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プロセス安定性の確保とは？課題と対策・製品を解説

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ウェーハの研磨におけるプロセス安定性の確保とは？

半導体製造におけるウェーハ研磨プロセスは、回路パターン形成に必要な平坦度と表面品質を実現するために不可欠です。このプロセスの安定性を確保することは、歩留まり向上、製造コスト削減、そして最終的な半導体デバイスの性能と信頼性に直結するため、極めて重要視されています。

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【半導体製造向け】セラミックベアリング・樹脂ベアリング

千代田交易株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの高速化が求められています。高速化のためには、装置の耐久性向上、メンテナンス頻度の削減が重要です。金属ベアリングは、腐食や摩耗、グリスによる汚染といった問題があり、これが高速化の妨げになることがあります。当社のセラミックベアリング・樹脂ベアリングは、耐腐食性、耐摩耗性、ノーグリスといった特長により、半導体製造装置の高速化に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置・FPD製造装置・半導体検査装置【導入の効果】・メンテナンス回数の低減・クリーンな環境の実現・装置の長寿命化

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【半導体向け】コリオリ式マスフローメーター

日本スターテクノ株式会社

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの正確な流量制御が不可欠です。特に、成膜、エッチング、CVDなどの工程では、ガスの流量が製品の品質や歩留まりに直接影響します。不適切なガス制御は、ウェーハの不良や装置の停止につながる可能性があります。ALICAT コリオリ式マスフローメーター／コントローラーは、高圧、低流量、様々な特性のガスを正確に測定し、半導体製造プロセスにおけるガス制御の課題を解決します。【活用シーン】・成膜工程におけるガス流量制御・エッチング工程におけるガス流量制御・CVD工程におけるガス流量制御・スパッタリング工程におけるガス流量制御【導入の効果】・高品質な半導体製品の安定供給・歩留まりの向上・製造コストの削減・プロセスの最適化

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【半導体向け】露点計モニターボックス TKZH001Y

株式会社テクネ計測

半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、空気中の水分量を厳密に管理することが重要です。微量の水分でも、製品の歩留まりや性能に悪影響を及ぼす可能性があります。露点計モニターボックス TKZH001Yは、露点計の表示器として、半導体製造環境における清浄度管理をサポートします。【活用シーン】・クリーンルーム内の露点監視・製造装置への露点計接続・乾燥空気供給ラインの水分管理【導入の効果】・露点計の設置と運用が容易になります。・清浄度管理に必要な情報を一元管理できます。・製品の品質安定に貢献します。

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【半導体製造向け】温度調節大容量タンク

Aggreko Japan(アグレコジャパン)株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの品質と歩留まりを向上させるために、精密な温度管理が不可欠です。特に、ウェーハ製造やクリーンルーム環境においては、冷却水の温度変動が製品の品質に直接影響を与えるため、安定した冷却能力が求められます。温度管理が不十分な場合、製品の不良率増加や製造効率の低下につながる可能性があります。BUF2000は、冷水・温水システムにおける流量調整や容量不足を解消する高性能バッファタンクです。【活用シーン】・半導体製造工場の冷却水供給システム・クリーンルームの空調システム・精密機器の冷却【導入の効果】・冷却水供給の安定化・温度管理精度の向上・製造プロセスの効率化

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【半導体向け】平面度解説動画

株式会社松井製作所

半導体業界の微細加工においては、高い精度が求められます。特に、ウェーハや基板の平面度は、製造プロセス全体の品質を左右する重要な要素です。平面度のわずかなずれが、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平面度」の基本を解説しています。平面度の定義、使用例、図面上での使われ方、使用する際の注意点について解説します。平面度に関する理解を深めることで、微細加工における品質向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における品質管理・微細加工プロセスの改善・設計段階での平面度指示【導入の効果】・平面度に関する知識の習得・加工精度の向上・不良率の低減

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【半導体製造向け】HIWIN ウエハロードポート

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの効率化と品質向上のために、ウエハの搬送における自動化が求められています。特に、クリーンな環境下での正確な搬送は、製品の歩留まりに大きく影響します。HIWIN ウエハロードポートは、8インチ・12インチのFOUP/FOSBに対応し、Class 1のクリーン度を誇ることで、これらの課題を解決します。【活用シーン】・リソグラフィ、エッジング、CVD、PVD、洗浄、検査、パッケージング工程でのウエハ搬送【導入の効果】・自動化による生産効率の向上・クリーン環境の維持による歩留まり向上・安全性の確保

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【半導体製造向け】インライン水硬度計

エンバイロ・ビジョン株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける超純水の水質管理が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、超純水中の微量な硬度成分は、製品の性能低下や製造装置のトラブルを引き起こす可能性があります。インライン水硬度計「テストマートECO＆2000」は、超純水の硬度をリアルタイムで監視し、水質管理の最適化を可能にします。正確な硬度測定により、薬注量の最適化、コスト削減にも貢献します。【活用シーン】・超純水製造プロセスにおける水質管理・イオン交換樹脂やRO膜の性能評価・製造装置の保護【導入の効果】・超純水の水質を安定化・製造プロセスの効率化・コスト削減

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【半導体向け】小型高精度面積式流量計 NFMシリーズ

株式会社テクネ計測

半導体製造における薬液管理では、薬液の正確な流量制御が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。薬液の流量が不適切であると、ウェーハの洗浄不良やエッチングの不均一性など、様々な問題が発生し、最終製品の性能に悪影響を及ぼす可能性があります。小型高精度面積式流量計 NFMシリーズは、これらの課題に対し、精密な流量測定と盤への容易な組み込みで貢献します。【活用シーン】・薬液供給ライン・洗浄液供給ライン・各種ガス供給ライン【導入の効果】・薬液流量の精密なモニタリングによる品質向上・盤内スペースの有効活用・RoHS指令対応による環境負荷低減

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【半導体向け】精密空調機PAUシリーズ

株式会社アピステ

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高度な製造技術においては、温度のわずかな変動が歩留まりや性能に大きな影響を与える可能性があります。精密な温度管理は、製品の信頼性を確保し、不良品の発生を抑制するために不可欠です。アピステの精密空調機PAUシリーズは、温度±0.1℃、湿度±0.5％RHという超高精度な制御を実現し、半導体製造における厳しい温湿度管理のニーズに応えます。大型空調機と比較して、短時間かつ低コストでの導入が可能です。【活用シーン】・クリーンルーム・検査室・製造ライン・研究開発施設【導入の効果】・温度・湿度の安定化による歩留まり向上・製品品質の安定化・製造プロセスの最適化・省エネルギー化

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【半導体製造向け】高精度AC電源 AFCシリーズ

穂高電子株式会社

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりの向上が常に求められています。製造プロセスにおける電源の不安定さは、デバイスの誤動作や性能劣化を引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。AFCシリーズは、±1％の高精度な電圧制御により、安定した電源環境を提供し、半導体製造装置の安定稼働をサポートします。これにより、歩留まりの向上に貢献します。【活用シーン】 * 半導体製造装置への電源供給 * 品質評価試験 * 海外向け製品の評価試験【導入の効果】 * 歩留まりの向上 * 製品の信頼性向上 * 安定した製造プロセスの実現【特長】 * ±1％の高精度な電圧制御 * 幅広い出力電力範囲（単相：10kVA~150kVA、三相：10kVA~800kVA） * 45～65Hzの周波数調整可能、オプションで100／120／200／240／400Hzにも対応 * 7インチまたは10インチのタッチスクリーンを標準搭載 * RS-232およびRS-485通信に対応

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【半導体向け】リアルタイム生産最適化スケジューラー

NEXTOPT

半導体業界では、歩留まりの向上が収益性に直結します。製造プロセスのわずかな遅延や不具合が、大きな損失につながる可能性があります。特に、多品種少量生産や高度な技術が求められる半導体製造においては、計画の最適化が重要です。リアルタイム生産最適化スケジューラーは、工程進捗や突発的な変更に柔軟に対応し、計画の精度を高めます。これにより、歩留まりの向上、納期遅延の削減、コスト削減に貢献します。【活用シーン】・製造作業者の急な欠勤による計画変更・多能工化における人員配置の最適化・スキルマップを活用した人員配置【導入の効果】・計画変更にかかる工数の削減・納期遅延リスクの低減・生産性の向上

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【電子機器向け】シート状被覆熱電対

石川産業株式会社

電子機器業界では、基板の温度管理が製品の性能と信頼性を左右します。特に、CPUなどの発熱源に近い部分や、基板と他の部品との隙間など、正確な温度計測が難しい箇所での温度管理が重要です。温度計測の精度が低いと、製品の誤動作や故障につながる可能性があります。当社のシート状被覆熱電対は、基板の温度を正確に計測し、製品の品質向上に貢献します。【活用シーン】・CPU表面・基板と他の部品との隙間・電子機器の温度試験【導入の効果】・正確な温度計測による製品の品質向上・故障リスクの低減・製品開発における温度設計の最適化

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【半導体製造向け】パイロットレギュレータ｜P-200

株式会社フクダ

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な圧力制御が製品の品質を左右します。特に、ウェーハ製造や各種コーティング工程においては、圧力のわずかな変動が製品の歩留まりや性能に大きな影響を与える可能性があります。パイロットレギュレータP-200は、微圧から低圧までの幅広い圧力範囲で、安定した圧力供給を実現し、半導体製造プロセスにおける品質向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程での圧力制御・各種コーティング工程での圧力調整・微圧制御が必要な実験・研究【導入の効果】・圧力の再現性向上による品質安定化・歩留まりの向上・微圧制御による高精度なプロセス管理

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【半導体製造向け】加湿装置 Model me-40DP

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な湿度管理が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、ウェーハ製造やクリーンルーム環境においては、湿度のわずかな変動が、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。Model me-40DPは、高精度な湿度制御を実現し、半導体製造プロセスにおける安定した環境を提供します。これにより、歩留まりの向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程・クリーンルーム環境・研究開発部門【導入の効果】・歩留まりの向上・製品品質の安定化・製造コストの削減

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【半導体製造向け】円筒度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、高い精度が求められます。円筒度は、ウェーハの製造プロセスにおいて、その品質を左右する重要な要素の一つです。円筒度の理解は、ウェーハの形状精度を確保し、歩留まり向上に貢献します。この動画では、円筒度の定義、使用例、図面上での使われ方、測定方法、注意点について解説します。【活用シーン】・ウェーハ製造における形状精度管理・半導体製造プロセスの品質向上・円筒度に関する基礎知識の習得【導入の効果】・ウェーハ製造における品質問題の理解促進・円筒度に関する知識習得による業務効率化・半導体製造技術者のスキルアップ

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【半導体ウェーハ向け】超耐熱シリコンゴムシート

会津ゴム工業株式会社

半導体業界では、ウェーハ製造における高温環境下での耐久性が求められます。特に、熱処理工程や研磨工程においては、高い耐熱性と安定した性能が重要です。不適切な材料の使用は、ウェーハの品質低下や製造効率の悪化につながる可能性があります。当社の超耐熱シリコンゴムシートは、300℃の耐熱性を持ち、ウェーハ製造工程をサポートします。【活用シーン】・ウェーハ搬送用治具・高温環境下での緩衝材・研磨工程での保護材【導入の効果】・300℃の耐熱性により、高温環境下での使用が可能・RoHS対応品で、環境負荷を低減・カット対応により、用途に合わせた形状で提供可能

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【半導体製造向け】キャパシタ搭載電圧/周波数安定化電源

日本蓄電器工業株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な変動が製品の歩留まりに大きく影響します。特に、製造装置への電力供給は、電圧や周波数のわずかな変動や瞬停によって、装置の誤作動やデータの損失を引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のキャパシタ搭載電圧/周波数安定化電源は、電圧や周波数の安定供給を実現し、瞬停時のバックアップにも対応することで、半導体製造における歩留まり改善に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置への電源供給・クリーンルーム内の精密機器への電源供給・検査装置への安定電源供給【導入の効果】・歩留まりの向上・製造プロセスの安定化・装置のダウンタイム削減

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【半導体向け】空冷式フルードチラー（150kW）

Aggreko Japan(アグレコジャパン)株式会社

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、冷却能力の安定性と信頼性が不可欠です。温度管理が不十分な場合、製品の不良や性能低下を引き起こす可能性があります。Aggrekoの空冷式フルードチラーは、水または水-グリコール冷却用に設計されており、-12°C ～ +15°Cの幅広い温度範囲で精密な温度制御を実現します。屋外設置が可能で、半導体製造プロセスにおける冷却ニーズに対応します。【活用シーン】・半導体製造工場の冷却・クリーンルームの温度管理・製造装置の冷却【導入の効果】・安定した温度管理による製品品質の向上・製造プロセスの効率化・柔軟なレンタルによるコスト最適化

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【電子機器向け】MBW Spider

株式会社テクネ計測

電子機器業界における基板評価では、温度と湿度の正確な管理が製品の品質と信頼性を左右します。特に、恒温恒湿槽内での温度分布の均一性は、正確な評価結果を得るために不可欠です。温度や湿度のムラは、基板の性能評価に悪影響を及ぼし、誤った結果を導く可能性があります。MBW Spiderは、恒温恒湿槽内での温度センサーの配置を最適化し、温度分布の正確な測定を可能にします。これにより、基板評価の信頼性を向上させます。【活用シーン】・基板の温度特性評価・電子部品の信頼性試験・製品の品質管理【導入の効果】・恒温槽内の温度分布を可視化・評価結果の信頼性向上・校正作業の効率化

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【半導体製造向け】Smart iMATEによる設備保全DX

タック株式会社（イビデングループ）

半導体製造業界では、歩留まりの向上が収益性に直結する重要な課題です。製造設備の故障や不具合は、歩留まりを低下させる大きな要因となります。特に、高度な技術が求められる半導体製造においては、設備の安定稼働が不可欠です。Smart iMATEは、設備の保全記録をAIが分析し、故障の予兆を早期に発見することで、計画的なメンテナンスを可能にし、歩留まりの改善に貢献します。【活用シーン】・半導体製造ラインにおける設備の予防保全・故障発生時の原因究明と復旧時間の短縮・保全業務の標準化と技術継承【導入の効果】・設備の安定稼働による歩留まり向上・メンテナンスコストの削減・技術者の負担軽減

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【電子部品向け】TEKHNEPort 40-LDPT

株式会社テクネ計測

電子部品業界において、製品の信頼性は非常に重要です。湿度管理は、製品の性能を左右する重要な要素の一つであり、特に精密な電子部品においては、わずかな湿度の変化が製品の故障や性能劣化につながる可能性があります。TEKHNEPort 40-LDPTは、高精度な露点測定により、製造プロセスにおける湿度管理をサポートし、製品の信頼性向上に貢献します。【活用シーン】 * 電子部品製造工程における湿度管理 * 品質管理部門での露点測定 * 研究開発部門での環境試験【導入の効果】 * 製品の品質向上 * 不良品の削減 * 顧客からの信頼獲得

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【半導体製造装置向け】RedHawk Linux

コンカレント日本株式会社

半導体製造装置の分野では、高度な制御と精密な動作が求められます。製造プロセスにおけるわずかな遅延やエラーは、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。リアルタイムOSは、これらの課題に対し、正確なタイミング制御と高い信頼性を提供することで、製造効率の向上に貢献します。RedHawk Linuxは、5マイクロ秒未満のイベント応答を保証し、半導体製造装置のミッションクリティカルな環境に安全性を提供します。【活用シーン】・半導体製造装置の精密制御・ウェーハ搬送システムのリアルタイム制御・検査装置の高速データ処理【導入の効果】・製造プロセスの安定化・歩留まりの向上・装置の高性能化

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【半導体向け】筐体冷却用空冷サーモ・クーラー

日本ブロアー株式会社

半導体業界では、製造プロセスにおける歩留まりの向上が重要な課題です。特に、精密な電子部品を扱う環境においては、温度管理が製品の品質を左右します。温度上昇は、半導体デバイスの性能劣化や故障を引き起こし、歩留まりを低下させる要因となります。筐体冷却用空冷サーモ・クーラーは、雰囲気の良くない所での密閉筐体に最適です。【活用シーン】・半導体製造装置・検査装置・研究開発用機器【導入の効果】・温度管理による歩留まり向上・装置の安定稼働・製品の信頼性向上

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【半導体向け】高低温エアシリンダ

藤倉コンポジット株式会社

半導体製造業界の高低温環境下では、温度変化に強く、精密な動作が可能なエアシリンダが求められます。特に、ウェーハ搬送やチャンバー内の精密な位置決めにおいては、エアシリンダの耐久性と正確性が、生産効率と製品品質を左右する重要な要素となります。当社の高低温エアシリンダは、-60℃～200℃の温度範囲で使用可能で、真空環境下での精密駆動を実現します。【活用シーン】・真空チャンバー内の精密位置決め・高低温環境下での押圧制御駆動・ウェーハ搬送・高温・低温環境下での部品移動【導入の効果】・高耐久性による製品寿命の向上・温度変化に強い安定した動作・精密な位置決めによる歩留まり向上

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【半導体向け】シート状被覆熱電対で高温管理

石川産業株式会社

半導体製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、高温環境下での正確な温度管理が不可欠です。特に、CPUやその他の電子部品は、動作中に高温にさらされるため、温度管理の精度が製品の性能に大きく影響します。温度管理が不十分な場合、部品の故障や性能劣化を引き起こす可能性があります。当社のシート状被覆熱電対は、CPU表面や基板との隙間など、狭いスペースでも容易に温度測定が可能です。【活用シーン】・CPUの温度測定・基板の温度測定・高温環境下の電子部品の温度測定【導入の効果】・正確な温度測定による製品品質の向上・故障リスクの低減・製品開発における温度設計の最適化

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【精密機器工場向け】蒸気式加湿器『SU』

ピーエス株式会社

精密機器工場では、製品の品質を維持するために、湿度管理が非常に重要です。湿度不足による静電気の発生は、不良品の発生につながり、生産効率を低下させる要因となります。蒸気式加湿器『SU』は、クリーンな蒸気で精密機器を最適な湿度環境に保ち、不良品の削減に貢献します。【活用シーン】・クリーンルーム・精密機器製造ライン・検査室【導入の効果】・不良品の削減・歩留まりの向上・製品品質の安定化

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【半導体向け】熱電対関連製品

石川産業株式会社

半導体業界における精密計測では、温度管理が製品の品質と性能を左右する重要な要素です。特に、製造プロセスにおける微細な温度変化の監視は、歩留まりの向上に不可欠です。熱電対は、このような精密な温度計測に広く利用されていますが、サプライチェーンの不安定さや、製品の選定の難しさから、最適な製品の調達に課題を抱える企業も少なくありません。石川産業の熱電対関連製品は、多様なニーズに対応し、安定供給を実現することで、半導体製造における温度管理の課題解決を支援します。【活用シーン】・半導体製造プロセスの温度管理・研究開発における精密温度計測・品質管理における温度測定【導入の効果】・安定した製品供給による生産効率の向上・多様な製品ラインナップによる最適な製品選定・専門知識に基づいた提案による課題解決

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【半導体製造向け】カートリッジヒーター

株式会社京都電熱

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、加熱ムラや温度の不安定さが、製品の品質に直接影響を及ぼす可能性があります。当社のカートリッジヒーターは、Φ3.1～Φ30までの外径サイズに対応し、精密な温度管理を実現します。バランス巻きや熱電対内蔵型も対応可能です。【活用シーン】・半導体製造装置・精密金型加熱・各種実験装置【導入の効果】・精密な温度制御による品質向上・多様なサイズへの対応・高い耐久性

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【半導体向け】計測におけるトレーサビリティ

ビカ・ジャパン株式会社

半導体業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、計測の正確性が不可欠です。特に、微細加工技術が求められる分野においては、計測結果のトレーサビリティが重要となります。不確かな計測は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。本資料は、計測におけるトレーサビリティ、不確かさ、校正の重要性など、基礎知識を分かりやすく解説します。【活用シーン】・半導体製造プロセスの品質管理・研究開発における計測データの信頼性確保・製造現場での計測器の適切な管理【導入の効果】・計測データの信頼性向上・製品の品質向上・歩留まりの改善

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【半導体製造向け】多管式熱交換器

臼井国際産業株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの安定性と製品の品質を維持するために、冷却システムの効率的な運用が不可欠です。特に、高性能な半導体デバイスの製造においては、発熱量の増加に対応できる冷却能力が求められます。不適切な冷却は、デバイスの性能低下や故障を引き起こす可能性があります。当社の多管式熱交換器は、高い熱交換特性と耐振動性を備え、半導体製造における冷却ニーズに応えます。【活用シーン】・半導体製造装置の冷却・クリーンルーム内の温度管理・冷却水の温度調整【導入の効果】・冷却効率の向上・装置の安定稼働・製品品質の向上

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【半導体向け】光干渉測定器『NCG』

マーポス株式会社

半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、ウェーハや薄膜の正確な膜厚測定が不可欠です。特に、微細化が進む中で、膜厚のわずかなずれが製品の性能に大きな影響を与えるため、高精度な測定が求められます。光干渉測定器『NCG』は、光干渉技術により、ガラス、プラスチック、シリコンウェハー等、異なる材質の厚みを管理するように設計されています。【活用シーン】・ウェーハ製造工程における膜厚測定・薄膜形成プロセスの品質管理・半導体デバイスの製造における品質保証【導入の効果】・目的の公差内の加工精度を保証・サイクルタイムを短縮・コントロールされた安定した生産を維持

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【半導体向け】コンテナ型冷却塔による精密冷却ソリューション

Aggreko Japan(アグレコジャパン)株式会社

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、高密度化が進む中で、発熱量の増加に対応できる、精密な冷却能力が求められます。冷却能力が不足すると、装置の誤作動や製品不良を引き起こす可能性があります。当社のコンテナ型冷却塔は、ISO規格20ftコンテナに収容されており、設置場所を選ばず、迅速な導入が可能です。パワフルな冷却性能で、半導体製造における精密冷却ニーズに応えます。【活用シーン】・半導体製造工場・クリーンルーム・データセンター【導入の効果】・安定した温度管理による歩留まり向上・迅速な設置による早期の事業開始・省スペース化によるコスト削減

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【半導体製造向け】FXシリーズ電動流量調節弁

株式会社ケイヒン

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおける流体の精密な制御が不可欠です。特に、薬液や純水などの流量制御は、製品の歩留まりや品質に直接影響します。流量のわずかな変動が、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。FXシリーズ電動流量調節弁は、4-20mAの信号により微細な流量調節が可能で、半導体製造プロセスにおける厳格な流量管理を実現します。【活用シーン】・薬液供給ライン・純水供給ライン・冷却水制御・各種ガス供給ライン【導入の効果】・流量の安定化による製品品質の向上・歩留まりの改善・プロセスの最適化によるコスト削減

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【半導体向け】小型高精度面積式流量計 NFMシリーズ

株式会社テクネ計測

半導体製造における薬液管理では、正確な流量測定が製品の品質と安全性を確保するために不可欠です。薬液の流量が不正確だと、ウェーハの洗浄やエッチング工程に悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品の不良につながる可能性があります。小型高精度面積式流量計 NFMシリーズは、これらの課題に対応します。【活用シーン】・薬液供給ライン・洗浄液の流量管理・エッチング液の流量制御【導入の効果】・正確な流量測定による品質向上・リークの低減による安全性の向上・設置の容易さによる作業効率の改善

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【半導体製造向け】極低温サーモクーラー

日本ブロアー株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や特殊な材料を使用する工程においては、温度のわずかな変動が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。冷却能力が不足している場合、熱による歪みや変質が発生し、不良品の増加につながるリスクがあります。サーモクーラー VLシリーズは、-50℃までの極低温環境を精密に制御し、半導体製造における冷却ニーズに応えます。【活用シーン】 * 半導体ウェーハの冷却 * 電子部品の冷却 * 精密機器の温度管理【導入の効果】 * 製品の品質向上 * 歩留まりの改善 * 製造プロセスの安定化

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【半導体製造向け】ガルバニ式低価格酸素濃度計

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製品の品質を維持するために、クリーンルーム内の環境管理が重要です。特に、酸素濃度は、製品の酸化や劣化に影響を与えるため、厳密な管理が求められます。不適切な酸素濃度管理は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。Model 201LC/2001LCは、ppmレベルおよびパーセントレベルでの酸素濃度測定が可能であり、クリーンルームの酸素濃度管理に貢献します。【活用シーン】・クリーンルーム内の酸素濃度監視・製造プロセスにおける酸素濃度のモニタリング・ガス供給ラインの酸素濃度測定【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・製造コストの削減

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【半導体製造向け】真円度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、ウェーハの製造において、高い精度が求められます。真円度は、ウェーハの品質を左右する重要な要素の一つです。真円度の定義や図面での使われ方を理解することは、ウェーハの製造プロセスにおいて不可欠です。この動画では、真円度の基本を解説し、ウェーハ製造における品質管理に役立つ情報を提供します。【活用シーン】・ウェーハ製造における真円度の理解・図面上の真円度指示の解釈・真円度測定の基礎知識【導入の効果】・ウェーハ製造における品質向上・不良品の削減・製造プロセスの効率化

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【半導体向け】高温炉・真空炉用グラファイトトレー

東京炭素工業株式会社

半導体業界では、ウェーハの品質を維持するために、高温環境下での正確な搬送が求められます。特に、熱処理工程においては、ウェーハを均一に加熱し、歪みを防ぐことが重要です。不適切なトレーの使用は、ウェーハの破損や性能劣化につながる可能性があります。当社のグラファイトトレーは、耐熱性、耐薬品性に優れたグラファイト素材を使用し、ウェーハを安全に搬送します。【活用シーン】・高温炉内でのウェーハ搬送・真空炉内でのウェーハ搬送・熱処理工程におけるウェーハの保持【導入の効果】・ウェーハの破損リスクを低減・熱処理工程の効率化・製品の品質向上

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CMT工程の過酸化水素を全自動で測定【プロセス分析計技術資料】

メトロームジャパン株式会社

ケミカル・メカニカル・ポリシャ«CMP»は、シリコンウェハ表面を滑らかにしたり研磨したりするために使用される主要な技術の1つです。一般的には、この工程では、脱イオン水、CMPスラリー(コロイド状シリコンやアルミナ液体分散体)、および過酸化水素(強酸化剤)を一定の濃度と比率で混合する工程です。過酸化水素は経時的に劣化するため、CMP工程を効率よく繰り返し行うためには、その濃度をオンラインで常時監視する必要があります。このように、CMPスラリーが常に規格内であることを確認し、必要に応じて混合物を調整することで、製品の歩留まりを抑制します。

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12インチ対応ウェハーワックス貼付装置『TEC-1001MB』

株式会社くまさんメディクス

『TEC-1001MB』は、高品質な研削・研磨工程を実現するウェハーワックス貼り付け専用の装置です。ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能で、デバイスへのダメージも抑制できます。加熱・冷却機構の適正化と高剛性な機構設計により、均一な温度分布や安定した荷重分布を実現し、精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぎます。【特長】 ■ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能 ■デバイスへのダメージも抑制できる ■均一な温度分布や安定した荷重分布を実現 ■精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぐ ■12インチウェハー対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【低コスト】高性能のPI静電チャック

株式会社ApolloTech

静電チャックに関する開発力を基にしてコストを減らし、合理的な価格で高品質の静電チャックを販売しております。更に、顧客の要請がある場合は静電チャックのカストマイズも行っております。サムスンディスプレイ、LGディスプレイ、BOE等の世界的な大手企業の工場に納品をした経験があり、今も持続的に取引を行っております。静電チャックはディスプレイに限らず、色んな産業の工程に適用可能な装備部品です。どうか気軽くご連絡ください。

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超音波単成分濃度計（半導体） FUD-1 Model-13

富士工業株式会社

メンテナンス性や高精度インライン計測などのFUD-1 Model-13のメリットはそのままに、半導体製造プロセス用として小型セル型発信器を特長としたモデルとなります。薬液中の超音波伝播速度（音速）は薬液濃度及び温度によって変化する特性があり、本濃度計は薬液中の音速・温度を高精度に測定します。この音速・温度情報を基に内臓データロムに記録した検量線により濃度を演算し、出力します。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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SOIの試作・受託生産サービス（ウェハの研削・研磨・接合）

セーレンアドバンストマテリアルズ株式会社

SOIウェハーとは酸化膜上にシリコン単結晶層を形成した構造のシリコンウェハーで、高速LSI、低消費LSI、パワーデバイス、MEMSなど幅広い分野で使われております。当社は一般的なSOI以外にもCavity SOIウェーハやThick-BOX SOIウェーハと言った特殊なSOIウェーハも提供しております。＜対応範囲＞ ■対応サイズ：6"8" ■活性層膜厚：100nm～200μm ■面内厚み精度：薄膜±15nm～　厚膜±0.5μm ■BOX層厚：最大20μm 【各種SOIウェハー特長例】 ■MEMSデバイス製造の工数削減 ■歩留率の向上 ■ダイシング後の後工程を削減 ■高耐圧な半導体パワーデバイスを早期実現 ※詳しくPDFダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。

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熱電対付きシリコンウェーハ　AW-0505K-A-TS1-ANP

安立計器株式会社

『AW-0505K-A-TS1-ANP』は、引張荷重200g以上という高強度な熱接点固定部を実現し、さらに熱電対の経年変化による精度ズレの影響を最小限に抑えることで再現性を向上させた熱電対付シリコンウェーハです。 5インチウェーハに、アルミナ繊維スリーブを被覆した熱電対センサを5本取り付けたタイプで、熱電対センサの被覆に使用しているアルミナ繊維スリーブは柔軟で軽量なため、手軽に取り扱えます。【特長】 ■アルミナ繊維スリーブを被覆 ■精度ズレの影響を最小限に抑えられている ■高強度な熱接点固定部を実現　 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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簡易スラリー供給装置　P65

株式会社テクノメイト

スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です。【特徴】 ○タンク容量：125L アイボリー塩ビ製 ○ダイアフラムポンプ：10リットル毎分 ○供給エア：85リットル毎分 ○電源容量：AC100V 5A

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【エアロフィックス導入事例】A社様

株式会社ナノテム

A社様は、レーザーアニールでワークに光をあてるためピント合わせが難しく、ワークを浮かせたままレーザーをあてたいが、従来チャックではしっかり固定できず困っていました。そこで『エアロフィックス』を導入。精密、安定した浮上が可能になりピント合わせがラクになりました。また、細かい気孔による部分吸着が威力を発揮し、作業効率が大きく向上しました。【事例概要】 ■導入先：A社様 ■用途：浮上 ■活用：中小型ディスプレイのエキシマレーザーアニール装置の浮上台として ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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非接触型薬液濃度モニタ『CS-900』

株式会社堀場アドバンスドテクノ

『CS-900』は、半導体製造工程における厳しい薬液濃度管理に対応するため安定した測定精度、作業の安全性を考慮した独自の配管保持構造、コンパクトデザインなど現場ニーズに好適な高機能化を果たしている非接触型薬液濃度モニタです。 PFA配管へダイレクトに外付けする独自のセンサ構造によりコンタミリスクが"ゼロ"に。また、センサ取り付け時における配管施工等が不要になり、薬液漏れなどの事故のリスク削除をもたらします。【特長】 ■光ファイバーを使用しない光学設計とアンプ・センサの小型化により　設置レイアウトの自由度が向上 ■完全非接触かつ高安定性を実現 ■薬液（20℃～80℃）のダイレクト・安定測定を実現 ■簡単取り付け、取り外しが可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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【採用事例】グラナイトの表面粗さをコントロール

株式会社関ケ原製作所

当社のハンドラップ技術により、各種ニーズに応じた好適な石製品の表面粗さに仕上げます。精度面の表面粗さについて、通常のラップ面仕上げRa0.8に対し、平面精度を維持したまま面粗し仕上げRa5.0から鏡面仕上げRa0.4まで幅広く対応いたします。【採用事例】 ■極粗面仕上　ガラス基盤用吸着テーブル・表面を粗くしてガラス基盤剥離時の帯電を抑え、ガラスの破損を防止・平面精度を維持し、面粗し加工・現地追加工にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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導入機『ベローズ式直進導入機　手動タイプ(ILD-M)』

入江工研株式会社

『ベローズ式直線導入機』は、高性能の溶接ベローズを内蔵し、長ストロークを可能にした直線方向に駆動するタイプの導入機です。基板用ステージの昇降やウェハーの搬送などにご使用いただいております。他にも、自動式のものもご用意しているので、ニーズに合わせてご利用ください。【特長】 ■入江工研製の溶接ベローズを内蔵し、ストロークを30～200mmまで規格化 ■駆動部シールに溶接ベローズを採用しているため、超高真空の領域で使用可能 ■機能中心に考え極めてシンプルに構成しているので、小型・軽量 ■ベーキング温度250℃に耐える設計 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ダミー・モニター用シリコンウエーハ

株式会社セミテック

当社では、ダミー・モニター用シリコンウエーハを取り扱っています。研磨された製品は、さまざまなレベルで実施されるチェツク工程をへて、高精度を保証されます。先進の技術を駆使した測定機器やクリーンルームなど、環境管理にも万全の設備を完備することが、品質アップにつながるのです。信頼性の高い品質保証体制の提供により、はじめて高平坦度、清浄度を極限まで向上させ、安定供給を実現することができます。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【ダミー、モニターの区別】 ■ダミーウエーハ　・口径、厚さ以外のスペックは不問、又、ダスト不問か、　　ダストフリーはご指定ください。(ウエーハ特性は納品時に表示します) ■モニターウエーハ　・別紙仕様明細書にてご指定ください。　　ただし、比抵抗と厚さの範囲の拡大を極力お願いいたします。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ウェーハの研磨におけるプロセス安定性の確保

ウェーハの研磨におけるプロセス安定性の確保とは？

課題

研磨レートのばらつき

ウェーハ表面の研磨レートが均一でなく、箇所によって研磨量に差が生じ、平坦度や膜厚制御に影響を与える。

表面欠陥の発生

研磨中に微細な傷、異物付着、スライスマークなどの表面欠陥が発生し、デバイスの歩留まり低下や信頼性問題を引き起こす。

研磨液・スラリーの劣化

研磨液やスラリーの組成変化、異物混入、pH変動などにより、研磨性能が低下し、プロセスの一貫性が失われる。

装置の摩耗・劣化

研磨パッドやプランジャーなどの装置部品が摩耗・劣化することで、研磨圧や均一性が変化し、プロセス結果にばらつきが生じる。

対策

精密なプロセスパラメータ制御

研磨圧、回転数、研磨時間、研磨液流量などのパラメータをリアルタイムで監視・調整し、最適な条件を維持する。

高度な表面検査と分析

研磨後のウェーハ表面を光学顕微鏡やAFMなどで高精度に検査し、欠陥の種類や発生頻度を分析して原因を特定する。

研磨液・スラリーの品質管理

研磨液・スラリーの組成、粒度分布、pHなどを厳密に管理し、定期的な交換や補充を行うことで品質を一定に保つ。

装置部品の定期的なメンテナンス

研磨パッドの交換、装置のクリーニング、校正などを定期的に実施し、装置の性能を維持・最適化する。

対策に役立つ製品例

プロセス監視・制御システム

研磨プロセス中の各種パラメータをリアルタイムで取得・分析し、異常を検知して自動で補正を行うことで、安定した研磨レートと均一性を実現する。

高精度表面欠陥検査装置

微細な表面欠陥を高い解像度で検出し、欠陥の種類や位置を特定することで、問題の早期発見と原因究明を支援する。

研磨液・スラリー品質管理キット

研磨液・スラリーの主要成分や物性を迅速かつ正確に測定し、品質基準からの逸脱を早期に検知することで、安定した研磨性能を維持する。

研磨パッド寿命管理・交換システム

研磨パッドの使用状況を記録・分析し、最適な交換時期を予測することで、常に最適な研磨性能を発揮できる状態を維持する。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

プロセス安定性の確保とは？課題と対策・製品を解説

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

ウェーハの研磨におけるプロセス安定性の確保とは？

各社の製品

ウェーハの研磨におけるプロセス安定性の確保

ウェーハの研磨におけるプロセス安定性の確保とは？

​課題

研磨レートのばらつき

表面欠陥の発生

研磨液・スラリーの劣化

装置の摩耗・劣化

​対策

精密なプロセスパラメータ制御

高度な表面検査と分析

研磨液・スラリーの品質管理

装置部品の定期的なメンテナンス

​対策に役立つ製品例

プロセス監視・制御システム

高精度表面欠陥検査装置

研磨液・スラリー品質管理キット

研磨パッド寿命管理・交換システム

課題

対策

対策に役立つ製品例