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半導体製造装置・材料

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新しい薄膜材料の適用とは?課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは?

半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。

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【計測機器向け】ラティス ECP3ファミリーFPGA

【計測機器向け】ラティス ECP3ファミリーFPGA
テスト・計測業界では、高精度なデータ収集と処理が求められます。特に、信号処理やデータ解析を行う計測機器においては、FPGAの性能が重要です。FPGAの供給が途絶えると、製品開発やメンテナンスに支障をきたす可能性があります。ロチェスターエレクトロニクスは、製造中止になったラティス ECP3ファミリーFPGAを提供し、お客様の継続的な製品供給を支援します。 【活用シーン】 ・計測機器の設計・開発 ・既存計測システムの保守・アップグレード ・データ収集・処理システムの構築 【導入の効果】 ・FPGAの安定供給による製品寿命の延長 ・既存システムの継続利用 ・迅速な修理・交換対応

【超電導向け】高純度五酸化ニオブによる安定化

【超電導向け】高純度五酸化ニオブによる安定化
超電導分野では、デバイスの性能を最大限に引き出すために、材料の純度と安定性が重要です。特に、超電導材料の製造や、超電導現象の安定化には、不純物の少ない高品質な材料が不可欠です。五酸化ニオブ(Nb₂O₅)は、その高い屈折率制御性から、超電導デバイスの安定化に貢献する可能性があります。当社のインド産五酸化ニオブは、99.99%以上の高純度を誇り、超電導材料の性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・超電導材料の研究開発 ・超電導デバイスの製造 ・超電導現象の安定化 【導入の効果】 ・超電導材料の性能向上 ・デバイスの安定性向上 ・研究開発の効率化

【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン

【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン
有機ELデバイスの分野では、高い発光効率と長寿命化が求められています。電荷輸送材料の品質は、これらの性能を左右する重要な要素です。特に、電荷の移動効率を高めるためには、高純度な材料が必要不可欠です。当社の『ヨード-9,9-ジメチルフルオレン』は、有機ELデバイスの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・有機ELディスプレイ ・有機EL照明 【導入の効果】 ・電荷輸送効率の向上 ・デバイス性能の向上 ・高品質な有機ELデバイスの実現

【電子材料向け】ニューミクロシクロマット

【電子材料向け】ニューミクロシクロマット
電子材料業界では、薄膜化技術の進展に伴い、材料の微細化が求められています。材料の粒子径が均一で微細であるほど、薄膜の品質が向上し、製品の性能向上に繋がります。ニューミクロシクロマットは、空気の高速過流による圧力変動で原料を自己破壊させる粉砕機です。回転数や吸引空気量の調整により目的の粒度が得られ、電子材料の薄膜化に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料の粉砕 ・薄膜形成プロセスの前処理 ・高機能樹脂の粉砕 【導入の効果】 ・均一な粒子径の実現 ・薄膜の品質向上 ・製品性能の向上

【ディスプレイ向け】高画質を実現する五酸化ニオブ

【ディスプレイ向け】高画質を実現する五酸化ニオブ
ディスプレイ業界では、高画質・高精細化が常に求められています。特に、光学ガラスや光学薄膜に使用される材料は、高い透明性と屈折率制御性が重要であり、ディスプレイの性能を左右する要素の一つです。五酸化ニオブは、これらの要求に応える素材として注目されています。当社のインド産五酸化ニオブは、光学グレード(純度99.99%以上)であり、高画質ディスプレイの実現に貢献します。 【活用シーン】 ・高画質ディスプレイ ・光学ガラス ・光学薄膜 【導入の効果】 ・高透明度と高屈折率の両立 ・ディスプレイの性能向上 ・最先端の光学機器・レンズ・電子部品への活用

【エレクトロニクス向け】CNTスラリー研究分散機

【エレクトロニクス向け】CNTスラリー研究分散機
エレクトロニクス業界では、導電性材料の性能向上が求められています。特に、CNT(カーボンナノチューブ)を用いた材料においては、CNTの均一な分散が、製品の導電性や信頼性を左右する重要な要素となります。不適切な分散は、性能の低下や製品の不良につながる可能性があります。IKA magic LABは、CNTスラリーの最適な分散条件を卓上ラボスケールで研究開発できます。 【活用シーン】 ・導電性インクの研究開発 ・電子部品の製造プロセス改善 ・CNT複合材料の研究 【導入の効果】 ・CNTの均一な分散を実現 ・研究開発期間の短縮 ・生産機へのスケールアップを前提とした研究開発

【セラミックス向け】高純度五酸化ニオブで誘電特性を向上

【セラミックス向け】高純度五酸化ニオブで誘電特性を向上
セラミックス業界では、製品の性能を左右する誘電特性の向上が常に求められています。特に、電子部品やコンデンサなどの用途においては、誘電率の高さと安定性が重要です。不適切な材料選定や品質の低い材料の使用は、製品の性能低下や信頼性の問題を引き起こす可能性があります。当社のブラジル産五酸化ニオブ(Nb₂O₅)は、セラミックスの誘電特性を向上させるために最適な材料です。 【活用シーン】 ・コンデンサ ・圧電素子 ・誘電体セラミックス 【導入の効果】 ・高い誘電特性 ・安定した品質 ・長期的な供給体制 ・製品の高性能化

【電池向け】チリ産 水酸化リチウム

【電池向け】チリ産 水酸化リチウム
電池業界では、高性能な電極材料が求められています。特に、リチウムイオン電池の電極材料として、高純度で安定供給が可能な水酸化リチウムは、電池の性能向上に不可欠です。不適切な材料や供給体制は、電池の性能低下や製造コストの増加につながる可能性があります。当社チリ産水酸化リチウムは、SQM社の日本総販売店として、安定供給を実現し、BCP対策にも貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池の電極材料 ・各種電池材料 ・工業用途 【導入の効果】 ・電池の性能向上 ・安定供給によるBCP対策 ・環境配慮

【半導体向け】薄膜回路基板で高性能化

【半導体向け】薄膜回路基板で高性能化
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、放熱性や高密度実装が可能な基板が求められています。特に、レーザーダイオードやLEDなどの実装においては、微細回路パターンと高い熱伝導率が重要です。不適切な基板は、デバイスの性能低下や寿命短縮につながる可能性があります。当社の薄膜回路基板は、成膜・薄膜加工技術を応用し、高精度な微細回路パターンと優れた熱伝導率を実現します。 【活用シーン】 レーザーダイオード(LD)実装基板 発光ダイオード(LED)実装基板 フォトダイオード(PD)実装基板 光通信(FTTx・データセンター・モバイル基地局) 【導入の効果】 デバイスの高性能化に貢献 高い信頼性を実現 製品の小型化・高密度実装に貢献

【エレクトロニクス基板向け】チリ産水酸化リチウム

【エレクトロニクス基板向け】チリ産水酸化リチウム
エレクトロニクス業界、特に基板製造においては、高品質な材料の安定供給が重要です。基板の性能は、使用される材料の品質に大きく左右され、リチウム化合物は、その製造に不可欠な材料の一つです。安定した品質と供給体制が、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池材料 ・各種工業用途 【導入の効果】 ・高品質な基板製造をサポート ・安定供給によるBCP対策

【家電向け】高機能『耐熱フィルム』

【家電向け】高機能『耐熱フィルム』
家電業界では、製品の小型化・軽量化が常に求められています。特に、限られたスペースに多くの機能を詰め込むためには、部品の薄型化が不可欠です。高機能電子機器においては、高温環境下での動作も考慮する必要があり、耐熱性の高い部品が求められます。当社の高機能『耐熱フィルム』は、薄膜化を実現し、高機能電子機器の薄型化・軽量化に貢献します。 【活用シーン】 ・薄型テレビ ・スマートフォン ・ウェアラブルデバイス 【導入の効果】 ・製品の小型化・軽量化 ・高温環境下での安定した動作 ・製品設計の自由度向上

【IT開発向け】長窯株式会社

【IT開発向け】長窯株式会社
IT開発業界では、電子部品の小型化と高性能化が進み、それらを支える材料の信頼性が重要視されています。特に、高温環境や高周波特性が求められる電子部品においては、ガラス焼結体を用いた電子部品の安定した性能が不可欠です。不適切な材料選定は、製品の故障や性能劣化につながる可能性があります。長窯株式会社の硝子焼結体は、お客様の製品を支える「優れた脇役」として、開発を支援します。 【活用シーン】 ・電子部品の開発 ・高周波デバイスの開発 ・高温環境下での利用を想定した電子部品の開発 【導入の効果】 ・電子部品の信頼性向上 ・製品の高性能化 ・長期的な製品の安定性確保

【光ファイバー向け】ブラジル産 五酸化タンタル

【光ファイバー向け】ブラジル産 五酸化タンタル
光ファイバー業界では、高品質な光伝送を実現するために、屈折率を精密に制御できる材料が求められます。特に、長距離通信や高速データ通信においては、光ファイバーの損失を最小限に抑え、安定した伝送性能を維持することが重要です。不適切な材料選定は、信号の減衰や歪みを引き起こし、通信品質を低下させる可能性があります。本製品は、光ファイバー製造における添加剤として利用され、屈折率の調整や光学的特性の改善に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー製造 ・光通信システムの部品 【導入の効果】 ・光ファイバーの性能向上 ・通信品質の安定化 ・長期安定供給の実現

【自動車センサー向け】ブラジル産 五酸化タンタル(Ta₂O₅)

【自動車センサー向け】ブラジル産 五酸化タンタル(Ta₂O₅)
自動車業界では、安全運転支援システムや自動運転技術の進化に伴い、高性能なセンサーが不可欠となっています。これらのセンサーは、周囲の状況を正確に把握し、車両の制御に重要な役割を果たします。特に、温度変化や振動に強い、高精度なセンサー材料が求められています。五酸化タンタル(Ta₂O₅)は、高い誘電率、耐熱性、耐食性を有し、これらの要求に応えることができます。当社のブラジル産五酸化タンタル(99.7%)は、自動車センサーの高性能化に貢献します。 【活用シーン】 ・車載レーダー ・LiDAR ・各種センサーの電子部品 【導入の効果】 ・センサーの耐久性向上 ・高精度なデータ取得 ・長期的な安定稼働

【電池製造向け】チリ産 炭酸リチウム テクニカルグレード

【電池製造向け】チリ産 炭酸リチウム テクニカルグレード
電池製造業界では、電極材料の品質と安定供給が、製品の性能と信頼性を大きく左右します。特に、リチウムイオン電池の需要増加に伴い、高品質な炭酸リチウムの安定的な確保が重要になっています。不純物の少ない炭酸リチウムは、電池の寿命を延ばし、性能を向上させるために不可欠です。当社チリ産炭酸リチウム テクニカルグレードは、高品質な電極材料として、電池の性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池の電極材料 ・正極材、負極材の製造 ・電池メーカー 【導入の効果】 ・電池の性能向上 ・安定供給によるBCP対策 ・環境配慮への貢献

【家電向け】木材由来成形材料『CXP』

【家電向け】木材由来成形材料『CXP』
家電業界では、製品の外観デザインにおいて、素材の質感や環境への配慮が求められる場面が増えています。 特に、消費者の目に触れる筐体部分では、デザイン性と機能性の両立が重要視されます。 従来のプラスチック素材では、環境負荷やデザインの制約が課題となることもありました。 木材由来成形材料『CXP』は、木材の持つ自然な風合いと、射出成形による精密な成形・大量生産を可能にする素材です。 プラスチックを一切使用せず、木材を主原料としながらも、 耐久性や耐候性、寸法安定性に優れており、家電製品の筐体デザインに新たな選択肢を提供します。 【活用シーン】 ・デザイン性の高い家電製品の筐体 ・環境配慮型製品の部品 ・耐久性が求められる家電部品 【導入の効果】 ・環境負荷の低減に貢献 ・木材の温かみのあるデザインを実現 ・既存の成形設備を活用可能

【電子機器向け】ステンレスメッシュフィルター

【電子機器向け】ステンレスメッシュフィルター
電子機器業界では、製品の小型化と高性能化が進む中、放熱対策は重要な課題となっています。特に高温環境下で使用される電子機器においては、効率的な放熱が製品の信頼性と寿命を左右します。放熱性能が低いと部品の劣化や故障を引き起こし、製品の性能低下につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、高温環境下でも優れた放熱性能を発揮し、電子機器の安定稼働に貢献します。 【活用シーン】 ・高温環境下で使用される電子機器 ・高出力の電子機器 ・耐久性が求められる電子機器 【導入の効果】 ・放熱効率の向上 ・製品寿命の延長 ・故障リスクの低減

【半導体製造向け】グラファイトボルト・ナット

【半導体製造向け】グラファイトボルト・ナット
半導体製造業界では、高温環境下での部材固定が求められます。特に、熱膨張や収縮の影響を受けやすい部材においては、安定した固定力と耐熱性が重要です。従来の金属製ボルト・ナットでは、高温下での強度劣化や酸化による腐食が問題となる場合があります。グラファイトボルト・ナットは、優れた耐熱性を持ち、高温環境下でも安定した性能を発揮します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置内の炉壁固定 ・高温環境下でのトレー固定 ・その他、高温環境下での部品固定 【導入の効果】 ・高温環境下での安定した固定力の確保 ・部材の長寿命化 ・装置の稼働率向上

【半導体製造向け】PVDコーティング膜種選定サポート

【半導体製造向け】PVDコーティング膜種選定サポート
半導体製造業界や低摩擦化の用途では、部品の性能維持と長寿命化のために、適切な表面処理が求められます。特に、摺動部分や精密な動作が要求される箇所では、摩擦の低減が不可欠であり、それに適したコーティング膜種の選定が重要となります。不適切な膜種選定は、早期摩耗や性能低下につながる可能性があります。当社は、お客様の現状の使用状況を詳細にお伺いし、各メーカーの類似膜種の中から、QCD(品質・コスト・納期)を考慮した最適な膜種をご提案することで、この課題を解決いたします。 【活用シーン】 ・摺動部品の摩擦低減 ・精密機器の摩耗対策 ・長寿命化が求められる部品 【導入の効果】 ・従来膜種と比較して寿命延長 ・使用状況に合わせた最適な膜種選定による性能向上

【ノートPC向け】チリ産 炭酸リチウム バッテリーグレード

【ノートPC向け】チリ産 炭酸リチウム バッテリーグレード
ノートPC業界では、バッテリーの軽量化と長寿命化が、製品の競争力を左右する重要な要素となっています。特に、モバイル性を重視するユーザーにとって、バッテリーの重量は使い勝手に大きく影響します。炭酸リチウムは、次世代電池材料として、軽量化と高エネルギー密度を両立する可能性を秘めています。当社製品は、安定供給体制と高品質な製品で、ノートPCの軽量化と性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ノートPCのバッテリー ・モバイルデバイス 【導入の効果】 ・軽量化による携帯性の向上 ・バッテリー性能の向上 ・安定供給によるBCP対策

【ウェット装置事業】先端材料対応の液処理装置メーカー

【ウェット装置事業】先端材料対応の液処理装置メーカー
トーア電子は、ウェット装置(液処理装置)の専門メーカーとして、めっき・エッチング・洗浄などの表面処理技術を用いた装置を開発・提供しています。 これにより、多様な素材に対して高精度な処理を可能にし、先端材料の研究開発から量産までを支えます。 近年、フレキシブル基板(FPC)、リジッド基板、パッケージなどの分野で進む高密度化・微細化の要求に対応し、以下の装置を展開しています。 めっき装置 現像・エッチング・剥離装置(DES) 洗浄装置 さらに、設計・製造・組立・施工・メンテナンスまで一貫対応することで、お客様の開発から量産までをトータルにサポートします。

面状発熱体 標準品 FLヒーター01_PI_20Ω 粘着付

面状発熱体 標準品 FLヒーター01_PI_20Ω 粘着付
面状発熱体 標準品 FLヒーター01_PI_20Ωに粘着が付きました。 片面粘着付なので実装もラクラク、すぐ使えます。ヒーター本体は非常に薄くて柔らかい為、曲面や狭いスペ-スへの加熱に最適です。面状発熱体の主な用途は、車載ルート、医療ルート、液晶製造装置ルートなどで、最近では航空・宇宙業界、半導体業界、各種分析装置など、最先端の業界でも採用されています。 ・詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

CNT分散液

CNT分散液
三菱鉛筆株式会社では、ニーズに応じた『CNT分散液』を提供いたします。 当社の分散技術により状態コントロール。 溶媒は水、NMP、酪酸ブチル等、CNTはSWCNT、NWCNT、CNF等です。 電池材料への展開において、良好な特性がございます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【サンプル例】 ■長尺/高純度タイプ:濃度0.4%、抵抗値~1000Ω/□、CNT中メタル~0.1% ■高濃度タイプ:濃度3.0%、抵抗値~10000Ω/□、CNT中メタル1~2% ■高導電タイプ:濃度0.2%、抵抗値~100Ω/□、CNT中メタル0.3~1% ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

鱗片状グラフェン粉末(乾粉)

鱗片状グラフェン粉末(乾粉)
米国のXG Sciences社が開発したグラフェン・ナノプレートレットは複数のグラフェンシートが積み重なった構造をしている粉末状ナノ素材です。Cグレードは層厚2ナノ以下、エリアサイズは2μ以下、Mグレードは層厚6〜8ナノ、エリアサイズは5, 15, 25μ等選択可能。より厚いHグレードもあります。周囲のエッジ部に官能基を導入したり、表面に界面処理剤を施すことによりマトリックスとの親和性を高めることができます。

【資料】非鉄金属Ta(タンタル)の窒化処理

【資料】非鉄金属Ta(タンタル)の窒化処理
非鉄金属Ta(タンタル)は電解コンデンサーとして、携帯電話・PC・DVDプレーヤー等、電子機器に使用されており、マイクロエレクトロニクスの分野においては、窒化タンタル(TaN)は薄膜絶縁体として用いられています。 当資料では、窒化処理が困難とされている非鉄金属Ta(タンタル)に窒化処理を行い、窒化処理後の特性の変化や、X-RAY回折結果から考えられる考察を掲載しております。 是非ご一読ください。 【掲載内容】 ■Ta(Tantalum)の特性値 ■Ta(Tantalum)の窒化処理後の特性 ■Ta及び窒化処理後TaのX-RAY回折結果 例 ■結果及び考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

黒金化成株式会社 事業紹介

黒金化成株式会社 事業紹介
黒金化成株式会社は、ファインケミカルの受託開発を主に手がける、 開発支援型メーカーです。 共重合用モノマー、光重合開始剤、医農薬中間体から情報電子関連材料 まで幅広く利用されており、中でも変化の激しいIT関連向け電子材料の 需要に対しても迅速かつきめ細かなサービスで対応しています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【事業内容】 ■共重合用モノマー、光重合開始剤、機能性有機材料、医農薬中間体、 特殊エステル、その他の有機合成中間体の製造 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

sic表面熱分解法 グラフェン結晶成長装置

sic表面熱分解法 グラフェン結晶成長装置
sic表面熱分解法 エピタキシャルグラフェン結晶成長装置の設計開発コンセプトは、グラフェン成長装置の小型化と簡易化。高結晶品質化・成長再現性、表面分析機器の増設・連結性と設備投資しやすい経済性です。回折パターンよりグラフェンの形成を確認。グラフェン/バッファー層が形成されています。ストリークはファセット上のグラフェンの1次元的な構造によるものと考えています。約250nm幅のテラス(0001)上にグラフェンが均一に形成され周期構造はオフ基板特有のステップパンチングの結果です。顕微Raman測定でもグラフェンの形成を確認しました。サンプル表面の光学顕微鏡像に示すテラス(赤)及びファセット(青)のRamanスペクトルを示しています。典型的なグラフェンスペクトルであり.2Dの半値幅から1層グラフェンであることが確認されまた、Dバンドはファセットにおいて大きくグラフェンの1次元構造を反映した結果であると思われます。マッピングにおいてもその様子がはっきりと観察されました。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

高純度金属

高純度金属
『高純度金属』は、II-VI族、III-V族半導体の原料として多く 使われている金属です。 電子材料に広く使用され、化合物半導体の進歩に貢献。 インジウムや、アンチモン、カドミウムなどさまざまな高純度金属製品を 取り扱っております。 【取扱品目(抜粋)】 ■インジウム ■アンチモン ■カドミウム ■テルル ■亜鉛 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ノベリオンシステムズ株式会社 事業紹介

ノベリオンシステムズ株式会社 事業紹介
ノベリオンシステムズ株式会社は、核融合プラズマ加熱装置用の大電流負 イオン源技術を起源とする、技術開発型ベンチャー企業です。 新規の技術ニーズに応えるべく、酸素や各種の活性ガスが使用できるECR (電子サイクロトロン共鳴)高密度プラズマ源およびECR大電流イオン ビーム源の開発を行っております。 各種プラズマ応用装置をお考えのお客様は、是非当社をご用命ください。 【事業内容】 ■プラズマ応用装置の開発と製造販売 ■特殊成膜プロセスの加工受託 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

製品カタログ 真空装置

製品カタログ 真空装置
当カタログは、株式会社ヒラノK&Eが取り扱う真空装置を掲載した 製品カタログです。 マルチチャンバー方式を採用することにより生産量に応じたレイアウトが 可能な「FCCL」をはじめ、1000mm以上の広幅の成膜が可能な「透明導電膜」、 アモルファスシリコン系太陽電池の製造装置として納入実績のある「各種電池」 などをご紹介しております。 【掲載内容】 ■FCCL ■透明導電膜 ■脱ガス ■各種電池 ■光学多層膜 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

機能性アルミニウム材料『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』

機能性アルミニウム材料『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』
『低Na、低Cl 液体硫酸アルミニウム』は、液性状はそのままに 含有Naは1/5以下、含有Clは検出限界以下を実現したアルミニウム材料です。 液体硫酸アルミニウムは水処理凝集剤、製紙用添加剤等で使用されています。 その材料を改良し、低Na、低Clグレードを作製することにより、 電池等の電子関連向け、化粧品関連向けのAl源としてご提案できるように 開発を進めております。 【特長】 ■液性状はそのままに ・含有Naは1/5以下を実現 ・含有Clは検出限界以下を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

光ファイバ『特殊光ファイバ』

光ファイバ『特殊光ファイバ』
『特殊光ファイバ』は、石英系の光ファイバを特長としている光ファイバです。 光ファイバプリフォームの設計、製造、光ファイバの設計、製造、評価と 一貫した取り組みが可能なため、汎用的な光ファイバからオリジナル光 ファイバまで製造が可能。 可視光用シングルモードファイバをはじめ、近赤外用シングルモード ファイバ、マルチモードファイバなど数種類を取り揃えております。 【特長】 ■細径(クラッド直径:30µm~)の光ファイバの製造が可能 ■任意カットオフ波長(λc)の光ファイバの製造が可能(シングルモード  限定) ■任意ファイバコア/クラッド径、NA、コーティング外径の光ファイバの  製造が可能 ■特殊コーティング材質のファイバの製造が可能(コーティング材質は要  相談) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

コンビナトリアル組成傾斜試料作成

コンビナトリアル組成傾斜試料作成
当社では、創業以来、大変ご好評をいただいているユニークなサービスとして、 コンビナトリアル技術を用いた薄膜試料を作成いたします。 任意組成の単一組成膜、2元および3元の組成傾斜膜が作成可能。 熱電材料・強誘電体・強磁性体・バッテリー電極・相変化メモリ材料・ 金属間化合物など、様々な固体素子に用いられる機能性材料を成膜いたします。 【特長】 ■経験豊かな技術スタッフが新機能性材料開発をお手伝い ■薄膜堆積法として、スパッタ法、  PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用いている ■任意組成の単一組成膜、2元および3元の組成傾斜膜が作成可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ティーイーアイソリューションズ株式会社 事業紹介

ティーイーアイソリューションズ株式会社 事業紹介
ティーイーアイ ソリューションズ株式会社は、研究開発支援を提供するインテグレーテッドファンウドリーです。 ナノテクノロジー、バイオテクノロジー、太陽電池、クリーンエネルギーなど、半導体技術を応用し、様々な分野の研究開発が可能です。 柔軟なビジネスモデル・厳密な情報管理・顧客第一主義を基本理念として、お客様の長期に渡るビジョンをサポートしていきます。 【事業内容】 ○技術開発サポート ○テストウェハー販売 ○分析・評価サービス ○コンサルティング事業 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

窒化物結晶成長

窒化物結晶成長
当社では、MOCVD装置を用いたLED構造の成長技術を基幹とする窒化物半導体結晶成長をお客様のご要望に応じて承っております。 また、独自の結晶成長の試作にも積極的に取り組んでおります。

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム
AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。

MLCCの研究開発をサポート!メディアレス湿式高圧微粒化装置!

MLCCの研究開発をサポート!メディアレス湿式高圧微粒化装置!
ナノテクノロジー(Nano technology) に携わる研究開発者にとって、難溶性物質・粒子の均一化・安定化は課題の1 つです。分子レベルまで小さくなれば、物質の特性が変化します。 この物質の特性変化が、かつて「至難の業」といわれたことを、実現させる可能性を秘めています。近い未来、AI・ブロックチェーン・IoT・クラウドコンピューティング・5G・自動運転・3D プリンティングなど、かつてSF 映画の世界の技術が現実の世界になりつつあります。電子部品・医薬品・化粧品・食品・新素材・化学製品とすべての分野でイノベーションは加速化しています。 また、それと同時にクリーンエネルギー・カーボンニュートラルなど、「サステナブル」な社会実現が注目を集めています。このイノベーションの裏には、先人より授かった知恵と現在奮闘している研究開発者のたゆまぬ努力があるのです。 システマイザーミニは、研究開発者の途方もないTrial and Error のために、助手としての役割を担います。 ※詳しくはカタログをご覧ください。

有機トランジスタ(OFET)材料

有機トランジスタ(OFET)材料
東京化成工業の有機トランジスタ向けのp型有機半導体、n型有機半導体、両極性有機半導体などを揃えています。 【製品】 ■高品質有機半導体材料 ■p型半導体材料 ■n型半導体材料 ■両極性半導体材料 ■液晶性半導体材料

素材『グラフェン』

素材『グラフェン』
当社では黒鉛を原料に、独自の製法で開発したグラフェンを 製造、販売しております。 導電性も有しており、種々の形態で提供が可能。 また高濃度分散液(~20wt%)も可能です。 【特長】 ■1層剥離 ■極めて平坦 ■水、極性有機溶媒に分散可能 ■濃度も自在 ■塗布による薄膜の形成が可能 ※お問い合わせはメールにて受付ております。フォームよりご入力ください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

AlN/Sapテンプレート

AlN/Sapテンプレート
UVA・UVB・UVCを含む全波長帯のUV-LED製品を提供しております。さらに、エピタキシャルウェーハのカスタマイズ、チップの受託製造、半導体の試験・解析などの技術サービスも提供しています。

有機半導体レーザーダイオード『OSLD』

有機半導体レーザーダイオード『OSLD』
当社では、次世代有機デバイスと相性が抜群の有機半導体レーザーダイオード (OSLD)を取り扱っております。 有機半導体レーザーは無機半導体レーザーに⽐べて、将来的な 低コスト化が可能であり、有機半導体プロセスで⼤規模・容易な製造を ⾏うことができるポテンシャルを持っています。 レーザー光の特徴である極めて高い色純度を利用した、 超高階調な究極の美を表現できるディスプレイを実現可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■九州大学発の有機半導体レーザー技術 ■任意の波長のレーザー光が得られる ■どこにでも実装できる(軽い・曲がる・薄いなど) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

UV-C高透過ガラスリッド『BU-41/BU-66』

UV-C高透過ガラスリッド『BU-41/BU-66』
『BU-41/BU-66』は、ランプやLED、センサ用に開発され、 深紫外域での透過率を向上させたガラスです。 UV-C用ARコートに対応し、石英ガラスと比べ熱膨張係数が高く、 パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能。 薄肉化(0.2~0.5mm)が可能で、金メタライズコート、ARコートなど 各種薄膜を施すことができます。 【特長】 ■石英ガラスと比べ熱膨張係数が高い ■パッケージ材料との信頼性の高い封止が可能 ■深紫外域での高い透過率 ■薄肉化(0.2~0.5mm)が可能 ■各種薄膜を施すことが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社SNT『薄膜の試作・共同開発・受託開発』のご案内

株式会社SNT『薄膜の試作・共同開発・受託開発』のご案内
株式会社SNTでは、『薄膜の試作・共同開発・受託開発』を通じて、 蓄積した技術を活かし、お客様に最適な薄膜サービスを提供しており ます。 ウェットプロセス・ナノテクノロジーの技術を活用した「撥水・撥油 膜」をはじめ、タッチパネル部材やメンブレンスイッチ用部材に使用 される「光学・導電膜」などを開発しております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【業務内容】 ■薄膜の試作 ■共同開発 ■受託開発 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社WAVES【会社案内】

株式会社WAVES【会社案内】
WAVESは、「Research」「Insight」「Development」を軸に事実から波及する可能性を形にする会社です。 アメリカのパートナー企業(VEM)より、半導体用薄膜金属材料を輸入販売し、中国やその他の国からの輸入及び輸出の材料調達サービスも行っております。 この他に、半導体市場に関する市場調査、市場開拓や業務受託、半導体用薄膜金属材料の開発支援をパートナー企業と協力し実現します。 【事業内容】 ■半導体材料の輸出入 ■市場調査、市場開拓 ■新規製品開発 ■業務受託(営業、マーケティング 、検査梱包出荷) ■海外調達サービス ■技術コンサル ■新規事業コンサル ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

面状発熱体 標準品 FLヒーター10_PI_25Ω 粘着付

面状発熱体 標準品 FLヒーター10_PI_25Ω 粘着付
面状発熱体 標準品 FLヒーター10_PI_25Ωに粘着が付きました。 片面粘着付なので実装もラクラク、すぐ使えます。ヒーター本体は非常に薄くて柔らかい為、曲面や狭いスペ-スへの加熱に最適です。面状発熱体の主な用途は、車載ルート、医療ルート、液晶製造装置ルートなどで、最近では航空・宇宙業界、半導体業界、各種分析装置など、最先端の業界でも採用されています。 ・詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

【分析事例】分子動力学計算を用いたアモルファスSiNx膜構造解析

【分析事例】分子動力学計算を用いたアモルファスSiNx膜構造解析
アモルファスSiNx(a-SiNx)膜は、N/Si比などの組成変化によって半導体から絶縁体まで物性が大きく変化することから、トランジスタ用ゲート絶縁膜など幅広い用途で用いられています。一方、結晶性のないアモルファス構造の材料に対し、原子レベルのミクロな構造解析を行える実験手法は限られているため、シミュレーションによってさまざまな組成、密度を有したアモルファス構造を作成し、解析を行うことは有効なツールとなります。本資料では、分子動力学計算を用いたa-SiNx膜の構造解析事例を紹介します。

低温成膜低熱膨張ポリイミド

低温成膜低熱膨張ポリイミド
『低温成膜低熱膨張ポリイミド』は、従来のポリイミドよりも 低温で成膜できるので熱応力を小さくすることができ、 エボキシ等と同様の使用が可能となります。 高生産効率・省力化を実現し、層間絶縁膜(半導体素子用、多層プリント 配線基板用、パッケージ基板用)などの用途に適しています。 【特長】 ■熱膨張係数2~20ppm/kをグレード化(各基材の熱膨張係数にマッチングが可能) ■ワニスの室温保存が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

MAT21 多孔加工

MAT21 多孔加工
MAT21の特徴 ⇒高耐食ニッケル基合金 ・Ni-Cr-Mo系合金にTaを加え耐局部性腐食を高めた新合金です ・孔食発生温度(℃) max150℃ ・孔食,隙間腐食や溶接部の腐食に強い ・非酸化性の硫酸や塩酸溶液中での耐食性に優れる

日本精線 研究開発部 水素分離膜モジュール

日本精線 研究開発部 水素分離膜モジュール
独自の膜接合技術で円筒型パラジウム合金薄膜モジュールを製品化

カスタムカバーレンズ

カスタムカバーレンズ
当社で取り扱う「カスタムカバーレンズ」をご紹介いたします。 当社では、早期から化学強化ガラスの導入を開始。 数多くのカスタムカバーレンズや化学強化ガラスを組み込んだ 静電容量式タッチパネルをご提供。 また、ディスプレイやタッチパネルへの組み込みはもちろんの事、 カバーレンズの印刷、穴あけ加工、複数枚のカバーレンズの全面圧着 なども可能です。 【カバーレンズブランド】 ■Corning Gorilla Glass 3,Corning Gorilla Glass 4 ■AGC Dragontrail Dragontrail X ■当社承認化学強化ガラス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用

薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは?

半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。

​課題

新規材料のプロセス適合性

新しい薄膜材料が既存の製造プロセス(成膜、エッチング、洗浄など)に適合せず、歩留まり低下や品質問題を引き起こす可能性がある。

材料特性の安定性と再現性

開発された新しい薄膜材料の特性が、製造ロット間や時間経過で変動しやすく、安定したデバイス性能を維持することが難しい。

コストと供給体制

新規材料の製造コストが高く、また安定した大量供給体制が確立されていないため、量産化への障壁となる。

評価・解析技術の不足

新しい薄膜材料の構造、組成、電気的特性などを正確に評価・解析するための技術や標準化された手法が未整備である。

​対策

プロセス開発と最適化

新しい薄膜材料の特性に合わせた成膜条件、エッチングプロセス、後処理などを詳細に検討・最適化し、既存プロセスとの統合を図る。

材料設計と品質管理の強化

材料の組成や構造を精密に制御し、製造プロセス全体で厳格な品質管理を行うことで、特性の安定性と再現性を確保する。

サプライチェーンの構築とコスト低減

複数のサプライヤーとの連携や、製造プロセスの効率化により、材料コストの低減と安定供給体制の構築を目指す。

先進的な評価・解析ツールの導入

最新の分析装置やシミュレーション技術を活用し、材料特性の早期評価と問題点の特定、改善策の立案を迅速に行う。

​対策に役立つ製品例

高精度成膜装置

原子層堆積(ALD)や分子線エピタキシー(MBE)などの技術により、ナノメートルオーダーでの精密な膜厚制御と均一な成膜を実現し、新規材料のプロセス適合性を高める。

材料特性評価システム

分光分析、電子顕微鏡、電気特性測定などを組み合わせ、新規薄膜材料の組成、構造、電気的・光学的特性を迅速かつ高精度に評価し、品質管理を支援する。

プロセスシミュレーションソフトウェア

成膜プロセスや材料の挙動をコンピュータ上でシミュレーションすることで、実験回数を削減し、最適なプロセス条件の探索や問題点の予測を可能にする。

特殊ガス供給システム

新規薄膜材料の成膜に必要な高純度特殊ガスを、安定した流量と圧力で供給し、成膜プロセスの再現性と信頼性を向上させる。

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