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エッチング後の洗浄効率向上とは？課題と対策・製品を解説

エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは？

半導体製造プロセスにおけるエッチング工程後、ウェハー表面に残存するエッチング副生成物やレジスト残渣を効果的かつ迅速に除去し、次工程への影響を最小限に抑えるための技術や手法全般を指します。これにより、歩留まり向上、製造コスト削減、デバイス性能の安定化に貢献します。

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【半導体向け】SilcoTekコーティングで高純度環境を維持

千代田交易株式会社

半導体業界では、高純度な環境が製品の品質を左右します。薬液やガスによる金属部品の腐食は、コンタミネーションを引き起こし、歩留まりの低下や製品の性能劣化につながる可能性があります。SilcoTekコーティングは、1～2.4μm程度の膜厚で、金属表面を保護し、腐食を抑制します。これにより、部品の交換頻度を減らし、安定した製造プロセスを実現します。【活用シーン】・高純度ガス供給配管・薬液供給ライン・反応チャンバー内部品【導入の効果】・コンタミネーションのリスク低減・部品寿命の延長・材料コストの削減

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【半導体製造向け】アルファクールNVシリーズ

出光興産株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。切削油の腐敗やべたつきは、微細な部品への汚染を引き起こし、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。アルファクールNVシリーズは、耐腐敗性の向上により、清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。【活用シーン】・半導体製造における切削・研削工程・クリーンルーム内での使用・精密部品加工【導入の効果】・腐敗臭や油煙の抑制による作業環境の改善・製品へのべたつきを抑制し、清浄度を向上・切削油の交換頻度を減らし、廃棄コストを削減

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【半導体向け】ケミカルポンプ修理

千代田交易株式会社

半導体業界の薬液供給用途では、製品の品質維持のため、ポンプの安定稼働が不可欠です。薬液の漏れや異物混入は、製品不良につながる可能性があります。当社ケミカルポンプ修理サービスは、全工程をクリーンルーム内で実施し、ポンプの安定稼働をサポートします。【活用シーン】・薬液供給ラインにおけるポンプのオーバーホール・ポンプの故障修理・ポンプの機体改善延命対策【導入の効果】・製品品質の維持・設備信頼性の向上・コスト削減

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【電子部品向け】ナノバブルで切削クーラントを長寿命化！

株式会社IZUSHI

電子部品業界の微細加工においては、クーラントの品質維持が重要です。クーラントの腐敗は、加工精度を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。また、洗浄性の低下は、加工後の部品に残留物を残し、不良品の発生につながることもあります。ナノブースターは、クーラントの腐敗を抑制し、洗浄性を向上させることで、微細加工における品質向上に貢献します。【活用シーン】・加工機・洗浄機・熱交換器【導入の効果】・クーラントの長寿命化・加工精度の向上・不良品率の低減

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【半導体製造向け】ブローバックプレフィルター

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを向上させるために不可欠です。微粒子や粉体は、デバイスの性能を低下させ、不良品発生の原因となります。Neutronics ブローバックプレフィルターは、サンプルガス中の粉体や粒子状物質を効率的に除去し、酸素センサーやサンプリング機器の汚損や損傷を防ぎます。自動クリーニング機能により、メンテナンス頻度を削減し、システムの信頼性を向上させます。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおけるガス供給ライン・クリーンルーム内のサンプリングポイント・分析装置へのガス供給【導入の効果】・清浄度の高いガス供給による製品品質の向上・メンテナンスコストの削減・システムの安定稼働

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【半導体向け】アドロンコーティング

株式会社フロロコート

半導体業界では、製造プロセスにおける薬品への耐性が求められます。特に、高純度な薬品を使用する工程では、コーティングの劣化や剥離が、製品の品質低下や製造効率の悪化につながる可能性があります。アドロンコーティングは、耐薬品性に優れ、半導体製造プロセスにおける様々な課題を解決します。【活用シーン】・薬品タンク・ウェハー搬送用治具・各種配管【導入の効果】・薬品への高い耐性・製品の品質安定化・製造コスト削減

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【半導体向け】焼結金網フィルター

株式会社バンテック

半導体製造においては、薬液の純度が製品の品質を大きく左右します。薬液中に不純物が混入すると、歩留まりの低下や製品不良を引き起こす可能性があります。焼結金網フィルターは、薬液中の微細な異物を高い精度で除去し、高品質な半導体製造を支えます。【活用シーン】・フォトレジスト、現像液、エッチング液などの薬液濾過・CMPスラリーからの研磨剤除去・洗浄液からのコンタミ除去【導入の効果】・歩留まり向上・製品品質の安定化・装置の長寿命化

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【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ

ケーザー・コンプレッサー株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、コンプレッサーから排出される凝縮水の管理が重要です。特に、精密な製造工程においては、凝縮水による汚染や、それによる装置の故障は、生産効率の低下や製品品質の劣化につながる可能性があります。エコ・ドレンシリーズは、空気損失なく安全で信頼性の高い凝縮水排水を実現し、半導体製造における高い品質基準をサポートします。【活用シーン】・クリーンルーム内でのコンプレッサー設置場所・精密機器製造ライン・半導体製造装置【導入の効果】・凝縮水による汚染リスクの低減・装置の安定稼働・製品品質の向上

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【半導体向け】ボールバルブ NA1T シリーズ

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製品の品質を左右する高純度ガスや液体の厳密な流量制御が求められます。特に、微細な粒子や不純物の混入は、製造プロセスに深刻な影響を与え、歩留まりの低下や製品不良を引き起こす可能性があります。ボールバルブは、配管内の水・空気・ガス等の流れを止めたり流したりするという重要な役割を担っており、高純度環境下での信頼性の高い制御が不可欠です。ボールバルブ NA1T シリーズは、ローコストでありながら、高純度環境に対応する材質を採用し、半導体製造プロセスにおける品質維持に貢献します。【活用シーン】・高純度ガス供給ライン・薬液供給ライン・クリーンルーム内配管【導入の効果】・異物混入リスクの低減・プロセスの安定化・コスト削減

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【半導体向け】FEP/PFA被覆O-リング

株式会社エム・オー・テック

半導体製造業界では、薬液や洗浄液への高い耐性が求められます。これらの薬品は、O-リングなどのシール材を劣化させ、リークや汚染を引き起こす可能性があります。FEP/PFA被覆O-リングは、フッ素系樹脂で被覆されているため、優れた耐薬品性を発揮し、半導体製造プロセスにおける信頼性を向上させます。【特長】・フッ素ゴム、シリコンゴムのO-リングをFEPまたはPFAで被覆・優れた耐薬品性・-60℃～260℃の広い使用温度範囲・特殊サイズも比較的短納期で対応・内径は任意に設定可能【活用シーン】・薬液を使用する装置・洗浄工程・クリーンルーム環境【導入の効果】・薬液による劣化を抑制・リークや汚染のリスクを低減・装置の稼働率向上

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【半導体向け】グローバルフィルターカートリッジフィルター

日本フィルトレーショングループ株式会社

半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、高度な清浄化が不可欠です。特に、微細な粒子や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。グローバルフィルターのカートリッジフィルターは、これらの課題に対し、高いろ過性能と幅広い製品ラインナップで対応します。トータルコストの削減にも貢献します。【活用シーン】・純水、薬液、現像液などのろ過・製造工程における異物除去・クリーンルーム内の空気清浄化【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・製造コストの削減

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【半導体製造向け】スプリングリターンボールバルブ

富永物産株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの純度を厳格に管理することが求められます。特に、薬液や純水などの流体管理において、異物混入や漏洩は、製品の品質を著しく低下させる要因となります。閉め忘れや誤操作による流体の意図しない流出は、製造ラインの停止や製品の不良につながる可能性があります。スプリングリターンボールバルブは、自動で閉止（または開放）することで、これらのリスクを低減し、製造プロセスの安定化に貢献します。【活用シーン】・薬液供給ライン・純水供給ライン・各種ガス供給ライン【導入の効果】・異物混入リスクの低減・製品品質の向上・製造ラインの安定稼働

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【半導体向け】ふっ素樹脂コーティングの効果

株式会社フロロコート

半導体業界では、製造プロセスにおける薬品への耐性が求められます。特に、薬液への高い耐久性は、製品の品質維持に不可欠です。不適切なコーティングは、部品の腐食や性能劣化につながる可能性があります。当社のふっ素樹脂コーティングは、耐薬品性に優れ、半導体製造プロセスにおける部材の保護に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置・薬液を使用する環境下での部品保護【導入の効果】・耐薬品性の向上・製品寿命の延長・コスト削減

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海外装置の国内立ち上げに！BSPP⇒JIS変換アダプタ

ドゥ・ヤマモト株式会社

半導体製造業界では、精密な機器の接続が求められます。海外製マシンのBSPP規格と国内JIS規格の接続でお困りではありませんか？シールテープの使用は、異物混入のリスクを高め、作業効率を低下させる可能性があります。当社の変換アダプタは、Oリング仕様によりシールテープが不要で、工数削減に貢献します。また、国内JIS規格のホースが利用できるため、メンテナンスも容易になります。【活用シーン】・半導体製造装置の配管接続・クリーンルーム内での配管接続・精密機器への接続【導入の効果】・シールテープ不要による異物混入リスクの低減・工数削減による作業効率の向上・国内ホース利用によるメンテナンス性の向上

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【半導体向け】視認性・耐薬品性・柔軟性を一体化 PFAホース

株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）

半導体製造プロセスでは、薬液の品質管理が製品の歩留まりを大きく左右します。特に、高純度な薬液を扱う際には、コンタミネーションのリスクを最小限に抑え、薬液の状態を常に把握できることが重要です。TH50は、高い内面視認性により、薬液の流れを目視で確認でき、異物混入や異常を早期に発見できます。PFAの耐薬品性と、プラチナシリコーンの柔軟性を兼ね備え、多様な温度条件下での使用にも対応します。【活用シーン】・薬液供給ライン・純水供給ライン・各種洗浄液供給【導入の効果】・薬液の品質維持・プロセスの安定化・メンテナンス性の向上【主な適用業界】 ■食品・醸造・飲料・調味料 ■医薬品・化粧品・化成品 ■電子材料・半導体・超純水【機能】 ■負圧吸引 ■視認性 ■耐油 ■非粘着 ■防臭

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【ディスプレイ製造向け】インド産アンモニア水（29%）EG

興和株式会社

ディスプレイ製造業界では、高品質な製品を安定的に供給するために、エッチング工程における精密な制御が求められます。特に、微細なパターン形成においては、エッチング液の純度と均一性が重要であり、不純物の混入は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。エッチング工程における高い品質と安定性をサポートします。【活用シーン】・ディスプレイ基板のエッチング・フォトレジストの除去・洗浄工程【導入の効果】・高純度アンモニア水によるエッチング品質の向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体向け】アルカリ液対応 TSPポンプ BSモデル

株式会社タカトテクニカ

半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、アルカリ性の薬液は腐食性が高く、使用するポンプには高い耐薬品性が求められます。また、微量な薬液を正確に注入できる能力も不可欠です。当社のアルカリ液対応 TSPポンプ BSモデルは、耐腐食性に優れた材質を使用し、正確な薬液供給を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。【活用シーン】・半導体製造工程における薬液供給・薬液の微量定量注入が必要な場面・アルカリ性薬品を取り扱う場面【導入の効果】・薬液供給の精度向上・製品品質の安定化・ランニングコストの削減

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【半導体向け】MAGPICKERによる微粒子除去

株式会社サノテック

半導体製造工程では、微粒子の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、ケミカル材料を使用する工程では、配管内の微粒子が堆積し、配管詰まりを引き起こすことで、生産効率の低下や修繕費用の増加につながる可能性があります。MAGPICKERは、配管の上流で使用することで、カス・端材に含まれる磁性体と共に非磁性体も同時に約30パーセント回収することが確認されており、配管詰まりや沈殿層清掃頻度の軽減に貢献します。【活用シーン】・ケミカル材料製造工程・配管詰まりによる生産停止のリスクを低減したい場合・配管清掃や交換にかかる費用を削減したい場合【導入の効果】・配管清掃費用、修繕費の軽減・生産効率の向上・製品品質の安定化

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【半導体向け】小型高精度面積式流量計 NFMシリーズ

株式会社テクネ計測

半導体製造における薬液管理では、正確な流量測定が製品の品質と安全性を確保するために不可欠です。薬液の流量が不正確だと、ウェーハの洗浄やエッチング工程に悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品の不良につながる可能性があります。小型高精度面積式流量計 NFMシリーズは、これらの課題に対応します。【活用シーン】・薬液供給ライン・洗浄液の流量管理・エッチング液の流量制御【導入の効果】・正確な流量測定による品質向上・リークの低減による安全性の向上・設置の容易さによる作業効率の改善

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【電子業界向け】インド産アンモニア水（25%）

興和株式会社

電子業界のエッチングプロセスでは、精密な加工精度と高い製品品質が求められます。特に、半導体製造においては、アンモニア水の純度が製品の性能を左右する重要な要素となります。不純物の混入は、エッチングの均一性を損ない、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（25%）は、高純度原料と厳格な品質管理により、エッチングプロセスにおける高い信頼性と安定供給を実現します。【活用シーン】・半導体ウェーハのエッチング・プリント基板のエッチング・金属部品のエッチング【導入の効果】・高純度によるエッチング品質の向上・歩留まりの改善・安定供給による生産効率の向上

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【半導体向け】ガスケット流体適合表

株式会社ダイコー

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な汚染物質の混入が、製品の品質と性能に深刻な影響を与える可能性があります。特に、高純度を要求される環境下では、ガスケットからの微量成分の溶出や、流体との適合性が重要な課題となります。適切なガスケット選定は、製品の歩留まり向上、製造コスト削減に不可欠です。当社の「ガスケット流体適合表」は、半導体製造プロセスで使用される様々な流体に対応したガスケットの適合性を、◎・A・Xの3段階で評価し、直感的に判断できるように設計されています。これにより、最適なガスケットを迅速に選定し、高純度環境を維持することが可能になります。【活用シーン】・クリーンルーム内での配管・薬液供給ライン・純水製造設備【導入の効果】・異物混入リスクの低減・製品の品質向上・製造プロセスの安定化

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【半導体向け】アシッドスクラバー

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの清浄度が重要です。特に、サンプリングガス中の酸性物質は、装置の腐食や性能劣化を引き起こし、製品の品質に悪影響を与える可能性があります。アシッドスクラバーは、これらの問題を解決するために設計されました。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおけるガス分析・サンプリング装置の保護・酸素センサーの保護【導入の効果】・サンプリングガス中の酸性物質を効果的に除去・装置の腐食や性能劣化を抑制・製品の品質向上に貢献

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【電子業界向け】圧縮空気不純物簡易測定サービス

株式会社分析センター

電子業界において、製品の歩留まりを向上させるためには、製造環境の品質管理が重要です。特に、圧縮空気中の不純物は、製品の品質劣化や不良品の発生につながる可能性があります。歩留まりの低下は、コスト増につながるため、圧縮空気の品質管理は重要な課題です。当社の圧縮空気不純物簡易測定サービスは、圧縮空気中のオイルミスト、水分、一酸化炭素、二酸化炭素、酸素を測定し、品質管理をサポートします。これにより、歩留まりの向上に貢献します。【活用シーン】・電子部品製造工場・半導体製造工場・クリーンルーム環境【導入の効果】・圧縮空気品質の可視化・不良品発生率の低減・歩留まりの向上・コスト削減

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【半導体向け】バブルスクラバー

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの清浄化が不可欠です。特に、微量な汚染物質が製品の性能に大きな影響を与えるため、サンプリングガス中の酸性ガスや粒子状物質を効果的に除去することが求められます。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を除去し、サンプリングシステムの信頼性を高めるように設計されています。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおけるガス分析・クリーンルーム環境におけるガスモニタリング・サンプリングシステムの保護【導入の効果】・酸性ガスや粒子状物質によるセンサーやコンポーネントの損傷を防止・メンテナンス頻度の削減・システムの信頼性向上

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半導体向け｜ドライアイスブラスト洗浄

株式会社東洋ユニオン

半導体業界では、製造工程における微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密な電子部品や基板の洗浄においては、残留物のないクリーンな洗浄が求められます。従来の洗浄方法では、洗浄剤の残留や部品の損傷といった問題が発生する可能性があります。当社のドライアイスブラスト洗浄は、瞬時に気化するドライアイスを使用することで、2次汚染を発生させることなく、精密部品を傷つけずに洗浄できます。【活用シーン】・半導体製造装置の部品洗浄・電子基板の異物除去・精密金型の洗浄【導入の効果】・洗浄後の回収作業が不要になり、作業効率が向上・被洗浄物の分解・組立工程を削減・有害物質の排出を抑制し、環境負荷を低減

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【半導体向け】高い柔軟性と耐久性を両立。薬液ラインに好適RH27

株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）

【製品紹介】半導体製造工程では、製品品質を維持するために、高純度薬液の安定供給が求められます。特に、薬液の種類や使用条件によっては、ホースに対して高い耐薬品性・耐久性・柔軟性が必要となります。不適切なホースは、薬液漏洩や配管負荷、異物混入による製品不良につながる可能性があります。当社の高耐久PTFEコルゲーションホースは、細波状PTFE構造により、高い柔軟性と耐久性を両立。半導体製造装置の薬液供給ラインや可動配管部に対応します。【活用シーン】・半導体製造装置の薬液供給ライン・高純度薬液ライン・高圧・高温環境下での薬液輸送・腐食性薬液の取り扱い・クリーンルーム内配管・振動・可動を伴う配管部【導入の効果】・薬液漏洩リスク軽減・製品品質維持に貢献・配管負荷低減による設備保護・製造プロセスの安定化

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精密洗浄サービス(ウェット洗浄)

株式会社エム・エー・シーテクノロジー

株式会社エム・エー・シーテクノロジーの洗浄再生事業部では、『精密洗浄サービス(ウェット洗浄)』を行っております。半導体製造装置の部品を中心にこれまで培ってきた知識・経験を活かし、母材・生成物の状況に応じて薬剤を選定し、ウェット洗浄サービスを展開。また、イオン注入、スパッタ、CVD装置の構成部品を中心に精密洗浄を行い、拡散炉、エッチング、リソグラフィ工程の精密洗浄も対応可能です。【対象材質品目】 ■石英 ■セラミック ■ステンレス ■モリブデン ■タングステン等の各種金属や樹脂部品 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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耐プラズマ表面処理　CVDイットリア

テクノクオーツ株式会社

「CVDイットリア」は、耐プラズマ性に優れた透明性保護膜です。密着性が高い緻密膜ですので、プラズマ処理プロセス（F系、Cl系）で使用されるウィンドウ類の保護膜として有効です。

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バレルタイププラズマ処理装置　ＰＢシリーズ

株式会社電子技研

バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液（Ｗｅt）を使用すること無く行える装置です。良環境性（クリーンな作業環境、無廃液）と低ランニングコストを実現します。全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理（円筒形処理室／等方性プラズマ） ■多様なプロセス：Ａｓｈｉｎｇ（洗浄）、Ｅｔｃｈｉｎｇ、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応（半導体製造装置として使用可能） ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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【高周波】石英振動体型洗浄機　W-357-1MQG-SKC

本多電子株式会社

■石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄　薬液を半導体ウェーハに浸し、石英ガラスを通じて超音波振動を伝播させることで、接触部の薬液が振動して、その加速度によって表面の汚れを除去します。 ■半導体ウェーハにダメージが少ない、クリーンな洗浄　薬液との接液部に石英を用いることで、パッキン等ゴム材を使用した装置と比べてゴムの溶出や摩耗がなくクリーンな洗浄を実現します。 ■振動子冷却機能付き　振動子を気体(窒素等)で冷却することで周波数変動がなく安定した連続運転が可能です。また、冷却することで急激な温度変化がなく長寿命です。

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板状ワーク用ウェットブラスト装置（PFE300T/N,600N）

マコー株式会社

PFE 300T/N・600Nは、最大600mm幅の大判板材をインラインで全自動処理できるウェットブラスト装置です。独自の幅広ガンで上下両面を均一加工し、基板の現像残渣除去や樹脂・ガラス・フィルムの表面改質など幅広い用途に対応します。【特長】・・最大600mm幅の大判板材に対応し、高品質な処理が可能・独自の幅広ガンで、上下両面の均一に加工・ウェットブラストから水洗・水切りまでインラインで全自動処理

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『R*evolution V』

日本エム・ケー・エス株式会社

『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに情報提供することを可能としています。当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータのモニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートするための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。【特長】 ■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット ■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ ■最大6kWの出力 ■高い出力再現性 ■高精度出力コントロール＜1％ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【技術資料】半導体製造と品質管理に欠かせない分析法

メトロームジャパン株式会社

プロセス分析計での包括的な測定例を一覧で紹介

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プラズマ装置プラズマクリーナープラズマ洗浄装置カタログ

ヤマトマテリアル株式会社

当カタログは、ヤマトマテリアルが取り扱うプラズマ装置を掲載したカタログです。デモ機や、プラズマ装置のラインアップの他、「RIE プラズマ処理のしくみ」や、「DP プラズマ処置のしくみ」などもご紹介しています。当社では、プラズマドライクリーナー、エッチャー（エッチング）、アッシャー（アッシング）の処理目的に合ったプラズマ装置を、標準品以外にもカスタムメイドで対応。企画から提案まで一環してお引き受けしています。【掲載内容】 ■市場・用途 ■プラズマモードの説明 ■デモ機ラインアップ ■プラズマ装置ラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【半導体業界事例】レジスト液の這い上がり防止技術『ナノプロセス』

株式会社吉田ＳＫＴ

精密な基盤にレジスト液を塗布する装置部品への表面処理の事例をご紹介します。 ■ご相談フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、吸着治具にレジスト液が精密な基盤にレジスト液を塗布する工程でのご相談でした。 ■お悩みフィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、吸着治具にレジスト液が付着して、次に搬送される基板に治具のレジスト液がくっついてしまう問題が発生。基板へのレジスト液の付着は製品不良になるため、搬送治具の清掃頻度を増やさざるを得ず、生産性も上がりませんでした。 ■ご要望問題を解決するため当初はテフロンTMコーティングで試作しましたが、コーティングのわずかな表面の凹凸が薄い基板に模様として転写し、製品不良となってしまいました。問題解決には精密性とレジスト液の付着防止を両立させる表面処理が必要でした。【解決課題】・レジスト液の付着・清掃時間・コーティングの厚みムラ ■採用コーティング『ナノプロセス(R)　TC-10』 ※詳しい解決の内容はPDFをダウンロードしてご覧頂くかお問い合わせください。

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Milli-Q IQ 7005/10/15 微量元素分析タイプ

メルク株式会社ライフサイエンス（シグマアルドリッチジャパン合同会社）

当社で取り扱う、ICP-MS(極微量元素分析)、半導体洗浄用完全水銀フリー超純水製造装置『Milli-Q IQ 7005/10/15およびMilli-Q IQ 7000 微量元素分析タイプ』をご紹介いたします。当製品の精製ユニットでの超純水精製に加え、Milli-Q IQ Element によりホウ素を含む極微量の金属を極限まで除去。これにより、水由来のバックグラウンドを抑えられ、極微量元素分析において安定した結果を出すことができます。【特長】 ■極微量元素分析ワークフローに合わせた設計 ■コンタミネーション防止 ■メンテナンスの最小化 ■圧倒的な使いやすさ ■タッチスクリーンで簡単操作 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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フレキシブルジャケットヒーター

株式会社東京興業貿易商会

『フレキシブルジャケットヒーター』は、半導体配管の最適化アイテムとして、副生成物付着防止、供給ガスのヒーティングシステムです。多重絶縁構造のアース付きフレキシブル発熱エレメントは安全性が高く丈夫で、専用の温調＆モニターシステムにより、温度制御とモニターをします。また、ダウンタイムを減らし、配管の洗浄費用を低減。排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管に使用されています。【特長】 ■脱着が簡単 ■丈夫で長持ち ■最小径φ6.3mm ■フレキシブルで複雑な形状にもフィット ■クリーンルームClass10 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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エアー駆動ベローズポンプ FS-100HT2 『高温大流量移送』

株式会社イワキ

イワキエアー駆動ベローズポンプ FS-100HT2は、Max180℃、最大流量100L/minでの移送が可能となり、CARO（SPM）やH3PO4などの高温移送が必要な薬液に対して、当社従来製品と比較して約1.8倍の循環流量の向上が見込めます。【特長】 ●Max. 180℃、最大流量100L/minでの移送が可能。 ●循環流量の向上により、洗浄時間の増加を抑えることが可能です。 ●接液部には全てフッ素樹脂を採用し、ポンプ外周部もフッ素樹脂コーティングを施しています。 ●リークセンサを標準装備。 ●専用コントローラに接続することにより吐出量の制御・管理が容易に行えます。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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Siconnex(サイコネックス) 会社案内

Siconnex Japan(サイコネックスジャパン)合同会社

当社は、半導体チップ製造プロセス（ウェットエッチング・レジスト剝離・洗浄）装置の製造メーカーです。スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」やタンクシステムによるケミカル循環方式を採用した「BATCHSPRAY Solvent Autoload」など様々な製品を取り扱っております。ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。【Siconnex(サイコネックス)が選ばれる理由】 ■BATCHSPRAY技術に100％フォーカス ■水・排気・化学品を大幅に削減 ■コスト効率が高く、環境保全に対応したプロセス ■充実したサポート体制(サービス、パーツ、プロセス) ■無償の年次装置点検、トレーニング、電話サポート、及び初年度定期　メンテナンス等のパートナーシップアプローチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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均等排気バルブ　SERIES 67.0

VAT株式会社

'-パーティクルフリーな動作で均等排気を可能にする -卓越した圧力制御の実績 -サービスポート装備（USBでPCとControl Performance Analyzer (CPA)とソフトウェアの接続用）

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フッ素樹脂　ＥＸＬＯＮ−ＰＦＡチューブ

株式会社イワセ

耐熱性・耐薬品性・耐候性・非粘着性・電気絶縁性に優れ、半導体製造装置、化学プラント、理化学機器、食品工業機械、医療機器など様々な分野で使用可能です。耐熱性は260℃まで連続使用可能なPFA樹脂を使用したチューブです。ほとんどの薬品、溶剤に対して耐性があり不活性です。厳しい屋外での環境下でも、経年変化・劣化を起こしにくい特性を持っています。粘着物でも付着しにくく、簡単にはがせます。優れた電気的特性を持ち、プラスチックの中でも一番の絶縁抵抗があります。

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エアー駆動低脈動ベローズポンプ FLP 『ダンパー不要で低脈動』

株式会社イワキ

イワキエアー駆動低脈動ベローズポンプ FLPシリーズは、独自の駆動メカニズムで低脈動移送を実現したエアー駆動ベローズポンプ。従来品よりもエアー消費量を最大３０％も削減します。また、ダンパーの組み込みが不要で省スペース。配管作業もカンタンで高価な配管材を減らせるため、トータルコスト削減も可能にします。【特長】 ●脈動を打ち消す独特の駆動メカニズム。 ●枚葉式洗浄プロセスに適した優れた負荷追従性。 ●ダンパーが不要なので、装置の小型・軽量化に貢献します。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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電子関連向け製品・工事

井阪産業株式会社

井阪産業株式会社では、『電子関連向け製品・工事』を承っております。熟練のスタッフが自社工場でポンプのオーバーホール・洗浄(重金属可)を行う各種ポンプO/H・洗浄をはじめ、電子工業薬品については、高純度・機能性薬品、洗浄液、レジスト等幅広くご提供。また、高圧ガス・真空・冷却水・排気、薬液配管等、装置立上げに関わる付帯工事一式を行います。【取り扱い製品(一部)】 ■各種ポンプ O/H・洗浄 ■電子工業薬品 ■真空関連製品・消耗品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高純度リン酸

燐化学工業株式会社

当社では、一般リン酸より純度が高く、電子材料用のエッチング剤として使用されている「ELリン酸」や、微細な異物であるパーティクルを低減した「EL-Sリン酸」といった高純度リン酸を取り扱っております。電子材料エッチング用に好適です。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【ラインアップ】 ■ELリン酸　・荷姿：ポリエチレン缶（25kg）、ドラム缶（320kg）、ローリー（10t） ■EL-Sリン酸　・荷姿：ポリエチレン缶（25,30kg）、ドラム缶（300kg）、ローリー（10t） ※詳細については、お気軽にお問い合わせください。

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【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

つばさ真空理研株式会社

イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留まり向上と装置稼働時間のアップは半導体製造業者にとって至上命題といえます。最先端の製造ラインに導入された、イオンアシスト蒸着法による保護膜は、ドライエッチング装置部品の保護膜として、また、定期的メンテナンスにおける再生としてご利用いただけます。

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石英ガラス加工サービス

株式会社カワタ石英硝子

当社では、石英ガラス加工を取り扱っております。蓄積されたノウハウ、新しいテクニックで、高度なご要望にお応えし、先端産業を支える石英ガラス製品をご提供。他にも、ガラス溶接加工やサンドブラスト加工、半導体製造部品、特殊ガラスなどの取り扱いがございます。【石英ガラスのおもな性質】 ■透過性：様々な光をよく通す ■耐熱性：熱に強い ■高純度：不純物が極めて少ない ■耐酸性：薬品に侵されにくい ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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洗浄機『炭酸ガス　ドライステーション』

株式会社フェムテック

『炭酸ガス　ドライステーション』は、洗浄目的・基板材質に合わせて、ノズル番手選択する事による最適なパフォーマンスを提供する洗浄機です。ノズル番手を変更することにより、CO2粒径の可変やCO2密度の可変、 CO2噴出速度の可変を実現。また、N2パージノズルを採用することにより、加工可能時間まで1/6以下に短縮が可能です。【特長】 ■スラリー同時噴射で加工パワーの大幅アップ ■各液体不活性GASの同時噴射にて静電気破壊を防止 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高周波超音波洗浄機

新科産業有限会社

周波数500kHz、1MHzの投げ込み式超音波洗浄機です。既存の洗浄槽を利用できます。デジタル式超音波発振器を採用、出力を１０〜１００％の範囲で調整できます。高周波数超音波を用いるため、被洗浄物に対してダメージを与えません。出力：２５０Ｗ、５００Ｗ

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半導体製造プロセス用ゴアマイクロフィルトレーションメディア

日本ゴア合同会社

『ゴアマイクロフィルトレーションメディア』は、半導体製造やマイクロエレクトロニクス製造における高純度薬液のろ過に使用される、高性能な精密ろ過メンブレンです。特に、ウェットエッチング、洗浄(WEC)、CMP、リソグラフィなどの工程で、ナノパーティクルの除去によるクリーン性の向上が求められる場面に好適。ゴアのメンブレンは、厳しい品質が要求される用途において、安定した品質、性能、卓越したクリーン性を保証します。【特長】 ■高いクリーン度と低発塵性 ■高耐薬品性・高耐熱性 ■疎水性・親水性の両タイプを提供 ■均一なePTFE微細構造 ■公称孔径：＜10nm〜10μm ■ロールやロット間での安定した品質 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ウェットエッチング装置『BATCHSPRAY Autoload』

Siconnex Japan(サイコネックスジャパン)合同会社

この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。高い精度のタンク内における化学物質の混合、終点検出（EPD）、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムが含まれています。さらに、SicOzoneレジスト剥離を同じチャンバーに適用でき、これにより柔軟性が向上し、処理ステップを減らすこともできます。【特長】 ■最大300wphのスループット ■ウェットエッチング・レジスト剝離・洗浄プロセス向け ■2つのプロセスチャンバー ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積12m2未満 ■タンクシステムによるケミカルの循環再利用 ■SiC/GaNでプロセス実行可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上

エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは？

課題

微細構造への残渣付着

微細化が進む半導体デバイスでは、エッチング後の微細な溝や穴にエッチング副生成物やレジスト残渣が付着しやすく、除去が困難になっています。

洗浄液の浸透性不足

複雑な3次元構造や高アスペクト比構造において、洗浄液が奥深くまで浸透せず、洗浄ムラや未洗浄箇所が発生する問題があります。

洗浄時間の長期化

残渣の除去に時間がかかり、洗浄工程のサイクルタイムが長くなることで、生産性の低下やコスト増加を招いています。

ウェハー表面へのダメージ

強力な洗浄方法を用いると、ウェハー表面の微細構造や材料にダメージを与え、デバイスの信頼性を損なう可能性があります。

対策

高機能洗浄液の開発

残渣への親和性が高く、かつウェハー表面へのダメージが少ない、特殊な界面活性剤や溶剤を配合した洗浄液を開発・適用します。

超音波・マイクロバブル洗浄の最適化

洗浄液中に超音波やマイクロバブルを発生させ、物理的な力を利用して微細な残渣を剥離・除去する技術を、洗浄液や周波数と組み合わせて最適化します。

プラズマ洗浄技術の導入

低ダメージかつ高効率なプラズマを利用して、化学的・物理的に残渣を除去する技術を、エッチングプロセスに合わせて最適化します。

洗浄プロセス制御の高度化

洗浄温度、時間、圧力、流量などのパラメータを精密に制御し、洗浄効果を最大化するとともに、ウェハーへのダメージを最小限に抑えます。

対策に役立つ製品例

特殊界面活性剤配合洗浄液

微細構造の隙間にも浸透しやすく、エッチング副生成物やレジスト残渣を効率的に溶解・分散させることで、洗浄時間を短縮し、洗浄ムラを低減します。

高周波超音波洗浄装置

微細な残渣を効果的に剥離するのに適した高周波超音波を発生させ、洗浄液の浸透性を高め、物理的な力で残渣を除去します。

低ダメージプラズマ洗浄システム

ウェハー表面にダメージを与えにくい低エネルギーのプラズマを利用し、化学反応と物理的な効果で残渣を効率的に除去します。

インライン洗浄プロセスモニタリングシステム

洗浄液の濃度や温度、残渣の有無などをリアルタイムで監視し、洗浄条件を最適化することで、常に高い洗浄効率を維持します。

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検査・測定装置

材料

自動化・ITソリューション

製造装置

エッチング後の洗浄効率向上とは？課題と対策・製品を解説

エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは？

各社の製品

エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上

エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは？

​課題

微細構造への残渣付着

洗浄液の浸透性不足

洗浄時間の長期化

ウェハー表面へのダメージ

​対策

高機能洗浄液の開発

超音波・マイクロバブル洗浄の最適化

プラズマ洗浄技術の導入

洗浄プロセス制御の高度化

​対策に役立つ製品例

特殊界面活性剤配合洗浄液

高周波超音波洗浄装置

低ダメージプラズマ洗浄システム

インライン洗浄プロセスモニタリングシステム

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

課題

対策

対策に役立つ製品例