新しい薄膜材料の適用とは？課題と対策・製品を解説

ディスプレイ業界では、高画質・高精細化が常に求められています。特に、光学ガラスや光学薄膜に使用される材料は、高い透明性と屈折率制御性が重要であり、ディスプレイの性能を左右する要素の一つです。五酸化ニオブは、これらの要求に応える素材として注目されています。当社のインド産五酸化ニオブは、光学グレード（純度99.99%以上）であり、高画質ディスプレイの実現に貢献します。

【活用シーン】
・高画質ディスプレイ
・光学ガラス
・光学薄膜

【導入の効果】
・高透明度と高屈折率の両立
・ディスプレイの性能向上
・最先端の光学機器・レンズ・電子部品への活用

電子材料業界では、薄膜化技術の進展に伴い、材料の微細化が求められています。材料の粒子径が均一で微細であるほど、薄膜の品質が向上し、製品の性能向上に繋がります。ニューミクロシクロマットは、空気の高速過流による圧力変動で原料を自己破壊させる粉砕機です。回転数や吸引空気量の調整により目的の粒度が得られ、電子材料の薄膜化に貢献します。

【活用シーン】
・電子材料の粉砕
・薄膜形成プロセスの前処理
・高機能樹脂の粉砕

【導入の効果】
・均一な粒子径の実現
・薄膜の品質向上
・製品性能の向上

自動車業界では、安全運転支援システムや自動運転技術の進化に伴い、高性能なセンサーが不可欠となっています。これらのセンサーは、周囲の状況を正確に把握し、車両の制御に重要な役割を果たします。特に、温度変化や振動に強い、高精度なセンサー材料が求められています。五酸化タンタル（Ta₂O₅）は、高い誘電率、耐熱性、耐食性を有し、これらの要求に応えることができます。当社のブラジル産五酸化タンタル（99.7%）は、自動車センサーの高性能化に貢献します。

【活用シーン】
・車載レーダー
・LiDAR
・各種センサーの電子部品

【導入の効果】
・センサーの耐久性向上
・高精度なデータ取得
・長期的な安定稼働

ノートPC業界では、バッテリーの軽量化と長寿命化が、製品の競争力を左右する重要な要素となっています。特に、モバイル性を重視するユーザーにとって、バッテリーの重量は使い勝手に大きく影響します。炭酸リチウムは、次世代電池材料として、軽量化と高エネルギー密度を両立する可能性を秘めています。当社製品は、安定供給体制と高品質な製品で、ノートPCの軽量化と性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・ノートPCのバッテリー
・モバイルデバイス

【導入の効果】
・軽量化による携帯性の向上
・バッテリー性能の向上
・安定供給によるBCP対策

家電業界では、製品の小型化・軽量化が常に求められています。特に、限られたスペースに多くの機能を詰め込むためには、部品の薄型化が不可欠です。高機能電子機器においては、高温環境下での動作も考慮する必要があり、耐熱性の高い部品が求められます。当社の高機能『耐熱フィルム』は、薄膜化を実現し、高機能電子機器の薄型化・軽量化に貢献します。

【活用シーン】
・薄型テレビ
・スマートフォン
・ウェアラブルデバイス

【導入の効果】
・製品の小型化・軽量化
・高温環境下での安定した動作
・製品設計の自由度向上

半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、放熱性や高密度実装が可能な基板が求められています。特に、レーザーダイオードやLEDなどの実装においては、微細回路パターンと高い熱伝導率が重要です。不適切な基板は、デバイスの性能低下や寿命短縮につながる可能性があります。当社の薄膜回路基板は、成膜・薄膜加工技術を応用し、高精度な微細回路パターンと優れた熱伝導率を実現します。

【活用シーン】
レーザーダイオード（LD）実装基板
発光ダイオード（LED）実装基板
フォトダイオード（PD）実装基板
光通信（FTTｘ・データセンター・モバイル基地局）

【導入の効果】
デバイスの高性能化に貢献
高い信頼性を実現
製品の小型化・高密度実装に貢献

ディスプレイ業界では、鮮明な発色と高い耐久性が求められます。特に、屋外や高輝度環境下で使用されるディスプレイにおいては、発光材料の安定性と色再現性が、製品の品質を左右します。不適切な発光材料は、色褪せや輝度低下を引き起こし、視認性を損なう可能性があります。当社の台湾産 酸化タングステン（ブルー）（BTO）は、高純度で安定した発光特性を提供し、ディスプレイの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
* OLEDディスプレイ
* LEDディスプレイ
* 電子ペーパー
* デジタルサイネージ

【導入の効果】
* 鮮やかな青色の発色
* 高い光安定性
* 長寿命化
* 色再現性の向上

半導体製造業界では、高温環境下での部材固定が求められます。特に、熱膨張や収縮の影響を受けやすい部材においては、安定した固定力と耐熱性が重要です。従来の金属製ボルト・ナットでは、高温下での強度劣化や酸化による腐食が問題となる場合があります。グラファイトボルト・ナットは、優れた耐熱性を持ち、高温環境下でも安定した性能を発揮します。

【活用シーン】
・半導体製造装置内の炉壁固定
・高温環境下でのトレー固定
・その他、高温環境下での部品固定

【導入の効果】
・高温環境下での安定した固定力の確保
・部材の長寿命化
・装置の稼働率向上

エレクトロニクス業界では、導電性材料の性能向上が求められています。特に、CNT（カーボンナノチューブ）を用いた材料においては、CNTの均一な分散が、製品の導電性や信頼性を左右する重要な要素となります。不適切な分散は、性能の低下や製品の不良につながる可能性があります。IKA magic LABは、CNTスラリーの最適な分散条件を卓上ラボスケールで研究開発できます。

【活用シーン】
・導電性インクの研究開発
・電子部品の製造プロセス改善
・CNT複合材料の研究

【導入の効果】
・CNTの均一な分散を実現
・研究開発期間の短縮
・生産機へのスケールアップを前提とした研究開発

電子機器業界では、製品の小型化と高性能化が進む中、放熱対策は重要な課題となっています。特に高温環境下で使用される電子機器においては、効率的な放熱が製品の信頼性と寿命を左右します。放熱性能が低いと部品の劣化や故障を引き起こし、製品の性能低下につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、高温環境下でも優れた放熱性能を発揮し、電子機器の安定稼働に貢献します。

【活用シーン】
・高温環境下で使用される電子機器
・高出力の電子機器
・耐久性が求められる電子機器

【導入の効果】
・放熱効率の向上
・製品寿命の延長
・故障リスクの低減

セラミックス業界では、製品の性能を左右する誘電特性の向上が常に求められています。特に、電子部品やコンデンサなどの用途においては、誘電率の高さと安定性が重要です。不適切な材料選定や品質の低い材料の使用は、製品の性能低下や信頼性の問題を引き起こす可能性があります。当社のブラジル産五酸化ニオブ（Nb₂O₅）は、セラミックスの誘電特性を向上させるために最適な材料です。

【活用シーン】
・コンデンサ
・圧電素子
・誘電体セラミックス

【導入の効果】
・高い誘電特性
・安定した品質
・長期的な供給体制
・製品の高性能化

有機ELデバイスの分野では、高い発光効率と長寿命化が求められています。電荷輸送材料の品質は、これらの性能を左右する重要な要素です。特に、電荷の移動効率を高めるためには、高純度な材料が必要不可欠です。当社の『ヨード-9,9-ジメチルフルオレン』は、有機ELデバイスの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・有機ELディスプレイ
・有機EL照明

【導入の効果】
・電荷輸送効率の向上
・デバイス性能の向上
・高品質な有機ELデバイスの実現

エレクトロニクス業界、特に基板製造においては、高品質な材料の安定供給が重要です。基板の性能は、使用される材料の品質に大きく左右され、リチウム化合物は、その製造に不可欠な材料の一つです。安定した品質と供給体制が、製品の信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池材料
・各種工業用途

【導入の効果】
・高品質な基板製造をサポート
・安定供給によるBCP対策

テスト・計測業界では、高精度なデータ収集と処理が求められます。特に、信号処理やデータ解析を行う計測機器においては、FPGAの性能が重要です。FPGAの供給が途絶えると、製品開発やメンテナンスに支障をきたす可能性があります。ロチェスターエレクトロニクスは、製造中止になったラティス ECP3ファミリーFPGAを提供し、お客様の継続的な製品供給を支援します。

【活用シーン】
・計測機器の設計・開発
・既存計測システムの保守・アップグレード
・データ収集・処理システムの構築

【導入の効果】
・FPGAの安定供給による製品寿命の延長
・既存システムの継続利用
・迅速な修理・交換対応

電池製造業界では、電極材料の品質と安定供給が、製品の性能と信頼性を大きく左右します。特に、リチウムイオン電池の需要増加に伴い、高品質な炭酸リチウムの安定的な確保が重要になっています。不純物の少ない炭酸リチウムは、電池の寿命を延ばし、性能を向上させるために不可欠です。当社チリ産炭酸リチウム テクニカルグレードは、高品質な電極材料として、電池の性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池の電極材料
・正極材、負極材の製造
・電池メーカー

【導入の効果】
・電池の性能向上
・安定供給によるBCP対策
・環境配慮への貢献

超電導分野では、デバイスの性能を最大限に引き出すために、材料の純度と安定性が重要です。特に、超電導材料の製造や、超電導現象の安定化には、不純物の少ない高品質な材料が不可欠です。五酸化ニオブ（Nb₂O₅）は、その高い屈折率制御性から、超電導デバイスの安定化に貢献する可能性があります。当社のインド産五酸化ニオブは、99.99%以上の高純度を誇り、超電導材料の性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・超電導材料の研究開発
・超電導デバイスの製造
・超電導現象の安定化

【導入の効果】
・超電導材料の性能向上
・デバイスの安定性向上
・研究開発の効率化

光ファイバー業界では、高品質な光伝送を実現するために、屈折率を精密に制御できる材料が求められます。特に、長距離通信や高速データ通信においては、光ファイバーの損失を最小限に抑え、安定した伝送性能を維持することが重要です。不適切な材料選定は、信号の減衰や歪みを引き起こし、通信品質を低下させる可能性があります。本製品は、光ファイバー製造における添加剤として利用され、屈折率の調整や光学的特性の改善に貢献します。

【活用シーン】
・光ファイバー製造
・光通信システムの部品

【導入の効果】
・光ファイバーの性能向上
・通信品質の安定化
・長期安定供給の実現

自動車業界では、安全性の向上と環境負荷の低減が求められており、そのために高度なセンサー技術が不可欠です。特に、排ガスセンサーや温度センサーなど、高精度な測定が求められる分野では、センサー材料の性能が重要になります。酸化タングステン（ブルー）（BTO）は、その優れた特性により、これらのセンサーの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
* 排ガスセンサー
* 温度センサー
* 各種ガスセンサー

【導入の効果】
* 高感度・高精度なセンサーの実現
* センサーの耐久性向上
* 環境性能の向上

ディスプレイ業界におけるスパッタリング技術では、高品質な薄膜形成が求められます。特に、均一な膜厚と高い密着性は、製品の性能を左右する重要な要素です。不適切な材料やプロセスは、ディスプレイの表示不良や寿命低下につながる可能性があります。台湾産 三酸化タングステン（YTO）は、スパッタリング材料として、高品質な薄膜形成を可能にし、ディスプレイの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・フラットパネルディスプレイ（FPD）
・有機ELディスプレイ（OLED）
・タッチパネル

【導入の効果】
・高純度材料による高品質な薄膜形成
・均一な膜厚と高い密着性の実現
・ディスプレイの表示品質と寿命向上

電池業界では、高性能な電極材料が求められています。特に、リチウムイオン電池の電極材料として、高純度で安定供給が可能な水酸化リチウムは、電池の性能向上に不可欠です。不適切な材料や供給体制は、電池の性能低下や製造コストの増加につながる可能性があります。当社チリ産水酸化リチウムは、SQM社の日本総販売店として、安定供給を実現し、BCP対策にも貢献します。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池の電極材料
・各種電池材料
・工業用途

【導入の効果】
・電池の性能向上
・安定供給によるBCP対策
・環境配慮

株式会社ティーディーワイでは『蒸着材料・ターゲット材料』を取り扱って
おります。

「蒸着材料」とは薄膜を製作する技術の一つである真空蒸着法(熱蒸着)で
用いる材料で、一般的にはナノオーダーの薄膜を作るための材料です。

また「ターゲット材料」であるスパッタリングターゲットは、薄膜として
現代社会の様々な分野で使用されており、当社では高品質及び短納期の
ゲルマニウムターゲット及びシリコンターゲットをご提供いたします。

【製品詳細】
＜蒸着材料：Ge蒸着材＞
■Ge粒状D
　・純度：6N以上
　・寸法：2mm～8mm
■Ge粒状C
　・純度：6N以上
　・寸法：3mm～6mm

※海外品も取り扱いをしております。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ソリッドSiC』は当社独自のCVD技術を応用し開発されました。

高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、
幅広い様々な用途で高いパフォーマンスを発揮。

半導体装置に最適化された当製品は半導体の可能性を拡げる
材料として期待されています。

【特長】
■高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れている
■幅広い様々な用途で高いパフォーマンスを発揮
■パーティクル低減・ライフ向上に貢献
■高い熱伝導率・熱衝撃耐性

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『SPR-014-B』 は、基板側にバイアスを印加しながら
スパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式
バイアススパッタリング装置です。

ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた
良好な絶縁膜形成ができます。

【特長】
■低いピンホール密度
■良好なステップカバレージ性
■次の電極層に有利な平坦性
　・排気系はドライポンプと磁気浮上型TMPの排気システム
　・基板側とターゲット(カソード)に高周波電力を同時に印可
　・ロードロック式の1元スパッタリング装置（容易に基板セット可能）

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。
石英ガラス等の管状炉になっています。
化合物半導体のエピタキシャル成長など、純度を重視するプロセスに利用できます。
直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な実験を行う研究室、教育機関に適しています。

◆詳しくは
　製品カタログ（PDFダウンロード）をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
　関連リンクからも製品カタログをご覧いただけます。

【特徴】
●極低温(常温～100℃)での成膜
　熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
●リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用
　高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
　OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
●膜の均一性と緻密性
　微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。

【応用例】
・大面積対応可能
・高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
・SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
・CPO（Co-Packged-Optics）など繊細かつ複雑な3D構造への薄膜成膜が可能
・R＆Dから生産まで対応

【成膜のご相談やテスト成膜可能です】
　クリエイティブコーティングスでは、テスト成膜やサンプル作成を承っております。
　お客様のご要望を聞きし、適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。
　まずはお気軽にご相談ください。

◉最高使用温度 Max2000℃
◉カスタマイズ自在なヒーター構造：
- 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用）
- 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用
◉PLCセミオートコントロール
タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。
煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。
◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整）
◉APC自動圧力コントロール
◉作業中の安全を確保
冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。
◉小型・省スペース
幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置）

実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。
本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

黒金化成株式会社は、ファインケミカルの受託開発を主に手がける、
開発支援型メーカーです。

共重合用モノマー、光重合開始剤、医農薬中間体から情報電子関連材料
まで幅広く利用されており、中でも変化の激しいIT関連向け電子材料の
需要に対しても迅速かつきめ細かなサービスで対応しています。

ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

【事業内容】
■共重合用モノマー、光重合開始剤、機能性有機材料、医農薬中間体、
特殊エステル、その他の有機合成中間体の製造

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

当社が取り扱う『厚膜用アルミナ基板』をご紹介します。

成形方法の改善によりブレーク性、並びにブレーク端面の状態に特長があり、
標準サイズ以外に口100mm～口120mm×1.2～1.5tmm、円形などの異形にも対応。

基板表面の平滑性、ボイド（基板表面の空孔）の大きさ、並びに単位面積
当たりの数は業界有数の品質水準です。

【特長】
■薄膜用途での使用が期待できる
■成形方法の改善によりブレーク性、並びにブレーク端面の
　状態に特長あり
■標準サイズ以外の寸法にも対応
■最小で0.08mm程度の穴の開いたアルミナ基板を提供可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社で取り扱っている「イットリウム化合物」についてご紹介いたします。

硝酸イットリウム(73％)で、化学式は、Y(NO3)3・6H2O。
形状は溶液で、用途は、二次電池正極材となっております。

ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。

【仕様】
■製品名：硝酸イットリウム(73％)
■化学式：Y(NO3)3・6H2O
■形状：溶液

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『高純度金属』は、II-VI族、III-V族半導体の原料として多く
使われている金属です。

電子材料に広く使用され、化合物半導体の進歩に貢献。

インジウムや、アンチモン、カドミウムなどさまざまな高純度金属製品を
取り扱っております。

【取扱品目(抜粋)】
■インジウム
■アンチモン
■カドミウム
■テルル
■亜鉛

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ノベリオンシステムズ株式会社は、核融合プラズマ加熱装置用の大電流負
イオン源技術を起源とする、技術開発型ベンチャー企業です。

新規の技術ニーズに応えるべく、酸素や各種の活性ガスが使用できるECR
（電子サイクロトロン共鳴）高密度プラズマ源およびECR大電流イオン
ビーム源の開発を行っております。

各種プラズマ応用装置をお考えのお客様は、是非当社をご用命ください。

【事業内容】
■プラズマ応用装置の開発と製造販売
■特殊成膜プロセスの加工受託

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社で取り扱っている「カドミウム化合物」について、ご紹介いたします。

製品名は、「硝酸カドミウム」で、形状は溶液です。
化学式は、Cd(NO3)2・4H2Oで、ニカド電池材料といった用途に。

ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。

【仕様】
■製品名：硝酸カドミウム
■化学式：Cd(NO3)2・4H2O
■形状：溶液

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

米国のXG Sciences社が開発したグラフェン･ナノプレートレットは複数のグラフェンシートが積み重なった構造をしている粉末状ナノ素材です。Cグレードは層厚2ナノ以下、エリアサイズは2μ以下、Mグレードは層厚6〜8ナノ、エリアサイズは5, 15, 25μ等選択可能。より厚いHグレードもあります。周囲のエッジ部に官能基を導入したり、表面に界面処理剤を施すことによりマトリックスとの親和性を高めることができます。

『BU-41/BU-66』は、ランプやLED、センサ用に開発され、
深紫外域での透過率を向上させたガラスです。

UV-C用ARコートに対応し、石英ガラスと比べ熱膨張係数が高く、
パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能。

薄肉化（0.2～0.5mm）が可能で、金メタライズコート、ARコートなど
各種薄膜を施すことができます。

【特長】
■石英ガラスと比べ熱膨張係数が高い
■パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能
■深紫外域での高い透過率
■薄肉化（0.2～0.5mm）が可能
■各種薄膜を施すことが可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社の『水酸化リチウム一水和物(Battery Grade)』をご紹介いたします。

当製品は劇物に指定されています。
強アルカリ性ですので、人体に附着した際は十分に
水洗いをしてください。

ご使用になられる際はSDSをご参考くださいますよう
お願いいたします。

【性状】
■分子量：41.96
■融点：N/A
■比重：1.51
■溶解度：10.9g/100g H2O @20℃

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、有機デバイス用の実験部材を取り扱っております。

FTOガラスはご指定のサイズでカット販売も可能。（カット精度±0.5mm）

また、各種有機デバイスの実験に有効な酸化チタンバッファ付FTOガラスも
取り扱っており、ご指定の基板へバッファ膜のみの成膜も承っております。

ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【取扱品目】
■FTOガラス
■酸化チタンバッファ膜

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『KJカーボンnanoシート』は、カーボンナノチューブとバインダーからなるシートです。KJ特殊紙独自のCNT高濃度分散技術より産出されたCNT分散液により、極薄で高密度のCNT膜を実現しました。目付、厚さ、塗工量、基材、バインダー、表面低効率などお客様のニーズに合わせた設計が可能です。

【特長】
■ 面全体での発熱
■ 高い温度均一性
■ 早い昇温レスポンス
■ 曲面への適用可能
■ 自在な形状への断裁可能

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

当カタログは、株式会社ヒラノK&Eが取り扱う真空装置を掲載した
製品カタログです。

マルチチャンバー方式を採用することにより生産量に応じたレイアウトが
可能な「FCCL」をはじめ、1000mm以上の広幅の成膜が可能な「透明導電膜」、
アモルファスシリコン系太陽電池の製造装置として納入実績のある「各種電池」
などをご紹介しております。

【掲載内容】
■FCCL
■透明導電膜
■脱ガス
■各種電池
■光学多層膜　など

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

『ナノフィルムメーカー』は、水晶振動子（QCM）によるセンシング
により、薄膜のナノオーダーでの膜厚制御が可能な薄膜製造装置です。

本装置により、アニオン性ポリーマーとカチオン性ポリマーの間に動く
クローン力を利用して吸着させ、連続的に膜を積層することにより生成
される機能性薄膜「交互吸着膜」を開発できるようになります。

物質の組み合わせを検討することにより、タッチパネルに使用される
電導性膜の製造などにも役立ちます。

【特長】
■ナノオーダーでの膜厚制御を実現
■自由にヘテロ構造を設計可能
■モノマ（Ru錯体など）の累積可能
■様々な機能性薄膜が開発可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を
ご紹介いたします。

当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。

「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や
PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。

用途に合わせてお選びいただけます。

【特長】
■ナノカーボン材料を合成可能
■3種類のラインアップ
■用途に合わせて選べる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体製造用材料（特殊ガラス）の加工・販売・卸業を手掛けている当社では、
石英素材の在庫品を豊富に取り揃えています。

特に、石英管はφ3～φ400まで品揃え豊富で1本からの販売にも対応可能。
ほかにも、石英ウール(9μ)の在庫もご用意しています。

★特殊ガラスのことでお困りの方はお気軽にお問い合わせ下さい！

【取り扱い材料（一例）】
■石英ガラス
■パイレックスガラス
■テンパックスガラス
■鉛ガラス
■各金属ガラス

※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

面状発熱体　標準品　FLヒーター01_PI_20Ωに粘着が付きました。
片面粘着付なので実装もラクラク、すぐ使えます。ヒーター本体は非常に薄くて柔らかい為、曲面や狭いスペ－スへの加熱に最適です。面状発熱体の主な用途は、車載ルート、医療ルート、液晶製造装置ルートなどで、最近では航空・宇宙業界、半導体業界、各種分析装置など、最先端の業界でも採用されています。
・詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

当社では、GaN、Sapphire、SiC基板上へのMOCVDによるエピ成長に
対応できるウエハを開発しております。

高周波デバイスをはじめ、パワーデバイス、照明など
様々な用途にご利用頂けます。
ご要望の際はお気軽にご連絡ください。

【特長】
■低欠陥密度
■表面平坦性
■4inch以上の大面積化が可能

※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

株式会社エナテックのCZウエハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウエハへの成膜が可能です。

酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD

窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD

金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu
その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系）、グラフェン膜、グラファイト

＊SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。

＊Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。

＊レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチまで対応可能です。

＊テストパターン付ウエハ（6インチから12インチ）も仕様により一貫で対応致します。

＊レチクルご支給による、露光/エッチングも承ります。（8インチと12インチ）
詳しくはお問い合わせ下さい。

超高真空容器で使用できる、低アウトガスの電線です。
【特長】
■超高真空用のカプトン被覆ワイヤー
■単線、より線、シールド線、同軸、熱電対線など、各種タイプをご用意
■長尺指定にも一部対応（詳しくはお問い合わせ下さい）

当社では、創業以来、大変ご好評をいただいているユニークなサービスとして、
コンビナトリアル技術を用いた薄膜試料を作成いたします。

任意組成の単一組成膜、2元および3元の組成傾斜膜が作成可能。

熱電材料・強誘電体・強磁性体・バッテリー電極・相変化メモリ材料・
金属間化合物など、様々な固体素子に用いられる機能性材料を成膜いたします。

【特長】
■経験豊かな技術スタッフが新機能性材料開発をお手伝い
■薄膜堆積法として、スパッタ法、
　PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用いている
■任意組成の単一組成膜、2元および3元の組成傾斜膜が作成可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

シリコン（ケイ素：Si）は地殻中に非常に豊富に存在し酸素の次に多い元素です。
数量は少量～t単位までご対応可能です。
お気軽にお問い合わせくださいませ。

その他、様々なラインナップを取り揃えております。
ページ下の『製品・サービス一覧 』からご確認下さいませ。

エアメンブレンは高品質グラフェンの量産に成功しました。CVD法等を用いて大面積で高品質なグラフェンおよび二次元材料を合成しています。さらにそれらを用いた製品開発を行っています。当社の特長は、グラフェン大面積高速成膜、グラフェン層数制御などに優れている点にあります。

【期待される用途】
■高速トランジスタ、センサー
■放熱シート
■フレキシブルディスプレイ、タッチパネル等

※グラフェンの事が分かる資料進呈中！詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。

『ガラス基板』はソーダライム、テンパックス、石英等をベースにした基板です。

透過性が非常に高く、例えばレーザーやカメラ等の車載用衝突回避システム
（検知センサー）や、表示機器、ソーラーパネル、センサー、LED等にお勧め。

任意の形状に抵抗体のパターンニングも可能で、発熱源（ヒーター基板）
としても作製できます。

ご用命の際は、お問い合わせください。

【特長】
■ソーダライム、テンパックス、石英等にパターンニング可能　　
■試験管やビーカー等の立体形状にもパターンニングできる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

独自の膜接合技術で円筒型パラジウム合金薄膜モジュールを製品化