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半導体製造装置・材料

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洗浄プロセスの自動化とは?課題と対策・製品を解説

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レジスト剥離・洗浄における洗浄プロセスの自動化とは?

半導体製造プロセスにおいて、露光後に不要となった感光性樹脂(レジスト)を除去し、ウェハー表面を清浄に保つための洗浄プロセスを、人の手を介さずに自動で行う技術のことです。これにより、生産性の向上、品質の安定化、コスト削減、作業者の負担軽減を目指します。

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精密機器業界では、製品の品質を維持するために、部品の徹底的な洗浄が求められます。特に、微細な部品や複雑な形状の部品においては、細部まで確実に汚れを除去することが重要です。不十分な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。電解超音波洗浄機クリピカエースVは、金型の隅々まで洗浄液が浸透し、手作業では難しい汚れを短時間で除去します。

【活用シーン】
・精密機器部品の洗浄
・金型のガス焼け、樹脂汚れ、ゴムや離型剤のこびりつき、薄錆の除去

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・洗浄時間の短縮
・作業効率の改善

【精密機器向け】電解超音波洗浄機クリピカエースV

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レジスト剥離・洗浄における洗浄プロセスの自動化

レジスト剥離・洗浄における洗浄プロセスの自動化とは?

半導体製造プロセスにおいて、露光後に不要となった感光性樹脂(レジスト)を除去し、ウェハー表面を清浄に保つための洗浄プロセスを、人の手を介さずに自動で行う技術のことです。これにより、生産性の向上、品質の安定化、コスト削減、作業者の負担軽減を目指します。

課題

洗浄ムラによる歩留まり低下

手作業や旧式の自動化装置では、洗浄液の供給ムラやノズル位置のばらつきにより、レジストの剥離残しやウェハー表面への異物付着が発生し、歩留まりが低下するリスクがあります。

洗浄液・薬液の過剰使用とコスト増

経験や勘に頼った洗浄条件設定では、必要以上に洗浄液や薬液を使用し、製造コストの増加を招く可能性があります。

作業者のスキル依存と品質のばらつき

洗浄プロセスの熟練度によって仕上がりに差が生じ、製品の品質にばらつきが出る可能性があります。また、危険な薬液を取り扱う作業者の負担も大きいです。

リアルタイムでのプロセス監視・制御の困難さ

洗浄中の微細な変化をリアルタイムで把握し、即座に最適な条件へ調整することが難しく、問題発生時の迅速な対応が遅れることがあります。

​対策

高精度洗浄ヘッドの採用

均一な洗浄液供給と精密なノズル制御が可能な洗浄ヘッドを導入することで、洗浄ムラを徹底的に排除し、歩留まりを向上させます。

洗浄条件の最適化と自動制御

AIやセンサーデータを活用し、レジストの種類やウェハーの状態に合わせて最適な洗浄条件を自動で設定・制御することで、薬液の無駄を削減しコストを最適化します。

標準化された自動化システムの導入

誰が担当しても一定の品質を保てる、標準化された自動洗浄装置を導入することで、作業者のスキル依存をなくし、品質の安定化と作業者の負担軽減を実現します。

インライン計測・フィードバックシステム

洗浄プロセス中にウェハー表面の状態をリアルタイムで計測し、その結果を洗浄条件にフィードバックするシステムを構築することで、異常の早期発見と迅速な対応を可能にします。

​対策に役立つ製品例

精密洗浄ユニット

微細なノズル配置と流量制御により、ウェハー全面に均一な洗浄液を供給し、レジスト残渣や異物を効果的に除去します。

インテリジェント洗浄制御ソフトウェア

過去の洗浄データやセンサー情報を分析し、最適な洗浄時間、薬液濃度、温度などを自動で算出・適用します。

自動搬送・洗浄一体型システム

ウェハーの搬送から洗浄、乾燥までを一貫して自動で行い、人の介在を最小限に抑え、生産効率と品質安定性を向上させます。

プロセス状態監視センサー

洗浄液の温度、流量、pH、ウェハー表面の異物などをリアルタイムで検知し、異常発生時にアラートを発したり、自動で洗浄条件を調整したりします。

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