プロセス安定性の確保とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの正確な流量制御が不可欠です。特に、成膜、エッチング、CVDなどの工程では、ガスの流量が製品の品質や歩留まりに直接影響します。不適切なガス制御は、ウェーハの不良や装置の停止につながる可能性があります。ALICAT コリオリ式マスフローメーター／コントローラーは、高圧、低流量、様々な特性のガスを正確に測定し、半導体製造プロセスにおけるガス制御の課題を解決します。

【活用シーン】
・成膜工程におけるガス流量制御
・エッチング工程におけるガス流量制御
・CVD工程におけるガス流量制御
・スパッタリング工程におけるガス流量制御

【導入の効果】
・高品質な半導体製品の安定供給
・歩留まりの向上
・製造コストの削減
・プロセスの最適化

半導体業界では、ウェーハの品質を維持するために、高温環境下での正確な搬送が求められます。特に、熱処理工程においては、ウェーハを均一に加熱し、歪みを防ぐことが重要です。不適切なトレーの使用は、ウェーハの破損や性能劣化につながる可能性があります。当社のグラファイトトレーは、耐熱性、耐薬品性に優れたグラファイト素材を使用し、ウェーハを安全に搬送します。

【活用シーン】
・高温炉内でのウェーハ搬送
・真空炉内でのウェーハ搬送
・熱処理工程におけるウェーハの保持

【導入の効果】
・ウェーハの破損リスクを低減
・熱処理工程の効率化
・製品の品質向上

半導体業界では、製造プロセスにおける歩留まりの向上が重要な課題です。特に、精密な電子部品を扱う環境においては、温度管理が製品の品質を左右します。温度上昇は、半導体デバイスの性能劣化や故障を引き起こし、歩留まりを低下させる要因となります。筐体冷却用空冷サーモ・クーラーは、雰囲気の良くない所での密閉筐体に最適です。

【活用シーン】
・半導体製造装置
・検査装置
・研究開発用機器

【導入の効果】
・温度管理による歩留まり向上
・装置の安定稼働
・製品の信頼性向上

半導体業界では、歩留まりの向上が収益性に直結します。製造プロセスのわずかな遅延や不具合が、大きな損失につながる可能性があります。特に、多品種少量生産や高度な技術が求められる半導体製造においては、計画の最適化が重要です。リアルタイム生産最適化スケジューラーは、工程進捗や突発的な変更に柔軟に対応し、計画の精度を高めます。これにより、歩留まりの向上、納期遅延の削減、コスト削減に貢献します。

【活用シーン】
・製造作業者の急な欠勤による計画変更
・多能工化における人員配置の最適化
・スキルマップを活用した人員配置

【導入の効果】
・計画変更にかかる工数の削減
・納期遅延リスクの低減
・生産性の向上

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な圧力制御が製品の品質を左右します。特に、ウェーハ製造や各種コーティング工程においては、圧力のわずかな変動が製品の歩留まりや性能に大きな影響を与える可能性があります。パイロットレギュレータP-200は、微圧から低圧までの幅広い圧力範囲で、安定した圧力供給を実現し、半導体製造プロセスにおける品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・ウェーハ製造工程での圧力制御
・各種コーティング工程での圧力調整
・微圧制御が必要な実験・研究

【導入の効果】
・圧力の再現性向上による品質安定化
・歩留まりの向上
・微圧制御による高精度なプロセス管理

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高度な製造技術においては、温度のわずかな変動が歩留まりや性能に大きな影響を与える可能性があります。精密な温度管理は、製品の信頼性を確保し、不良品の発生を抑制するために不可欠です。アピステの精密空調機PAUシリーズは、温度±0.1℃、湿度±0.5％RHという超高精度な制御を実現し、半導体製造における厳しい温湿度管理のニーズに応えます。大型空調機と比較して、短時間かつ低コストでの導入が可能です。

【活用シーン】
・クリーンルーム
・検査室
・製造ライン
・研究開発施設

【導入の効果】
・温度・湿度の安定化による歩留まり向上
・製品品質の安定化
・製造プロセスの最適化
・省エネルギー化

半導体製造における薬液管理では、正確な流量測定が製品の品質と安全性を確保するために不可欠です。薬液の流量が不正確だと、ウェーハの洗浄やエッチング工程に悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品の不良につながる可能性があります。小型高精度面積式流量計 NFMシリーズは、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・洗浄液の流量管理
・エッチング液の流量制御

【導入の効果】
・正確な流量測定による品質向上
・リークの低減による安全性の向上
・設置の容易さによる作業効率の改善

半導体製造における薬液管理では、薬液の正確な流量制御が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。薬液の流量が不適切であると、ウェーハの洗浄不良やエッチングの不均一性など、様々な問題が発生し、最終製品の性能に悪影響を及ぼす可能性があります。小型高精度面積式流量計 NFMシリーズは、これらの課題に対し、精密な流量測定と盤への容易な組み込みで貢献します。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・洗浄液供給ライン
・各種ガス供給ライン

【導入の効果】
・薬液流量の精密なモニタリングによる品質向上
・盤内スペースの有効活用
・RoHS指令対応による環境負荷低減

半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、空気中の水分量を厳密に管理することが重要です。微量の水分でも、製品の歩留まりや性能に悪影響を及ぼす可能性があります。露点計モニターボックス TKZH001Yは、露点計の表示器として、半導体製造環境における清浄度管理をサポートします。

【活用シーン】
・クリーンルーム内の露点監視
・製造装置への露点計接続
・乾燥空気供給ラインの水分管理

【導入の効果】
・露点計の設置と運用が容易になります。
・清浄度管理に必要な情報を一元管理できます。
・製品の品質安定に貢献します。

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な湿度管理が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、ウェーハ製造やクリーンルーム環境においては、湿度のわずかな変動が、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。Model me-40DPは、高精度な湿度制御を実現し、半導体製造プロセスにおける安定した環境を提供します。これにより、歩留まりの向上に貢献します。

【活用シーン】
・ウェーハ製造工程
・クリーンルーム環境
・研究開発部門

【導入の効果】
・歩留まりの向上
・製品品質の安定化
・製造コストの削減

半導体製造業界では、製造プロセスの品質と歩留まりを向上させるために、精密な温度管理が不可欠です。特に、ウェーハ製造やクリーンルーム環境においては、冷却水の温度変動が製品の品質に直接影響を与えるため、安定した冷却能力が求められます。温度管理が不十分な場合、製品の不良率増加や製造効率の低下につながる可能性があります。BUF2000は、冷水・温水システムにおける流量調整や容量不足を解消する高性能バッファタンクです。

【活用シーン】
・半導体製造工場の冷却水供給システム
・クリーンルームの空調システム
・精密機器の冷却

【導入の効果】
・冷却水供給の安定化
・温度管理精度の向上
・製造プロセスの効率化

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や特殊な材料を使用する工程においては、温度のわずかな変動が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。冷却能力が不足している場合、熱による歪みや変質が発生し、不良品の増加につながるリスクがあります。サーモクーラー VLシリーズは、-50℃までの極低温環境を精密に制御し、半導体製造における冷却ニーズに応えます。

【活用シーン】
* 半導体ウェーハの冷却
* 電子部品の冷却
* 精密機器の温度管理

【導入の効果】
* 製品の品質向上
* 歩留まりの改善
* 製造プロセスの安定化

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、加熱ムラや温度の不安定さが、製品の品質に直接影響を及ぼす可能性があります。当社のカートリッジヒーターは、Φ3.1～Φ30までの外径サイズに対応し、精密な温度管理を実現します。バランス巻きや熱電対内蔵型も対応可能です。

【活用シーン】
・半導体製造装置
・精密金型加熱
・各種実験装置

【導入の効果】
・精密な温度制御による品質向上
・多様なサイズへの対応
・高い耐久性

半導体製造業界では、製造プロセスの高速化が求められています。高速化のためには、装置の耐久性向上、メンテナンス頻度の削減が重要です。金属ベアリングは、腐食や摩耗、グリスによる汚染といった問題があり、これが高速化の妨げになることがあります。当社のセラミックベアリング・樹脂ベアリングは、耐腐食性、耐摩耗性、ノーグリスといった特長により、半導体製造装置の高速化に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造装置
・FPD製造装置
・半導体検査装置

【導入の効果】
・メンテナンス回数の低減
・クリーンな環境の実現
・装置の長寿命化

半導体製造業界では、製造プロセスの効率化と品質向上のために、ウエハの搬送における自動化が求められています。特に、クリーンな環境下での正確な搬送は、製品の歩留まりに大きく影響します。HIWIN ウエハロードポートは、8インチ・12インチのFOUP/FOSBに対応し、Class 1のクリーン度を誇ることで、これらの課題を解決します。

【活用シーン】
・リソグラフィ、エッジング、CVD、PVD、洗浄、検査、パッケージング工程でのウエハ搬送

【導入の効果】
・自動化による生産効率の向上
・クリーン環境の維持による歩留まり向上
・安全性の確保

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、冷却能力の安定性と信頼性が不可欠です。温度管理が不十分な場合、製品の不良や性能低下を引き起こす可能性があります。Aggrekoの空冷式フルードチラーは、水または水-グリコール冷却用に設計されており、-12°C ～ +15°Cの幅広い温度範囲で精密な温度制御を実現します。屋外設置が可能で、半導体製造プロセスにおける冷却ニーズに対応します。

【活用シーン】
・半導体製造工場の冷却
・クリーンルームの温度管理
・製造装置の冷却

【導入の効果】
・安定した温度管理による製品品質の向上
・製造プロセスの効率化
・柔軟なレンタルによるコスト最適化

半導体業界の微細加工においては、高い精度が求められます。特に、ウェーハや基板の平面度は、製造プロセス全体の品質を左右する重要な要素です。平面度のわずかなずれが、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平面度」の基本を解説しています。平面度の定義、使用例、図面上での使われ方、使用する際の注意点について解説します。平面度に関する理解を深めることで、微細加工における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造における品質管理
・微細加工プロセスの改善
・設計段階での平面度指示

【導入の効果】
・平面度に関する知識の習得
・加工精度の向上
・不良率の低減

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりの向上が常に求められています。製造プロセスにおける電源の不安定さは、デバイスの誤動作や性能劣化を引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。AFCシリーズは、±1％の高精度な電圧制御により、安定した電源環境を提供し、半導体製造装置の安定稼働をサポートします。これにより、歩留まりの向上に貢献します。

【活用シーン】
* 半導体製造装置への電源供給
* 品質評価試験
* 海外向け製品の評価試験

【導入の効果】
* 歩留まりの向上
* 製品の信頼性向上
* 安定した製造プロセスの実現

【特長】
* ±1％の高精度な電圧制御
* 幅広い出力電力範囲（単相：10kVA~150kVA、三相：10kVA~800kVA）
* 45～65Hzの周波数調整可能、オプションで100／120／200／240／400Hzにも対応
* 7インチまたは10インチのタッチスクリーンを標準搭載
* RS-232およびRS-485通信に対応

半導体製造業界では、製品の品質を維持するために、クリーンルーム内の環境管理が重要です。特に、酸素濃度は、製品の酸化や劣化に影響を与えるため、厳密な管理が求められます。不適切な酸素濃度管理は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。Model 201LC/2001LCは、ppmレベルおよびパーセントレベルでの酸素濃度測定が可能であり、クリーンルームの酸素濃度管理に貢献します。

【活用シーン】
・クリーンルーム内の酸素濃度監視
・製造プロセスにおける酸素濃度のモニタリング
・ガス供給ラインの酸素濃度測定

【導入の効果】
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
・製造コストの削減

半導体業界、特にウェーハ製造においては、真空環境の精密な制御が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。ウェーハ表面の異物付着を防ぎ、均一な処理を行うためには、安定した真空度を維持することが不可欠です。真空度が不安定な場合、ウェーハの品質劣化や製造プロセスの遅延につながる可能性があります。NVC830.3シリーズは、閉ループ真空制御により、ウェーハ製造プロセスにおける真空環境を精密に制御し、安定した品質と高い生産性を実現します。

【活用シーン】
・ウェーハ搬送
・エッチングプロセス
・成膜プロセス

【導入の効果】
・真空度の安定化による歩留まり向上
・プロセスの最適化による生産性向上
・製品の品質向上

半導体業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、計測の正確性が不可欠です。特に、微細加工技術が求められる分野においては、計測結果のトレーサビリティが重要となります。不確かな計測は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。本資料は、計測におけるトレーサビリティ、不確かさ、校正の重要性など、基礎知識を分かりやすく解説します。

【活用シーン】
・半導体製造プロセスの品質管理
・研究開発における計測データの信頼性確保
・製造現場での計測器の適切な管理

【導入の効果】
・計測データの信頼性向上
・製品の品質向上
・歩留まりの改善

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な変動が製品の歩留まりに大きく影響します。特に、製造装置への電力供給は、電圧や周波数のわずかな変動や瞬停によって、装置の誤作動やデータの損失を引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のキャパシタ搭載 電圧/周波数安定化電源は、電圧や周波数の安定供給を実現し、瞬停時のバックアップにも対応することで、半導体製造における歩留まり改善に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造装置への電源供給
・クリーンルーム内の精密機器への電源供給
・検査装置への安定電源供給

【導入の効果】
・歩留まりの向上
・製造プロセスの安定化
・装置のダウンタイム削減

半導体業界では、ウェーハ製造における高温環境下での耐久性が求められます。特に、熱処理工程や研磨工程においては、高い耐熱性と安定した性能が重要です。不適切な材料の使用は、ウェーハの品質低下や製造効率の悪化につながる可能性があります。当社の超耐熱シリコンゴムシートは、300℃の耐熱性を持ち、ウェーハ製造工程をサポートします。

【活用シーン】
・ウェーハ搬送用治具
・高温環境下での緩衝材
・研磨工程での保護材

【導入の効果】
・300℃の耐熱性により、高温環境下での使用が可能
・RoHS対応品で、環境負荷を低減
・カット対応により、用途に合わせた形状で提供可能

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、高い精度が求められます。円筒度は、ウェーハの製造プロセスにおいて、その品質を左右する重要な要素の一つです。円筒度の理解は、ウェーハの形状精度を確保し、歩留まり向上に貢献します。この動画では、円筒度の定義、使用例、図面上での使われ方、測定方法、注意点について解説します。

【活用シーン】
・ウェーハ製造における形状精度管理
・半導体製造プロセスの品質向上
・円筒度に関する基礎知識の習得

【導入の効果】
・ウェーハ製造における品質問題の理解促進
・円筒度に関する知識習得による業務効率化
・半導体製造技術者のスキルアップ

半導体製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、高温環境下での正確な温度管理が不可欠です。特に、CPUやその他の電子部品は、動作中に高温にさらされるため、温度管理の精度が製品の性能に大きく影響します。温度管理が不十分な場合、部品の故障や性能劣化を引き起こす可能性があります。当社のシート状被覆熱電対は、CPU表面や基板との隙間など、狭いスペースでも容易に温度測定が可能です。

【活用シーン】
・CPUの温度測定
・基板の温度測定
・高温環境下の電子部品の温度測定

【導入の効果】
・正確な温度測定による製品品質の向上
・故障リスクの低減
・製品開発における温度設計の最適化

半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、ウェーハや薄膜の正確な膜厚測定が不可欠です。特に、微細化が進む中で、膜厚のわずかなずれが製品の性能に大きな影響を与えるため、高精度な測定が求められます。光干渉測定器『NCG』は、光干渉技術により、ガラス、プラスチック、シリコンウェハー等、異なる材質の厚みを管理するように設計されています。

【活用シーン】
・ウェーハ製造工程における膜厚測定
・薄膜形成プロセスの品質管理
・半導体デバイスの製造における品質保証

【導入の効果】
・目的の公差内の加工精度を保証
・サイクルタイムを短縮
・コントロールされた安定した生産を維持

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおける流体の精密な制御が不可欠です。特に、薬液や純水などの流量制御は、製品の歩留まりや品質に直接影響します。流量のわずかな変動が、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。FXシリーズ 電動流量調節弁は、4-20mAの信号により微細な流量調節が可能で、半導体製造プロセスにおける厳格な流量管理を実現します。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・純水供給ライン
・冷却水制御
・各種ガス供給ライン

【導入の効果】
・流量の安定化による製品品質の向上
・歩留まりの改善
・プロセスの最適化によるコスト削減

半導体業界における精密計測では、温度管理が製品の品質と性能を左右する重要な要素です。特に、製造プロセスにおける微細な温度変化の監視は、歩留まりの向上に不可欠です。熱電対は、このような精密な温度計測に広く利用されていますが、サプライチェーンの不安定さや、製品の選定の難しさから、最適な製品の調達に課題を抱える企業も少なくありません。石川産業の熱電対関連製品は、多様なニーズに対応し、安定供給を実現することで、半導体製造における温度管理の課題解決を支援します。

【活用シーン】
・半導体製造プロセスの温度管理
・研究開発における精密温度計測
・品質管理における温度測定

【導入の効果】
・安定した製品供給による生産効率の向上
・多様な製品ラインナップによる最適な製品選定
・専門知識に基づいた提案による課題解決

電子機器業界では、基板の温度管理が製品の性能と信頼性を左右します。特に、CPUなどの発熱源に近い部分や、基板と他の部品との隙間など、正確な温度計測が難しい箇所での温度管理が重要です。温度計測の精度が低いと、製品の誤動作や故障につながる可能性があります。当社のシート状被覆熱電対は、基板の温度を正確に計測し、製品の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・CPU表面
・基板と他の部品との隙間
・電子機器の温度試験

【導入の効果】
・正確な温度計測による製品の品質向上
・故障リスクの低減
・製品開発における温度設計の最適化

半導体製造業界では、ウェーハの製造において、高い精度が求められます。真円度は、ウェーハの品質を左右する重要な要素の一つです。真円度の定義や図面での使われ方を理解することは、ウェーハの製造プロセスにおいて不可欠です。この動画では、真円度の基本を解説し、ウェーハ製造における品質管理に役立つ情報を提供します。

【活用シーン】
・ウェーハ製造における真円度の理解
・図面上の真円度指示の解釈
・真円度測定の基礎知識

【導入の効果】
・ウェーハ製造における品質向上
・不良品の削減
・製造プロセスの効率化

電子機器業界における基板評価では、温度と湿度の正確な管理が製品の品質と信頼性を左右します。特に、恒温恒湿槽内での温度分布の均一性は、正確な評価結果を得るために不可欠です。温度や湿度のムラは、基板の性能評価に悪影響を及ぼし、誤った結果を導く可能性があります。MBW Spiderは、恒温恒湿槽内での温度センサーの配置を最適化し、温度分布の正確な測定を可能にします。これにより、基板評価の信頼性を向上させます。

【活用シーン】
・基板の温度特性評価
・電子部品の信頼性試験
・製品の品質管理

【導入の効果】
・恒温槽内の温度分布を可視化
・評価結果の信頼性向上
・校正作業の効率化

半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、高密度化が進む中で、発熱量の増加に対応できる、精密な冷却能力が求められます。冷却能力が不足すると、装置の誤作動や製品不良を引き起こす可能性があります。当社のコンテナ型冷却塔は、ISO規格20ftコンテナに収容されており、設置場所を選ばず、迅速な導入が可能です。パワフルな冷却性能で、半導体製造における精密冷却ニーズに応えます。

【活用シーン】
・半導体製造工場
・クリーンルーム
・データセンター

【導入の効果】
・安定した温度管理による歩留まり向上
・迅速な設置による早期の事業開始
・省スペース化によるコスト削減

半導体製造業界では、歩留まりの向上が収益性に直結する重要な課題です。製造設備の故障や不具合は、歩留まりを低下させる大きな要因となります。特に、高度な技術が求められる半導体製造においては、設備の安定稼働が不可欠です。Smart iMATEは、設備の保全記録をAIが分析し、故障の予兆を早期に発見することで、計画的なメンテナンスを可能にし、歩留まりの改善に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造ラインにおける設備の予防保全
・故障発生時の原因究明と復旧時間の短縮
・保全業務の標準化と技術継承

【導入の効果】
・設備の安定稼働による歩留まり向上
・メンテナンスコストの削減
・技術者の負担軽減

半導体製造業界では、製造プロセスにおける超純水の水質管理が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、超純水中の微量な硬度成分は、製品の性能低下や製造装置のトラブルを引き起こす可能性があります。インライン水硬度計「テストマートECO＆2000」は、超純水の硬度をリアルタイムで監視し、水質管理の最適化を可能にします。正確な硬度測定により、薬注量の最適化、コスト削減にも貢献します。

【活用シーン】
・超純水製造プロセスにおける水質管理
・イオン交換樹脂やRO膜の性能評価
・製造装置の保護

【導入の効果】
・超純水の水質を安定化
・製造プロセスの効率化
・コスト削減

『AW-0505K-A-TS1-ANP』は、引張荷重200g以上という
高強度な熱接点固定部を実現し、さらに熱電対の経年変化による
精度ズレの影響を最小限に抑えることで再現性を向上させた
熱電対付シリコンウェーハです。

5インチウェーハに、アルミナ繊維スリーブを被覆した
熱電対センサを5本取り付けたタイプで、
熱電対センサの被覆に使用しているアルミナ繊維スリーブは
柔軟で軽量なため、手軽に取り扱えます。

【特長】
■アルミナ繊維スリーブを被覆
■精度ズレの影響を最小限に抑えられている
■高強度な熱接点固定部を実現　

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

メンテナンス性や高精度インライン計測などのFUD-1 Model-13のメリットはそのままに、半導体製造プロセス 用として小型セル型発信器を特長としたモデルとなります。
薬液中の超音波伝播速度（音速）は薬液濃度及び温度によって変化する特性があり、本 濃度計は薬液中の音速・温度を高精度に測定します。
この音速・温度情報を基に内臓データロムに記録した検量線により濃度を演算し、出力します。

詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

当社は、液晶ディスプレイの普及に伴い、本格的にクリーンルーム内に
おける液晶パネルの搬送台車の製造を主軸に事業展開を行っております。

お客様の様々なニーズにお応えするため、1台1台をオーダーメイドで、
設計から組立まで請け負います。

また、液晶ディスプレイに加え、半導体ウェハー、PDP用の搬送装置、
窒素保管庫など様々な分野への納入実績があります。

【製品紹介】
＜ガラス基板用搬送台車(第6世代)＞
■製品仕様
　・大型ガラス基板一枚反転用（搬送可）
　・テーブル上下ストローク（調節可）
　・テーブル水平・垂直反転機構（反転角度調節可）
　・搬送先装置とのドッキング機構無し
■外形寸法：H1,600×W1,600×D2,000

※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

『RJ-CA型』は、自然冷媒(CO2)を採用した半導体製造装置
向けチラーです。

超小型キャンドポンプ内蔵・荏原のインバータ制御技術により
省スペース・省エネ化をはかることが可能。

また、±0.1℃の温度制御が可能となりプロセスの安定性向上
及び歩留まり向上へ貢献します。

【特長】
■自然冷媒(CO2)採用(GWP＝1)
■精密温度制御
■省エネ
■省スペース

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

セミバック株式会社より、「TCゲージ」のご案内です。

株式会社BBS金明では、半導体関連装置である『Fine Surfaceシリーズ』を
取り扱っております。

数多くの実績に基づいたシリコンウェーハエッジ研磨のベストセラー機
「E-150/200/300」をはじめ、お客様のプロセスに高い信頼性を与え、
貢献する「E-300」や「E-300UCS」をご用意。

用途に合わせてお選びいただけます。

【ラインアップ】
■E-150/200/300
■E-300
■E-300UCS

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

純水昇圧ユニットの導入により、
純水供給圧の不足や変動の問題を解消！安定したプロセス処理を行うことができます。

純水の安定供給は、デバイス生産において、品質と歩留まりに影響する重要な要素です。

この昇圧機能は、帯電防止ユニットや純水加温ユニットへも組み込み可能。設置スペースを縮小できます。

【特長】
■常時監視によるフィードバック機能により、安定した圧力に制御。
■ベアリングのない磁気浮上遠心型のレビトロニクスポンプの採用で、
高い耐久性能を実現。
■脈動のない安定した供給を実現。
■幅広い供給流量に対応する製品モデルをご用意。
■供給先装置の通信仕様に対応。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、半導体製造装置用治具を取り扱っております。

ウェハーの半導体製造工程の中で製造装置内の変位量(静電容量)。
温度・湿度といったパラメータを無線モジュールを用いて情報収集。

装置内の搬送路を移動しつつ測定を行いデーターを無線にて送ります。
ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。

【パラメータ】
■変位(静電容量)
■加速度
■温度・湿度
■バッテリー駆動

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

A社様は、レーザーアニールでワークに光をあてるためピント合わせが
難しく、ワークを浮かせたままレーザーをあてたいが、
従来チャックではしっかり固定できず困っていました。

そこで『エアロフィックス』を導入。
精密、安定した浮上が可能になりピント合わせがラクになりました。

また、細かい気孔による部分吸着が威力を発揮し、作業効率が大きく
向上しました。

【事例概要】
■導入先：A社様
■用途：浮上
■活用：中小型ディスプレイのエキシマレーザーアニール装置の浮上台として

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当カタログは、ファインセラミックス等の各種産業機械部品を取り扱う
橋本理研工業株式会社の「半導体製造装置用セラミックス製品」を
掲載している製品カタログです。

ウェハ製造プロセスで用いられる「ウェハポリシングプレート」や
「SiC製ウェハポリッシングプレート」の他、
様々な製品を掲載しています。

【掲載内容】
■ウェハ製造プロセス
■デバイス製造プロセス
■セラミックス応用技術

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社では、ダミー・モニター用シリコンウエーハを取り扱っています。

研磨された製品は、さまざまなレベルで実施されるチェツク工程をへて、
高精度を保証されます。先進の技術を駆使した測定機器やクリーンルームなど、
環境管理にも万全の設備を完備することが、品質アップにつながるのです。

信頼性の高い品質保証体制の提供により、はじめて高平坦度、清浄度を
極限まで向上させ、安定供給を実現することができます。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【ダミー、モニターの区別】
■ダミーウエーハ
　・口径、厚さ以外のスペックは不問、又、ダスト不問か、
　　ダストフリーはご指定ください。(ウエーハ特性は納品時に表示します)
■モニターウエーハ
　・別紙仕様明細書にてご指定ください。
　　ただし、比抵抗と厚さの範囲の拡大を極力お願いいたします。

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です。

【特徴】
○タンク容量：125L アイボリー塩ビ製
○ダイアフラムポンプ：10リットル毎分
○供給エア：85リットル毎分
○電源容量：AC100V 5A

B社様は、研磨の際にサファイア基板をワックスで固定していますが、
貼る、剥がす、洗浄するといった一連の作業に手間と時間がかかって
困っていました。

そこで『エアロフィックス』を導入。

ワックスを使用することなく安定した固定を実現し、ワックス作業関連作業の
削減により作業効率を大幅に向上、コストも削減できました。

【事例概要】
■導入先：B社様
■用途：研磨
■活用：LCD、LED向け人工サファイア研磨の固定台として

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『TEC-1001MB』は、高品質な研削・研磨工程を実現する
ウェハーワックス貼り付け専用の装置です。

ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能で、
デバイスへのダメージも抑制できます。

加熱・冷却機構の適正化と高剛性な機構設計により、均一な温度分布や
安定した荷重分布を実現し、精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぎます。

【特長】
■ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能
■デバイスへのダメージも抑制できる
■均一な温度分布や安定した荷重分布を実現
■精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぐ
■12インチウェハー対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『CMP スラリー廃液配管洗浄』は、ブラシ洗浄、流速洗浄の洗浄、高圧洗浄、
TK-2ブラシ洗浄の洗浄前・洗浄後の様子をご紹介しています。

使用洗浄剤をはじめ、洗浄方法や比較も掲載しています。

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『Sicホルダー移載機』は、横型酸化/拡散炉用のウェハーボートから
プロセスカセットへの移し替え装置です。

受注後3ヶ月と立上調整3日でご提供いたします。
ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。