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半導体製造装置・材料

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新しい薄膜材料の適用とは?課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは?

半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。

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【自動車センサー向け】台湾産 酸化タングステン(BTO)

【自動車センサー向け】台湾産 酸化タングステン(BTO)
自動車業界では、安全性の向上と環境負荷の低減が求められており、そのために高度なセンサー技術が不可欠です。特に、排ガスセンサーや温度センサーなど、高精度な測定が求められる分野では、センサー材料の性能が重要になります。酸化タングステン(ブルー)(BTO)は、その優れた特性により、これらのセンサーの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 * 排ガスセンサー * 温度センサー * 各種ガスセンサー 【導入の効果】 * 高感度・高精度なセンサーの実現 * センサーの耐久性向上 * 環境性能の向上

【自動車センサー向け】ブラジル産 五酸化タンタル(Ta₂O₅)

【自動車センサー向け】ブラジル産 五酸化タンタル(Ta₂O₅)
自動車業界では、安全運転支援システムや自動運転技術の進化に伴い、高性能なセンサーが不可欠となっています。これらのセンサーは、周囲の状況を正確に把握し、車両の制御に重要な役割を果たします。特に、温度変化や振動に強い、高精度なセンサー材料が求められています。五酸化タンタル(Ta₂O₅)は、高い誘電率、耐熱性、耐食性を有し、これらの要求に応えることができます。当社のブラジル産五酸化タンタル(99.7%)は、自動車センサーの高性能化に貢献します。 【活用シーン】 ・車載レーダー ・LiDAR ・各種センサーの電子部品 【導入の効果】 ・センサーの耐久性向上 ・高精度なデータ取得 ・長期的な安定稼働

【ディスプレイ向け】台湾産 酸化タングステン(ブルー)(BTO)

【ディスプレイ向け】台湾産 酸化タングステン(ブルー)(BTO)
ディスプレイ業界では、鮮明な発色と高い耐久性が求められます。特に、屋外や高輝度環境下で使用されるディスプレイにおいては、発光材料の安定性と色再現性が、製品の品質を左右します。不適切な発光材料は、色褪せや輝度低下を引き起こし、視認性を損なう可能性があります。当社の台湾産 酸化タングステン(ブルー)(BTO)は、高純度で安定した発光特性を提供し、ディスプレイの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 * OLEDディスプレイ * LEDディスプレイ * 電子ペーパー * デジタルサイネージ 【導入の効果】 * 鮮やかな青色の発色 * 高い光安定性 * 長寿命化 * 色再現性の向上

【半導体向け】薄膜回路基板で高性能化

【半導体向け】薄膜回路基板で高性能化
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、放熱性や高密度実装が可能な基板が求められています。特に、レーザーダイオードやLEDなどの実装においては、微細回路パターンと高い熱伝導率が重要です。不適切な基板は、デバイスの性能低下や寿命短縮につながる可能性があります。当社の薄膜回路基板は、成膜・薄膜加工技術を応用し、高精度な微細回路パターンと優れた熱伝導率を実現します。 【活用シーン】 レーザーダイオード(LD)実装基板 発光ダイオード(LED)実装基板 フォトダイオード(PD)実装基板 光通信(FTTx・データセンター・モバイル基地局) 【導入の効果】 デバイスの高性能化に貢献 高い信頼性を実現 製品の小型化・高密度実装に貢献

【IT開発向け】長窯株式会社

【IT開発向け】長窯株式会社
IT開発業界では、電子部品の小型化と高性能化が進み、それらを支える材料の信頼性が重要視されています。特に、高温環境や高周波特性が求められる電子部品においては、ガラス焼結体を用いた電子部品の安定した性能が不可欠です。不適切な材料選定は、製品の故障や性能劣化につながる可能性があります。長窯株式会社の硝子焼結体は、お客様の製品を支える「優れた脇役」として、開発を支援します。 【活用シーン】 ・電子部品の開発 ・高周波デバイスの開発 ・高温環境下での利用を想定した電子部品の開発 【導入の効果】 ・電子部品の信頼性向上 ・製品の高性能化 ・長期的な製品の安定性確保

【光ファイバー向け】ブラジル産 五酸化タンタル

【光ファイバー向け】ブラジル産 五酸化タンタル
光ファイバー業界では、高品質な光伝送を実現するために、屈折率を精密に制御できる材料が求められます。特に、長距離通信や高速データ通信においては、光ファイバーの損失を最小限に抑え、安定した伝送性能を維持することが重要です。不適切な材料選定は、信号の減衰や歪みを引き起こし、通信品質を低下させる可能性があります。本製品は、光ファイバー製造における添加剤として利用され、屈折率の調整や光学的特性の改善に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー製造 ・光通信システムの部品 【導入の効果】 ・光ファイバーの性能向上 ・通信品質の安定化 ・長期安定供給の実現

【電子材料向け】ニューミクロシクロマット

【電子材料向け】ニューミクロシクロマット
電子材料業界では、薄膜化技術の進展に伴い、材料の微細化が求められています。材料の粒子径が均一で微細であるほど、薄膜の品質が向上し、製品の性能向上に繋がります。ニューミクロシクロマットは、空気の高速過流による圧力変動で原料を自己破壊させる粉砕機です。回転数や吸引空気量の調整により目的の粒度が得られ、電子材料の薄膜化に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料の粉砕 ・薄膜形成プロセスの前処理 ・高機能樹脂の粉砕 【導入の効果】 ・均一な粒子径の実現 ・薄膜の品質向上 ・製品性能の向上

【電池向け】チリ産 水酸化リチウム

【電池向け】チリ産 水酸化リチウム
電池業界では、高性能な電極材料が求められています。特に、リチウムイオン電池の電極材料として、高純度で安定供給が可能な水酸化リチウムは、電池の性能向上に不可欠です。不適切な材料や供給体制は、電池の性能低下や製造コストの増加につながる可能性があります。当社チリ産水酸化リチウムは、SQM社の日本総販売店として、安定供給を実現し、BCP対策にも貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池の電極材料 ・各種電池材料 ・工業用途 【導入の効果】 ・電池の性能向上 ・安定供給によるBCP対策 ・環境配慮

【ディスプレイ向け】台湾産 三酸化タングステン(YTO)

【ディスプレイ向け】台湾産 三酸化タングステン(YTO)
ディスプレイ業界におけるスパッタリング技術では、高品質な薄膜形成が求められます。特に、均一な膜厚と高い密着性は、製品の性能を左右する重要な要素です。不適切な材料やプロセスは、ディスプレイの表示不良や寿命低下につながる可能性があります。台湾産 三酸化タングステン(YTO)は、スパッタリング材料として、高品質な薄膜形成を可能にし、ディスプレイの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・フラットパネルディスプレイ(FPD) ・有機ELディスプレイ(OLED) ・タッチパネル 【導入の効果】 ・高純度材料による高品質な薄膜形成 ・均一な膜厚と高い密着性の実現 ・ディスプレイの表示品質と寿命向上

【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン

【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン
有機ELデバイスの分野では、高い発光効率と長寿命化が求められています。電荷輸送材料の品質は、これらの性能を左右する重要な要素です。特に、電荷の移動効率を高めるためには、高純度な材料が必要不可欠です。当社の『ヨード-9,9-ジメチルフルオレン』は、有機ELデバイスの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・有機ELディスプレイ ・有機EL照明 【導入の効果】 ・電荷輸送効率の向上 ・デバイス性能の向上 ・高品質な有機ELデバイスの実現

【ディスプレイ向け】高画質を実現する五酸化ニオブ

【ディスプレイ向け】高画質を実現する五酸化ニオブ
ディスプレイ業界では、高画質・高精細化が常に求められています。特に、光学ガラスや光学薄膜に使用される材料は、高い透明性と屈折率制御性が重要であり、ディスプレイの性能を左右する要素の一つです。五酸化ニオブは、これらの要求に応える素材として注目されています。当社のインド産五酸化ニオブは、光学グレード(純度99.99%以上)であり、高画質ディスプレイの実現に貢献します。 【活用シーン】 ・高画質ディスプレイ ・光学ガラス ・光学薄膜 【導入の効果】 ・高透明度と高屈折率の両立 ・ディスプレイの性能向上 ・最先端の光学機器・レンズ・電子部品への活用

【計測機器向け】ラティス ECP3ファミリーFPGA

【計測機器向け】ラティス ECP3ファミリーFPGA
テスト・計測業界では、高精度なデータ収集と処理が求められます。特に、信号処理やデータ解析を行う計測機器においては、FPGAの性能が重要です。FPGAの供給が途絶えると、製品開発やメンテナンスに支障をきたす可能性があります。ロチェスターエレクトロニクスは、製造中止になったラティス ECP3ファミリーFPGAを提供し、お客様の継続的な製品供給を支援します。 【活用シーン】 ・計測機器の設計・開発 ・既存計測システムの保守・アップグレード ・データ収集・処理システムの構築 【導入の効果】 ・FPGAの安定供給による製品寿命の延長 ・既存システムの継続利用 ・迅速な修理・交換対応

【エレクトロニクス基板向け】チリ産水酸化リチウム

【エレクトロニクス基板向け】チリ産水酸化リチウム
エレクトロニクス業界、特に基板製造においては、高品質な材料の安定供給が重要です。基板の性能は、使用される材料の品質に大きく左右され、リチウム化合物は、その製造に不可欠な材料の一つです。安定した品質と供給体制が、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池材料 ・各種工業用途 【導入の効果】 ・高品質な基板製造をサポート ・安定供給によるBCP対策

【電池製造向け】チリ産 炭酸リチウム テクニカルグレード

【電池製造向け】チリ産 炭酸リチウム テクニカルグレード
電池製造業界では、電極材料の品質と安定供給が、製品の性能と信頼性を大きく左右します。特に、リチウムイオン電池の需要増加に伴い、高品質な炭酸リチウムの安定的な確保が重要になっています。不純物の少ない炭酸リチウムは、電池の寿命を延ばし、性能を向上させるために不可欠です。当社チリ産炭酸リチウム テクニカルグレードは、高品質な電極材料として、電池の性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池の電極材料 ・正極材、負極材の製造 ・電池メーカー 【導入の効果】 ・電池の性能向上 ・安定供給によるBCP対策 ・環境配慮への貢献

【超電導向け】高純度五酸化ニオブによる安定化

【超電導向け】高純度五酸化ニオブによる安定化
超電導分野では、デバイスの性能を最大限に引き出すために、材料の純度と安定性が重要です。特に、超電導材料の製造や、超電導現象の安定化には、不純物の少ない高品質な材料が不可欠です。五酸化ニオブ(Nb₂O₅)は、その高い屈折率制御性から、超電導デバイスの安定化に貢献する可能性があります。当社のインド産五酸化ニオブは、99.99%以上の高純度を誇り、超電導材料の性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・超電導材料の研究開発 ・超電導デバイスの製造 ・超電導現象の安定化 【導入の効果】 ・超電導材料の性能向上 ・デバイスの安定性向上 ・研究開発の効率化

【ノートPC向け】チリ産 炭酸リチウム バッテリーグレード

【ノートPC向け】チリ産 炭酸リチウム バッテリーグレード
ノートPC業界では、バッテリーの軽量化と長寿命化が、製品の競争力を左右する重要な要素となっています。特に、モバイル性を重視するユーザーにとって、バッテリーの重量は使い勝手に大きく影響します。炭酸リチウムは、次世代電池材料として、軽量化と高エネルギー密度を両立する可能性を秘めています。当社製品は、安定供給体制と高品質な製品で、ノートPCの軽量化と性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ノートPCのバッテリー ・モバイルデバイス 【導入の効果】 ・軽量化による携帯性の向上 ・バッテリー性能の向上 ・安定供給によるBCP対策

【電子機器向け】ステンレスメッシュフィルター

【電子機器向け】ステンレスメッシュフィルター
電子機器業界では、製品の小型化と高性能化が進む中、放熱対策は重要な課題となっています。特に高温環境下で使用される電子機器においては、効率的な放熱が製品の信頼性と寿命を左右します。放熱性能が低いと部品の劣化や故障を引き起こし、製品の性能低下につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、高温環境下でも優れた放熱性能を発揮し、電子機器の安定稼働に貢献します。 【活用シーン】 ・高温環境下で使用される電子機器 ・高出力の電子機器 ・耐久性が求められる電子機器 【導入の効果】 ・放熱効率の向上 ・製品寿命の延長 ・故障リスクの低減

【セラミックス向け】高純度五酸化ニオブで誘電特性を向上

【セラミックス向け】高純度五酸化ニオブで誘電特性を向上
セラミックス業界では、製品の性能を左右する誘電特性の向上が常に求められています。特に、電子部品やコンデンサなどの用途においては、誘電率の高さと安定性が重要です。不適切な材料選定や品質の低い材料の使用は、製品の性能低下や信頼性の問題を引き起こす可能性があります。当社のブラジル産五酸化ニオブ(Nb₂O₅)は、セラミックスの誘電特性を向上させるために最適な材料です。 【活用シーン】 ・コンデンサ ・圧電素子 ・誘電体セラミックス 【導入の効果】 ・高い誘電特性 ・安定した品質 ・長期的な供給体制 ・製品の高性能化

【家電向け】高機能『耐熱フィルム』

【家電向け】高機能『耐熱フィルム』
家電業界では、製品の小型化・軽量化が常に求められています。特に、限られたスペースに多くの機能を詰め込むためには、部品の薄型化が不可欠です。高機能電子機器においては、高温環境下での動作も考慮する必要があり、耐熱性の高い部品が求められます。当社の高機能『耐熱フィルム』は、薄膜化を実現し、高機能電子機器の薄型化・軽量化に貢献します。 【活用シーン】 ・薄型テレビ ・スマートフォン ・ウェアラブルデバイス 【導入の効果】 ・製品の小型化・軽量化 ・高温環境下での安定した動作 ・製品設計の自由度向上

【半導体製造向け】グラファイトボルト・ナット

【半導��体製造向け】グラファイトボルト・ナット
半導体製造業界では、高温環境下での部材固定が求められます。特に、熱膨張や収縮の影響を受けやすい部材においては、安定した固定力と耐熱性が重要です。従来の金属製ボルト・ナットでは、高温下での強度劣化や酸化による腐食が問題となる場合があります。グラファイトボルト・ナットは、優れた耐熱性を持ち、高温環境下でも安定した性能を発揮します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置内の炉壁固定 ・高温環境下でのトレー固定 ・その他、高温環境下での部品固定 【導入の効果】 ・高温環境下での安定した固定力の確保 ・部材の長寿命化 ・装置の稼働率向上

【エレクトロニクス向け】CNTスラリー研究分散機

【エレクトロニクス向け】CNTスラリー研究分散機
エレクトロニクス業界では、導電性材料の性能向上が求められています。特に、CNT(カーボンナノチューブ)を用いた材料においては、CNTの均一な分散が、製品の導電性や信頼性を左右する重要な要素となります。不適切な分散は、性能の低下や製品の不良につながる可能性があります。IKA magic LABは、CNTスラリーの最適な分散条件を卓上ラボスケールで研究開発できます。 【活用シーン】 ・導電性インクの研究開発 ・電子部品の製造プロセス改善 ・CNT複合材料の研究 【導入の効果】 ・CNTの均一な分散を実現 ・研究開発期間の短縮 ・生産機へのスケールアップを前提とした研究開発

ノベリオンシステムズ株式会社 事業紹介

ノベリオンシステ��ムズ株式会社 事業紹介
ノベリオンシステムズ株式会社は、核融合プラズマ加熱装置用の大電流負 イオン源技術を起源とする、技術開発型ベンチャー企業です。 新規の技術ニーズに応えるべく、酸素や各種の活性ガスが使用できるECR (電子サイクロトロン共鳴)高密度プラズマ源およびECR大電流イオン ビーム源の開発を行っております。 各種プラズマ応用装置をお考えのお客様は、是非当社をご用命ください。 【事業内容】 ■プラズマ応用装置の開発と製造販売 ■特殊成膜プロセスの加工受託 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

PEDOT/PSS 導電性ポリマー

PEDOT/PSS 導電性ポリマー
導電性ポリマーとは電気伝導性を持つ高分子化合物(プラスチック等)です。透明電極用途や帯電防止剤用途として、タッチパネル、コンデンサー、有機ELディスプレイなどの身近な電子機器に数多く利用されています。クレバが扱う導電性ポリマーは最も安定性と導電性を持ち合わせている「PEDOT/PSS 」ですが、原液単独での使用はできず、対象基材に合わせた界面活性剤(平面上の広がり度合を調整する添加剤)やPEDOT/PSS の粘度の動的粘弾性、基板への均一塗布や密着性の調整するためのバインダーなどの添加剤を原液に配合して製造する導電性ポリマーインク(液体)の対象基材に塗布することで電気伝導性を発揮します。

低温成膜低熱膨張ポリイミド

低温成膜低熱膨張ポリイミド
『低温成膜低熱膨張ポリイミド』は、従来のポリイミドよりも 低温で成膜できるので熱応力を小さくすることができ、 エボキシ等と同様の使用が可能となります。 高生産効率・省力化を実現し、層間絶縁膜(半導体素子用、多層プリント 配線基板用、パッケージ基板用)などの用途に適しています。 【特長】 ■熱膨張係数2~20ppm/kをグレード化(各基材の熱膨張係数にマッチングが可能) ■ワニスの室温保存が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

卓上型蒸着装置『Meius Light』

卓上型蒸着装置『Meius Light』
『Meius Light』は、一般家庭のAC100V壁コンセントから 導入が可能な卓上蒸着装置です。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合わせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

厚膜用アルミナ基板

厚膜用アルミナ基板
当社が取り扱う『厚膜用アルミナ基板』をご紹介します。 成形方法の改善によりブレーク性、並びにブレーク端面の状態に特長があり、 標準サイズ以外に口100mm~口120mm×1.2~1.5tmm、円形などの異形にも対応。 基板表面の平滑性、ボイド(基板表面の空孔)の大きさ、並びに単位面積 当たりの数は業界有数の品質水準です。 【特長】 ■薄膜用途での使用が期待できる ■成形方法の改善によりブレーク性、並びにブレーク端面の  状態に特長あり ■標準サイズ以外の寸法にも対応 ■最小で0.08mm程度の穴の開いたアルミナ基板を提供可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

アニール炉 Mini-BENCH-prism Max2000℃

アニール炉 Mini-BENCH-prism Max2000℃
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

SiCウエハ(6インチ/8インチ) / SiC MOSFET

SiCウエハ(6インチ/8インチ) / SiC MOSFET
Qingdao JZLEAP Semiconductor Co., Ltdは中国Jiazhan Holding Groupと台湾LEAP Semiconductor Co.により2021年に中国 青島に設立された会社です。SiC基板の研究開発、製造、販売を行っています。ヨーロッパ、アメリカの研究機関と共にSiC製品チェーンの問題改善に努め研究開発へ継続的に投資してきました。SiC材料のコストはデバイスコストの 50% 以上を占めており、これが需要の拡大を抑えるボトルネックとなっていました。高品質な生産ラインの構築と歩留まり改善によりSiC製品の品質、コスト競争力を高め更なる商業化を目指すグローバル企業です。 https://jzleap-semi.com/en/about/about グループ企業のLEAPSiC Semiconductorは、SiC MOSFET/ダイオードといったパワーデバイス/のモジュールの製造・販売を行っています。グループ内で材料、SiCウエハ、製品デザイン、SiCデバイスまで総合的にサポートできます。 https://leapsic-semi.com/en

ソリッドSiC

ソリッドSiC
『ソリッドSiC』は当社独自のCVD技術を応用し開発されました。 高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、 幅広い様々な用途で高いパフォーマンスを発揮。 半導体装置に最適化された当製品は半導体の可能性を拡げる 材料として期待されています。 【特長】 ■高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れている ■幅広い様々な用途で高いパフォーマンスを発揮 ■パーティクル低減・ライフ向上に貢献 ■高い熱伝導率・熱衝撃耐性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

MAT21 多孔加工

MAT21 多孔加工
MAT21の特徴 ⇒高耐食ニッケル基合金 ・Ni-Cr-Mo系合金にTaを加え耐局部性腐食を高めた新合金です ・孔食発生温度(℃) max150℃ ・孔食,隙間腐食や溶接部の腐食に強い ・非酸化性の硫酸や塩酸溶液中での耐食性に優れる

光ファイバ『特殊光ファイバ』

光ファイバ『特殊光ファイバ』
『特殊光ファイバ』は、石英系の光ファイバを特長としている光ファイバです。 光ファイバプリフォームの設計、製造、光ファイバの設計、製造、評価と 一貫した取り組みが可能なため、汎用的な光ファイバからオリジナル光 ファイバまで製造が可能。 可視光用シングルモードファイバをはじめ、近赤外用シングルモード ファイバ、マルチモードファイバなど数種類を取り揃えております。 【特長】 ■細径(クラッド直径:30µm~)の光ファイバの製造が可能 ■任意カットオフ波長(λc)の光ファイバの製造が可能(シングルモード  限定) ■任意ファイバコア/クラッド径、NA、コーティング外径の光ファイバの  製造が可能 ■特殊コーティング材質のファイバの製造が可能(コーティング材質は要  相談) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム
AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。

UV-C高透過ガラスリッド『BU-41/BU-66』

UV-C高透過ガラスリッド『BU-41/BU-66』
『BU-41/BU-66』は、ランプやLED、センサ用に開発され、 深紫外域での透過率を向上させたガラスです。 UV-C用ARコートに対応し、石英ガラスと比べ熱膨張係数が高く、 パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能。 薄肉化(0.2~0.5mm)が可能で、金メタライズコート、ARコートなど 各種薄膜を施すことができます。 【特長】 ■石英ガラスと比べ熱膨張係数が高い ■パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能 ■深紫外域での高い透過率 ■薄肉化(0.2~0.5mm)が可能 ■各種薄膜を施すことが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ハーメチック フィードスルー <CC>シリーズ

ハーメチック フィードスルー <CC>シリーズ
当製品は、単極(同軸)のフィードスルーに対応します。 一般的な導入端子【BNC型】、高電圧対応の【SHV型】、コンパクトな 【LEMO型】をご用意しております。 当社では自社で放出ガス評価を行なっているため、的確な仕様の真空アプリ ケーションを提供することができます。 【特長】 ■単極(同軸)のフィードスルーに対応 ■的確な仕様の真空アプリケーションを提供 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

窒化物結晶成長

窒化物結晶成長
当社では、MOCVD装置を用いたLED構造の成長技術を基幹とする窒化物半導体結晶成長をお客様のご要望に応じて承っております。 また、独自の結晶成長の試作にも積極的に取り組んでおります。

水酸化リチウム一水和物(Battery Grade)

水酸化リチウム一水和物(Battery Grade)
当社の『水酸化リチウム一水和物(Battery Grade)』をご紹介いたします。 当製品は劇物に指定されています。 強アルカリ性ですので、人体に附着した際は十分に 水洗いをしてください。 ご使用になられる際はSDSをご参考くださいますよう お願いいたします。 【性状】 ■分子量:41.96 ■融点:N/A ■比重:1.51 ■溶解度:10.9g/100g H2O @20℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

光ファイバカプラ(Optical Coupler)

光ファイバカプラ(Optical Coupler)
『光ファイバカプラ(Optical fiber coupler)』とは、光信号の 分岐・合流および合波・分波に用いられる特に代表的な光ファイバ コンポーネンツです。 当社では2本の光ファイバを加熱溶融し融着延伸して作製する溶融型 ファイバカプラ(Fused fiber coupler)を製造・販売。 当社では、非通信帯域の光ファイバカプラ開発に注力してきたため、 LD, SLD, ASE, SC光源等、様々な波長帯の光源を所有。 405~2200nmまでの幅広い波長に対応可能です。また、波長帯や アプリケーションによっては、通信用途では問題にならなかった 現象が生じ、思わぬトラブルに見舞われることがあります。 それらを解決してきた実績と知見が当社の強みとなっています。 【特長】 ■光信号の分岐・合流および合波・分波に用いられる ■2本の光ファイバを加熱溶融し融着延伸して作製 ■405~2200nmまでの幅広い波長に対応可能 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

日本精線 研究開発部 水素分離膜モジュール

日本精線 研究開発部 水素分離膜モジュール
独自の膜接合技術で円筒型パラジウム合金薄膜モジュールを製品化

光ファイバ用保護チューブ

光ファイバ用保護チューブ
当社では、ポリエステルエラストマー(ハイトレル)にて光ファイバー用 保護チューブの製造をしております。 寸法も任意サイズでの製造が可能で、グレードについても一般タイプ、難燃 タイプ等ご用意。識別の為の着色も可能で各色のカラーバッチを取りそろえ ております。 また、当社では優れた寸法精度で熱溶融押し出し成形により各種フッ素 チューブの成形をしております。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ポリエステルエラストマーにて光ファイバー用保護チューブの製造 ■一般タイプ、難燃タイプ等ご用意 ■識別の為の着色も可能で各色のカラーバッチをご用意 ■熱溶融押し出し成形により各種フッ素チューブの成形も対応 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

製品カタログ 真空装置

製品カタログ 真空装置
当カタログは、株式会社ヒラノK&Eが取り扱う真空装置を掲載した 製品カタログです。 マルチチャンバー方式を採用することにより生産量に応じたレイアウトが 可能な「FCCL」をはじめ、1000mm以上の広幅の成膜が可能な「透明導電膜」、 アモルファスシリコン系太陽電池の製造装置として納入実績のある「各種電池」 などをご紹介しております。 【掲載内容】 ■FCCL ■透明導電膜 ■脱ガス ■各種電池 ■光学多層膜 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

【産業用】SODIMM/UDIMM DRAMモジュール

【産業用】SODIMM/UDIMM DRAMモジュール
1. DDR3 Hynix オリジナルDRAMチップ 2. DDR4 Hynix/SamsungオリジナルDRAMチップ 3. 迅速なサンプル注文の為の完璧な在庫ポートフォリオ 4. 産業用途アプリケーション向けの長期供給と固定BOM

機能性アルミニウム材料『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』

機能性アルミニウム材料『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』
『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』は、液性状はそのままに 含有Naは1/5以下、含有Clは検出限界以下を実現したアルミニウム材料です。 液体硫酸アルミニウムは水処理凝集剤、製紙用添加剤等で使用されています。 その材料を改良し、低Na、低Clグレードを作製することにより、 電池等の電子関連向け、化粧品関連向けのAl源としてご提案できるように 開発を進めております。 【特長】 ■液性状はそのままに ・含有Naは1/5以下を実現 ・含有Clは検出限界以下を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

鱗片状グラフェン粉末(乾粉)

鱗片状グラフェン粉末(乾粉)
米国のXG Sciences社が開発したグラフェン・ナノプレートレットは複数のグラフェンシートが積み重なった構造をしている粉末状ナノ素材です。Cグレードは層厚2ナノ以下、エリアサイズは2μ以下、Mグレードは層厚6〜8ナノ、エリアサイズは5, 15, 25μ等選択可能。より厚いHグレードもあります。周囲のエッジ部に官能基を導入したり、表面に界面処理剤を施すことによりマトリックスとの親和性を高めることができます。

ポリイミド合成用モノマー

ポリイミド合成用モノマー
東京化成工業の有機トランジスタ向けのp型有機半導体、n型有機半導体、両極性有機半導体などを揃えています。 【製品】 ■脂肪族アミン ■芳香族アミン ■脂肪族カルボン酸無水物 ■芳香族カルボン酸無水物 ■脂肪族イソシアナート ■芳香族イソシアナート

成膜装置 複合型PLD装置

成膜装置  複合型PLD装置
70台以上の販売実績を誇る多目的PLD装置です。豊富な実績に基づいた設計により安定した動作が可能で、他のスパッタ源や蒸着源を組み合わせることも可能です。

CZウエハ 成膜加工

CZウエハ 成膜加工
株式会社エナテックのCZウエハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウエハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)、グラフェン膜、グラファイト *SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。 *Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。 *レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ~12インチまで対応可能です。 *テストパターン付ウエハ(6インチから12インチ)も仕様により一貫で対応致します。 *レチクルご支給による、露光/エッチングも承ります。(8インチと12インチ) 詳しくはお問い合わせ下さい。

様々なパターニングに対応可能【薄膜加工基板】

様々なパターニングに対応可能【薄膜加工基板】
『薄膜加工基板』は、ガラス・樹脂基板に対し様々なメタル・ 樹脂薄膜のパターニングを行います。 お客様のニーズに応える高精細パターンの作成が可能です。 直線形状だけでなく、複雑な形状のパターンであっても パターニングを行うことができます。 【特長】 ■ガラス・樹脂基板に対しメタル樹脂薄膜のパターニング ■高精細パターンの作成が可能 ■メタル薄膜材質:クロム・アルミなど ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【資料】非鉄金属Ta(タンタル)の窒化処理

【資料】非鉄金属Ta(タンタル)の窒化処理
非鉄金属Ta(タンタル)は電解コンデンサーとして、携帯電話・PC・DVDプレーヤー等、電子機器に使用されており、マイクロエレクトロニクスの分野においては、窒化タンタル(TaN)は薄膜絶縁体として用いられています。 当資料では、窒化処理が困難とされている非鉄金属Ta(タンタル)に窒化処理を行い、窒化処理後の特性の変化や、X-RAY回折結果から考えられる考察を掲載しております。 是非ご一読ください。 【掲載内容】 ■Ta(Tantalum)の特性値 ■Ta(Tantalum)の窒化処理後の特性 ■Ta及び窒化処理後TaのX-RAY回折結果 例 ■結果及び考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【オプティカルアイソレーター向け】ガーネット結晶

【オプティカルアイソレーター向け】ガーネット結晶
当社で取り扱う、「ガーネット結晶」をご紹介いたします。 GGG、SGGG、NGG ガリウム結晶はすべて、半導体結晶層を成長させるための基板として使用します。 当社には大規模な工業生産能力があり、数千枚単位のウェーハが提供できます。 また、優れたエピタキシーを実現する高品質の表面仕上げです。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■適切に制御された格子パラメータ ■優れたエピタキシーを実現する高品質の表面仕上げ ■多種多様な構成 ■最大4インチ(100mm)までの大直径で非常に均質で好適に制御された  格子パラメータ ■特殊な構成と形状 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ティーイーアイソリューションズ株式会社 事業紹介

ティーイーアイソリューションズ株式会社 事業紹介
ティーイーアイ ソリューションズ株式会社は、研究開発支援を提供するインテグレーテッドファンウドリーです。 ナノテクノロジー、バイオテクノロジー、太陽電池、クリーンエネルギーなど、半導体技術を応用し、様々な分野の研究開発が可能です。 柔軟なビジネスモデル・厳密な情報管理・顧客第一主義を基本理念として、お客様の長期に渡るビジョンをサポートしていきます。 【事業内容】 ○技術開発サポート ○テストウェハー販売 ○分析・評価サービス ○コンサルティング事業 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用

薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは?

半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。

​課題

新規材料のプロセス適合性

新しい薄膜材料が既存の製造プロセス(成膜、エッチング、洗浄など)に適合せず、歩留まり低下や品質問題を引き起こす可能性がある。

材料特性の安定性と再現性

開発された新しい薄膜材料の特性が、製造ロット間や時間経過で変動しやすく、安定したデバイス性能を維持することが難しい。

コストと供給体制

新規材料の製造コストが高く、また安定した大量供給体制が確立されていないため、量産化への障壁となる。

評価・解析技術の不足

新しい薄膜材料の構造、組成、電気的特性などを正確に評価・解析するための技術や標準化された手法が未整備である。

​対策

プロセス開発と最適化

新しい薄膜材料の特性に合わせた成膜条件、エッチングプロセス、後処理などを詳細に検討・最適化し、既存プロセスとの統合を図る。

材料設計と品質管理の強化

材料の組成や構造を精密に制御し、製造プロセス全体で厳格な品質管理を行うことで、特性の安定性と再現性を確保する。

サプライチェーンの構築とコスト低減

複数のサプライヤーとの連携や、製造プロセスの効率化により、材料コストの低減と安定供給体制の構築を目指す。

先進的な評価・解析ツールの導入

最新の分析装置やシミュレーション技術を活用し、材料特性の早期評価と問題点の特定、改善策の立案を迅速に行う。

​対策に役立つ製品例

高精度成膜装置

原子層堆積(ALD)や分子線エピタキシー(MBE)などの技術により、ナノメートルオーダーでの精密な膜厚制御と均一な成膜を実現し、新規材料のプロセス適合性を高める。

材料特性評価システム

分光分析、電子顕微鏡、電気特性測定などを組み合わせ、新規薄膜材料の組成、構造、電気的・光学的特性を迅速かつ高精度に評価し、品質管理を支援する。

プロセスシミュレーションソフトウェア

成膜プロセスや材料の挙動をコンピュータ上でシミュレーションすることで、実験回数を削減し、最適なプロセス条件の探索や問題点の予測を可能にする。

特殊ガス供給システム

新規薄膜材料の成膜に必要な高純度特殊ガスを、安定した流量と圧力で供給し、成膜プロセスの再現性と信頼性を向上させる。

⭐今週のピックアップ

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