膜質制御の精密化とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造プロセスでは、過酷な環境下での部品の耐久性や安定した性能維持が求められます。特に、高温にさらされる環境では、素材の劣化や性能低下が製品の信頼性に影響を与える可能性があります。これらの課題に対し、母材の外観特性を損なわずに、透明性、耐熱性、耐候性の高いガラス性被膜を形成し、表面改質を可能にする『耐熱ガラスコート』が有効です。 【活用シーン】 ・高温プロセスにおける部品保護 ・透明性が求められる部品の表面改質 【導入の効果】 ・プロセス耐性の向上 ・部品の長寿命化 ・製品の信頼性向上

半導体業界における精密計測では、温度管理が製品の品質と性能を左右する重要な要素です。特に、製造プロセスにおける微細な温度変化の監視は、歩留まりの向上に不可欠です。熱電対は、このような精密な温度計測に広く利用されていますが、サプライチェーンの不安定さや、製品の選定の難しさから、最適な製品の調達に課題を抱える企業も少なくありません。石川産業の熱電対関連製品は、多様なニーズに対応し、安定供給を実現することで、半導体製造における温度管理の課題解決を支援します。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスの温度管理 ・研究開発における精密温度計測 ・品質管理における温度測定 【導入の効果】 ・安定した製品供給による生産効率の向上 ・多様な製品ラインナップによる最適な製品選定 ・専門知識に基づいた提案による課題解決

電子部品業界では、製品の性能を維持するために、吸湿性のある部品の適切な防湿管理が求められます。特に、アルミパック開封後の部品は、外部の湿度に影響を受けやすく、品質低下や性能劣化の原因となる可能性があります。経験に頼った管理では、ヒューマンエラーや品質トラブルのリスクが高まります。 『スマートラックドライ』は、これらの課題を解決するために開発されました。従来の入出庫管理システムの高い利便性はそのままに、最低到達湿度1%RHの超強力ドライユニットを搭載し、温湿度管理を自動化します。 【活用シーン】 ・アルミパック開封後の吸湿部品の保管 ・トレー品、基板、箱もの部材の保管 ・品質トラブルの未然防止 【導入の効果】 ・温湿度管理の自動化による品質安定 ・入出庫作業の大幅な効率化 ・ヒューマンエラーの削減

半導体製造業界のプロセス制御では、高温環境下での精密な温度測定が求められます。特に、ウェーハ製造やアニール工程など、高温にさらされる環境下での正確な温度管理は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。従来の光ファイバーでは耐熱性の問題から、測定が困難なケースがありました。当社の多用途耐熱光ファイバーは、250℃までの高温環境に耐え、安定した測定を実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程での温度測定 ・アニール工程での温度監視 ・高温環境下でのプロセス制御 【導入の効果】 ・高温環境下での正確な温度測定が可能 ・製品の品質向上と歩留まりの改善 ・プロセスの最適化によるコスト削減

電子部品業界では、製品の品質を維持するために、精密な乾燥工程が求められます。特に、部品の性能や信頼性に影響を与える水分や残留溶剤の除去は、製品の長寿命化に不可欠です。不十分な乾燥は、部品の劣化や故障の原因となる可能性があります。当社の2室型箱型乾燥機 SBD-100W型は、2つの部屋でそれぞれ異なる温度設定が可能であり、多様な電子部品の乾燥ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・電子部品の製造ラインにおける乾燥工程 ・試作品や少量生産品の乾燥 ・異なる温度条件での乾燥が必要な部品の処理 【導入の効果】 ・部品ごとの最適な乾燥条件設定による品質向上 ・生産効率の向上 ・多様な乾燥ニーズへの対応力強化

半導体製造業界では、製造プロセスの品質管理において、正確な温度測定が不可欠です。特に、高温での処理や精密な温度制御が求められる工程では、温度測定の精度が製品の歩留まりや品質に大きく影響します。熱電対センサーは、極低温から超高温まで幅広い温度範囲に対応し、多様な形状と素材で、半導体製造現場の様々なニーズに応えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程 ・高温焼成炉 ・真空蒸着装置 ・各種プロセスチャンバー 【導入の効果】 ・正確な温度測定による品質向上 ・プロセスの安定化 ・歩留まりの改善 ・多様な形状と素材による柔軟な対応

研究開発からプロセスラインまでポンプの悩み・不満を一挙に解決！精密ポンプのタクミナが提供するスムーズフローポンプ 『Q』はチューブポンプの扱いやすさとシリンジポンプの送液精度を併せ持つ、新機構の微量供給用精密ポンプ。 長時間の連続送液が可能、時間経過とともに流量が低下することもありません。 ＜お客様の声＞ 「流量の監視・調整が不要になった！」 「連続で長時間実験ができた！」 「送液条件が変わらず、信頼性の高いデータがとれた！」 【特長】 ■すぐれた定量性・応答性 ■長期間変わらない送液精度 ■脈動のない連続一定流 ■液を漏らさず、変質させない ■配管閉塞・空運転でも壊れない ■スケールアップが容易 ■ユーザー志向のシンプル設計 ■幅広い薬液に対応 懸濁液（スラリー）対応タイプ、オートクレーブ滅菌対応タイプもご用意。 スムーズフローポンプは流量、圧力、液の粘度、吐出精度、スラリー径と材質、設置・移送条件、コストなどの様々な使用条件や液、ご要望に対応するラインアップがございます。 お客様に最適な製品を選定・ご紹介いたしますのでお気軽にお問合せください。

カスタマイズ製品。ウェーハサイズ５・８・１２インチ，熱電対センサ点数１・５・９点，絶縁被覆テフロン・アルミナ繊維・石英など各仕様を選択することが可能。標準以外の仕様も製作可能。 【特徴】 ○全製品に試験成績書（無料）を添付 ○定期校正も可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

1.触媒を利用した反応炉。 2.幅広い濃度制御範囲。 3.優れた安全性。 4.各種インターロック。 5.安全仕様。

各種の炉を一つの装置にパッケージすることで省スペースで機能的に使用できるシステムです。

『クリーンオーブン』は、クリーンエアによる高温恒温槽です。 装置内のHEPAフィルターにより高いクリーン度を保つ為、半導体ウェハー の高温処理に適しております。各寸法、使用温度の変更や操作スイッチの 配置等の細かい仕様をご使用条件に合わせて設計させていただきます。 【特長】 ■装置内のHEPAフィルターにより高いクリーン度を保つ ■半導体ウェハーの高温処理に好適 ■操作パネルに配置されたカラータッチパネルによる 　操作、温度モニターが可能 ■プログラム温調計の採用によりプログラム運転が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社で取り扱う『半導体表面温度測定用熱電対』をご紹介いたします。 先端にばね材を使用し、測定対象物と接触して安定した 温度測定が可能。 半導体温度測定装置に使用する消耗品のコストダウンが可能で、 自動車部品メーカー各社に納入実績があります。 【特長】 ■先端にばね材を使用 ■測定対象物と接触して安定した温度測定が可能 ■測定時の応答速度が早い ■アタッチメントの形状を自由に変更が可能 ■1000℃の高温でも高精度で温度測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『MCV-530/530L/2200/2500』は、半導体シリコンウェハーの電気特性や MOSデバイスの酸化膜等の特性評価を可能にする装置です。 従来ではウェハーにゲート電極としてPoly-SiやAl等を蒸着し、MOS構造・ ショットキー構造形成後にCV/IV特性評価を行っておりました。 当製品は、装置自身がゲート電極を持つため、メタルゲート作成なしに 酸化膜やウェハーの電気特性を得ることが可能。プロセスモニタリングによる 素早いフィードバックやR&Dにおける開発時間の短縮、Lowコスト化を 提供します。 【特長】 ■水銀プローブにより電極の形成が不要 ■抜群の再現性 ・ショットキー：0.3％(1σ）／MOS：0.1％(1σ） ■ウェハー面内のマッピング可 ■新開発水銀交換機構により安全かつ容易な水銀交換が可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ナプソン株式会社は、半導体ウエハやFPD基板の各種測定システムを開発・製造・販売しております。 抵抗率/シート抵抗に関するあらゆるニーズにお応えし、仕様設計からアフターケアまで、最新の技術と豊富な経験を活かして、高精度・高性能なシステムをご提供いたします。 その他製品ございますので、詳細はお問い合わせ下さい。

『MAT-200KA』は、4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発された 電気炉です。 ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能。 均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御されます。 また、オプションにて第三のガスを流すことができます。 【特長】 ■4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発 ■均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『石英ガラス 高純度アニール炉』は、アニール工程における 石英ガラス製品の表面汚染を大幅に減少させることが可能です。 ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。 処理製品の大口径化、長尺化に対応するべく炉体の大型化を進めており、 お客様のご要望に応じて専用設計いたします。 【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱源はSiCヒーターを採用し温度分布性能の向上を図る ■対象製品の大きさに合わせて専用設計が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

4～8インチに対応した、シングルチャンバ全自動RTP装置です。搬送方式はオープンカセット・SMIFどちらかの選択で、カセットステーションは2台になります。 ウェハをサセプタに格納してプロセス処理をするため、反り、厚さ、透過率等のウェハの特性に関わらず、抜群のRc・温度均一性を実現します。 熱源はハロゲンランプで、上下両面配列です。 温度測定範囲は20℃～1250℃となります。熱電対とパイロメータがリアルタイムの温度測定をし、その結果をスマートPIDおよびマルチゾーンSCRが制御することで、優れた温度コントロールを可能にします。 真空チャンバ内には酸素濃度モニターを搭載し、酸素フリーな環境維持をサポートします。 Windowsベースのソフトウェアはマルチリンガル対応。グラフィカルなユーザーインターフェースで直観的な操作を可能としています。 累積出荷台数500台以上の実績で得られたプロセスプロファイリングのノウハウと、常時5台用意されたデモ環境で、貴社のプロセス開発における課題解決のお手伝いを致します。

卓上タイプで場所とらず低価格にて装置が購 入できます。仕様内容に付きましては各ユーザーの希望により設計いたします。

当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えできるようにしております。 特に、当社独自の厚膜熱酸化膜形成技術は光通信を支える光デバイスに欠かす事のできない材料となっており、当社の製品･技術が世界の通信機器メーカーや光部品メーカーに採用されています。