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半導体製造装置・材料

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新しい薄膜材料の適用とは?課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは?

半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。

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【ディスプレイ向け】高画質を実現する五酸化ニオブ
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ディスプレイ業界では、高画質・高精細化が常に求められています。特に、光学ガラスや光学薄膜に使用される材料は、高い透明性と屈折率制御性が重要であり、ディスプレイの性能を左右する要素の一つです。五酸化ニオブは、これらの要求に応える素材として注目されています。当社のインド産五酸化ニオブは、光学グレード(純度99.99%以上)であり、高画質ディスプレイの実現に貢献します。

【活用シーン】
・高画質ディスプレイ
・光学ガラス
・光学薄膜

【導入の効果】
・高透明度と高屈折率の両立
・ディスプレイの性能向上
・最先端の光学機器・レンズ・電子部品への活用

【電池製造向け】チリ産 炭酸リチウム テクニカルグレード
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電池製造業界では、電極材料の品質と安定供給が、製品の性能と信頼性を大きく左右します。特に、リチウムイオン電池の需要増加に伴い、高品質な炭酸リチウムの安定的な確保が重要になっています。不純物の少ない炭酸リチウムは、電池の寿命を延ばし、性能を向上させるために不可欠です。当社チリ産炭酸リチウム テクニカルグレードは、高品質な電極材料として、電池の性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池の電極材料
・正極材、負極材の製造
・電池メーカー

【導入の効果】
・電池の性能向上
・安定供給によるBCP対策
・環境配慮への貢献

【半導体向け】薄膜回路基板で高性能化
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半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、放熱性や高密度実装が可能な基板が求められています。特に、レーザーダイオードやLEDなどの実装においては、微細回路パターンと高い熱伝導率が重要です。不適切な基板は、デバイスの性能低下や寿命短縮につながる可能性があります。当社の薄膜回路基板は、成膜・薄膜加工技術を応用し、高精度な微細回路パターンと優れた熱伝導率を実現します。

【活用シーン】
レーザーダイオード(LD)実装基板
発光ダイオード(LED)実装基板
フォトダイオード(PD)実装基板
光通信(FTTx・データセンター・モバイル基地局)

【導入の効果】
デバイスの高性能化に貢献
高い信頼性を実現
製品の小型化・高密度実装に貢献

【ディスプレイ向け】台湾産 三酸化タングステン(YTO)
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ディスプレイ業界におけるスパッタリング技術では、高品質な薄膜形成が求められます。特に、均一な膜厚と高い密着性は、製品の性能を左右する重要な要素です。不適切な材料やプロセスは、ディスプレイの表示不良や寿命低下につながる可能性があります。台湾産 三酸化タングステン(YTO)は、スパッタリング材料として、高品質な薄膜形成を可能にし、ディスプレイの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・フラットパネルディスプレイ(FPD)
・有機ELディスプレイ(OLED)
・タッチパネル

【導入の効果】
・高純度材料による高品質な薄膜形成
・均一な膜厚と高い密着性の実現
・ディスプレイの表示品質と寿命向上

【自動車センサー向け】ブラジル産 五酸化タンタル(Ta₂O₅)
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自動車業界では、安全運転支援システムや自動運転技術の進化に伴い、高性能なセンサーが不可欠となっています。これらのセンサーは、周囲の状況を正確に把握し、車両の制御に重要な役割を果たします。特に、温度変化や振動に強い、高精度なセンサー材料が求められています。五酸化タンタル(Ta₂O₅)は、高い誘電率、耐熱性、耐食性を有し、これらの要求に応えることができます。当社のブラジル産五酸化タンタル(99.7%)は、自動車センサーの高性能化に貢献します。

【活用シーン】
・車載レーダー
・LiDAR
・各種センサーの電子部品

【導入の効果】
・センサーの耐久性向上
・高精度なデータ取得
・長期的な安定稼働

【家電向け】高機能『耐熱フィルム』
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家電業界では、製品の小型化・軽量化が常に求められています。特に、限られたスペースに多くの機能を詰め込むためには、部品の薄型化が不可欠です。高機能電子機器においては、高温環境下での動作も考慮する必要があり、耐熱性の高い部品が求められます。当社の高機能『耐熱フィルム』は、薄膜化を実現し、高機能電子機器の薄型化・軽量化に貢献します。

【活用シーン】
・薄型テレビ
・スマートフォン
・ウェアラブルデバイス

【導入の効果】
・製品の小型化・軽量化
・高温環境下での安定した動作
・製品設計の自由度向上

【超電導向け】高純度五酸化ニオブによる安定化
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超電導分野では、デバイスの性能を最大限に引き出すために、材料の純度と安定性が重要です。特に、超電導材料の製造や、超電導現象の安定化には、不純物の少ない高品質な材料が不可欠です。五酸化ニオブ(Nb₂O₅)は、その高い屈折率制御性から、超電導デバイスの安定化に貢献する可能性があります。当社のインド産五酸化ニオブは、99.99%以上の高純度を誇り、超電導材料の性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・超電導材料の研究開発
・超電導デバイスの製造
・超電導現象の安定化

【導入の効果】
・超電導材料の性能向上
・デバイスの安定性向上
・研究開発の効率化

【半導体製造向け】グラファイトボルト・ナット
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半導体製造業界では、高温環境下での部材固定が求められます。特に、熱膨張や収縮の影響を受けやすい部材においては、安定した固定力と耐熱性が重要です。従来の金属製ボルト・ナットでは、高温下での強度劣化や酸化による腐食が問題となる場合があります。グラファイトボルト・ナットは、優れた耐熱性を持ち、高温環境下でも安定した性能を発揮します。

【活用シーン】
・半導体製造装置内の炉壁固定
・高温環境下でのトレー固定
・その他、高温環境下での部品固定

【導入の効果】
・高温環境下での安定した固定力の確保
・部材の長寿命化
・装置の稼働率向上

【光ファイバー向け】ブラジル産 五酸化タンタル
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光ファイバー業界では、高品質な光伝送を実現するために、屈折率を精密に制御できる材料が求められます。特に、長距離通信や高速データ通信においては、光ファイバーの損失を最小限に抑え、安定した伝送性能を維持することが重要です。不適切な材料選定は、信号の減衰や歪みを引き起こし、通信品質を低下させる可能性があります。本製品は、光ファイバー製造における添加剤として利用され、屈折率の調整や光学的特性の改善に貢献します。

【活用シーン】
・光ファイバー製造
・光通信システムの部品

【導入の効果】
・光ファイバーの性能向上
・通信品質の安定化
・長期安定供給の実現

【計測機器向け】ラティス ECP3ファミリーFPGA
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テスト・計測業界では、高精度なデータ収集と処理が求められます。特に、信号処理やデータ解析を行う計測機器においては、FPGAの性能が重要です。FPGAの供給が途絶えると、製品開発やメンテナンスに支障をきたす可能性があります。ロチェスターエレクトロニクスは、製造中止になったラティス ECP3ファミリーFPGAを提供し、お客様の継続的な製品供給を支援します。

【活用シーン】
・計測機器の設計・開発
・既存計測システムの保守・アップグレード
・データ収集・処理システムの構築

【導入の効果】
・FPGAの安定供給による製品寿命の延長
・既存システムの継続利用
・迅速な修理・交換対応

【セラミックス向け】高純度五酸化ニオブで誘電特性を向上
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セラミックス業界では、製品の性能を左右する誘電特性の向上が常に求められています。特に、電子部品やコンデンサなどの用途においては、誘電率の高さと安定性が重要です。不適切な材料選定や品質の低い材料の使用は、製品の性能低下や信頼性の問題を引き起こす可能性があります。当社のブラジル産五酸化ニオブ(Nb₂O₅)は、セラミックスの誘電特性を向上させるために最適な材料です。

【活用シーン】
・コンデンサ
・圧電素子
・誘電体セラミックス

【導入の効果】
・高い誘電特性
・安定した品質
・長期的な供給体制
・製品の高性能化

【電子材料向け】ニューミクロシクロマット
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電子材料業界では、薄膜化技術の進展に伴い、材料の微細化が求められています。材料の粒子径が均一で微細であるほど、薄膜の品質が向上し、製品の性能向上に繋がります。ニューミクロシクロマットは、空気の高速過流による圧力変動で原料を自己破壊させる粉砕機です。回転数や吸引空気量の調整により目的の粒度が得られ、電子材料の薄膜化に貢献します。

【活用シーン】
・電子材料の粉砕
・薄膜形成プロセスの前処理
・高機能樹脂の粉砕

【導入の効果】
・均一な粒子径の実現
・薄膜の品質向上
・製品性能の向上

【電子機器向け】ステンレスメッシュフィルター
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電子機器業界では、製品の小型化と高性能化が進む中、放熱対策は重要な課題となっています。特に高温環境下で使用される電子機器においては、効率的な放熱が製品の信頼性と寿命を左右します。放熱性能が低いと部品の劣化や故障を引き起こし、製品の性能低下につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、高温環境下でも優れた放熱性能を発揮し、電子機器の安定稼働に貢献します。

【活用シーン】
・高温環境下で使用される電子機器
・高出力の電子機器
・耐久性が求められる電子機器

【導入の効果】
・放熱効率の向上
・製品寿命の延長
・故障リスクの低減

【電池向け】チリ産 水酸化リチウム
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電池業界では、高性能な電極材料が求められています。特に、リチウムイオン電池の電極材料として、高純度で安定供給が可能な水酸化リチウムは、電池の性能向上に不可欠です。不適切な材料や供給体制は、電池の性能低下や製造コストの増加につながる可能性があります。当社チリ産水酸化リチウムは、SQM社の日本総販売店として、安定供給を実現し、BCP対策にも貢献します。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池の電極材料
・各種電池材料
・工業用途

【導入の効果】
・電池の性能向上
・安定供給によるBCP対策
・環境配慮

【ノートPC向け】チリ産 炭酸リチウム バッテリーグレード
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ノートPC業界では、バッテリーの軽量化と長寿命化が、製品の競争力を左右する重要な要素となっています。特に、モバイル性を重視するユーザーにとって、バッテリーの重量は使い勝手に大きく影響します。炭酸リチウムは、次世代電池材料として、軽量化と高エネルギー密度を両立する可能性を秘めています。当社製品は、安定供給体制と高品質な製品で、ノートPCの軽量化と性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・ノートPCのバッテリー
・モバイルデバイス

【導入の効果】
・軽量化による携帯性の向上
・バッテリー性能の向上
・安定供給によるBCP対策

【エレクトロニクス向け】CNTスラリー研究分散機
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エレクトロニクス業界では、導電性材料の性能向上が求められています。特に、CNT(カーボンナノチューブ)を用いた材料においては、CNTの均一な分散が、製品の導電性や信頼性を左右する重要な要素となります。不適切な分散は、性能の低下や製品の不良につながる可能性があります。IKA magic LABは、CNTスラリーの最適な分散条件を卓上ラボスケールで研究開発できます。

【活用シーン】
・導電性インクの研究開発
・電子部品の製造プロセス改善
・CNT複合材料の研究

【導入の効果】
・CNTの均一な分散を実現
・研究開発期間の短縮
・生産機へのスケールアップを前提とした研究開発

【自動車センサー向け】台湾産 酸化タングステン(BTO)
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自動車業界では、安全性の向上と環境負荷の低減が求められており、そのために高度なセンサー技術が不可欠です。特に、排ガスセンサーや温度センサーなど、高精度な測定が求められる分野では、センサー材料の性能が重要になります。酸化タングステン(ブルー)(BTO)は、その優れた特性により、これらのセンサーの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
* 排ガスセンサー
* 温度センサー
* 各種ガスセンサー

【導入の効果】
* 高感度・高精度なセンサーの実現
* センサーの耐久性向上
* 環境性能の向上

【ディスプレイ向け】台湾産 酸化タングステン(ブルー)(BTO)
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ディスプレイ業界では、鮮明な発色と高い耐久性が求められます。特に、屋外や高輝度環境下で使用されるディスプレイにおいては、発光材料の安定性と色再現性が、製品の品質を左右します。不適切な発光材料は、色褪せや輝度低下を引き起こし、視認性を損なう可能性があります。当社の台湾産 酸化タングステン(ブルー)(BTO)は、高純度で安定した発光特性を提供し、ディスプレイの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
* OLEDディスプレイ
* LEDディスプレイ
* 電子ペーパー
* デジタルサイネージ

【導入の効果】
* 鮮やかな青色の発色
* 高い光安定性
* 長寿命化
* 色再現性の向上

【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン
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有機ELデバイスの分野では、高い発光効率と長寿命化が求められています。電荷輸送材料の品質は、これらの性能を左右する重要な要素です。特に、電荷の移動効率を高めるためには、高純度な材料が必要不可欠です。当社の『ヨード-9,9-ジメチルフルオレン』は、有機ELデバイスの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・有機ELディスプレイ
・有機EL照明

【導入の効果】
・電荷輸送効率の向上
・デバイス性能の向上
・高品質な有機ELデバイスの実現

【エレクトロニクス基板向け】チリ産水酸化リチウム
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エレクトロニクス業界、特に基板製造においては、高品質な材料の安定供給が重要です。基板の性能は、使用される材料の品質に大きく左右され、リチウム化合物は、その製造に不可欠な材料の一つです。安定した品質と供給体制が、製品の信頼性向上に貢献します。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池材料
・各種工業用途

【導入の効果】
・高品質な基板製造をサポート
・安定供給によるBCP対策

株式会社WAVES【会社案内】
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WAVESは、「Research」「Insight」「Development」を軸に事実から波及する可能性を形にする会社です。

アメリカのパートナー企業(VEM)より、半導体用薄膜金属材料を輸入販売し、中国やその他の国からの輸入及び輸出の材料調達サービスも行っております。

この他に、半導体市場に関する市場調査、市場開拓や業務受託、半導体用薄膜金属材料の開発支援をパートナー企業と協力し実現します。

【事業内容】
■半導体材料の輸出入
■市場調査、市場開拓
■新規製品開発
■業務受託(営業、マーケティング 、検査梱包出荷)
■海外調達サービス
■技術コンサル
■新規事業コンサル


※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ハーメチック フィードスルー <CC>シリーズ
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当製品は、単極(同軸)のフィードスルーに対応します。

一般的な導入端子【BNC型】、高電圧対応の【SHV型】、コンパクトな
【LEMO型】をご用意しております。

当社では自社で放出ガス評価を行なっているため、的確な仕様の真空アプリ
ケーションを提供することができます。

【特長】
■単極(同軸)のフィードスルーに対応
■的確な仕様の真空アプリケーションを提供

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

PCAP
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当社で取り扱うFANNAL電子社製の『PCAP』は、高い安定性・干渉抵抗性を
有します。

業界先端のオプティカルボンディング工程。必要によって、製品性能が
ACE-Q100/IATF16949標準に達成できます。

また、マルチタッチ/防水タッチ/手袋タッチ制御で、カバーレンズの
表面処理をカスタマイズ可能です。

【特長】
■最大対応可能サイズ:32"
■自社設計:タッチ・センサーとタッチ・ICソリューション
■G+G専門に製造、G+F+Fも対応可能
■高い安定性・干渉抵抗性
■自社製:PCAP+TFT オプティカルボンディング
■カバーレンズ表面処理カスタマイズ:AG/AR/AF/AB

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

機能性アルミニウム材料『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』
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『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』は、液性状はそのままに
含有Naは1/5以下、含有Clは検出限界以下を実現したアルミニウム材料です。

液体硫酸アルミニウムは水処理凝集剤、製紙用添加剤等で使用されています。

その材料を改良し、低Na、低Clグレードを作製することにより、
電池等の電子関連向け、化粧品関連向けのAl源としてご提案できるように
開発を進めております。

【特長】
■液性状はそのままに
・含有Naは1/5以下を実現
・含有Clは検出限界以下を実現

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

静電分注・パターニング技術
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浜松ナノテクノロジー株式会社の『静電分注・パターニング技術』についてご紹介します。

「静電分注」とは、ノズルに充填された液体材料にパルス電圧を印加し、ワークと
ノズル先端部に生ずる誘導電荷の静電吸引力によって、ワーク上に微液滴を形成する
手法です。

ノズル先端部から液体材料を引き出す方法のため、ノズル内部の加圧による
吐出方法と比べて圧力損失は小さく、数1000mPa・sの高粘性材料にも
適応できます。

【特長】
■静電式の微量分注技術により、ドットφ2μm~、線幅10μm~の描画が可能
■高粘性材料(~10000mPa・s)に適応可能
■目的に合わせた観察手段(側方観察、落射観察)を備えた製品ラインアップ
■簡易言語による自由度の高い描画を実現

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

光ファイバカプラ(Optical Coupler)
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『光ファイバカプラ(Optical fiber coupler)』とは、光信号の
分岐・合流および合波・分波に用いられる特に代表的な光ファイバ
コンポーネンツです。

当社では2本の光ファイバを加熱溶融し融着延伸して作製する溶融型
ファイバカプラ(Fused fiber coupler)を製造・販売。

当社では、非通信帯域の光ファイバカプラ開発に注力してきたため、
LD, SLD, ASE, SC光源等、様々な波長帯の光源を所有。

405~2200nmまでの幅広い波長に対応可能です。また、波長帯や
アプリケーションによっては、通信用途では問題にならなかった
現象が生じ、思わぬトラブルに見舞われることがあります。

それらを解決してきた実績と知見が当社の強みとなっています。

【特長】
■光信号の分岐・合流および合波・分波に用いられる
■2本の光ファイバを加熱溶融し融着延伸して作製
■405~2200nmまでの幅広い波長に対応可能

※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

有機デバイス用実験部材
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当社では、有機デバイス用の実験部材を取り扱っております。

FTOガラスはご指定のサイズでカット販売も可能。(カット精度±0.5mm)

また、各種有機デバイスの実験に有効な酸化チタンバッファ付FTOガラスも
取り扱っており、ご指定の基板へバッファ膜のみの成膜も承っております。

ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【取扱品目】
■FTOガラス
■酸化チタンバッファ膜

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

ヒ素化合物の合成・販売
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古河電子では、ヒ素化合物の合成・販売を行っております。

各種半導体ドーピング材、CIGS太陽電池用材料など、
数多くの化合物の合成実績がございます。

少量の合成も承っておりますので、お気軽にご相談ください。

【ヒ素化合物の合成・販売】
■販売可能
・O、S、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn など
■合成実績有り、または検討可能(応相談)
・B、Si、P、Ti、V、Ga、Pd、Cd、In など

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【エレクトロニクス業界でも!】有機半導体の溶解性評価を簡便に。
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有機エレクトロニクスの応用は急速に拡大しており、ディスプレイ技術、再生可能エネルギー、ウェアラブルエレクトロニクスなどの分野に革命をもたらしています。
柔軟性、軽量性、コスト効率に優れた有機材料は有機発光ダイオード、有機電界効果トランジスタ、有機太陽電池などのデバイスの主要コンポーネントであり、向き材料で作られた従来のデバイスに代わる柔軟な選択肢を提供しています。

低分子有機エレクトロニクスの製造方法には、乾式法と湿式法の2種類があります。
湿式法では、溶媒と有機化合物の適合性は最終製品の完全性と望ましい電子特性を維持する為に不可欠であり、有機化合物の溶解度の決定は溶媒を選択する上で非常に重要な項目です。

溶解度情報はいくつかの方法で取得できますが、Technobis社のCrystal16ではポリサーマル法により、簡便かつ文献値とよく一致した結果を得ることが可能です。

銀ナノ粒子『KM120』
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当社で取り扱っている銀ナノ粒子『KM120』についてご紹介いたします。

粒子形状は多面体で、比表面積は1.5~2.5m2/g、タップ密度は3.0~4.5g/cm3。
世界最高レベルの低温焼結性を実現しました。

また、表面処理はヘキサン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
オレイン酸による表面コートを施しています。

【特性(一部)】
■粒子形状:多面体
■粒子サイズ(μm):0.15~0.3
■比表面積(m2/g):1.5~2.5
■タップ密度(g/cm3):3.0~4.5
■TG<N2>(%):0.1~0.3

※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【産業用】SODIMM/UDIMM DRAMモジュール
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1. DDR3 Hynix オリジナルDRAMチップ
2. DDR4 Hynix/SamsungオリジナルDRAMチップ
3. 迅速なサンプル注文の為の完璧な在庫ポートフォリオ
4. 産業用途アプリケーション向けの長期供給と固定BOM

低温成膜低熱膨張ポリイミド
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『低温成膜低熱膨張ポリイミド』は、従来のポリイミドよりも
低温で成膜できるので熱応力を小さくすることができ、
エボキシ等と同様の使用が可能となります。

高生産効率・省力化を実現し、層間絶縁膜(半導体素子用、多層プリント
配線基板用、パッケージ基板用)などの用途に適しています。

【特長】
■熱膨張係数2~20ppm/kをグレード化(各基材の熱膨張係数にマッチングが可能)
■ワニスの室温保存が可能

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

CNT分散液
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三菱鉛筆株式会社では、ニーズに応じた『CNT分散液』を提供いたします。

当社の分散技術により状態コントロール。
溶媒は水、NMP、酪酸ブチル等、CNTはSWCNT、NWCNT、CNF等です。

電池材料への展開において、良好な特性がございます。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【サンプル例】
■長尺/高純度タイプ:濃度0.4%、抵抗値~1000Ω/□、CNT中メタル~0.1%
■高濃度タイプ:濃度3.0%、抵抗値~10000Ω/□、CNT中メタル1~2%
■高導電タイプ:濃度0.2%、抵抗値~100Ω/□、CNT中メタル0.3~1%

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

薄膜製造装置『ナノフィルムメーカー』
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『ナノフィルムメーカー』は、水晶振動子(QCM)によるセンシング
により、薄膜のナノオーダーでの膜厚制御が可能な薄膜製造装置です。

本装置により、アニオン性ポリーマーとカチオン性ポリマーの間に動く
クローン力を利用して吸着させ、連続的に膜を積層することにより生成
される機能性薄膜「交互吸着膜」を開発できるようになります。

物質の組み合わせを検討することにより、タッチパネルに使用される
電導性膜の製造などにも役立ちます。

【特長】
■ナノオーダーでの膜厚制御を実現
■自由にヘテロ構造を設計可能
■モノマ(Ru錯体など)の累積可能
■様々な機能性薄膜が開発可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『機能性薄膜の受託加工サービス』
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東邦化研株式会社では、イオンプレーティング・真空蒸着・P-CVD・スパッタによる、導電性、絶縁性、耐蝕性などの機能性薄膜の受託加工サービスを行っております。 

様々な機能性薄膜を、試作から生産まで対応しております。
膜種・膜厚・成膜条件・対応基板(材質、サイズ、形状)への柔軟な対応と、35年の実績をもとに、マスキング成膜やメタルマスクでのパターン形成にも対応いたします。
お気軽にご相談下さい。

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

日本精線 研究開発部 水素分離膜モジュール
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独自の膜接合技術で円筒型パラジウム合金薄膜モジュールを製品化

カーボンナノチューブ塗工液『KJカーボンnanoコート』
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『KJカーボンnanoコート』は、カーボンナノチューブ分散液にバインダーを
配合した塗工液です。

良好な分散性を保ち、均質なコーティング層が形成できます。
当製品を透明フィルムにコーティングすることにより、透明導電フィルム
を作製できます。

【特長】
■良好な分散性
■均一なコーティング層形成
■高濃度コーティング
■CNT塗工量の確保
■導電性(表面抵抗率)の制御
■フィルム、不織布、繊維等への密着性

※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

株式会社SNT『薄膜の試作・共同開発・受託開発』のご案内
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株式会社SNTでは、『薄膜の試作・共同開発・受託開発』を通じて、
蓄積した技術を活かし、お客様に最適な薄膜サービスを提供しており
ます。

ウェットプロセス・ナノテクノロジーの技術を活用した「撥水・撥油
膜」をはじめ、タッチパネル部材やメンブレンスイッチ用部材に使用
される「光学・導電膜」などを開発しております。

ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【業務内容】
■薄膜の試作
■共同開発
■受託開発

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

卓上型蒸着装置『Meius Light』
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『Meius Light』は、一般家庭のAC100V壁コンセントから
導入が可能な卓上蒸着装置です。

チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを搭載可能。

【特長】
■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ
■蒸発源はタングステンボート2個搭載
■マグネット駆動式基板シャッタ装備
■非常停止スイッチ装備
■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合わせ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【オプティカルアイソレーター向け】ガーネット結晶
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当社で取り扱う、「ガーネット結晶」をご紹介いたします。

GGG、SGGG、NGG ガリウム結晶はすべて、半導体結晶層を成長させるための基板として使用します。
当社には大規模な工業生産能力があり、数千枚単位のウェーハが提供できます。

また、優れたエピタキシーを実現する高品質の表面仕上げです。
ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■適切に制御された格子パラメータ
■優れたエピタキシーを実現する高品質の表面仕上げ
■多種多様な構成
■最大4インチ(100mm)までの大直径で非常に均質で好適に制御された
 格子パラメータ
■特殊な構成と形状

※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高品質グラフェンの量産に成功!【※ポイント資料進呈】
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エアメンブレンは高品質グラフェンの量産に成功しました。CVD法等を用いて大面積で高品質なグラフェンおよび二次元材料を合成しています。さらにそれらを用いた製品開発を行っています。当社の特長は、グラフェン大面積高速成膜、グラフェン層数制御などに優れている点にあります。

【期待される用途】
■高速トランジスタ、センサー
■放熱シート
■フレキシブルディスプレイ、タッチパネル等

※グラフェンの事が分かる資料進呈中!詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。

カーボンナノチューブシート『KJカーボンnanoシート』
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『KJカーボンnanoシート』は、カーボンナノチューブとバインダーからなるシートです。KJ特殊紙独自のCNT高濃度分散技術より産出されたCNT分散液により、極薄で高密度のCNT膜を実現しました。目付、厚さ、塗工量、基材、バインダー、表面低効率などお客様のニーズに合わせた設計が可能です。

【特長】
■ 面全体での発熱
■ 高い温度均一性
■ 早い昇温レスポンス
■ 曲面への適用可能
■ 自在な形状への断裁可能

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

光ファイバ『特殊光ファイバ』
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『特殊光ファイバ』は、石英系の光ファイバを特長としている光ファイバです。

光ファイバプリフォームの設計、製造、光ファイバの設計、製造、評価と
一貫した取り組みが可能なため、汎用的な光ファイバからオリジナル光
ファイバまで製造が可能。

可視光用シングルモードファイバをはじめ、近赤外用シングルモード
ファイバ、マルチモードファイバなど数種類を取り揃えております。

【特長】
■細径(クラッド直径:30µm~)の光ファイバの製造が可能
■任意カットオフ波長(λc)の光ファイバの製造が可能(シングルモード
 限定)
■任意ファイバコア/クラッド径、NA、コーティング外径の光ファイバの
 製造が可能
■特殊コーティング材質のファイバの製造が可能(コーティング材質は要
 相談)

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

受託試験処理事例 チタン酸バリウムの分散
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粉体処理(分散・乳化・粉砕)の装置性能はカタログ上では表現出来ません。
理由は、使われる材料や目的により処理方法が変わってしまう為です。
では、どの様な指標で選択すれば良いのでしょうか?それは実際の処理事例をご覧頂くのが一番です。

分散では、電子部品用材料セラミック一種で小型化する小型積層セラミックコンデンサーの材料として、より細かく・より均一な粒子が求められてます。

●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

純水・超純水向 マイクロ熱交換器 精密設計・製造
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熱交換器、クーリングタワー設備の機器、補修部品を通じてプラントの省エネ提案をさせていただきます。
純水・超純水向 マイクロ熱交換器 精密設計・製造

全自動溶接機では溶接が不可能な、極小固定管板部分。
この技術が、半導体などの高レベル純水・超純水市場を支えます。

※その他詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

高耐熱樹脂フィルム|ガラス・シリコンウェハ・セラミックスの代替に
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ゼノマックスジャパンの高耐熱ポリイミドフィルムは
ポリマーフィルムで最高レベルの寸法安定性・高い耐熱性を有し、
ガラス・シリコンウェハ・セラミックス・金属の代替や複合化などに適した材料です。

「薄い、曲る、軽い、割れない、加工しやすい」といった特長を活かし、
軽・薄・大型化が進む薄膜トランジスタ基板や高密度化が進む半導体
パッケージ基板などへの展開が可能です。

【特長】
■優れた寸法安定性:ガラス・シリコンウェハ、セラミックと同等の寸法安定性(線膨張係数0~3ppm/K)
■高耐熱性:450℃でも平面性維持(反り・変形なし)
■優れた表面平滑性:ディスプレイ用ガラス基板と同等の表面平滑性(Ra≓0.5nm)

※仕様詳細はPDFをダウンロードしてご覧ください。詳しくはお気軽にご相談ください。

カドミウム化合物
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当社で取り扱っている「カドミウム化合物」について、ご紹介いたします。

製品名は、「硝酸カドミウム」で、形状は溶液です。
化学式は、Cd(NO3)2・4H2Oで、ニカド電池材料といった用途に。

ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。

【仕様】
■製品名:硝酸カドミウム
■化学式:Cd(NO3)2・4H2O
■形状:溶液

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【MiniLab-S125A】 多元マルチスパッタ装置
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連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替)
高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応
高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション
-1) Max600℃(ランプ加熱)
-2) Max1000℃(C/Cコンポジット)
-3) Max1000℃(SICコーティング)
ロードロックチャンバー逆スパッタステージ
-1) 150W、又は
-2) Soft-Etching(<30W)
システム主制御:'IntelliDep'制御システム Windows PC(又はTP HMI)インターフェイス
全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理

蒸着材料・ターゲット材料
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株式会社ティーディーワイでは『蒸着材料・ターゲット材料』を取り扱って
おります。

「蒸着材料」とは薄膜を製作する技術の一つである真空蒸着法(熱蒸着)で
用いる材料で、一般的にはナノオーダーの薄膜を作るための材料です。

また「ターゲット材料」であるスパッタリングターゲットは、薄膜として
現代社会の様々な分野で使用されており、当社では高品質及び短納期の
ゲルマニウムターゲット及びシリコンターゲットをご提供いたします。

【製品詳細】
<蒸着材料:Ge蒸着材>
■Ge粒状D
 ・純度:6N以上
 ・寸法:2mm~8mm
■Ge粒状C
 ・純度:6N以上
 ・寸法:3mm~6mm

※海外品も取り扱いをしております。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

製品カタログ 真空装置
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当カタログは、株式会社ヒラノK&Eが取り扱う真空装置を掲載した
製品カタログです。

マルチチャンバー方式を採用することにより生産量に応じたレイアウトが
可能な「FCCL」をはじめ、1000mm以上の広幅の成膜が可能な「透明導電膜」、
アモルファスシリコン系太陽電池の製造装置として納入実績のある「各種電池」
などをご紹介しております。

【掲載内容】
■FCCL
■透明導電膜
■脱ガス
■各種電池
■光学多層膜 など

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用

薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは?

半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。

​課題

新規材料のプロセス適合性

新しい薄膜材料が既存の製造プロセス(成膜、エッチング、洗浄など)に適合せず、歩留まり低下や品質問題を引き起こす可能性がある。

材料特性の安定性と再現性

開発された新しい薄膜材料の特性が、製造ロット間や時間経過で変動しやすく、安定したデバイス性能を維持することが難しい。

コストと供給体制

新規材料の製造コストが高く、また安定した大量供給体制が確立されていないため、量産化への障壁となる。

評価・解析技術の不足

新しい薄膜材料の構造、組成、電気的特性などを正確に評価・解析するための技術や標準化された手法が未整備である。

​対策

プロセス開発と最適化

新しい薄膜材料の特性に合わせた成膜条件、エッチングプロセス、後処理などを詳細に検討・最適化し、既存プロセスとの統合を図る。

材料設計と品質管理の強化

材料の組成や構造を精密に制御し、製造プロセス全体で厳格な品質管理を行うことで、特性の安定性と再現性を確保する。

サプライチェーンの構築とコスト低減

複数のサプライヤーとの連携や、製造プロセスの効率化により、材料コストの低減と安定供給体制の構築を目指す。

先進的な評価・解析ツールの導入

最新の分析装置やシミュレーション技術を活用し、材料特性の早期評価と問題点の特定、改善策の立案を迅速に行う。

​対策に役立つ製品例

高精度成膜装置

原子層堆積(ALD)や分子線エピタキシー(MBE)などの技術により、ナノメートルオーダーでの精密な膜厚制御と均一な成膜を実現し、新規材料のプロセス適合性を高める。

材料特性評価システム

分光分析、電子顕微鏡、電気特性測定などを組み合わせ、新規薄膜材料の組成、構造、電気的・光学的特性を迅速かつ高精度に評価し、品質管理を支援する。

プロセスシミュレーションソフトウェア

成膜プロセスや材料の挙動をコンピュータ上でシミュレーションすることで、実験回数を削減し、最適なプロセス条件の探索や問題点の予測を可能にする。

特殊ガス供給システム

新規薄膜材料の成膜に必要な高純度特殊ガスを、安定した流量と圧力で供給し、成膜プロセスの再現性と信頼性を向上させる。

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