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新しい薄膜材料の適用とは?課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における新しい薄膜材料の適用とは?
半導体製造において、デバイス性能の向上や新機能の実現を目指し、従来の材料に代わる新しい薄膜材料を開発・適用すること。これにより、より微細で高密度な回路形成や、特殊な電気的・光学的特性を持つデバイスの製造が可能となる。
各社の製品
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【自動車センサー向け】台湾産 酸化タングステン(BTO)
【自動車センサー向け】ブラジル産 五酸化タンタル(Ta₂O₅)
【ディスプレイ向け】台湾産 酸化タングステン(ブルー)(BTO)
【半導体向け】薄膜回路基板で高性能化
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、放熱性や高密度実装が可能な基板が求められています。特に、レーザーダイオードやLEDなどの実装においては、微細回路パターンと高い熱伝導率が重要です。不適切な基板は、デバイスの性能低下や寿命短縮につながる可能性があります。当社の薄膜回路基板は、成膜・薄膜加工技術を応用し、高精度な微細回路パターンと優れた熱伝導率を実現します。
【活用シーン】
レーザーダイオード(LD)実装基板
発光ダイオード(LED)実装基板
フォトダイオード(PD)実装基板
光通信(FTTx・データセンター・モバイル基地局)
【導入の効果】
デバイスの高性能化に貢献
高い信頼性を実現
製品の小型化・高密度実装に貢献
【IT開発向け】長窯株式会社
【光ファイバー向け】ブラジル産 五酸化タンタル
【電子材料向け】ニューミクロシクロマット
【電池向け】チリ産 水酸化リチウム
【ディスプレイ向け】台湾産 三酸化タングステン(YTO)
【有機EL向け】ヨード-9,9-ジメチルフルオレン
【ディスプレイ向け】高画質を実現する五酸化ニオブ
【計測機器向け】ラティス ECP3ファミリーFPGA
【エレクトロニクス基板向け】チリ産水酸化リチウム
【電池製造向け】チリ産 炭酸リチウム テクニカルグレード
【超電導向け】高純度五酸化ニオブによる安定化
【ノートPC向け】チリ産 炭酸リチウム バッテリーグレード
















