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半導体製造装置・材料

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次世代微細化技術への対応とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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検査・測定装置
材料
自動化・ITソリューション
製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
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回路・パターン設計における次世代微細化技術への対応とは？

半導体製造装置・材料業界において、回路・パターン設計は、より小型で高性能な半導体チップを実現するための根幹をなす技術です。次世代微細化技術への対応とは、ナノメートルオーダーで回路パターンを形成する技術の進化に、設計段階から追随し、実現可能性と性能を最大化するための取り組みを指します。これにより、より高速、低消費電力、高機能な半導体デバイスの開発が可能となります。

各社の製品

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【電子機器向け】超耐熱シリコンゴムシート

【電子機器向け】超耐熱シリコンゴムシート
会津ゴム工業株式会社
電子機器業界では、製品の小型化と高性能化が進むにつれて、熱対策が重要な課題となっています。電子部品の過熱は、性能低下や故障の原因となり、製品の寿命を縮める可能性があります。放熱性能の高い材料を選択することは、製品の信頼性を高める上で不可欠です。当社の超耐熱シリコンゴムシートは、最大300℃の耐熱性を持ち、電子機器の放熱対策に貢献します。 【活用シーン】 ・電子基板 ・電源ユニット ・LED照明 ・各種センサー 【導入の効果】 ・部品の過熱を抑制 ・製品寿命の延長 ・高い信頼性の確保
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【家電向け】アナログ半導体ICによる電力効率改善*

【家電向け】アナログ半導体ICによる電力効率改善*
ミカサ商事株式会社
家電業界では、省エネ性能の向上が強く求められています。電力消費を抑えつつ、製品の性能を維持することが重要です。アナログ半導体ICは、電力管理において、効率的な電力変換や制御を実現し、家電製品の省電力化に貢献します。Silergyのアナログ半導体ICは、様々なアプリケーションに対応し、家電製品の設計自由度を高めます。 【活用シーン】 ・冷蔵庫、エアコン、洗濯機などの家電製品 ・電源回路、バッテリー管理システム ・LED照明 【導入の効果】 ・省電力化による電気代削減 ・製品の小型化、軽量化 ・製品寿命の延長
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【自動車向け】薄膜回路基板

【自動車向け】薄膜回路基板
シチズンファインデバイス株式会社
自動車業界では、安全性と耐久性を両立するために、電子部品の信頼性が非常に重要です。特に、温度変化や振動、過酷な環境下で使用される電子部品においては、基板の品質が製品の性能と寿命を左右します。薄膜回路基板は、高精度な微細回路パターンと優れた熱伝導性により、これらの課題に対応し、自動車の高性能化に貢献します。 【活用シーン】 ・車載レーダー ・車載LED ・車載センサー 【導入の効果】 ・高い信頼性の実現 ・製品の長寿命化 ・高性能化への貢献
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【電子機器向け】真空・圧空成形

【電子機器向け】真空・圧空成形
第一商工株式会社
電子機器業界では、製品の軽量化とデザイン性の向上が求められています。筐体は、製品の保護と同時に、ブランドイメージを左右する重要な要素です。板金加工では難しい形状やデザインを実現するために、真空・圧空成形が有効です。真空成形は、薄肉でシンプルな形状の筐体に適しており、圧空成形は、厚肉で複雑な形状の筐体にも対応できます。これらの成形方法により、設計の自由度を向上させ、製品の差別化を図ることが可能です。 【活用シーン】 ・電子機器の筐体 ・カバー ・トレー 【導入の効果】 ・設計自由度の向上 ・軽量化 ・コスト削減
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ティーイーアイソリューションズ株式会社　事業紹介

ティーイーアイソリューションズ株式会社　事業紹介
ティーイーアイ ソリューションズ株式会社
ティーイーアイ ソリューションズ株式会社は、研究開発支援を提供するインテグレーテッドファンウドリーです。 ナノテクノロジー、バイオテクノロジー、太陽電池、クリーンエネルギーなど、半導体技術を応用し、様々な分野の研究開発が可能です。 柔軟なビジネスモデル・厳密な情報管理・顧客第一主義を基本理念として、お客様の長期に渡るビジョンをサポートしていきます。 【事業内容】 ○技術開発サポート ○テストウェハー販売 ○分析・評価サービス ○コンサルティング事業 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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ビフェニル/メタ位フッ素含有/ジアミンモノマー　TFMB

ビフェニル/メタ位フッ素含有/ジアミンモノマー　TFMB
セイカ株式会社
セイカが取り扱う、『TFMB』をご紹介いたします。 構造はビフェニル/メタ位フッ素含有の芳香族ジアミンで、5G用途樹脂をはじめ、半導体用途、フォルダブルデバイス部材、LCD/OLED部材にも好適。荷姿は20kg/ファイバードラムで、生産規模は商業生産です。 ホームページに掲載している製品以外にも様々な製品を扱っています。 サンプル・お見積をご検討されている方は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■化合物名：2,2'-Bis(trifluoromethyl)benzidine、 　　　　　　4,4'-Diamino-2,2'-bis(trifluoromethyl)biphenyl ■化学式：C14H10F6N2 ■M.W.(分子量)：320.23 ■CAS No.：341-58-2 ■HPLC純度：99.5％以上 ■融点：182.0℃以上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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材料設計支援統合システム MedeA VASP　適応事例集

材料設計支援統合システム MedeA VASP　適応事例集
株式会社モルシス
『MedeA』は、原子・分子スケールのシミュレーション技術を基に各種の物性評価を行うための統合支援環境です。 本適用事例集は、当製品の開発元であるMaterials Design社にて配布している適用例をまとめたものです。 第一原理計算プログラムVASPを用いて、電子状態から物性評価した事例を紹介します。 【適用事例】 ■NiSi/Si間のショットキー障壁の評価 ■VO2のバンドギャップ評価と金属絶縁体遷移（ハイブリッド汎関数） ■InAsのハイブリッド汎関数による高精度なバンド構造評価 ■High-kゲートスタックにおける仕事関数の評価 ※詳しくはダウンロードよりPDFをご覧ください。
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フェムト秒レーザー加工機 Femto-pro（産業用途向け）

フェムト秒レーザー加工機 Femto-pro（産業用途向け）
株式会社光響
3波長対応、超短パルスレーザー（フェムト秒レーザー、ピコ秒レーザー）対応のレーザー光源と高精密加工機から構成。 Light Covnersion社製フェムト秒レーザー光源を搭載。波長はUV、グリーン、1μmの3波長の自動切り替えが可能。バーストモードオプション（G Hz + M Hz BiBurst）。 SiC、GaN、ダイヤモンド等、次世代半導体向け高硬度脆性材料に対し、コールドアブレーション（非熱）での精密微細加工が可能となります。当社デモ機での試作加工から量産機の設計提案・納品までサポートいたします。
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株式会社Piezo Studio　事業紹介

株式会社Piezo Studio　事業紹介
株式会社Piezo Studio
株式会社Piezo Studioは、東北大学発のベンチャー企業です。 東北大学が保有する材料開発技術をベースとして、市場の様々な ニーズを掘り起こし、そのニーズに応えるため、試作検討により新たな技術を確立。 その技術を、地域企業で量産化技術に昇華させ、最終ユーザーと企業とを 結び付ける役割を果たします。 まずはお気軽にお問い合わせください。 【事業内容】 ■電子部品及びその材料の設計・試作 ■電子部品の開発・コンサルティング ■結晶加工 ■材料評価 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【口コミ・レビュー】基板製造メーカー様からのご評価

【口コミ・レビュー】基板製造メーカー様からのご評価
株式会社トリーエンジニアリング
基板製造ラインの除塵工程にて、Hayateシリーズを本格導入しました。 従来使用していたエアノズルでは除塵率が約50％程度で頭打ちとなって おり、微細異物の残留や再付着による品質課題が続いていました。 Hayateを初めてテストした際、まず感じたのは風の質そのものの違いです。 従来使用していたエアノズルとは異なり、Hayateは指向性のある薄いエアを 安定して供給してくれるため、対象面に対して安定して風が届いています。 異物をしっかり飛ばせているのは結果を見ても明らかでした。 異物残存率を検査したところ、ほとんどの機種で除塵率が70％以上を達成。 ある機種では99％以上の除塵性能が確認され、これにより製品品質は大きく 向上し、おかげさまで異物起因の不良件数も大幅に減少しています。 さらに、エア消費量は従来比で50％以上削減され、騒音も体感的にかなり低減。 作業者のストレスも減り、工場内の作業環境改善にも貢献しています。 現在では、当社の除塵工程における標準仕様としてHayateを全面採用しており 品質・環境・コストの三面で導入効果を実感しています。
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ティーイーアイ ソリューションズの技術開発

ティーイーアイ ソリューションズの技術開発
ティーイーアイ ソリューションズ株式会社
ティーイーアイ ソリューションズの『技術開発』についてご紹介します。 半導体デバイス・メモリー開発のほか、MEMS・Bioセンサー、 太陽光発電など様々な技術開発が可能。製品化のサポートも致します。 また、半導体に限らず、エネルギー、バイオ・メディカルセンサーなど 各種新興技術にも対応いたします。情報は完全に保護され、開発した技術は お客様に帰属しますので、安心して開発いただけます。 【開発技術の例】 ■新規トランジスタ ■新規メモリ ■太陽電池 ■MEMS/Bio-MEMS ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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低誘電ガラス

低誘電ガラス
日東紡績株式会社
『低誘電ガラス』は、誘電損失の小さいガラス繊維です。 優れた電波透過性を示す製品。様々な樹脂に対応する 表面処理技術が採用されています。 また、成形品の寸法精度に優れる扁平断面ガラス繊維も ラインアップしております。 【特長】 ■低誘電率、低誘電正接に優れる ■優れた電波透過性を示す ■様々な樹脂に対応する表面処理技術 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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紫外線酸化装置『FOVシリーズ』

紫外線酸化装置『FOVシリーズ』
フナテック株式会社
半導体産業で使用される水は、ますます高純度化され、超純水中の有機物 (TOC) 濃度に対する要求値も厳しくなっています。 『FOVシリーズ』は高出力低圧水銀ランプから発生する真空紫外線 (185nm) を効率よく照射し、水中の有機物を酸化分解。ppbオーダーのTOCを低減 させるのに適しています。 また、縦型設計ですので設置スペースが限られた場所でもご使用いただけます。 【仕様（一部）】 ■入力電圧：AC100V-AC200V（50/60Hz）から選択可能 ■警報出力：ランプ切無電圧接点標準装備 ■制御盤材質：SS ■制御盤塗料色：マンセル 2.5Y 9/1 ■シリンダ材質：SUS316 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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用于高速通信设备(5G)的低介电热塑性聚酰亚胺Therplim

用于高速通信设备(5G)的低介电热塑性聚酰亚胺Therplim
三菱ガス化学株式会社　グリーン・エネルギー＆ケミカル事業部門
由于“Therplim”具有良好的介电性能和耐高温高湿性，可用于5G相关材料（覆铜板）、CFRP原材料和音频设备部件。 [特征] ■ 在包括毫米波区域（10GHz 2.7）在内的宽频带内具有良好的介电特性 ■ 高耐热性（Tm323℃/Tg185℃） ■ 耐化学性好，不溶于溶剂 ■ 可从 25 μm 以下的薄膜加工至厚度为 100 mm 的大型构件 * 有关详细信息，请参阅 PDF 文档或随时与我们联系。
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『かご型シルセスキオキサン型脂環式酸二無水物DDSQ』

『かご型シルセスキオキサン型脂環式酸二無水物DDSQ』
日本材料技研株式会社
『かご型シルセスキオキサン型脂環式酸二無水物DDSQ』は、ダブルデッカー型 ポリシルセスキオキサンを脂環式酸二無水物にした二官能性モノマーです。 高耐熱樹脂原料（ポリイミド、エポキシ等）などの用途に好適。 ポリイミドやエポキシ等の高耐熱樹脂の主鎖にダブルデッカー型 シルセスキオキサンを組み込むことで、耐熱性の向上に加えて、 低誘電・低線熱膨張・靭性向上などの特性を付与することが期待できます。 【特長】 ■高耐熱樹脂の主鎖に組み込むことで低誘電・低線熱膨張などの 　特性付与が可能 ■低誘電：誘電率2.4～2.8 ■高耐熱：耐熱温度500℃前後 ■低Tg：Tg250～270℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基板『アルミナ基板』

基板『アルミナ基板』
株式会社フォノン明和
『アルミナ基板』は、熱伝導性・絶縁性・耐熱せ性・強度・耐酸性・ 経済性に優れたアルミナセラミックスでできた基板です。 基板の反りが極めて小さく、緻密で薄膜用としても使用可能。 大変、潤滑性に優れた製品です。 また、寸法精度が高く、安定したスリット・スルーホールによって、 ブレーク性が高く、チップネットワーク用基板・超小型チップ用基板の 対応にも適しております。 【特長】 ■安定したスリット・スルーホール ■基板の反りが極めて小さい ■寸法精度が高い ■優れた潤滑性 ■ブレーク性が高い ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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エーテル結合/アルキレン基/F HFBAPP

エーテル結合/アルキレン基/F HFBAPP
セイカ株式会社
セイカが取り扱う、『HFBAPP』をご紹介いたします。 ホームページに掲載している製品以外にも様々な製品を扱っています。 サンプル・お見積をご検討されている方は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■化合物名：2,2-Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane ■化学式：C27H20F6N2O2 ■M.W.(分子量)：518.45 ■CAS No.：69563-88-8 ■融点：160℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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SEM-ECCI法によるGaNの転位観察

SEM-ECCI法によるGaNの転位観察
株式会社大同分析リサーチ
当社では、SEM-ECCI法によるGaNの転位観察を行っております。 窒化ガリウム（GaN）等のパワー半導体において、製造時に含まれる転位は デバイス性能の低下や短寿命化の要因とされています。 半導体の転位観察は主に透過電子顕微鏡（TEM）やエッチピット法が用いられますが、 SEM-ECCI法を用いると容易な前処理で観察可能となります。 【測定事例】 ■供試材：単結晶GaN（サファイア基板上にGaNを成膜したウェハ） ■面方位：C面（0001）±0.5° ■GaN膜厚：4.5±0.5μm ■測定条件：後方散乱モード ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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窒化アルミ (AlN)

窒化アルミ (AlN)
大光炉材株式会社
◆窒化アルミの特徴◆ 1. 高い熱伝導性 ・アルミナの約6倍です。 2. Siに近い熱膨張率 ・大型Siチップの搭載や熱サイクルに対する信頼性に優れています。 3. 優れた電気的特性 ・優れた電気絶縁性と誘電特性を持っています。 4. 高い強度 ・アルミナと同等の機械的強度を持っています。 5. 優れた耐食性 ・優れた耐食性を持ち、ほとんどの溶融金属に濡れません。
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MTP不揮発メモリIPコア『TwinBit』

MTP不揮発メモリIPコア『TwinBit』
株式会社NSCore
『TwinBit』は、標準ロジックプロセスで製造可能な不揮発メモリIPコアです。 0.18um世代から先端の16nm世代とその先まで、幅広いプロセスに対して 10万回以上の書き換えが可能。 従来のFlashメモリのような複雑なメモリセル構成を必要とせず、 少ない製造コストで高性能の不揮発メモリを提供いたします。 64bラッチタイプから2MByteのコード格納用メモリまで、 様々な不揮発メモリコア用途に合わせたカスタマイズも可能です。 【特長】 ■世界最小クラスのメモリセルサイズ ■高速、低電力読み出し動作 ■低電圧書込動作 ■テスト回路内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【技術情報】ハイブリッド汎関数による高精度なバンド構造評価

【技術情報】ハイブリッド汎関数による高精度なバンド構造評価
株式会社モルシス
当資料では、III-V族化合物半導体で電子・光学デバイスのバンド構造 エンジニアリングに必要となる、固体エネルギーバンド構造の詳細を 計算するため、Hartree-Fock-DFTハイブリッド汎関数であるHSE06を用いた 事例について報告します。 InAsのエネルギーバンド、特にその微細構造を例として、精度の高い 第一原理電子状態計算を用いることで、実験に匹敵する精度と信頼性を持つ 材料特性のデータが得られることを示しました。 【掲載内容】 ■結晶構造 ■バンド構造計算 ■まとめ ■参考文献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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スーパーCMC半導体用ヒートシンク

スーパーCMC半導体用ヒートシンク
株式会社FJコンポジット
当社では、独自開発した『S-CMC』を使用した半導体用ヒートシンクを ご提供しております。 『S-CMC』は、Mo箔とCu箔の多層フラット板で構成されており、 Mo粉末品よりも高熱伝導、低熱膨張に優れた低熱膨張のクラッド材です。 各種半導体分野への適用が可能ですが、4G/5G通信で用いられるGAN素子の ヒートシンクとして特に適しており、5G通信用の携帯電話基地局の デバイスの放熱原料として期待されます。 【S-CMCの特長】 ■日・米・中・欧にて特許取得済み、日・米・中にて商標登録を実施 ■Moの使用量は、目的により自由に選択可能で、ご希望の熱膨張率に対応可能 ■GaN要素を使用した衛星通信デバイスに10年以上の使用実績を有する ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
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高周波用途　PTEF基板の加工

高周波用途　PTEF基板の加工
株式会社電販
TEFレジンの持つユニークな特性を最大限に活用した 多種類の商品郡により、長年にわたり電子工業分野に貢献してきた 米国ポリフロン社が行う、PTEF基板加工のご紹介です。 【特徴】 ○あらゆる形状への加工が可能 ○高い性能を生み出し、技術者の理想を現実にする ○マイクロ波/ミリ波分野での極低損失高周波基板として最適 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードして下さい。
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低誘電グラスファイバー『NEガラス』

低誘電グラスファイバー『NEガラス』
日東紡績株式会社
『NEガラス』は、低誘電率・低誘電正接が向上する為、高速通信用材料 として期待されている低誘電グラスファイバーです。 電子基板、ミリ波レーダー、携帯電話アンテナなどにご使用いただけます。 【NEガラス特性(抜粋)】 ■特性：低誘電率・低誘電正接 ■密度(g/cm)：2.30 ■引張り強度(GPa)：3.14 ■引張り弾性率(GPa)：63.7 ■最大伸び率(％)：4.8 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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回路・パターン設計における次世代微細化技術への対応

回路・パターン設計における次世代微細化技術への対応とは？

半導体製造装置・材料業界において、回路・パターン設計は、より小型で高性能な半導体チップを実現するための根幹をなす技術です。次世代微細化技術への対応とは、ナノメートルオーダーで回路パターンを形成する技術の進化に、設計段階から追随し、実現可能性と性能を最大化するための取り組みを指します。これにより、より高速、低消費電力、高機能な半導体デバイスの開発が可能となります。

​課題

設計ルールの限界と物理現象の顕在化

微細化が進むにつれて、従来の設計ルールでは考慮できなかった量子効果や材料特性などの物理現象が顕著になり、設計通りの回路性能を発揮できなくなるリスクが高まっています。

複雑化するレイアウト検証と歩留まり低下

回路パターンの密度と複雑性が増大し、DRC（Design Rule Check）やLVS（Layout Versus Schematic）などの検証項目が膨大化。わずかな設計ミスが歩留まり低下に直結し、製造コスト増大の要因となります。

新たな製造技術への対応と設計最適化

EUV（極端紫外線）リソグラフィやマルチパターニングなどの新しい製造技術に対応するため、設計段階での最適化が不可欠ですが、そのノウハウやツールの整備が追いついていない場合があります。

設計・製造間の連携不足と開発期間の長期化

設計者と製造技術者の間で、微細化に伴う課題や要求事項の共有が不十分な場合、手戻りが発生し、開発期間の長期化やコスト増につながります。

​対策

物理現象を考慮した高度な設計手法の導入

量子効果シミュレーションや材料特性解析を設計フローに組み込み、物理現象の影響を早期に予測・補正することで、設計通りの性能を実現します。

AIを活用した自動レイアウト検証と最適化

AIによるパターン認識や学習機能を活用し、レイアウト検証の自動化・高速化を図るとともに、設計ルールの逸脱や歩留まり低下のリスクを低減します。

製造プロセスに最適化された設計ツールの活用

EUVリソグラフィやマルチパターニングなどの最新製造技術に対応した設計ツールを導入し、製造歩留まりを最大化する設計パターンを生成します。

設計・製造統合プラットフォームによる情報共有の強化

設計データと製造プロセスデータを一元管理・共有できるプラットフォームを構築し、設計者と製造技術者間の密な連携を促進することで、開発効率を向上させます。

​対策に役立つ製品例

物理ベース設計解析ソフトウェア

微細化に伴う量子効果や材料特性などの物理現象を正確にシミュレーションし、設計段階での性能予測と最適化を可能にします。

AI駆動型レイアウト検証・最適化ツール

AIが設計パターンを学習し、設計ルールの逸脱や潜在的な歩留まり低下要因を自動で検出し、修正提案を行うことで、検証工数を削減します。

次世代リソグラフィ対応設計支援システム

EUVやマルチパターニングなどの最新製造技術の特性を考慮した回路パターン生成や、マスクデータ作成を支援し、製造歩留まり向上に貢献します。

統合設計・製造データ管理システム

設計データ、製造プロセスデータ、検証結果などを一元管理し、関係者間でのリアルタイムな情報共有と、迅速な意思決定を可能にします。

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