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パターン欠陥の低減とは？課題と対策・製品を解説

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露光・現像におけるパターン欠陥の低減とは？

半導体製造における露光・現像工程では、微細な回路パターンをウェハー上に転写します。この工程で発生するパターン欠陥は、半導体デバイスの性能低下や歩留まり悪化に直結するため、その低減は極めて重要です。高密度化・微細化が進む半導体デバイスの製造において、欠陥の無い高精度なパターン形成技術は、競争力を維持するための鍵となります。

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【半導体向け】AI外観検査システムスターターセット

アプライド株式会社

半導体業界では、製品の品質を確保するために、微細なパターン異常の検出が不可欠です。製造プロセスにおけるわずかな異常が、製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。AI外観検査システムスターターセットは、購入後すぐに使い始めることができ、パターン異常の検出を効率化します。【活用シーン】・半導体ウェーハのパターン検査・電子部品のパターン検査・基板のパターン検査【導入の効果】・不良品の早期発見による歩留まり向上・検査精度の向上・検査時間の短縮

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【半導体製造向け】輪郭度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりの向上が常に求められます。特に、微細加工技術が高度化する中で、部品の形状精度は製品の性能を左右する重要な要素です。輪郭度の理解不足は、設計・製造段階での誤りを生じさせ、歩留まりの低下につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「輪郭度」の基本を解説することで、半導体製造における品質管理と歩留まり改善に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における部品の設計・製造・品質管理部門での図面解読・製造現場での形状精度に関する問題解決【導入の効果】・輪郭度の理解を深め、設計・製造段階でのミスを削減・形状精度に関する問題を早期に発見し、歩留まりを改善・製品の品質向上と顧客満足度の向上

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【半導体製造向け】Micra Gold フィルター

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製品の品質を左右する微細な異物の混入を防ぐことが重要です。特に、クリーンルーム環境下での製造プロセスにおいては、圧縮空気やガス中の微粒子が製品の歩留まりを低下させる可能性があります。Micra Gold フィルターは、これらの課題に対し、最小0.01μmの粒子を除去することで、高品質な半導体製造をサポートします。【活用シーン】 * クリーンルーム内の圧縮空気ライン * 真空ポンプ排気ライン * ガス分析装置の前段【導入の効果】 * 製品の歩留まり向上 * 品質の安定化 * 装置の長寿命化

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【半導体向け】コンプレッサー用メッシュフィルター

株式会社バンテック

半導体業界では、製造プロセスのクリーン度が製品の品質を大きく左右します。コンプレッサーから供給される空気中の微粒子や不純物は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。当社のコンプレッサー用メッシュフィルターは、これらの課題に対応し、高いクリーン度を維持するために設計されています。金網を溶接することで、濾過面積を最大化し、効率的な異物除去を実現します。【活用シーン】・半導体製造工場のクリーンルーム・フォトレジスト塗布工程・真空成膜工程【導入の効果】・コンタミによる不良率の低減・製品品質の向上・製造プロセスの安定化

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【半導体向け】オーク製作所の光応用装置

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界における微細化技術の進展は、製品の高性能化に不可欠です。微細加工においては、高い精度と均一性が求められ、製造プロセスにおける光の利用が重要になります。光応用装置は、微細加工における露光、検査、測定といった工程で、高い精度と効率性を実現するために不可欠です。【活用シーン】 * フォトリソグラフィにおける露光 * ウェーハの検査 * 微細構造の測定【導入の効果】 * 高精度な加工の実現 * 歩留まりの向上 * 生産性の向上

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【ITインフラ向け】プレフィルター

株式会社テクネ計測

ITインフラ業界では、半導体製造プロセスにおけるガスの清浄度が、システムの安定稼働と製品の品質に直結します。特に、微粒子やミストは、精密機器の故障や性能劣化を引き起こし、システム全体の脆弱性につながる可能性があります。Neutronics リキッドトラップは、これらの問題を解決するために設計されており、サンプルガス中の液体や液滴を効果的に除去します。これにより、インラインフィルターへの過負荷を軽減し、システムの信頼性を高めます。【活用シーン】・半導体製造プロセス・ガス分析装置・クリーンルーム環境【導入の効果】・システムの安定稼働・メンテナンス頻度の削減・製品品質の向上

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【自動運転向け】ファウンドリサービス

シチズンファインデバイス株式会社

自動運転技術が進化する中、自動車業界では、高精度なセンサーやディスプレイが不可欠です。これらのデバイスには、小型化、高精細化、高い信頼性が求められます。ファウンドリサービスは、これらのニーズに応えるべく、液晶マイクロディスプレイの生産受託を通じて、自動運転システムの性能向上に貢献します。【活用シーン】・車載ディスプレイ・LiDAR ・ヘッドアップディスプレイ【導入の効果】・高精度なデバイスの提供・小型化・軽量化の実現・カスタム仕様への柔軟な対応

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【半導体向け】リークテスター

株式会社ナック

半導体業界では、製品の品質を保証するために、高い清浄度が求められます。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ半導体製品においては、微小な漏れが製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。当社の高品質リークテスターは、これらの課題に対応し、高精度な検査結果を提供します。リークテストは、製品の信頼性を確保し、不良品の発生を抑制するために不可欠です。【活用シーン】・半導体製造工程における気密検査・クリーンルーム内でのリークテスト・製品の品質管理・ヘリウム検査前の測定【導入の効果】・高精度な検査による品質向上・不良品の削減によるコスト削減・検査時間の短縮・製品の信頼性向上

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【金融セキュリティ向け】ファウンドリサービス

シチズンファインデバイス株式会社

金融業界のセキュリティ分野では、高度な情報保護と不正アクセス防止が不可欠です。特に、生体認証や機密情報の表示に利用されるディスプレイデバイスにおいては、高い信頼性とセキュリティ性能が求められます。液晶マイクロディスプレイの製造における品質のばらつきや、セキュリティ上の脆弱性は、システム全体の信頼性を損なう可能性があります。当社のファウンドリサービスは、液晶パネル組立から基板実装まで一括対応し、LCOSやFLCなど多様なモードに対応することで、金融セキュリティデバイスの信頼性向上に貢献します。【活用シーン】・生体認証デバイス・セキュリティ監視システム・機密情報表示ディスプレイ【導入の効果】・高精度なディスプレイデバイスの提供によるセキュリティ強化・多様なモード対応による幅広い用途への適用・カスタム仕様への柔軟な対応による最適なソリューションの実現

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【半導体製造向け】パッシブ除振台

藤倉コンポジット株式会社

半導体製造業界、特に微細加工においては、外部からの微小な振動が製品の品質に大きな影響を与えます。加工精度が少しでも狂うと、歩留まりの低下や不良品の増加につながり、大きな損失を招く可能性があります。当社のパッシブ除振台は、微細加工における振動問題を解決し、安定した生産体制をサポートします。【活用シーン】・露光装置・走査型電子顕微鏡（SEM）・原子間力顕微鏡（AFM）・ウェーハプローバ【導入の効果】・加工精度の向上・歩留まりの改善・不良品の削減・安定した生産性の確保

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【電子機器製造向け】ブローバックプレフィルター

株式会社テクネ計測

電子機器製造業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、製造プロセスにおける微粒子の混入を徹底的に管理する必要があります。特に、半導体製造や精密電子部品の製造においては、微粒子が製品の不良や性能劣化を引き起こす大きな要因となります。Neutronics ブローバックプレフィルターは、サンプルガスから粉体や粒子状物質を効率的に除去し、酸素センサーやサンプリング機器の汚損や損傷を防ぎます。自動フィルタークリーニング機能により、メンテナンス頻度を削減し、システムの信頼性を向上させます。【活用シーン】・半導体製造プロセス・精密電子部品製造・クリーンルーム環境【導入の効果】・製品の歩留まり向上・品質の安定化・メンテナンスコストの削減

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【ディスプレイ向け】レーザ加工装置『LASER BLENDER』

西進商事株式会社

ディスプレイ業界では、高品質な製品を効率的に製造するために、薄膜の精密な除去が求められます。特に、微細なパターン形成や異物除去において、高い精度と高速性が重要です。従来の除去方法では、基板へのダメージや処理時間の長さが課題となる場合があります。『LASER BLENDER』は、レーザアブレーション技術により、これらの課題を解決します。【活用シーン】・ディスプレイ基板からの薄膜除去・異物除去・微細パターニング【導入の効果】・高精度な薄膜除去による歩留まり向上・高速アブレーションによる生産性向上・局所分析、イメージング、深さ方向の分析による品質管理の強化

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【半導体製造向け】360度透視可能な強化ガラス管

大阪硝子工業株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける高い視認性と、装置の安全性確保が不可欠です。特に、高温・高圧環境下で使用される装置においては、ガラス管の強度と耐熱性が重要となります。従来のガラス管では、これらの要求を満たすことが難しい場合があり、製造効率の低下や安全性のリスクがありました。当社製品は、360度透視可能な筒状のガラスに強度を加える「ガラス管強化加工」を施すことで、これらの課題を解決します。【活用シーン】・半導体製造装置の内部観察窓・高温・高圧環境下でのプロセス監視・防爆を要する装置のカバーガラス【導入の効果】・製造プロセスの可視化による品質向上・装置の安全性向上・高い耐久性による交換頻度の削減

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【半導体向け】露光装置で微細化プロセスを支援！

株式会社三明

半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、微細化技術が不可欠です。微細化プロセスにおいては、高精度な露光技術が求められ、製造プロセスの品質と歩留まりを左右します。露光装置の選定は、製品の信頼性向上、歩留まり改善に繋がります。当社露光装置は、MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応し、お客様の微細化プロセスを強力にサポートします。【活用シーン】・MEMSデバイス製造・半導体ウェーハへのパターン露光・微細加工プロセス【導入の効果】・高精度な露光による歩留まり向上・多様なデバイスへの対応・ローコストでの量産体制構築

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6インチ対応ナノインプリンター『NM-0403』

明昌機工株式会社

明昌機工の『NM-0403』は、ナノメートル構造を精度良く転写でき、 6インチウエハーの一括転写が可能なサーボプレス機です。熱インプリント、室温インプリント、光インプリントの3種類のナノインプリント機能を備えています。オプションで、ウエハーの位置合わせを自動化するアライナー機能を搭載できます。【特長】 ■フレキシブル条件設定 ■アライナー機能 ■3種類のナノインプリント機能・熱インプリント・室温インプリント・光インプリント ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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リソグラフィシミュレータ　PROLITH

リソテックジャパン株式会社

リソグラフィ・シミュレータは、数値計算により、露光光学系による結像およびフォトレジストの感光・現像の過程をコンピュータ上に表現し、現像後のフォトレジストの形状を算出します。リソグラフィの研究、開発、そして製造に欠かすことのできないツールとなっています。

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【サンプル差し上げます！】メンティップ工業用綿棒　Ｐ752Ｄ

日本綿棒株式会社

繊維が抜け落ちない様、当社独自の製造方法で長繊維を巻きつけて製造しています。一般綿棒の綿球（綿球径4～5ミリ）よりも小さい綿球（綿球径2.9ミリ）ですので小さな穴や細かい部分の清掃に適しています。

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FPDガラス基板洗浄剤 GC3000ER

株式会社テクノス・ジャパン

液晶ディスプレイ（LCD）で世界をリードする韓国より、高性能かつ低価格な精密洗浄剤、信頼のBEX社製「GCシリーズ」をご提案いたします。

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溶剤系洗浄システム「2槽式フッ素系洗浄装置」

株式会社プリス

「2槽式フッ素系洗浄装置」は、フッ素系溶剤を用いて、パーティクル除去を行う溶剤系洗浄システムです。第1槽で浸漬洗浄、第2槽でベーパー洗浄を行うことにより、高い洗浄精度と乾燥性を実現します。また、大型設備へのスケールアップを行うことも可能です。【特長】 ○多孔板を用いた洗浄槽内の濾過システム →洗浄槽に多孔板を設置し、洗浄剤を吐出あるいは回収、槽内の清浄度を高める →パーティクルの比重や水流に左右されずに、効率よく浄化をする事が可能 →排出されるバランスは、調整バルブA～Cにより調節する事が可能詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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高周波超音波洗浄機

新科産業有限会社

周波数500kHz、1MHzの投げ込み式超音波洗浄機です。既存の洗浄槽を利用できます。デジタル式超音波発振器を採用、出力を１０〜１００％の範囲で調整できます。高周波数超音波を用いるため、被洗浄物に対してダメージを与えません。出力：２５０Ｗ、５００Ｗ

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半導体、液晶製造装置、工場(イエロールーム)向けLED照明　

株式会社アルティマ販売

当社で取り扱う黄色LED照明『EH30-10R-power-DC24Y』は、半導体、液晶製造装置、工場(イエロールーム)などで使用実績がある黄色LEDです。　採用いただいている企業様からは以前ご使用されていたものより明るく、設置本数が削減できたとの喜びの声をいただいております。　また、サイズの異なる「EH64-20X-power-DC24Y」「EH120-40X-power-DC24Y」などのご用意がございます。ご希望の企業様にはデモ機の貸し出しも実施しております。　【特長】 ■波長550nm以下をカット ■CE取得 ■危険電圧も回避 ■白色タイプもご用意可能 ■X-powerシリーズ取付サイドブラケット(オプション) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ネオ現像液『D-701』

株式会社ヤマトヤ商会

『D-701』は、液状フォトレジスト及び、ドライフィルム等のアルカリ可溶型フォトレジストに対して適切な現像液です。高解像度のため、パターン不良減少。(レジスト低膨性) スカムなどの残渣除去が非常に強いです。【特長】 ■レジストの溶解量が多い(液寿命の増加) ■現像機の洗浄が非常に楽にできる ■溶液タイプの為、建浴が容易にできる ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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半自動露光装置『半自動マスクアライナー』

株式会社三明

株式会社三明で取り扱っている『半自動マスクアライナー』をご紹介します。当製品は、露光光源が照度分布±5％以内の多品種量産用半自動露光装置です。自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬送の流れで行うことができます。詳細については、お気軽にご相談ください。【仕様】 ■φ4in φ6in φ8in 仕様 ■Top-side アライメント ■Bottom-side アライメント ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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直接描画装置『Ledia6』

株式会社SCREEN PEソリューションズ

『Ledia6』は、モバイル端末に搭載される基板のさらなる高密度・高精細化や、カーエレクトロニクス向けの多種多様な基板へのニーズに信頼の露光技術でお応えし続ける直接描画装置です。 3波長の光源を自在にコントロールすることで露光に必要な波長域をよりブロードにカバーでき、対応レジストの種類が大幅に拡大。また、基板のゆがみを補正する独自のアライメントアルゴリズムを装備し直接描画装置ならではの高精度な仕上がりと最高レベルのスループットを実現します。【特長】 ■UV-LED複数波長露光 ■レジストの種類を選ばず高品質な露光を実現 ■高速アライメント ■高付加価値分野対応の描画品質 ■量産から試作・小ロットまで選べるシステム構成 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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精密洗浄サービス

ジャパンファインマテリアル株式会社

当社は、上海に長年の経験を持つ先端技術と信頼性の高いオペレーションチームを有しており、8インチ、12インチのファブ、 PVD/CVD/ETCH/IMPLA NT等のプロセスに対して、安定した洗浄技術を提供することが可能です。 10の主要な精密洗浄および表面処理ライン（溶射、プラズマ溶射、14nm精密洗浄、陽極酸化、電気メッキなど）とサービスチームと連携し、品質管理と技術開発の課題に共に立ち向かいます。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■5000m2（55000平方フィート）のクリーンな作業場 ■5,000個/月以上の処理能力 ■上海での精密洗浄・表面処理の独占的な認定・資格サプライヤー ■業界をリードする8つの加工ライン ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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『ロバストな高輝度・長寿命・低消費電力電子銃』開発資料のご紹介

株式会社PARAM

当資料は、電子ビームを用いたウェハ直接描画に使用するマルチコラム・マルチビームによる並列型電子ビーム露光技術の開発をめざし、コラムと電子銃等の要素技術開発を進めている株式会社PARAMの開発資料です。新規素材を用いたSchottkyエミッションによる低温度動作化、炭素材加熱方式を用いた長寿命化をねらいとしています。【開発内容】 ■ロバストな高輝度・長寿命・低消費電力電子銃 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

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多周波超音波洗浄機

日本アレックス株式会社

●マルチ周波数 ※マルチソフトは40KHz、72KHz、104KHz、170KHzのそれぞれの周波数により設定された　数値に基づき、最短0.75秒からの切り替え操作による対応が可能です。 ●デュアルスイープ機能 ※従来の周波数変調方式（スイープ機能）にパーツの共振を防ぐデュアルスイープを更に加えました。 ※定在波、共振作用による洗浄ムラ、ダメージを解決しました。 ●多周波振動子ユニット ※今まで困難と言われていた多周波に完全対応する振動子を開発しました。 ※どの周波数でも確実な出力が可能になりました。 ●PLCコントローラー ※10ステップまでの発振切替設定が可能で、周波数・出力・時間を任意に設定することにより　幅広い種類のワークに対応します。 ●ディガス＆アップスイープ機能 ※槽内の液の溶存酸素の脱気と、コンタミを水面に浮かせるアップスイープ機能により　より確実な洗浄を可能にしました。

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株式会社USメック　事業紹介

株式会社USメック

株式会社USメックは洗浄装置の技術とノウハウを知り尽くしたキャリアと実績で、強固な信頼性を確立しています。株式会社USメックの方針は、『お客様と一緒に考える』をテーマに、難しい問題を解く高度な技術開発を目指しております。【設計製作】 ○コンピュータを駆使して行われる機械製造設計および電気回路設計 ○部品からユニット製造、最終組み立てまで全工程を内製化 ○第二工場内にある、洗浄装置のプレゼンテーションルーム詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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精密洗浄

メルコジャパン株式会社

メルコジャパン株式会社の精密洗浄部門について、ご紹介いたします。液晶パネルや半導体チップの製造工程に使われる真空容器など関連装置の高精度化に伴い、これら装置部品の不純物を確実に除去する精密洗浄が求められる現状。当社では、常に徹底した精密洗浄を施してお客様に納品しています。【大型チャンバー精密洗浄プロセス】 ■1.純水を90℃の高温にしてチャンバーを1時間から2時間、洗浄槽内に浸漬け投入 ■2.チャンバーの温度が90℃に行き渡ったところで引き上げ ■3.瞬時に起きる蒸発作用で急速乾燥 ■4.ネジ山、溶接の穴から酸を除去し、表面を撹拌し精密洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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マスクアライナー

ミカサ株式会社

■マルチミラーランプハウス採用により均一性の高い照度分布。 ■各種自動機構部採用により操作性が向上したセミオートでの使用も可能。 ■アライメント顕微鏡は三眼鏡筒を採用。モニターでのアライメントも可能(オプション)。

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ケミカルフィルタ

立石フィルター株式会社

当社で取り扱う、各種ガスに対応する「ケミカルフィルタ」をご紹介します。活性炭(粒子状活性炭)を基材としたろ材とイオン交換樹脂を使用したろ材を保有しており、外気処理、循環処理、排気系等様々な用途で適切なフィルタを提案。半導体・液晶工場で問題となっている硫黄酸化物等の酸性ガス、アンモニア等のアルカリガス、フタル酸エステル(例えばDOP)等の有機ガス等各種ガスの除去が可能です【特長】 ■品揃え豊富 ■各種ガスに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『静電容量式タッチパネル受託加工』のご案内

ウインドゥ・タッチ株式会社

当社では、静電容量式タッチパネルのITOパターン・周縁電極回路の形成加工をロールtoロール、または枚葉で写真法を用いて加工を行っております。少量生産から試作規模まで対応いたしますので、ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【概要】 ■フィルム材料幅：330mm幅 ■ITOパターン：L/S-30μm/30μm 　材料は原則客先支給　電極回路パターン：二層 ITO/Cu…L/S-30μm/30μm 　　　　　　　　　　感光銀ペースト…L/S-30μm/30μm ■標準納期：2週間(生産量の多少で若干変動要) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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精密洗浄

光伸産業株式会社

精密洗浄は目に見えない汚れや残留物の除去が目的です。特に半導体製造過程では異物が付着してしまうと生産に不具合が生じます。光伸産業では独自の洗浄技術をいかしクリーンな製品に仕上がります。

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非イオン性光酸発生剤『NPシリーズ』

サンアプロ株式会社

『NPシリーズ』は、トリフラート（TfOH）発生型の非イオン性光酸発生剤です。透過率が高く膜厚への適用が可能な「NP-TM2」、長波長（g線、h線）に対応する「NP-SE10」などをラインアップしています。【特長】 ■トリフラート（TfOH）発生型 ■高熱安定性 ■高溶剤溶解性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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マイクロコンタクトプリンター　MP200

株式会社ナノテック

マイクロコンタクトプリンター　MP200は次世代のデバイス作製技術として注目を集めるμCP法（Microcontact Printing）に対応する実験・研究支援装置です。μCP法はPDMSスタンプを用いることにより、チオール分子等による自己組織化単分子膜（SAM）をパターニングするだけでなく、有機半導体材料等の機能性材料を従来の印刷法よりも高精細にパターニングできることから、有機エレクトロニクスやナノバイオ素子等の作製技術として研究開発が進められております。MP200では、微細パターン作製時に発生する欠損を、産総研での研究成果をもとにした泡咬み防止機構を採用したことにより大幅に低減いたしました。転写プロセスステージは高精度圧力センサおよびZ軸サーボコントロールでコンタクトスピード、コンタクト圧力、距離、時間をプログラム制御可能です。操作はタッチパネルとジョイスティックを用いて、直感的に使い易い装置となっております。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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フッ素系洗浄システムパーティクル除去システム

新オオツカ株式会社

新オオツカの取り扱う『フッ素系洗浄システムパーティクル除去システム』についてご紹介します。当製品は、フッ素系溶剤を利用、低表面張力、浸透性を利用し、製品のすみずみまで浸透させ、パーティクル除去を行います。樹脂材料への影響が少なく、速乾効果に優れ、装置自体が省スペースになります。アルコール(IPA、エタノール)後の乾燥用途にもお使い頂けます。【特長】＜小型Fシリーズ(タイプ F-110)＞ ■試作テスト並びラボ用に好適 ■様々なフッ素系溶剤に対応 ■コンパクト設計(持ち運び可能) ■超音波洗浄、蒸気洗浄が可能 ■液リサイクル(蒸留再生)ができる ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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リソグラフィ・シミュレーション・ソフトウエア

株式会社インターソフト

インターソフトでは『リソグラフィ・シミュレーション・ソフトウエア』を取り扱っております。レイアウトサーバーと複数のクライアントから成る計算環境をサポートする「FullChip」をはじめ、非常に使いやすく、柔軟でパワフルな「HyperLith」や「EM-Suite」などを各種ご用意。コスト、時間の無駄を省き、高パフォーマンス、ローコストの製品開発を短時間で実現させます。【ラインアップ(一部)】 ■FullChip ■HyperLith ■EM-Suite ■TEMPESTpr2 ■TRIG　など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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クリーニング液『ASB/AMB/ABBシリーズ』

チカミミルテック株式会社

チカミミルテック株式会社が取り扱うクリーニング液である『ASB/AMB/ABBシリーズ』についてご紹介します。 1本あたり約600回の吹き付けが可能で、使い勝手の良いスプレータイプの「ASB-100」をはじめ、クリーニングカード・ワイパーと併用できる「ASB-31」や、携帯に便利な点眼容器タイプの「AMB-17」などを豊富にご用意。ご要望に合わせてお選びいただけます。【ラインアップ】 ■ASB-100、101、103、200、31、32 ■AMB-17、18 ■ABB-250 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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天然成分由来　ガラス用洗浄剤

株式会社トリコ

【特長】 ●洗浄作用油、グレース、たん白質、染料、指紋を洗浄するために開発 ●パーティクル除去作用界面活性剤があらゆる基盤に付着したパーティクルや塵埃をすばやく除去。洗浄面を電気的に中性に保ち、その後に埃を寄付ません。 ◆◇製品詳細と他洗浄剤ラインアップはカタログより◇◆

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光増感剤『NFシリーズ』

株式会社日本化学工業所

『NFシリーズ』は、硬化性能を向上させる目的で使用され、塗料、印刷材料、フォトレジスト、接着剤等の用途で幅広く使用されている光増感剤です。光重合開始剤との併用にて、吸収の小さい長波長の光を利用でき、深部硬化の促進も可能。また、光遮蔽剤の性質を利用し、基板のガラスエポキシ樹脂に混合して、両面から露光する際に反対側に光が漏れないように裏写り防止剤としても使用されています。【特長】 ■長波長域に特化した製品が多数 ■高感度型 ■ユーザーの要望に合わせたカスタマイズが可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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様々な使用用途に応じたご提案を！『UV(紫外線)ランプ』

ヒメジ理化株式会社

当社では、各種プロセスには欠かせない各種紫外線ランプを取り扱っております。液晶パネル、PDP、プリント基板製造工程における露光用ランプとして使用されている「超高圧水銀ランプ」、樹脂の硬化、インキの乾燥などで使用される「水銀キセノンランプ」など様々な製品をラインアップ。ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。【ラインアップ】 ■超高圧水銀ランプ ■水銀キセノンランプ ■キセノンランプ ■低圧水銀ランプ ■高圧水銀ランプ ■メタルハライドランプ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ガラス基板及び金属コーティング膜の洗浄剤 GC3000ER/C

株式会社テクノス・ジャパン

液晶ディスプレイ（LCD）で世界をリードする韓国より、高性能かつ低価格な精密洗浄剤、信頼のBEX社製「GCシリーズ」をご提案いたします。

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TPM

SECO S.p.A

当社で取り扱う、FANNAL電子社製の『TPM』をご紹介します。「PCAP(投射式静電容量式タッチパネル)」は、グラス/グラス(G+G)、グラス/フィルム/フィルム(G+F+F)で構成。サイズは1.8"～55"となります。この他、LCD・バックライト・FPCのカスタマイズが可能な「TFT ディスプレイ」、厳しい環境下の性能測定要求に適合する「オプティカルボンディング」もご用意しております。【特長】＜PCAP(投射式静電容量式タッチパネル)＞ ■構成：グラス/グラス(G+G)、グラス/フィルム/フィルム(G+F+F) ■サイズ：1.8"～55" ■マルチタッチソリューション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ソフトウェア『HyperLith(TM)』

株式会社インターソフト

『HyperLith(TM)』は、スカラ計算と厳密解、 EUVおよびDUVテクノロジーに対応したソフトウェアです。 LiveView GUIで概略のシミュレーション結果を予測。また、GDSエクスポートの新機能により、プログラムした一連のパターンをGDSファイルにエクスポートできるようになったのでテストマスクの作成に役立てることができます。【特長】 ■Polarization、Aberrations、Resistをサポ―ト ■ハードウェア加速処理機能、並列処理機能、分散処理計算機能のサポート ■WindowsとLinuxをサポート ■.simファイルとしてEM-Suiteへexport ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ナノリソグラフィシステム『NanoFrazor Explore』

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

NanoFrazor Exploreは、多くの独自の機能を備えたスタンドアローン型ナノパターニングシステムです。独自の高品質のナノパターンやデバイスを簡単に作成することができ、レーザーを搭載することでマイクロパターンハイブリッド高速描画を可能としております。

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フォトレジストの研究開発用露光ツール　

リソテックジャパン株式会社

＜主なレジスト解析露光装置ラインナップ＞ ■UVES-2000 　g線/h線/i線/248nmおよびブロード光対応解析露光装置） ■VUVES-4700i 　248nm、193nm露光および193nm液浸露光に対応 ■EUVES-7000 　EUV光源を搭載し、13.5nmオープンフレーム露光が可能

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露光・現像におけるパターン欠陥の低減

露光・現像におけるパターン欠陥の低減とは？

課題

微細化に伴う露光限界の突破

回路パターンの微細化が進むにつれて、光の回折限界により露光解像度が低下し、パターン欠陥が発生しやすくなります。特に、近年の先端プロセスでは、従来の露光技術だけでは限界に達しています。

現像液・レジストの均一性制御の困難さ

現像液の塗布ムラや現像時間のばらつきは、パターンの形状不良や欠損を引き起こします。レジストの膜厚均一性も、露光・現像の精度に大きく影響します。

異物混入による欠陥発生

製造環境中の微細な塵埃やパーティクルがウェハー上に付着すると、露光・現像時に欠陥として転写され、デバイスの不良原因となります。クリーンルーム環境の維持が不可欠です。

プロセスパラメータの最適化と管理の複雑化

露光条件（波長、NA、重ね合わせ精度など）や現像条件（現像液濃度、温度、時間など）は多岐にわたり、それらの相互作用による最適な条件を見つけ出し、安定的に維持管理することが非常に困難です。

対策

次世代露光技術の導入

EUV（極端紫外線）露光やマルチパターニング技術など、より微細なパターン形成を可能にする露光技術を導入することで、露光限界を克服し、高解像度化を実現します。

高精度な現像プロセス制御

現像液の精密な供給システムや、均一な現像を可能にするスピンコート技術、現像時間の厳密な管理により、現像ムラを抑制し、理想的なパターン形状を形成します。

徹底したクリーン環境と異物対策

高度なクリーンルーム管理、清浄度の高い搬送システム、ウェハー表面の異物検出・除去技術を組み合わせることで、異物混入による欠陥発生を最小限に抑えます。

高度なプロセスモニタリングとAI活用

露光・現像工程の各パラメータをリアルタイムで監視し、異常を早期に検知します。AIによるデータ解析で最適なプロセス条件を導き出し、欠陥発生を予測・防止します。

対策に役立つ製品例

高解像度リソグラフィ装置

微細な回路パターンを高い精度でウェハー上に転写する能力を持ち、次世代露光技術に対応することで、露光限界によるパターン欠陥を低減します。

精密塗布・現像装置

レジストの均一な塗布と、現像液の精密な制御により、現像工程でのムラや形状不良を抑制し、パターン欠陥の発生を低減します。

クリーン搬送・異物検出システム

製造プロセス全体での異物混入リスクを低減し、ウェハー表面の清浄度を維持することで、露光・現像工程における異物由来の欠陥を防止します。

プロセス最適化・品質管理ソフトウェア

露光・現像工程の膨大なデータを解析し、最適な条件設定や異常検知を支援することで、欠陥発生の根本原因を特定し、継続的な改善を可能にします。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

パターン欠陥の低減とは？課題と対策・製品を解説

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

露光・現像におけるパターン欠陥の低減とは？

各社の製品

露光・現像におけるパターン欠陥の低減

露光・現像におけるパターン欠陥の低減とは？

​課題

微細化に伴う露光限界の突破

現像液・レジストの均一性制御の困難さ

異物混入による欠陥発生

プロセスパラメータの最適化と管理の複雑化

​対策

次世代露光技術の導入

高精度な現像プロセス制御

徹底したクリーン環境と異物対策

高度なプロセスモニタリングとAI活用

​対策に役立つ製品例

高解像度リソグラフィ装置

精密塗布・現像装置

クリーン搬送・異物検出システム

プロセス最適化・品質管理ソフトウェア

課題

対策

対策に役立つ製品例