新しい薄膜材料の適用とは？課題と対策・製品を解説

有機ELデバイスの分野では、高い発光効率と長寿命化が求められています。電荷輸送材料の品質は、これらの性能を左右する重要な要素です。特に、電荷の移動効率を高めるためには、高純度な材料が必要不可欠です。当社の『ヨード-9,9-ジメチルフルオレン』は、有機ELデバイスの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・有機ELディスプレイ
・有機EL照明

【導入の効果】
・電荷輸送効率の向上
・デバイス性能の向上
・高品質な有機ELデバイスの実現

「マルテンサイトエピタキシーPZT単結晶圧電薄膜ウェハ」について
ご紹介いたします。

独自の多能性中間膜により、高品質な単結晶薄膜を実現し、一般的な
圧電薄膜と比較して、優れた圧電特性を達成。

また、ポーリング処理がなくとも分極を保持する自発圧電ができ、
用途に応じた仕様をご用意することが可能です。

【ラインアップ】
■モノワンタイプ（センサ用途）
■デリワンタイプ（超音波トランスデューサ用途）
■コ・ポリタイプ（アクチュエータ用途）

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

Qingdao JZLEAP Semiconductor Co., Ltdは中国Jiazhan Holding Groupと台湾LEAP Semiconductor Co.により2021年に中国　青島に設立された会社です。SiC基板の研究開発、製造、販売を行っています。ヨーロッパ、アメリカの研究機関と共にSiC製品チェーンの問題改善に努め研究開発へ継続的に投資してきました。SiC材料のコストはデバイスコストの 50% 以上を占めており、これが需要の拡大を抑えるボトルネックとなっていました。高品質な生産ラインの構築と歩留まり改善によりSiC製品の品質、コスト競争力を高め更なる商業化を目指すグローバル企業です。

https://jzleap-semi.com/en/about/about

グループ企業のLEAPSiC Semiconductorは、SiC MOSFET/ダイオードといったパワーデバイス/のモジュールの製造・販売を行っています。グループ内で材料、SiCウエハ、製品デザイン、SiCデバイスまで総合的にサポートできます。

https://leapsic-semi.com/en

日本機能材料株式会社は、米国のローレンス半導体研究所(Lawrence Semiconductor Research Laboratory, inc.　略称LSRL) にエピタキシャル成長を依頼します。
日本機能材料株式会社はお客様とLSRLとの間の適切な橋渡しをします。
LSRLとの密接なやりとりにより仕様を纏めます。
IV族に関するどのようなエピでもまずご相談ください。
ご質問も遠慮なくお寄せください。
御要望があれば訪問し、御説明いたします。

【事業目的】
○半導体、電子部品材料、新機能材料の開発、販売、輸入
○コンサルティング業務

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

◉最高使用温度 Max2000℃
◉カスタマイズ自在なヒーター構造：
- 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用）
- 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用
◉PLCセミオートコントロール
タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。
煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。
◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整）
◉APC自動圧力コントロール
◉作業中の安全を確保
冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。
◉小型・省スペース
幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置）

実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。
本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

超高真空容器で使用できる、低アウトガスの電線です。
【特長】
■超高真空用のカプトン被覆ワイヤー
■単線、より線、シールド線、同軸、熱電対線など、各種タイプをご用意
■長尺指定にも一部対応（詳しくはお問い合わせ下さい）

ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。
石英ガラス等の管状炉になっています。
化合物半導体のエピタキシャル成長など、純度を重視するプロセスに利用できます。
直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な実験を行う研究室、教育機関に適しています。

◆詳しくは
　製品カタログ（PDFダウンロード）をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
　関連リンクからも製品カタログをご覧いただけます。

『ソリッドSiC』は当社独自のCVD技術を応用し開発されました。

高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、
幅広い様々な用途で高いパフォーマンスを発揮。

半導体装置に最適化された当製品は半導体の可能性を拡げる
材料として期待されています。

【特長】
■高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れている
■幅広い様々な用途で高いパフォーマンスを発揮
■パーティクル低減・ライフ向上に貢献
■高い熱伝導率・熱衝撃耐性

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『BU-41/BU-66』は、ランプやLED、センサ用に開発され、
深紫外域での透過率を向上させたガラスです。

UV-C用ARコートに対応し、石英ガラスと比べ熱膨張係数が高く、
パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能。

薄肉化（0.2～0.5mm）が可能で、金メタライズコート、ARコートなど
各種薄膜を施すことができます。

【特長】
■石英ガラスと比べ熱膨張係数が高い
■パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能
■深紫外域での高い透過率
■薄肉化（0.2～0.5mm）が可能
■各種薄膜を施すことが可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替）
高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応
高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション
-1) Max600℃（ランプ加熱）
-2) Max1000℃（C/Cコンポジット）
-3) Max1000℃（SICコーティング）
ロードロックチャンバー逆スパッタステージ
-1) 150W、又は
-2) Soft-Etching(＜30W）
システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス
全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理

70台以上の販売実績を誇る多目的ＰＬＤ装置です。豊富な実績に基づいた設計により安定した動作が可能で、他のスパッタ源や蒸着源を組み合わせることも可能です。

当社が取り扱う『厚膜用アルミナ基板』をご紹介します。

成形方法の改善によりブレーク性、並びにブレーク端面の状態に特長があり、
標準サイズ以外に口100mm～口120mm×1.2～1.5tmm、円形などの異形にも対応。

基板表面の平滑性、ボイド（基板表面の空孔）の大きさ、並びに単位面積
当たりの数は業界有数の品質水準です。

【特長】
■薄膜用途での使用が期待できる
■成形方法の改善によりブレーク性、並びにブレーク端面の
　状態に特長あり
■標準サイズ以外の寸法にも対応
■最小で0.08mm程度の穴の開いたアルミナ基板を提供可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『半導体製造装置用プロセスコントローラー』は、当社の縦型減圧CVD装置
「HG-21」に搭載された、オリジナルの製品です。

産業機器、医療・農業など異分野へ幅広い応用が可能。

PCから簡単にプロセス条件の変更が行えます。またDI・DO・AI・AOで制御する
多くの装置に応用可能で、各種研究開発用装置に大いに利用できます。

【特長】
■当社の縦型減圧CVD装置「HG-21」に搭載
■グラフィカルに各種装置・PLCを制御
■PCから簡単にプロセス条件を変更
■DI・DO・AI・AOで制御する多くの装置に応用可能
■各種研究開発用装置に大いに利用できる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ティーイーアイ ソリューションズ株式会社は、研究開発支援を提供するインテグレーテッドファンウドリーです。
ナノテクノロジー、バイオテクノロジー、太陽電池、クリーンエネルギーなど、半導体技術を応用し、様々な分野の研究開発が可能です。
柔軟なビジネスモデル・厳密な情報管理・顧客第一主義を基本理念として、お客様の長期に渡るビジョンをサポートしていきます。

【事業内容】
○技術開発サポート
○テストウェハー販売
○分析・評価サービス
○コンサルティング事業

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

当社の『デルタベータHNRV』は元々設計締付圧力(Y)が低いデルタシールと内部ばねの特殊加工の組合せで、
ゴムOリングからの置換と性能向上、PFASフリーを実現します。

「真空のゴムOリング ガス透過やガス放出を無くしたい」
「既設フランジのボルト数やサイズ変更が出来ない」
「ゴムOリングのPFASに悩んでいる」等、
そんな悩みをお持ちの方に奨めるメタルシールです。

【特長】
■主に超高真空用
■従来より更に低い設計締付圧力
■エラストマー製Oリングとの交換が可能
■断面の接触側に2つのデルタ形突起がある
■PFASフリー

既設のフランジに対して使用出来ることを保証するものではありません。
既設フランジ仕様のご提供が必要です。

詳しくはPDFダウンロードまたはお気軽にお問い合わせください。

面状発熱体　標準品　FLヒーター10_PI_25Ωに粘着が付きました。
片面粘着付なので実装もラクラク、すぐ使えます。ヒーター本体は非常に薄くて柔らかい為、曲面や狭いスペ－スへの加熱に最適です。面状発熱体の主な用途は、車載ルート、医療ルート、液晶製造装置ルートなどで、最近では航空・宇宙業界、半導体業界、各種分析装置など、最先端の業界でも採用されています。
・詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

熱交換器、クーリングタワー設備の機器、補修部品を通じてプラントの省エネ提案をさせていただきます。
純水・超純水向　マイクロ熱交換器　精密設計・製造

全自動溶接機では溶接が不可能な、極小固定管板部分。
この技術が、半導体などの高レベル純水・超純水市場を支えます。

※その他詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

株式会社ティーディーワイでは『蒸着材料・ターゲット材料』を取り扱って
おります。

「蒸着材料」とは薄膜を製作する技術の一つである真空蒸着法(熱蒸着)で
用いる材料で、一般的にはナノオーダーの薄膜を作るための材料です。

また「ターゲット材料」であるスパッタリングターゲットは、薄膜として
現代社会の様々な分野で使用されており、当社では高品質及び短納期の
ゲルマニウムターゲット及びシリコンターゲットをご提供いたします。

【製品詳細】
＜蒸着材料：Ge蒸着材＞
■Ge粒状D
　・純度：6N以上
　・寸法：2mm～8mm
■Ge粒状C
　・純度：6N以上
　・寸法：3mm～6mm

※海外品も取り扱いをしております。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

MAT21の特徴
⇒高耐食ニッケル基合金
・Ni-Cr-Mo系合金にTaを加え耐局部性腐食を高めた新合金です
・孔食発生温度（℃）　max150℃
・孔食,隙間腐食や溶接部の腐食に強い
・非酸化性の硫酸や塩酸溶液中での耐食性に優れる

当社では、電子材料・半導体用の化合物を取り扱っております。

電子部品、ファインセラミックス、導電材料、絶縁材料、半導体材料、
電極材料、着色粉体塗料などの原料および添加剤として使用されています。

炭酸銅、酸化銅、蓚酸マグネシウム、蟻酸ニッケル、蓚酸銅、
チタン酸アルミニウムがございます。

【化合物一覧】
■炭酸銅
■酸化銅
■蓚酸マグネシウム
■蟻酸ニッケル
■蓚酸銅
■チタン酸アルミニウム

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

セイカが取り扱う、『HFBAPP』をご紹介いたします。

ホームページに掲載している製品以外にも様々な製品を扱っています。
サンプル・お見積をご検討されている方は、当社までお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■化合物名：2,2-Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane
■化学式：C27H20F6N2O2
■M.W.(分子量)：518.45
■CAS No.：69563-88-8
■融点：160℃

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『分極装置（実験用）』は、圧電素子の分極を行う為の装置です。

シリコンオイル中にてデバイスに高電圧を印加し、分極を行います。
また、シリコンオイルは付属のサーモメイトにて加熱します。

【特長】
■シリコンオイル中にてデバイスに高電圧を印加し、分極を行う
■シリコンオイルは付属のサーモメイトにて加熱

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ナノフィルムメーカー』は、水晶振動子（QCM）によるセンシング
により、薄膜のナノオーダーでの膜厚制御が可能な薄膜製造装置です。

本装置により、アニオン性ポリーマーとカチオン性ポリマーの間に動く
クローン力を利用して吸着させ、連続的に膜を積層することにより生成
される機能性薄膜「交互吸着膜」を開発できるようになります。

物質の組み合わせを検討することにより、タッチパネルに使用される
電導性膜の製造などにも役立ちます。

【特長】
■ナノオーダーでの膜厚制御を実現
■自由にヘテロ構造を設計可能
■モノマ（Ru錯体など）の累積可能
■様々な機能性薄膜が開発可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『SCPUシリーズ』は、高耐熱性・高絶縁性に優れたセラミックシートに
タングステン抵抗体を挟み込んだヒーターです。

発熱体のタングステン抵抗体は高温域での使用に好適。

独自の発熱パターンを採用しており、筐体も小さく薄くコンパクトに
設計している為、省スペースでの加熱が可能となっております。

昇温スピードも極めて高く、レスポンスに優れた製品です。

【特長】
■発熱体のタングステン抵抗体は高温域での使用に適している
■筐体は薄くコンパクトに設計しており、省スペースでの加熱が可能
■昇温スピードが極めて高く、レスポンスに優れている
■約30～40秒程度で500℃まで昇温することができる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

有機エレクトロニクスの応用は急速に拡大しており、ディスプレイ技術、再生可能エネルギー、ウェアラブルエレクトロニクスなどの分野に革命をもたらしています。
柔軟性、軽量性、コスト効率に優れた有機材料は有機発光ダイオード、有機電界効果トランジスタ、有機太陽電池などのデバイスの主要コンポーネントであり、向き材料で作られた従来のデバイスに代わる柔軟な選択肢を提供しています。

低分子有機エレクトロニクスの製造方法には、乾式法と湿式法の2種類があります。
湿式法では、溶媒と有機化合物の適合性は最終製品の完全性と望ましい電子特性を維持する為に不可欠であり、有機化合物の溶解度の決定は溶媒を選択する上で非常に重要な項目です。

溶解度情報はいくつかの方法で取得できますが、Technobis社のCrystal16ではポリサーマル法により、簡便かつ文献値とよく一致した結果を得ることが可能です。

半導体製造用材料（特殊ガラス）の加工・販売・卸業を手掛けている当社では、
石英素材の在庫品を豊富に取り揃えています。

特に、石英管はφ3～φ400まで品揃え豊富で1本からの販売にも対応可能。
ほかにも、石英ウール(9μ)の在庫もご用意しています。

★特殊ガラスのことでお困りの方はお気軽にお問い合わせ下さい！

【取り扱い材料（一例）】
■石英ガラス
■パイレックスガラス
■テンパックスガラス
■鉛ガラス
■各金属ガラス

※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

『スパッタリングターゲット』は、純度99.5％～99.999％
までの高純度品を誇る、高品質薄膜形成材料です。

当社では、お客様のビジネス用途にマッチした
各種スパッタリングターゲットの製作が可能。

ターゲット材の選定からボンディング加工、評価まで、
スパッタリングターゲットに関するすべてをおまかせください。

【特長】
■純度99.5％～99.999％までの高純度品を誇る
■開発用として合金の製作も可能
■様々な種類のスパッタリングターゲットの製作実績あり
■様々なご要望にお応え可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。

PVD法による装置は、
* PLD（パルスレーザ蒸着）装置
* マグネトロンスパッタ装置
* EB電子ビーム蒸着装置
* イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法
に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。

高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。

製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。

当社で取り扱っている「イットリウム化合物」についてご紹介いたします。

硝酸イットリウム(73％)で、化学式は、Y(NO3)3・6H2O。
形状は溶液で、用途は、二次電池正極材となっております。

ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。

【仕様】
■製品名：硝酸イットリウム(73％)
■化学式：Y(NO3)3・6H2O
■形状：溶液

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

面状発熱体　標準品　FLヒーター01_PI_20Ωに粘着が付きました。
片面粘着付なので実装もラクラク、すぐ使えます。ヒーター本体は非常に薄くて柔らかい為、曲面や狭いスペ－スへの加熱に最適です。面状発熱体の主な用途は、車載ルート、医療ルート、液晶製造装置ルートなどで、最近では航空・宇宙業界、半導体業界、各種分析装置など、最先端の業界でも採用されています。
・詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

高度情報通信化社会を形成するあらゆる情報通信機器に搭載される半導体は、各社各様最先端の技術開発が行われております。
当社では先端技術開発に必要不可欠な、100μm以下の薄厚ウエハーや各種開発実験・各種装置評価用として開発ツールとなる、ダミーウエハー・ウエハーへの各種膜付加工品・ＴＥＧ品・プローバー評価用品等をご提供しております。
また、資源の再利用として、ウエハーの再生加工も行なっておりますので、お気軽にお問合せ下さい。
※ 太陽電池用材料ございます

当社では、塗布材料で電子回路を塗って描くプリンタブル電子回路技術を
初めとし、実装技術、薄膜形成技術、めっき技術、測定・評価技術など、
様々な技術とノウハウによって皆さまの研究・開発をサポートいたします。

物質・材料研究機構にて研究開発を行ったプリンタブルエレクトロニクス技術は、
世界最高レベルの材料特性と精細度、および薄膜トランジスタのような
素子形成技術を有します。

また実装事業では、低温プロセスかつ十分な強度で実装が可能な、
新しい実装技術をご提供。さらに当社の試作能力、分析・評価技術によって、
従来では難しかった新しい材料や機能の試験を行い、皆さまをサポートします。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

sic表面熱分解法　エピタキシャルグラフェン結晶成長装置の設計開発コンセプトは、グラフェン成長装置の小型化と簡易化。高結晶品質化・成長再現性、表面分析機器の増設・連結性と設備投資しやすい経済性です。回折パターンよりグラフェンの形成を確認。グラフェン／バッファー層が形成されています。ストリークはファセット上のグラフェンの1次元的な構造によるものと考えています。約250nm幅のテラス（0001）上にグラフェンが均一に形成され周期構造はオフ基板特有のステップパンチングの結果です。顕微Raman測定でもグラフェンの形成を確認しました。サンプル表面の光学顕微鏡像に示すテラス（赤）及びファセット（青）のRamanスペクトルを示しています。典型的なグラフェンスペクトルであり．2Dの半値幅から1層グラフェンであることが確認されまた、Dバンドはファセットにおいて大きくグラフェンの1次元構造を反映した結果であると思われます。マッピングにおいてもその様子がはっきりと観察されました。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

当社では、MOCVD装置を用いたLED構造の成長技術を基幹とする窒化物半導体結晶成長をお客様のご要望に応じて承っております。

また、独自の結晶成長の試作にも積極的に取り組んでおります。

東京化成工業の有機トランジスタ向けのp型有機半導体、n型有機半導体、両極性有機半導体などを揃えています。

【製品】
■脂肪族アミン
■芳香族アミン
■脂肪族カルボン酸無水物
■芳香族カルボン酸無水物
■脂肪族イソシアナート
■芳香族イソシアナート

当社では黒鉛を原料に、独自の製法で開発したグラフェンを
製造、販売しております。

導電性も有しており、種々の形態で提供が可能。
また高濃度分散液(～20wt%)も可能です。

【特長】
■1層剥離
■極めて平坦
■水、極性有機溶媒に分散可能
■濃度も自在
■塗布による薄膜の形成が可能

※お問い合わせはメールにて受付ております。フォームよりご入力ください。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

【特徴】
●極低温(常温～100℃)での成膜
　熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
●リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用
　高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
　OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
●膜の均一性と緻密性
　微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。

【応用例】
・大面積対応可能
・高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
・SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
・CPO（Co-Packged-Optics）など繊細かつ複雑な3D構造への薄膜成膜が可能
・R＆Dから生産まで対応

【成膜のご相談やテスト成膜可能です】
　クリエイティブコーティングスでは、テスト成膜やサンプル作成を承っております。
　お客様のご要望を聞きし、適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。
　まずはお気軽にご相談ください。

三菱鉛筆株式会社では、ニーズに応じた『CNT分散液』を提供いたします。

当社の分散技術により状態コントロール。
溶媒は水、NMP、酪酸ブチル等、CNTはSWCNT、NWCNT、CNF等です。

電池材料への展開において、良好な特性がございます。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【サンプル例】
■長尺/高純度タイプ：濃度0.4％、抵抗値～1000Ω/□、CNT中メタル～0.1％
■高濃度タイプ：濃度3.0％、抵抗値～10000Ω/□、CNT中メタル1～2％
■高導電タイプ：濃度0.2％、抵抗値～100Ω/□、CNT中メタル0.3～1％

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

WAVESは、「Research」「Insight」「Development」を軸に事実から波及する可能性を形にする会社です。

アメリカのパートナー企業（VEM）より、半導体用薄膜金属材料を輸入販売し、中国やその他の国からの輸入及び輸出の材料調達サービスも行っております。

この他に、半導体市場に関する市場調査、市場開拓や業務受託、半導体用薄膜金属材料の開発支援をパートナー企業と協力し実現します。

【事業内容】
■半導体材料の輸出入
■市場調査、市場開拓
■新規製品開発
■業務受託（営業、マーケティング 、検査梱包出荷）
■海外調達サービス
■技術コンサル
■新規事業コンサル


※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

導電性ポリマーとは電気伝導性を持つ高分子化合物（プラスチック等）です。透明電極用途や帯電防止剤用途として、タッチパネル、コンデンサー、有機ELディスプレイなどの身近な電子機器に数多く利用されています。クレバが扱う導電性ポリマーは最も安定性と導電性を持ち合わせている「PEDOT/PSS 」ですが、原液単独での使用はできず、対象基材に合わせた界面活性剤（平面上の広がり度合を調整する添加剤)やPEDOT/PSS の粘度の動的粘弾性、基板への均一塗布や密着性の調整するためのバインダーなどの添加剤を原液に配合して製造する導電性ポリマーインク（液体）の対象基材に塗布することで電気伝導性を発揮します。

当社では、ポリエステルエラストマー（ハイトレル）にて光ファイバー用
保護チューブの製造をしております。

寸法も任意サイズでの製造が可能で、グレードについても一般タイプ、難燃
タイプ等ご用意。識別の為の着色も可能で各色のカラーバッチを取りそろえ
ております。

また、当社では優れた寸法精度で熱溶融押し出し成形により各種フッ素
チューブの成形をしております。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■ポリエステルエラストマーにて光ファイバー用保護チューブの製造
■一般タイプ、難燃タイプ等ご用意
■識別の為の着色も可能で各色のカラーバッチをご用意
■熱溶融押し出し成形により各種フッ素チューブの成形も対応

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

縦型、枚葉、ウェハーサイズ、ガス種、フットプリントなど多くの使用に対応。汎用性を重視したハイグレード縦型減圧CVD装置です。標準仕様を基にカスタマイズを施し、より安価に製造することも可能です。

【特長】
■スモールフットプリントながらウエハーサイズ3" 6" 8"/inchに対応
■ヒーター昇降機能によりナチュラル酸化を低減
■常温～900℃まで安定した温度コントロールを実現

※詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。

『セラマシール』は、超高真空(10-8Pa台)まで使用可能な米国セラムテッ
ク社製の電流導入端子です。

約1800種類の商品があり、ICF、JIS、ISO、特型フランジに取り付け
可能。日本でも数多く使用されております。

全数リークテストを実施し、納期は原則として即納ですので、ご要望
の際はお気軽に、お問い合わせください。

【特長】
■ベーキング温度450℃(常用温度 350℃)
■目的にあった端子の選定が可能
■超高真空(10-8Pa台)まで使用可能
■取り付け後、全数リークテストを実施

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

当社では、電子材料の専門商社として非鉄金属・電子材料など
エレクトロニクスに欠かせない製品をご提供しております。

小ロットから大ロットの製品供給などお客様のニーズに柔軟に対応可能。
また、これまでの事業の中で蓄積した膨大な製品情報を保有していることを
強みとし、お客様ごとに好適な製品を提供いたします。

【取扱製品】
■伸銅品
■マグネット
■フェライト
■電子材
■特殊鋼　など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社では、有機デバイス用の実験部材を取り扱っております。

FTOガラスはご指定のサイズでカット販売も可能。（カット精度±0.5mm）

また、各種有機デバイスの実験に有効な酸化チタンバッファ付FTOガラスも
取り扱っており、ご指定の基板へバッファ膜のみの成膜も承っております。

ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【取扱品目】
■FTOガラス
■酸化チタンバッファ膜

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『光ファイバカプラ（Optical fiber coupler）』とは、光信号の
分岐・合流および合波・分波に用いられる特に代表的な光ファイバ
コンポーネンツです。

当社では2本の光ファイバを加熱溶融し融着延伸して作製する溶融型
ファイバカプラ（Fused fiber coupler）を製造・販売。

当社では、非通信帯域の光ファイバカプラ開発に注力してきたため、
LD, SLD, ASE, SC光源等、様々な波長帯の光源を所有。

405～2200nmまでの幅広い波長に対応可能です。また、波長帯や
アプリケーションによっては、通信用途では問題にならなかった
現象が生じ、思わぬトラブルに見舞われることがあります。

それらを解決してきた実績と知見が当社の強みとなっています。

【特長】
■光信号の分岐・合流および合波・分波に用いられる
■2本の光ファイバを加熱溶融し融着延伸して作製
■405～2200nmまでの幅広い波長に対応可能

※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

UVA・UVB・UVCを含む全波長帯のUV-LED製品を提供しております。さらに、エピタキシャルウェーハのカスタマイズ、チップの受託製造、半導体の試験・解析などの技術サービスも提供しています。

当社では、GaN、Sapphire、SiC基板上へのMOCVDによるエピ成長に
対応できるウエハを開発しております。

高周波デバイスをはじめ、パワーデバイス、照明など
様々な用途にご利用頂けます。
ご要望の際はお気軽にご連絡ください。

【特長】
■低欠陥密度
■表面平坦性
■4inch以上の大面積化が可能

※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

『KJカーボンnanoシート』は、カーボンナノチューブとバインダーからなるシートです。KJ特殊紙独自のCNT高濃度分散技術より産出されたCNT分散液により、極薄で高密度のCNT膜を実現しました。目付、厚さ、塗工量、基材、バインダー、表面低効率などお客様のニーズに合わせた設計が可能です。

【特長】
■ 面全体での発熱
■ 高い温度均一性
■ 早い昇温レスポンス
■ 曲面への適用可能
■ 自在な形状への断裁可能

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

当製品は、湿式合成技術によって製造する強誘導体です。

微細でシャープな粒度分布をもつ粒子であることが特長。
高誘電率であるため積層セラミックコンデンサなどの原料に
用いられています。

一次粒子径として30～150nmまでの幅広いバリエーションの製品を
提供いたします。是非お問い合わせください。

【特長】
■ニーズに応じた粒子径に対応
■粒度分布と粒子形状の均一性
■高分散性
■湿式合成技術によって製造
■微細でシャープな粒度分布をもつ粒子

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。