々な機器構成で、多様なサイズに対応できる高品質なカスタマイズ 真空プラズマ装置をご提供します。 【掲載内容】 ■プラズマ技術 ■真空プラズマ処理とは ■表面活性化/表面改質(同時処理、個別処理) ■表面高度洗浄 ■エッチング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

レヒラー社製フラットジェットスプレーノズル(配管押込タイプ)

レヒラー社製フラットジェットスプレーノズル(配管押込タイプ)
レヒラー社製フラットジェットスプレーノズルは均一分布の噴霧を有します。 小流量のフラットジェットスプレーノズルは加湿や連続運転のプラント等での作業に使用されます。 流体力学の応用により、全ての用途いおいて安定でしかも均一な噴霧分布を作り出すように設計されています。 レヒラー社製フラットジェットスプレーノズルは放物線の噴霧分布を描きます。 このスプレーノズルは幅広い用途に使用出来るようにデザインされており、圧力の変化に影響を極力及ばないような設計となっています。 工学的に設計された色々な圧力下での流量、スプレー幅、スプレーインパクト、噴霧分布等のデータを揃えております。 注:配管押込型のご使用は低圧でお願いします。

石英ガラス加工サービス

石英ガラス加工サービス
当社では、石英ガラス加工を取り扱っております。 蓄積されたノウハウ、新しいテクニックで、高度なご要望にお応えし、 先端産業を支える石英ガラス製品をご提供。 他にも、ガラス溶接加工やサンドブラスト加工、半導体製造部品、 特殊ガラスなどの取り扱いがございます。 【石英ガラスのおもな性質】 ■透過性:様々な光をよく通す ■耐熱性:熱に強い ■高純度:不純物が極めて少ない ■耐酸性:薬品に侵されにくい ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

プラズマ装置 プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置カタログ

プラズマ装置 プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置カタログ
当カタログは、ヤマトマテリアルが取り扱うプラズマ装置を掲載したカタログです。 デモ機や、プラズマ装置のラインアップの他、「RIE プラズマ処理のしくみ」や、 「DP プラズマ処置のしくみ」などもご紹介しています。 当社では、プラズマドライクリーナー、エッチャー(エッチング)、アッシャー(アッシング)の処理目的に合った プラズマ装置を、標準品以外にもカスタムメイドで対応。 企画から提案まで一環してお引き受けしています。 【掲載内容】 ■市場・用途 ■プラズマモードの説明 ■デモ機ラインアップ ■プラズマ装置ラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

バレルタイププラズマ処理装置 PBシリーズ

バレルタイププラズマ処理装置 PBシリーズ
バレルタイププラズマ処理装置「PBシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良環境性(クリーンな作業環境、無廃液)と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理(円筒形処理室/等方性プラズマ) ■多様なプロセス:Ashing(洗浄)、Etching、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応(半導体製造装置として使用可能) ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

受託洗浄サービス ドライ洗浄・表面処理再生

受託洗浄サービス ドライ洗浄・表面処理再生
当社では、環境面へ配慮した洗浄方法として『ドライ方式洗浄』を採用しております。 大量の廃液を発生させるウェット洗浄への依存を低減させ、品質・納期・コスト・安全面の向上を図っております。ドライ方式の場合、洗浄によるパーツ消耗は殆ど起きません。

フレキシブル ジャケットヒーター

フレキシブル ジャケットヒーター
『フレキシブル ジャケットヒーター』は、半導体配管の最適化アイテムとして、 副生成物付着防止、供給ガスのヒーティングシステムです。 多重絶縁構造のアース付きフレキシブル発熱エレメントは安全性が高く丈夫で、 専用の温調&モニターシステムにより、温度制御とモニターをします。 また、ダウンタイムを減らし、配管の洗浄費用を低減。 排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管に使用されています。 【特長】 ■脱着が簡単 ■丈夫で長持ち ■最小径φ6.3mm ■フレキシブルで複雑な形状にもフィット ■クリーンルームClass10 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体業界向け!シロキサンフリーの補填剤で被害を抑制!

半導体業界向け!シロキサンフリーの補填剤で被害を抑制!
シロキサンフリーペースト状シール材『HVF-1』はシロキサン含有量が5μm以下なので、シロキサンによる被害を抑制します。 シロキサンによる「ウェハー汚染」や「接点障害」、「金属部の腐食」、「化学反応による異物の発生」、「露光装置レンズの汚れ」を抑制することで、クリーンルーム内部の隙間埋めや、半導体製造装置内部の目地止めに利用可能です。 【特長】 ■酸とアルカリ両方の薬品に耐性有り ■常温で自然乾燥 ■シリコーンを含んでいないフッ素ゴムが主原料 など ※無料サンプル進呈いたします。 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。

Siconnex(サイコネックス) 会社案内

Siconnex(サイコネックス) 会社案内
当社は、半導体チップ製造プロセス(ウェットエッチング・レジスト剝離・洗浄)装置の製造メーカーです。 スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」や タンクシステムによるケミカル循環方式を採用した「BATCHSPRAY Solvent Autoload」 など様々な製品を取り扱っております。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【Siconnex(サイコネックス)が選ばれる理由】 ■BATCHSPRAY技術に100%フォーカス ■水・排気・化学品を大幅に削減 ■コスト効率が高く、環境保全に対応したプロセス ■充実したサポート体制(サービス、パーツ、プロセス) ■無償の年次装置点検、トレーニング、電話サポート、及び初年度定期  メンテナンス等のパートナーシップアプローチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

自動現像/エッチング装置

自動現像/エッチング装置
用途、ご予算に応じてカスタマイズできますのでお問合せ下さい。 又、搬送機構を持たない汎用機もございます。

半導体製造装置で採用される表面処理「用途別」※資料有り

半導体製造装置で採用される表面処理「用途別」※資料有り
■半導体製造ラインなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン(TM)フッ素樹脂コーティング』 ■ウェハー・ガラス用ハンドなどの用途 ・選ばれている表面処理 『セーフロン(R)』 『PBI、PIコーティング』 ■精密ノズル、MEMS部品、光学レンズなどの用途 ・選ばれている表面処理 『ナノプロセス(R)』 ■薬液供給タンクなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン(TM)フッ素樹脂コーティング』 『セーフロン(R)AP+』 『MYライニング(R)』 ■クリーンルーム内壁、実験設備、各種治工具などの用途 ・選ばれている表面処理 『セラシールドF』 ■高温設備部材(ロール、ヒーターカバー)などの用途 ・選ばれている表面処理 『SGNコーティング』 ※ご紹介の表面処理製品PDFをダウンロード頂けます。  製品の詳しい内容は「吉田SKT公式サイト」をご覧ください

石英ガラス加工製品・再生石英材料

石英ガラス加工製品・再生石英材料
当社は得意分野ごとに石英ガラスの加工業者を選定し、 最高の加工技術で作られた製品をお客様に提供しています。 また、合成石英材料の取り扱もしていますのでお気軽にお問い合わせください。

半導体製造装置向け付帯設備 O/H・修理サービス

半導体製造装置向け付帯設備 O/H・修理サービス
当社では、半導体製造装置向け付帯設備のO/H・修理を行っております。 自社にて修理ラインを所有しており、リボラスとしての品質と保証をご提供。 また、クリーンブースを完備し、クリーンルームへの納入品も対応します。 【ご提案内容】 ■バルブ・シリンダーO/H・修理 ■ノート&デスクトップPCの修理及び代替えのご提案 ■CRT/液晶モニターの代替え及び新品ご提案 ■半導体装置向けRF/DC電源 修理・O/H ■マッチャー 修理・O/H など ※詳細については、お気軽にお問い合わせください。

【技術資料】半導体製造と品質管理に欠かせない分析法

【技術資料】半導体製造と品質管理に欠かせない分析法
プロセス分析計での包括的な測定例を一覧で紹介

半導体製造プロセスとは?半導体製造を支える表面処理まで紹介

半導体製造プロセスとは?半導体製造を支える表面処理まで紹介
半導体製造プロセスとは、 設計から半導体デバイスを作り出し出荷するための一連の工程のことです。 半導体デバイスは、コンピュータ、スマートフォン、車載電子機器、LEDなど、 現代の様々な電子機器に利用される不可欠な部品です。 半導体製造プロセスは、高純度な精密性の高い技術を要するため、 多くの場合自動化されたクリーンルームで行われます。 1.設計→フォトマスクの製作  論理回路設計・レイアウト設計・フォトマスク製作 2.前工程(ウエハー加工)  シリコンウェハーの調達→洗浄→成膜→フォトリングラフィー→イオン注入→配線→検査 3.後工程(組み立て)  ダイシング→ダイボンディング→ワイヤボンディング→封入→ハンダボール搭載→分離→捺印→検査→梱包・出荷 半導体製造プロセスにおいて、 特に前工程ではナノレベルの精密性を必要とするため 高い純粋性や精密性が求められます。 フッ素樹脂コーティングを始めてとする表面処理は、 半導体製造を支え、日本が得意とする半導体製造装置の 一翼を担っています。 以下では半導体製造で欠かせない表面処理についてご紹介します。

【用途例】フッ素樹脂を用いた製品とは?

【用途例】フッ素樹脂を用いた製品とは?
フッ素樹脂は、低摩擦・非粘着性・耐薬品性といった特性を持つ優れた樹脂です。 その特性から様々な用途で活用されており、なかでも耐薬品性に優れていることから薬品を使用する半導体製造装置やプラントに使用されています。 半導体の製造現場では、他にもクリーンな環境が求められることから非粘着性が低く、ゴミの付着を防ぐことが出来るフッ素樹脂は正にうってつけの樹脂と言えます。 【用途例】 ・反応槽 ・タンク ・バルブ ・配管 ・パッキン 詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
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エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上

エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは?

半導体製造プロセスにおけるエッチング工程後、ウェハー表面に残存するエッチング副生成物やレジスト残渣を効果的かつ迅速に除去し、次工程への影響を最小限に抑えるための技術や手法全般を指します。これにより、歩留まり向上、製造コスト削減、デバイス性能の安定化に貢献します。

​課題

微細構造への残渣付着

微細化が進む半導体デバイスでは、エッチング後の微細な溝や穴にエッチング副生成物やレジスト残渣が付着しやすく、除去が困難になっています。

洗浄液の浸透性不足

複雑な3次元構造や高アスペクト比構造において、洗浄液が奥深くまで浸透せず、洗浄ムラや未洗浄箇所が発生する問題があります。

洗浄時間の長期化

残渣の除去に時間がかかり、洗浄工程のサイクルタイムが長くなることで、生産性の低下やコスト増加を招いています。

ウェハー表面へのダメージ

強力な洗浄方法を用いると、ウェハー表面の微細構造や材料にダメージを与え、デバイスの信頼性を損なう可能性があります。

​対策

高機能洗浄液の開発

残渣への親和性が高く、かつウェハー表面へのダメージが少ない、特殊な界面活性剤や溶剤を配合した洗浄液を開発・適用します。

超音波・マイクロバブル洗浄の最適化

洗浄液中に超音波やマイクロバブルを発生させ、物理的な力を利用して微細な残渣を剥離・除去する技術を、洗浄液や周波数と組み合わせて最適化します。

プラズマ洗浄技術の導入

低ダメージかつ高効率なプラズマを利用して、化学的・物理的に残渣を除去する技術を、エッチングプロセスに合わせて最適化します。

洗浄プロセス制御の高度化

洗浄温度、時間、圧力、流量などのパラメータを精密に制御し、洗浄効果を最大化するとともに、ウェハーへのダメージを最小限に抑えます。

​対策に役立つ製品例

特殊界面活性剤配合洗浄液

微細構造の隙間にも浸透しやすく、エッチング副生成物やレジスト残渣を効率的に溶解・分散させることで、洗浄時間を短縮し、洗浄ムラを低減します。

高周波超音波洗浄装置

微細な残渣を効果的に剥離するのに適した高周波超音波を発生させ、洗浄液の浸透性を高め、物理的な力で残渣を除去します。

低ダメージプラズマ洗浄システム

ウェハー表面にダメージを与えにくい低エネルギーのプラズマを利用し、化学反応と物理的な効果で残渣を効率的に除去します。

インライン洗浄プロセスモニタリングシステム

洗浄液の濃度や温度、残渣の有無などをリアルタイムで監視し、洗浄条件を最適化することで、常に高い洗浄効率を維持します。

⭐今週のピックアップ

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