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新しい薄膜材料の適用とは？課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは？

半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。

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【ノートPC向け】チリ産炭酸リチウムバッテリーグレード

興和株式会社

ノートPC業界では、バッテリーの軽量化と長寿命化が、製品の競争力を左右する重要な要素となっています。特に、モバイル性を重視するユーザーにとって、バッテリーの重量は使い勝手に大きく影響します。炭酸リチウムは、次世代電池材料として、軽量化と高エネルギー密度を両立する可能性を秘めています。当社製品は、安定供給体制と高品質な製品で、ノートPCの軽量化と性能向上に貢献します。【活用シーン】・ノートPCのバッテリー・モバイルデバイス【導入の効果】・軽量化による携帯性の向上・バッテリー性能の向上・安定供給によるBCP対策

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【電子材料向け】ニューミクロシクロマット

株式会社増野製作所

電子材料業界では、薄膜化技術の進展に伴い、材料の微細化が求められています。材料の粒子径が均一で微細であるほど、薄膜の品質が向上し、製品の性能向上に繋がります。ニューミクロシクロマットは、空気の高速過流による圧力変動で原料を自己破壊させる粉砕機です。回転数や吸引空気量の調整により目的の粒度が得られ、電子材料の薄膜化に貢献します。【活用シーン】・電子材料の粉砕・薄膜形成プロセスの前処理・高機能樹脂の粉砕【導入の効果】・均一な粒子径の実現・薄膜の品質向上・製品性能の向上

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【電池製造向け】チリ産炭酸リチウムテクニカルグレード

興和株式会社

電池製造業界では、電極材料の品質と安定供給が、製品の性能と信頼性を大きく左右します。特に、リチウムイオン電池の需要増加に伴い、高品質な炭酸リチウムの安定的な確保が重要になっています。不純物の少ない炭酸リチウムは、電池の寿命を延ばし、性能を向上させるために不可欠です。当社チリ産炭酸リチウムテクニカルグレードは、高品質な電極材料として、電池の性能向上に貢献します。【活用シーン】・リチウムイオン電池の電極材料・正極材、負極材の製造・電池メーカー【導入の効果】・電池の性能向上・安定供給によるBCP対策・環境配慮への貢献

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【ディスプレイ向け】高画質を実現する五酸化ニオブ

興和株式会社

ディスプレイ業界では、高画質・高精細化が常に求められています。特に、光学ガラスや光学薄膜に使用される材料は、高い透明性と屈折率制御性が重要であり、ディスプレイの性能を左右する要素の一つです。五酸化ニオブは、これらの要求に応える素材として注目されています。当社のインド産五酸化ニオブは、光学グレード（純度99.99%以上）であり、高画質ディスプレイの実現に貢献します。【活用シーン】・高画質ディスプレイ・光学ガラス・光学薄膜【導入の効果】・高透明度と高屈折率の両立・ディスプレイの性能向上・最先端の光学機器・レンズ・電子部品への活用

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【超電導向け】高純度五酸化ニオブによる安定化

興和株式会社

超電導分野では、デバイスの性能を最大限に引き出すために、材料の純度と安定性が重要です。特に、超電導材料の製造や、超電導現象の安定化には、不純物の少ない高品質な材料が不可欠です。五酸化ニオブ（Nb₂O₅）は、その高い屈折率制御性から、超電導デバイスの安定化に貢献する可能性があります。当社のインド産五酸化ニオブは、99.99%以上の高純度を誇り、超電導材料の性能向上に貢献します。【活用シーン】・超電導材料の研究開発・超電導デバイスの製造・超電導現象の安定化【導入の効果】・超電導材料の性能向上・デバイスの安定性向上・研究開発の効率化

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【電池向け】チリ産水酸化リチウム

興和株式会社

電池業界では、高性能な電極材料が求められています。特に、リチウムイオン電池の電極材料として、高純度で安定供給が可能な水酸化リチウムは、電池の性能向上に不可欠です。不適切な材料や供給体制は、電池の性能低下や製造コストの増加につながる可能性があります。当社チリ産水酸化リチウムは、SQM社の日本総販売店として、安定供給を実現し、BCP対策にも貢献します。【活用シーン】・リチウムイオン電池の電極材料・各種電池材料・工業用途【導入の効果】・電池の性能向上・安定供給によるBCP対策・環境配慮

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【セラミックス向け】高純度五酸化ニオブで誘電特性を向上

興和株式会社

セラミックス業界では、製品の性能を左右する誘電特性の向上が常に求められています。特に、電子部品やコンデンサなどの用途においては、誘電率の高さと安定性が重要です。不適切な材料選定や品質の低い材料の使用は、製品の性能低下や信頼性の問題を引き起こす可能性があります。当社のブラジル産五酸化ニオブ（Nb₂O₅）は、セラミックスの誘電特性を向上させるために最適な材料です。【活用シーン】・コンデンサ・圧電素子・誘電体セラミックス【導入の効果】・高い誘電特性・安定した品質・長期的な供給体制・製品の高性能化

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【半導体向け】薄膜回路基板で高性能化

シチズンファインデバイス株式会社

半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、放熱性や高密度実装が可能な基板が求められています。特に、レーザーダイオードやLEDなどの実装においては、微細回路パターンと高い熱伝導率が重要です。不適切な基板は、デバイスの性能低下や寿命短縮につながる可能性があります。当社の薄膜回路基板は、成膜・薄膜加工技術を応用し、高精度な微細回路パターンと優れた熱伝導率を実現します。【活用シーン】レーザーダイオード（LD）実装基板発光ダイオード（LED）実装基板フォトダイオード（PD）実装基板光通信（FTTｘ・データセンター・モバイル基地局）【導入の効果】デバイスの高性能化に貢献高い信頼性を実現製品の小型化・高密度実装に貢献

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【自動車センサー向け】ブラジル産五酸化タンタル（Ta₂O₅）

興和株式会社

自動車業界では、安全運転支援システムや自動運転技術の進化に伴い、高性能なセンサーが不可欠となっています。これらのセンサーは、周囲の状況を正確に把握し、車両の制御に重要な役割を果たします。特に、温度変化や振動に強い、高精度なセンサー材料が求められています。五酸化タンタル（Ta₂O₅）は、高い誘電率、耐熱性、耐食性を有し、これらの要求に応えることができます。当社のブラジル産五酸化タンタル（99.7%）は、自動車センサーの高性能化に貢献します。【活用シーン】・車載レーダー・LiDAR ・各種センサーの電子部品【導入の効果】・センサーの耐久性向上・高精度なデータ取得・長期的な安定稼働

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【電子機器向け】ステンレスメッシュフィルター

株式会社バンテック

電子機器業界では、製品の小型化と高性能化が進む中、放熱対策は重要な課題となっています。特に高温環境下で使用される電子機器においては、効率的な放熱が製品の信頼性と寿命を左右します。放熱性能が低いと部品の劣化や故障を引き起こし、製品の性能低下につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、高温環境下でも優れた放熱性能を発揮し、電子機器の安定稼働に貢献します。【活用シーン】・高温環境下で使用される電子機器・高出力の電子機器・耐久性が求められる電子機器【導入の効果】・放熱効率の向上・製品寿命の延長・故障リスクの低減

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【家電向け】高機能『耐熱フィルム』

株式会社ニチベイパーツ

家電業界では、製品の小型化・軽量化が常に求められています。特に、限られたスペースに多くの機能を詰め込むためには、部品の薄型化が不可欠です。高機能電子機器においては、高温環境下での動作も考慮する必要があり、耐熱性の高い部品が求められます。当社の高機能『耐熱フィルム』は、薄膜化を実現し、高機能電子機器の薄型化・軽量化に貢献します。【活用シーン】・薄型テレビ・スマートフォン・ウェアラブルデバイス【導入の効果】・製品の小型化・軽量化・高温環境下での安定した動作・製品設計の自由度向上

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【光ファイバー向け】ブラジル産五酸化タンタル

興和株式会社

光ファイバー業界では、高品質な光伝送を実現するために、屈折率を精密に制御できる材料が求められます。特に、長距離通信や高速データ通信においては、光ファイバーの損失を最小限に抑え、安定した伝送性能を維持することが重要です。不適切な材料選定は、信号の減衰や歪みを引き起こし、通信品質を低下させる可能性があります。本製品は、光ファイバー製造における添加剤として利用され、屈折率の調整や光学的特性の改善に貢献します。【活用シーン】・光ファイバー製造・光通信システムの部品【導入の効果】・光ファイバーの性能向上・通信品質の安定化・長期安定供給の実現

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【エレクトロニクス向け】CNTスラリー研究分散機

IKAジャパン株式会社

エレクトロニクス業界では、導電性材料の性能向上が求められています。特に、CNT（カーボンナノチューブ）を用いた材料においては、CNTの均一な分散が、製品の導電性や信頼性を左右する重要な要素となります。不適切な分散は、性能の低下や製品の不良につながる可能性があります。IKA magic LABは、CNTスラリーの最適な分散条件を卓上ラボスケールで研究開発できます。【活用シーン】・導電性インクの研究開発・電子部品の製造プロセス改善・CNT複合材料の研究【導入の効果】・CNTの均一な分散を実現・研究開発期間の短縮・生産機へのスケールアップを前提とした研究開発

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【IT開発向け】長窯株式会社

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

IT開発業界では、電子部品の小型化と高性能化が進み、それらを支える材料の信頼性が重要視されています。特に、高温環境や高周波特性が求められる電子部品においては、ガラス焼結体を用いた電子部品の安定した性能が不可欠です。不適切な材料選定は、製品の故障や性能劣化につながる可能性があります。長窯株式会社の硝子焼結体は、お客様の製品を支える「優れた脇役」として、開発を支援します。【活用シーン】・電子部品の開発・高周波デバイスの開発・高温環境下での利用を想定した電子部品の開発【導入の効果】・電子部品の信頼性向上・製品の高性能化・長期的な製品の安定性確保

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【エレクトロニクス基板向け】チリ産水酸化リチウム

興和株式会社

エレクトロニクス業界、特に基板製造においては、高品質な材料の安定供給が重要です。基板の性能は、使用される材料の品質に大きく左右され、リチウム化合物は、その製造に不可欠な材料の一つです。安定した品質と供給体制が、製品の信頼性向上に貢献します。【活用シーン】・リチウムイオン電池材料・各種工業用途【導入の効果】・高品質な基板製造をサポート・安定供給によるBCP対策

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【計測機器向け】ラティス ECP3ファミリーFPGA

Rochester Electronics, Ltd.

テスト・計測業界では、高精度なデータ収集と処理が求められます。特に、信号処理やデータ解析を行う計測機器においては、FPGAの性能が重要です。FPGAの供給が途絶えると、製品開発やメンテナンスに支障をきたす可能性があります。ロチェスターエレクトロニクスは、製造中止になったラティス ECP3ファミリーFPGAを提供し、お客様の継続的な製品供給を支援します。【活用シーン】・計測機器の設計・開発・既存計測システムの保守・アップグレード・データ収集・処理システムの構築【導入の効果】・FPGAの安定供給による製品寿命の延長・既存システムの継続利用・迅速な修理・交換対応

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【半導体製造向け】グラファイトボルト・ナット

東京炭素工業株式会社

半導体製造業界では、高温環境下での部材固定が求められます。特に、熱膨張や収縮の影響を受けやすい部材においては、安定した固定力と耐熱性が重要です。従来の金属製ボルト・ナットでは、高温下での強度劣化や酸化による腐食が問題となる場合があります。グラファイトボルト・ナットは、優れた耐熱性を持ち、高温環境下でも安定した性能を発揮します。【活用シーン】・半導体製造装置内の炉壁固定・高温環境下でのトレー固定・その他、高温環境下での部品固定【導入の効果】・高温環境下での安定した固定力の確保・部材の長寿命化・装置の稼働率向上

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【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン

福井キヤノンマテリアル株式会社

有機ELデバイスの分野では、高い発光効率と長寿命化が求められています。電荷輸送材料の品質は、これらの性能を左右する重要な要素です。特に、電荷の移動効率を高めるためには、高純度な材料が必要不可欠です。当社の『ヨード-9,9-ジメチルフルオレン』は、有機ELデバイスの性能向上に貢献します。【活用シーン】・有機ELディスプレイ・有機EL照明【導入の効果】・電荷輸送効率の向上・デバイス性能の向上・高品質な有機ELデバイスの実現

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鱗片状グラフェン粉末（乾粉）

株式会社ニューメタルス　エンド　ケミカルス　コーポレーション

米国のXG Sciences社が開発したグラフェン･ナノプレートレットは複数のグラフェンシートが積み重なった構造をしている粉末状ナノ素材です。Cグレードは層厚2ナノ以下、エリアサイズは2μ以下、Mグレードは層厚6〜8ナノ、エリアサイズは5, 15, 25μ等選択可能。より厚いHグレードもあります。周囲のエッジ部に官能基を導入したり、表面に界面処理剤を施すことによりマトリックスとの親和性を高めることができます。

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MLCCの研究開発をサポート!メディアレス湿式高圧微粒化装置!

株式会社システムサポート

ナノテクノロジー(Nano technology) に携わる研究開発者にとって、難溶性物質・粒子の均一化・安定化は課題の1 つです。分子レベルまで小さくなれば、物質の特性が変化します。この物質の特性変化が、かつて「至難の業」といわれたことを、実現させる可能性を秘めています。近い未来、AI・ブロックチェーン・IoT・クラウドコンピューティング・5G・自動運転・3D プリンティングなど、かつてSF 映画の世界の技術が現実の世界になりつつあります。電子部品・医薬品・化粧品・食品・新素材・化学製品とすべての分野でイノベーションは加速化しています。また、それと同時にクリーンエネルギー・カーボンニュートラルなど、「サステナブル」な社会実現が注目を集めています。このイノベーションの裏には、先人より授かった知恵と現在奮闘している研究開発者のたゆまぬ努力があるのです。システマイザーミニは、研究開発者の途方もないTrial and Error のために、助手としての役割を担います。 ※詳しくはカタログをご覧ください。

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素材『グラフェン』

株式会社仁科マテリアル

当社では黒鉛を原料に、独自の製法で開発したグラフェンを製造、販売しております。導電性も有しており、種々の形態で提供が可能。また高濃度分散液(～20wt%)も可能です。【特長】 ■1層剥離 ■極めて平坦 ■水、極性有機溶媒に分散可能 ■濃度も自在 ■塗布による薄膜の形成が可能 ※お問い合わせはメールにて受付ております。フォームよりご入力ください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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【エレクトロニクス業界でも！】有機半導体の溶解性評価を簡便に。

フィジオマキナ株式会社

有機エレクトロニクスの応用は急速に拡大しており、ディスプレイ技術、再生可能エネルギー、ウェアラブルエレクトロニクスなどの分野に革命をもたらしています。柔軟性、軽量性、コスト効率に優れた有機材料は有機発光ダイオード、有機電界効果トランジスタ、有機太陽電池などのデバイスの主要コンポーネントであり、向き材料で作られた従来のデバイスに代わる柔軟な選択肢を提供しています。低分子有機エレクトロニクスの製造方法には、乾式法と湿式法の2種類があります。湿式法では、溶媒と有機化合物の適合性は最終製品の完全性と望ましい電子特性を維持する為に不可欠であり、有機化合物の溶解度の決定は溶媒を選択する上で非常に重要な項目です。溶解度情報はいくつかの方法で取得できますが、Technobis社のCrystal16ではポリサーマル法により、簡便かつ文献値とよく一致した結果を得ることが可能です。

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カドミウム化合物

関西触媒化学株式会社

当社で取り扱っている「カドミウム化合物」について、ご紹介いたします。製品名は、「硝酸カドミウム」で、形状は溶液です。化学式は、Cd(NO3)2・4H2Oで、ニカド電池材料といった用途に。ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。【仕様】 ■製品名：硝酸カドミウム ■化学式：Cd(NO3)2・4H2O ■形状：溶液 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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エーテル結合/アルキレン基/F HFBAPP

セイカ株式会社

セイカが取り扱う、『HFBAPP』をご紹介いたします。ホームページに掲載している製品以外にも様々な製品を扱っています。サンプル・お見積をご検討されている方は、当社までお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■化合物名：2,2-Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane ■化学式：C27H20F6N2O2 ■M.W.(分子量)：518.45 ■CAS No.：69563-88-8 ■融点：160℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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半導体製造用材料『石英素材の在庫品紹介』

有限会社シャスコテック

半導体製造用材料（特殊ガラス）の加工・販売・卸業を手掛けている当社では、石英素材の在庫品を豊富に取り揃えています。特に、石英管はφ3～φ400まで品揃え豊富で1本からの販売にも対応可能。ほかにも、石英ウール(9μ)の在庫もご用意しています。 ★特殊ガラスのことでお困りの方はお気軽にお問い合わせ下さい！【取り扱い材料（一例）】 ■石英ガラス ■パイレックスガラス ■テンパックスガラス ■鉛ガラス ■各金属ガラス ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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縦型減圧CVD装置

有限会社ハイテクノサービス

縦型、枚葉、ウェハーサイズ、ガス種、フットプリントなど多くの使用に対応。汎用性を重視したハイグレード縦型減圧CVD装置です。標準仕様を基にカスタマイズを施し、より安価に製造することも可能です。【特長】 ■スモールフットプリントながらウエハーサイズ3" 6" 8"/inchに対応 ■ヒーター昇降機能によりナチュラル酸化を低減 ■常温～900℃まで安定した温度コントロールを実現 ※詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。

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有機トランジスタ(OFET)材料

東京化成工業株式会社

東京化成工業の有機トランジスタ向けのp型有機半導体、n型有機半導体、両極性有機半導体などを揃えています。【製品】 ■高品質有機半導体材料 ■p型半導体材料 ■n型半導体材料 ■両極性半導体材料 ■液晶性半導体材料

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【高純度】シリコン(Si) 塊・粒

株式会社アルメディオ

シリコン（ケイ素：Si）は地殻中に非常に豊富に存在し酸素の次に多い元素です。数量は少量～t単位までご対応可能です。お気軽にお問い合わせくださいませ。その他、様々なラインナップを取り揃えております。ページ下の『製品・サービス一覧』からご確認下さいませ。

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【オプティカルアイソレーター向け】ガーネット結晶

Luxium Solutions Japan 合同会社

当社で取り扱う、「ガーネット結晶」をご紹介いたします。 GGG、SGGG、NGG ガリウム結晶はすべて、半導体結晶層を成長させるための基板として使用します。当社には大規模な工業生産能力があり、数千枚単位のウェーハが提供できます。また、優れたエピタキシーを実現する高品質の表面仕上げです。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。【特長】 ■適切に制御された格子パラメータ ■優れたエピタキシーを実現する高品質の表面仕上げ ■多種多様な構成 ■最大4インチ(100mm)までの大直径で非常に均質で好適に制御された　格子パラメータ ■特殊な構成と形状 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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イットリウム化合物

関西触媒化学株式会社

当社で取り扱っている「イットリウム化合物」についてご紹介いたします。硝酸イットリウム(73％)で、化学式は、Y(NO3)3・6H2O。形状は溶液で、用途は、二次電池正極材となっております。ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。【仕様】 ■製品名：硝酸イットリウム(73％) ■化学式：Y(NO3)3・6H2O ■形状：溶液 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【分析事例】IGZO薄膜の結晶性・膜密度評価

一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

透明酸化物半導体であるIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進んでいます。 IGZOは膜の組成・酸素欠損の有無・結晶性で大きく特性が変化する材料でもあり、膜質との相関を考慮することが重要です。加熱温度の異なる3種類のIGZO薄膜の結晶性・膜厚・膜密度をXRD・XRRにて測定し、比較を行った事例をご紹介します。高温では結晶化が進み、膜密度が高くなっている様子を非破壊で確認することができました。

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日本機能材料株式会社　会社案内

日本機能材料株式会社

日本機能材料株式会社は、米国のローレンス半導体研究所(Lawrence Semiconductor Research Laboratory, inc.　略称LSRL) にエピタキシャル成長を依頼します。日本機能材料株式会社はお客様とLSRLとの間の適切な橋渡しをします。 LSRLとの密接なやりとりにより仕様を纏めます。 IV族に関するどのようなエピでもまずご相談ください。ご質問も遠慮なくお寄せください。御要望があれば訪問し、御説明いたします。【事業目的】 ○半導体、電子部品材料、新機能材料の開発、販売、輸入 ○コンサルティング業務詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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ハーメチック　フィードスルー＜CC＞シリーズ

有限会社メガトラスト

当製品は、単極（同軸）のフィードスルーに対応します。一般的な導入端子【BNC型】、高電圧対応の【SHV型】、コンパクトな【LEMO型】をご用意しております。当社では自社で放出ガス評価を行なっているため、的確な仕様の真空アプリケーションを提供することができます。【特長】 ■単極（同軸）のフィードスルーに対応 ■的確な仕様の真空アプリケーションを提供 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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研究開発用インクジェット装置『NanoPrinter』

株式会社マイクロジェット

高精度の各種電子デバイス作製が可能

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電流導入端子『セラマシール』

株式会社グリーンテック

『セラマシール』は、超高真空(10-8Pa台)まで使用可能な米国セラムテック社製の電流導入端子です。約1800種類の商品があり、ICF、JIS、ISO、特型フランジに取り付け可能。日本でも数多く使用されております。全数リークテストを実施し、納期は原則として即納ですので、ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。【特長】 ■ベーキング温度450℃(常用温度 350℃) ■目的にあった端子の選定が可能 ■超高真空(10-8Pa台)まで使用可能 ■取り付け後、全数リークテストを実施 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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【水晶メーカー用】温度特性用カーボン

曙精機工業株式会社

平面的な治工具から半導体部品をカーボン・グラファイト治具に組み込む立体的な省力化装置の設計・製作まで「縁の下の力持ち」として、お客様のニーズに対応いたします。 ★☆★カーボン(グラファイト)材の無償サンプル配布中★☆★ カーボン材は主に水晶振動子・ガラスハーメチックシール・半導体メーカーで多く使用されております。今後カーボン材を利用される企業様・興味がある企業様に今なら！カーボン材サンプル品を無償でプレゼント！！カーボン材サンプルをご希望の方は、下記【お問い合わせ】よりご連絡下さい！＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝

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350℃以下の低温処理が可能。被膜『ELIPcoat』

日本コーティングセンター（ＪＣＣ）株式会社

『ELIPcoat』は、JCCのPVD技術で開発した被膜です。酸化物や炭化物セラミックス被膜を緻密な結晶構造で成膜。生成された被膜には電気的特性や耐熱特性等の化学的・物理的特性を付与します。結晶粒の大きさの違いが明確なので、パーティクルサイズに影響。また、被処理材に合わせた温度調整も可能です。【特長】 ■低温処理が可能（350℃以下） ■絶縁物・樹脂への処理も可能 ■酸化物・炭化物セラミックス被膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高耐熱樹脂フィルム|ガラス・シリコンウェハ・セラミックスの代替に

ゼノマックスジャパン株式会社

ゼノマックスジャパンの高耐熱ポリイミドフィルムはポリマーフィルムで最高レベルの寸法安定性・高い耐熱性を有し、ガラス・シリコンウェハ・セラミックス・金属の代替や複合化などに適した材料です。「薄い、曲る、軽い、割れない、加工しやすい」といった特長を活かし、軽・薄・大型化が進む薄膜トランジスタ基板や高密度化が進む半導体パッケージ基板などへの展開が可能です。【特長】 ■優れた寸法安定性：ガラス・シリコンウェハ、セラミックと同等の寸法安定性（線膨張係数0～3ppm/K） ■高耐熱性：450℃でも平面性維持（反り・変形なし） ■優れた表面平滑性：ディスプレイ用ガラス基板と同等の表面平滑性（Ra≓0.5nm） ※仕様詳細はPDFをダウンロードしてご覧ください。詳しくはお気軽にご相談ください。

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半導体製造装置用プロセスコントローラー

有限会社ハイテクノサービス

『半導体製造装置用プロセスコントローラー』は、当社の縦型減圧CVD装置「HG-21」に搭載された、オリジナルの製品です。産業機器、医療・農業など異分野へ幅広い応用が可能。 PCから簡単にプロセス条件の変更が行えます。またDI・DO・AI・AOで制御する多くの装置に応用可能で、各種研究開発用装置に大いに利用できます。【特長】 ■当社の縦型減圧CVD装置「HG-21」に搭載 ■グラフィカルに各種装置・PLCを制御 ■PCから簡単にプロセス条件を変更 ■DI・DO・AI・AOで制御する多くの装置に応用可能 ■各種研究開発用装置に大いに利用できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ターゲット材『スパッタリングターゲット』

株式会社プロスタッフ

『スパッタリングターゲット』は、純度99.5％～99.999％までの高純度品を誇る、高品質薄膜形成材料です。当社では、お客様のビジネス用途にマッチした各種スパッタリングターゲットの製作が可能。ターゲット材の選定からボンディング加工、評価まで、スパッタリングターゲットに関するすべてをおまかせください。【特長】 ■純度99.5％～99.999％までの高純度品を誇る ■開発用として合金の製作も可能 ■様々な種類のスパッタリングターゲットの製作実績あり ■様々なご要望にお応え可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【資料】非鉄金属Ta（タンタル）の窒化処理

朝日熱処理工業株式会社

非鉄金属Ta（タンタル）は電解コンデンサーとして、携帯電話・PC・DVDプレーヤー等、電子機器に使用されており、マイクロエレクトロニクスの分野においては、窒化タンタル（TaN）は薄膜絶縁体として用いられています。当資料では、窒化処理が困難とされている非鉄金属Ta（タンタル）に窒化処理を行い、窒化処理後の特性の変化や、X-RAY回折結果から考えられる考察を掲載しております。是非ご一読ください。【掲載内容】 ■Ta（Tantalum）の特性値 ■Ta（Tantalum）の窒化処理後の特性 ■Ta及び窒化処理後TaのX-RAY回折結果例 ■結果及び考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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熱CVD装置

株式会社日本シード研究所

ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。石英ガラス等の管状炉になっています。化合物半導体のエピタキシャル成長など、純度を重視するプロセスに利用できます。直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な実験を行う研究室、教育機関に適しています。 ◆詳しくは　製品カタログ（PDFダウンロード）をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。　関連リンクからも製品カタログをご覧いただけます。

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カーボンナノチューブ塗工液『KJカーボンnanoコート』

三菱製紙株式会社

『KJカーボンnanoコート』は、カーボンナノチューブ分散液にバインダーを配合した塗工液です。良好な分散性を保ち、均質なコーティング層が形成できます。当製品を透明フィルムにコーティングすることにより、透明導電フィルムを作製できます。【特長】 ■良好な分散性 ■均一なコーティング層形成 ■高濃度コーティング ■CNT塗工量の確保 ■導電性（表面抵抗率）の制御 ■フィルム、不織布、繊維等への密着性 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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株式会社中松商会　取り扱いアイテム　カタログ

株式会社中松商会

当カタログでは、株式会社中松商会で取り扱うアイテムを掲載しております。ディスクリート/電源用半導体専業メーカーの「KEC」製品や、 MCUなどを提供する「GigaDevice」製品などがラインアップ。その他に、フラッシュメモリやCPUモジュール、ディスプレイなども写真付きで掲載しており、参考にしやすい一冊となっております。【掲載製品(一部)】 ■KEC：ダイオード、バイポーラトランジスタ、リニアIC ■GigaDevice：フラッシュメモリ、MCU ■Micron：SSD製品、NORフラッシュ製品 ■congatec：CPUモジュール ■株式会社アドテック：アドテック産業用パソコン、産業用メモリ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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PCAP

SECO S.p.A

当社で取り扱うFANNAL電子社製の『PCAP』は、高い安定性・干渉抵抗性を有します。業界先端のオプティカルボンディング工程。必要によって、製品性能が ACE-Q100/IATF16949標準に達成できます。また、マルチタッチ/防水タッチ/手袋タッチ制御で、カバーレンズの表面処理をカスタマイズ可能です。【特長】 ■最大対応可能サイズ：32" ■自社設計：タッチ・センサーとタッチ・ICソリューション ■G+G専門に製造、G+F+Fも対応可能 ■高い安定性・干渉抵抗性 ■自社製：PCAP+TFT オプティカルボンディング ■カバーレンズ表面処理カスタマイズ：AG/AR/AF/AB ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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光ファイバ用保護チューブ

仁礼工業株式会社

当社では、ポリエステルエラストマー（ハイトレル）にて光ファイバー用保護チューブの製造をしております。寸法も任意サイズでの製造が可能で、グレードについても一般タイプ、難燃タイプ等ご用意。識別の為の着色も可能で各色のカラーバッチを取りそろえております。また、当社では優れた寸法精度で熱溶融押し出し成形により各種フッ素チューブの成形をしております。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■ポリエステルエラストマーにて光ファイバー用保護チューブの製造 ■一般タイプ、難燃タイプ等ご用意 ■識別の為の着色も可能で各色のカラーバッチをご用意 ■熱溶融押し出し成形により各種フッ素チューブの成形も対応 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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半導体結晶『量子ドット』

三栄化工株式会社

『量子ドット(Quantum dot)』とは、「一辺10nm程度以下の半導体結晶」のことを指します。カーボンナノ素材として紫外から遠赤外までの幅広い波長域で、高い量子収率と非常に強い発光を実現。用途としてはオプトエレクトロニクス、センサー、イメージング、スクリーンなどの分野があります。【応用例】 ■生体イメージング　・ナノサイズの量子ドットは体内の様々な場所に送達可能　・医用画像やバイオセンサーなど、様々な生物医学用途に適合 ■太陽電池　・量子ドットは赤外から紫外までの波長を吸収することが可能　・曇りの日の集光効率がより高い点 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ロトフロンＩＢＣ容器

NRS株式会社

＊回転成型ライニング施行法により、容器内面にフッ素樹脂の厚い被膜でライニングされたＩＢＣ容器です。＊継ぎ目がなく強密着で、耐蝕性・耐薬品性に優れ半導体関連素材の保管・輸送容器としてお使いいただけます。 ※2022年10月、株式会社日陸からNRS株式会社に社名変更いたしました。

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窒化物結晶成長

E&E Evolution株式会社

当社では、MOCVD装置を用いたLED構造の成長技術を基幹とする窒化物半導体結晶成長をお客様のご要望に応じて承っております。また、独自の結晶成長の試作にも積極的に取り組んでおります。

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カーボンナノチューブシート『KJカーボンnanoシート』

三菱製紙株式会社

『KJカーボンnanoシート』は、カーボンナノチューブとバインダーからなるシートです。KJ特殊紙独自のCNT高濃度分散技術より産出されたCNT分散液により、極薄で高密度のCNT膜を実現しました。目付、厚さ、塗工量、基材、バインダー、表面低効率などお客様のニーズに合わせた設計が可能です。【特長】 ■ 面全体での発熱 ■ 高い温度均一性 ■ 早い昇温レスポンス ■ 曲面への適用可能 ■ 自在な形状への断裁可能 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用

薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは？

課題

新規材料のプロセス適合性

新しい薄膜材料が既存の製造プロセス（成膜、エッチング、洗浄など）に適合せず、歩留まり低下や品質問題を引き起こす可能性がある。

材料特性の安定性と再現性

開発された新しい薄膜材料の特性が、製造ロット間や時間経過で変動しやすく、安定したデバイス性能を維持することが難しい。

コストと供給体制

新規材料の製造コストが高く、また安定した大量供給体制が確立されていないため、量産化への障壁となる。

評価・解析技術の不足

新しい薄膜材料の構造、組成、電気的特性などを正確に評価・解析するための技術や標準化された手法が未整備である。

対策

プロセス開発と最適化

新しい薄膜材料の特性に合わせた成膜条件、エッチングプロセス、後処理などを詳細に検討・最適化し、既存プロセスとの統合を図る。

材料設計と品質管理の強化

材料の組成や構造を精密に制御し、製造プロセス全体で厳格な品質管理を行うことで、特性の安定性と再現性を確保する。

サプライチェーンの構築とコスト低減

複数のサプライヤーとの連携や、製造プロセスの効率化により、材料コストの低減と安定供給体制の構築を目指す。

先進的な評価・解析ツールの導入

最新の分析装置やシミュレーション技術を活用し、材料特性の早期評価と問題点の特定、改善策の立案を迅速に行う。

対策に役立つ製品例

高精度成膜装置

原子層堆積（ALD）や分子線エピタキシー（MBE）などの技術により、ナノメートルオーダーでの精密な膜厚制御と均一な成膜を実現し、新規材料のプロセス適合性を高める。

材料特性評価システム

分光分析、電子顕微鏡、電気特性測定などを組み合わせ、新規薄膜材料の組成、構造、電気的・光学的特性を迅速かつ高精度に評価し、品質管理を支援する。

プロセスシミュレーションソフトウェア

成膜プロセスや材料の挙動をコンピュータ上でシミュレーションすることで、実験回数を削減し、最適なプロセス条件の探索や問題点の予測を可能にする。

特殊ガス供給システム

新規薄膜材料の成膜に必要な高純度特殊ガスを、安定した流量と圧力で供給し、成膜プロセスの再現性と信頼性を向上させる。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

新しい薄膜材料の適用とは？課題と対策・製品を解説

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは？

各社の製品

薄膜形成における新しい薄膜材料の適用

薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは？

​課題

新規材料のプロセス適合性

材料特性の安定性と再現性

コストと供給体制

評価・解析技術の不足

​対策

プロセス開発と最適化

材料設計と品質管理の強化

サプライチェーンの構築とコスト低減

先進的な評価・解析ツールの導入

​対策に役立つ製品例

高精度成膜装置

材料特性評価システム

プロセスシミュレーションソフトウェア

特殊ガス供給システム

課題

対策

対策に役立つ製品例