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コスト効率の改善とは？課題と対策・製品を解説

ウェーハの研磨におけるコスト効率の改善とは？

半導体製造プロセスにおいて、ウェーハ表面を平坦化・清浄化する研磨工程は、デバイス性能に直結する重要なステップです。しかし、高精度な研磨には多大なコストがかかるため、その効率化は業界全体の競争力向上に不可欠な課題となっています。

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半導体製造向けダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』

株式会社ナノテム

半導体製造業界におけるウェーハ研磨では、高精度な加工と材料の効率的な処理が求められます。特に、SiCやサファイヤといった難削材料の研磨においては、加工時間の短縮と砥石の長寿命化が、生産性向上とコスト削減の鍵となります。不適切な砥石の使用は、加工精度の低下や材料の損傷、さらには生産ラインの停止につながる可能性があります。特殊ダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』は、これらの課題に対応し、高能率加工とトータルコストの低減を実現します。【活用シーン】・SiCウェーハの研磨・サファイヤウェーハの研磨・その他、難削材料のウェーハ研磨【導入の効果】・加工時間の短縮・砥石の長寿命化によるコスト削減・高精度な研磨の実現・ドレッシング頻度の低減

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【ロジック半導体向け】半導体製造向けダイヤモンド砥石

株式会社ナノテム

ロジック半導体業界におけるウェーハ研磨では、高精度な加工と材料の効率的な処理が求められます。特に、SiCやサファイヤといった難削材料の研磨においては、加工時間の短縮と砥石の長寿命化が、生産性向上とコスト削減の鍵となります。不適切な砥石の使用は、加工精度の低下や材料の損傷、さらには生産ラインの停止につながる可能性があります。特殊ダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』は、これらの課題に対応し、高能率加工とトータルコストの低減を実現します。【活用シーン】・SiCウェーハの研磨・サファイヤウェーハの研磨・その他、難削材料のウェーハ研磨【導入の効果】・加工時間の短縮・砥石の長寿命化によるコスト削減・高精度な研磨の実現・ドレッシング頻度の低減

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【家電向け】ヒートシンク用ピン型冷却フィン

三全精工株式会社

家電業界では、製品の小型化と高性能化が進む中で、熱対策は重要な課題となっています。特に、省エネ性能を向上させるためには、効率的な放熱が不可欠です。従来のヒートシンクは、コストや製造リードタイムが課題となることがありました。当社のピン型冷却フィンは、冷間鍛造加工により、これらの課題を解決します。【活用シーン】 * LED照明 * パワーサプライ * モーター制御基板【導入の効果】 * 放熱性能の向上による製品寿命の延長 * 省エネ性能の向上 * コスト削減と短納期化

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【半導体向】革新的なガイド技術がプレス金型の生産性を確保する

KALLER

半導体製造装置業界、特に特殊形状部品の製造においては、高精度かつ効率的なプレス加工が求められます。シートメタルをプレス加工する際、プレス金型内で横方向への動きが発生し、ガススプリングの破損リスクが生じます。この対策として、金型内にガイド部品の設置が不可欠です。当社は、この課題に対応するため、「フレックスガイドソリューション」を開発しました。この独自のガイド技術は、ガススプリングの損傷を抑え、寿命を延長することを目的としています。【活用シーン】・半導体製造装置部品のプレス加工・特殊形状部品製造における金型メンテナンス・生産ラインの安定稼働【導入の効果】・ガススプリングの修理頻度低減・生産の安全性向上・停止時間の削減と稼働率の改善

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【基板材料向け】半導体製造向けダイヤモンド砥石

株式会社ナノテム

基板材料の精密研磨においては、高精度な加工と材料の効率的な処理が求められます。特に、SiCやサファイヤといった難削材料の研磨においては、加工時間の短縮と砥石の長寿命化が、生産性向上とコスト削減の鍵となります。不適切な砥石の使用は、加工精度の低下や材料の損傷、さらには生産ラインの停止につながる可能性があります。特殊ダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』は、これらの課題に対応し、高能率加工とトータルコストの低減を実現します。【活用シーン】・SiCウェーハの研磨・サファイヤウェーハの研磨・その他、難削材料のウェーハ研磨【導入の効果】・加工時間の短縮・砥石の長寿命化によるコスト削減・高精度な研磨の実現・ドレッシング頻度の低減

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【GaNウェハー向け】半導体製造向けダイヤモンド砥石

株式会社ナノテム

GaNウェハーの製造業界では、高精度な表面品質の実現と材料の効率的な処理が求められます。特に、GaNといった難削材料の研磨においては、加工時間の短縮と砥石の長寿命化が、生産性向上とコスト削減の鍵となります。不適切な砥石の使用は、表面品質の低下や材料の損傷、さらには生産ラインの停止につながる可能性があります。特殊ダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』は、これらの課題に対応し、高能率加工とトータルコストの低減を実現します。【活用シーン】・GaNウェーハの研磨・その他、難削材料のウェーハ研磨【導入の効果】・加工時間の短縮・砥石の長寿命化によるコスト削減・高精度な研磨の実現・ドレッシング頻度の低減

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【SiCウェハー向け】半導体製造向けダイヤモンド砥石

株式会社ナノテム

SiCウェハーの研磨においては、平坦性を維持しながら高精度な加工を行うことが求められます。特に、SiCといった難削材料の研磨においては、加工時間の短縮と砥石の長寿命化が、生産性向上とコスト削減の鍵となります。不適切な砥石の使用は、加工精度の低下やウェーハの損傷、さらには生産ラインの停止につながる可能性があります。特殊ダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』は、これらの課題に対応し、SiCウェーハの平坦性維持と高能率加工を実現します。【活用シーン】・SiCウェーハの研磨【導入の効果】・高精度な研磨による平坦性の維持・加工時間の短縮・砥石の長寿命化によるコスト削減・ドレッシング頻度の低減

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【半導体製造装置向け】アルミ切削部品

株式会社イングス

半導体製造装置業界では、高性能化に伴い、発熱量の増加が課題となっています。放熱性能は、装置の安定稼働と製品寿命に直結するため、非常に重要な要素です。適切な放熱対策が施されていない場合、装置の誤作動や性能低下を引き起こす可能性があります。当社アルミ切削部品は、高い放熱性と精密な形状加工により、半導体製造装置の放熱問題を解決します。【活用シーン】・半導体製造装置の冷却部品・高精度が求められる放熱部品・試作から量産まで対応が必要な場合【導入の効果】・装置の安定稼働・製品寿命の延長・性能向上・コスト削減の可能性

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【半導体向け】熱交換器「HEX」

ゼンシン株式会社

半導体業界では、製造プロセスの安定性と製品の品質を維持するために、精密な温度管理が不可欠です。特に、高性能な半導体デバイスの製造においては、発熱量の増加に対応し、冷却効率を高めることが求められます。不適切な冷却は、デバイスの性能低下や故障を引き起こす可能性があります。熱交換器「HEX」は、工業廃水や化学プロセスなどから効率的な熱回収を可能にし、精密冷却システムにおける省エネルギーに貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置の冷却・クリーンルームの空調・冷却水の温度管理【導入の効果】・安定した温度管理による歩留まり向上・省エネルギーによるコスト削減・装置の長寿命化

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【パワー半導体向け】半導体製造向けダイヤモンド砥石

株式会社ナノテム

パワー半導体業界では、高精度な加工と材料の効率的な処理が求められます。特に、SiCといった難削材料の研磨においては、加工時間の短縮と砥石の長寿命化が、生産性向上とコスト削減の鍵となります。不適切な砥石の使用は、加工精度の低下や材料の損傷、さらには生産ラインの停止につながる可能性があります。特殊ダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』は、これらの課題に対応し、高能率加工とトータルコストの低減を実現します。【活用シーン】・SiCウェーハの研磨・その他、難削材料のウェーハ研磨【導入の効果】・加工時間の短縮・砥石の長寿命化によるコスト削減・高精度な研磨の実現・ドレッシング頻度の低減

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【電子材料向け】ニューウルトラセパレータ

株式会社増野製作所

電子材料業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、不純物の除去と粒度分布の精密な制御が求められます。特に、電子部品の製造においては、材料中の微粉や異物が製品の性能を低下させる可能性があります。ニューウルトラセパレータは、5〜10μmから45μm99％通過程度の微粉生産が可能で、分級効率が高いため、製品の回収率向上に貢献します。【活用シーン】・電子材料の精密分級・異物除去による品質向上・超微粉の製造【導入の効果】・製品の歩留まり向上・品質の安定化・生産性の向上

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【半導体向け】クリーンルーム用断熱パネル

株式会社ソシアパーティション

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な塵や温度・湿度の変動が、製品の歩留まりに大きく影響します。特に、高精度な半導体製造においては、クリーンルーム内の環境を厳密に管理することが不可欠です。不適切な環境下では、製品の品質低下や不良品の発生につながり、大きな損失を招く可能性があります。ソシアのクリーンルーム用断熱パネルは、高い断熱性能と気密性により、外部からの影響を遮断し、内部の環境を安定させます。【活用シーン】・半導体製造工場・クリーンルーム新設・改修・温度・湿度管理が必要な工程【導入の効果】・歩留まりの向上・製品品質の安定化・製造コストの削減

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【半導体製造向け】強化アルミナ

千葉セラミック工業株式会社

半導体製造業界では、ウェーハやその他の部品の研磨において、高い精度と耐久性が求められます。研磨工程で使用される材料は、摩耗しやすく、頻繁な交換が必要となる場合があります。これにより、生産効率の低下やコスト増加につながる可能性があります。強化アルミナは、アルミナにジルコニアを添加し、緻密に焼結させることで、高い機械的強度と耐摩耗性を実現します。これにより、研磨工程における部品の長寿命化と、安定した研磨性能を提供します。【活用シーン】・ウェーハ研磨・研磨パッド・研磨工具【導入の効果】・耐摩耗性の向上・研磨精度の向上・コスト削減

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【半導体製造装置向け継手】ウルトラフローSC カップリング

セインジャパン株式会社

半導体製造装置の温度制御においては、精密な冷却システムの安定稼働が不可欠です。特に、クリーンルーム環境での作業や、地球温暖化係数の高い冷媒の使用においては、液漏れや環境汚染のリスクを最小限に抑えることが重要となります。また、冷却効率の低下は、装置の性能に影響を与え、ランニングコストの増加にもつながる可能性があります。セインのウルトラフローSCは、これらの課題に対応するため、半導体製造工程の液冷システム向けに特別設計されたステンレス・スチール製カプラーです。【活用シーン】・半導体製造装置のチラーシステム・クリーンルーム環境での液冷配管・高精度な温度管理が求められるプロセス【導入の効果】・液だれによるクリーン環境汚染の防止・液体冷媒の漏出リスク低減・システム全体のエネルギー効率向上・バルブ作動不全の漏れリスク低減

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【半導体向け】FLEXSCHE - 生産計画システム

株式会社BREXA Technology（旧社名：アウトソーシングテクノロジー）

半導体業界では、歩留まりの向上が収益性に直結します。製造プロセスにおける計画の最適化は、不良品の発生を抑制し、歩留まりを向上させるために不可欠です。FLEXSCHEは、高度なスケジューリング機能により、生産計画の精度を高め、歩留まり改善に貢献します。【活用シーン】・製造ラインのボトルネック特定と解消・リアルタイムなスケジュール調整による柔軟な対応・不良品発生時の迅速な原因究明と対策【導入の効果】・歩留まりの向上によるコスト削減・生産効率の向上・納期遵守率の向上

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【メモリ半導体向け】半導体製造向けダイヤモンド砥石

株式会社ナノテム

メモリ半導体業界におけるウェーハ研磨では、歩留まり向上のために、高精度な加工と材料の効率的な処理が求められます。特に、SiCやサファイヤといった難削材料の研磨においては、加工時間の短縮と砥石の長寿命化が、生産性向上とコスト削減、ひいては歩留まり向上に繋がる鍵となります。不適切な砥石の使用は、加工精度の低下や材料の損傷、さらには生産ラインの停止につながる可能性があります。特殊ダイヤモンド砥石『UNIVA-X SPECIAL』は、これらの課題に対応し、高能率加工とトータルコストの低減を実現します。【活用シーン】・SiCウェーハの研磨・サファイヤウェーハの研磨・その他、難削材料のウェーハ研磨【導入の効果】・加工時間の短縮・砥石の長寿命化によるコスト削減・高精度な研磨の実現・ドレッシング頻度の低減

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【電池製造向け】かるがるマルチ

赤武エンジニアリング株式会社

電池業界では、電極材料の正確な配合と計量が、製品の性能と品質を左右します。特に、少量多品種の生産ラインにおいては、迅速な品種切り替えと高精度な計量が求められます。計量誤差は、電池の容量不足や性能低下につながる可能性があります。バッチ式粉体計量装置「かるがるマルチ」は、これらの課題に対応します。【活用シーン】・電極材料の配合・少量多品種生産ライン・研究開発【導入の効果】・高精度な計量による品質向上・品種切替時間の短縮・材料ロス削減

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【半導体向け】サンゴバン株式会社

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、高品質な製品を製造するために、研磨工程における高い精度と耐久性が求められます。研磨材の選定は、製品の仕上がりを左右する重要な要素です。サンゴバン株式会社の製品は、研磨工程におけるお客様の厳しい要求に応えるべく、最適なソリューションを提供します。【活用シーン】・半導体ウェーハの研磨・研磨後の表面処理・精密部品の研磨【導入の効果】・高品質な研磨を実現・製品の歩留まり向上・高い耐久性によるコスト削減

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【半導体ウエハー工程向け】高騰中の金と銀の回収　リサイクル

株式会社アサカ理研

半導体ウエハー製造業界では、製造過程からの貴金属回収が、コスト削減と資源効率の向上において重要です。特に、ウエハー製造に使用される金、銀、などの貴金属は相場高騰中であり、回収せずに廃棄することは大きな損失につながります。当社の有価金属回収サービスは、低品位スクラップからでもこれらの貴金属を高効率で回収し、貴社のコスト削減に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程からの貴金属回収・その他、貴金属を含むスクラップからの回収【導入の効果】・貴金属の再利用による原材料費の削減・廃棄コストの削減・資源の有効活用による環境負荷の低減

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【半導体向け】V-SEP振動膜濾過分離装置

テクノアルファ株式会社

半導体業界の超純水製造においては、不純物を極限まで除去し、安定した品質を維持することが求められます。特に、微細な粒子や溶解性物質の除去は、製品の歩留まりや性能に直結するため、高度なろ過・分離技術が不可欠です。従来のろ過装置では対応が難しかった高濃度・高粘度の液体処理や、微細な物質の分離において、V-SEP振動膜濾過分離装置は、その革新的な技術でこれらの課題に応えます。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおける超純水製造・高純度が求められる液体の精製・廃液からの有用物質回収【導入の効果】・安定した品質の超純水製造・ろ過・分離プロセスの効率化・ランニングコストの削減

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【サーバー向け】ピン型冷却フィン

三全精工株式会社

サーバー業界では、高密度化が進む中で、効率的な放熱が重要な課題となっています。限られたスペースの中で、高い冷却性能を維持し、サーバーの安定稼働を実現することが求められます。熱間鍛造やダイカスト製のヒートシンクは、コストや金型寿命、納期に課題があり、生産効率の妨げになっています。当社のピン型冷却フィンは、冷間鍛造加工によりこれらの課題を解決します。【活用シーン】・高密度サーバー・データセンター・ブレードサーバー【導入の効果】・冷却性能の向上・コスト削減・短納期対応

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自転公転式撹拌脱泡機『Hi-Merger』＜撹拌脱泡の原理＞

共立精機株式会社

『Hi-Merger(ハイマージャ)』は、素材を入れた容器を装置内に傾けて取付け、自転と公転を与えて遊星運動させます。容器を高速で公転させると大きな遠心力が発生し、さらに自転による遠心力が加わって、内部の素材には強力な合成遠心力が作用します。素材は内壁に沿って底の方に移動しようとします。容器が自転することで、連続的に容器内壁では下向き、中心部では上向きの対流運動が生じ、さらに自転による渦流も発生し、この二つの流れが効果的に合成されて緻密な撹拌が行われます。【自転・公転と遠心力の作用】 ■自転のみ/公転のみ：遠心力によって、容器内で偏ってしまう ■自転公転：異なる遠心力の合成ベクトルによって対流が起こる用途】 ■歯科材料・医薬品材料・化粧品基材の撹拌脱泡 ■インク・塗料・顔料の色材調合 ■シリコン・エポキシ・ウレタンなど化学材料、合成樹脂材料の撹拌脱泡 ■レンズ用接着剤・墨塗剤の撹拌脱泡 ■2液性接着剤の混合、1液性接着剤の脱泡 ■二次電池材料の撹拌脱泡 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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噴流式ガラス基板温調システム『クリスタルジェット』

株式会社朝日工業社

『クリスタルジェット』は、液晶パネル生産を支えるキーデバイスとして広く世界中で採用されている噴流式ガラス基板温調システムです。新たな空調システム“高効率顕熱空調機”を採用し、冷却のみでの精密温度制御を実現。レイアウトに合わせたカスタマイズが可能なほか、全面層流タイプや小風量タイプなど、様々なオプションもご用意しています。【特長】 ■大型基板への対応 ■温度管理の高精度化 ■処理時間の短縮 ■省エネ・省スペース化 ■ガラス基板温度収束時間25秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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シリコンウェハー　サイズダウン加工サービス

江戸川電子株式会社

当社は、環境に配慮し「限られた材料を無駄なく利用したい」という思いからシリコンウェハーのサイズダウン加工に力を入れてきました。大口径ウェハーを再研磨して薄くなるまで使い、その後小さくサイズダウンして使うことで極力破棄を無くして再利用していきます。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【シリコンウェハーサイズダウン加工の流れ】 1.サイズダウン 2.熱処理 3.面取り（ベベリング） 4.ラップ 5.洗浄・検査 6.出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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RUSSELL FINEX VDS（超音波目詰まり防止システム）

サマック株式会社

製品を目詰まりを防止し、振動振るいを安定稼働へ RUSSELL FINEX VDS（Vibrasonic Deblinding System）は、振動篩のメッシュに超音波振動を与えることで、目詰まりを防止し、分級性能と生産性を大幅に向上させるシステムです。20ミクロンレベルの微細メッシュでも安定したふるい分けが可能となり、製品品質の向上・処理能力アップ・メッシュ寿命の延長を同時に実現します。物理的な清掃や頻繁なメッシュ交換が不要になるため、ノンストップオペレーションとランニングコスト削減にも貢献します。新規・既存の振動篩いずれにも後付け可能。製薬・食品・化学・電池材料など、高精度な粉体処理が求められる現場で世界中から採用されている超音波目詰まり防止ソリューションです。

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マルチレイアウトラッピングシステム『Trinity-Y』

日本エンギス株式会社

マルチレイアウト型多機能ラッピングシステム「Trinity‐Y」は、ワイドギャップ半導体等の次世代の材料に対応するために開発された装置で、各種新素材に最適な機構を自由に選択することができ、その機能を1台に集約することで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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半導体業界向け金属イオン溶出の無い自動着脱装置（タンクボトム用）

ナブテスコサービス株式会社

電子材料製造工場における、洗浄液投入作業の自動化ソリューションをご提案いたします。貴社の生産現場において、原料ラインから移動槽、そして移動槽から充填機へと続く一連の洗浄液投入工程を、自動化することが可能です。本製品の最大の特長は、接液部すべてにPTFE（フッ素樹脂）を採用した「自動着脱コネクタ」である点です。これにより、製造プロセスにおける金属イオンの溶出を完全にゼロに抑えることができ、極めて高い純度が求められる半導体材料製造においても安心してご使用いただけます。また、内弁はPTFEの一体成形構造となっております。継ぎ目がないため洗浄性が非常に高く、メンテナンス負荷の軽減にも大きく貢献します。なお、ご用途に合わせて接液部をPVC（塩化ビニル樹脂）で製作することも可能です。本技術は、半導体業界のみならず、高い耐薬品性が求められる製薬業界などの強酸（塩酸）ラインにおける配管自動切換装置としても、すでに多くの導入実績がございます。貴社の生産効率向上と品質安定化を強力にサポートいたします。

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経過品ウェハー

株式会社ベクトルジャパン

半導体ウェハーメーカーから直接購入しております 6/8/12 inch wafer 25枚/ケース入り

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ダイヤモンド研磨『DISK NEO』

アイエムティー株式会社

『DISK NEO』は、研磨スピードのUPと、高い平坦度を実現しました。表面構造はアルティメットスクエアで、ダイヤの刺さりが軽減。電子材料などの複合材料の研磨に適しています。また、水だけで研磨が可能となっております。【特長】 ■電子材料などの複合材料の研磨に好適 ■高い平坦度の実現 ■研磨スピードのUP ■ダイヤの刺さりが軽減 ■水だけで、研磨が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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CCP（重要管理点）に適応した振動振るい｜ラッセルファイネックス

サマック株式会社

食品製造において、CCP（Critical Control Point／重要管理点）は、製品の安全性と品質を保証する最重要工程の一つです。特に乳粉製造では、異物混入リスクや粒度不良が製品品質に直結するため、「ふるい工程＝CCP」としての役割が非常に重要になります。 CCPへの意識が特に高い日本のお客様の厳しい要求にも対応できるのが、ラッセルファイネックスの振動ふるいになります。

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【金属粉】をふるい分け！振動ふるい機のご紹介！

サマック株式会社

「金属粉」のふるい分けにオススメの振動ふるい装置をご紹介します！！海外大手金属加工メーカーは、Rusell Finex社コンパクトモデルに切り替えたところ、清掃や製品入れ替え際の生産停止時間を大幅に短縮し、短期間で投資回収ができました！

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酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』

山口精研工業株式会社

当社の『CHEMISTER CL-シリーズ』は、酸化物系基板用に開発した、高い研磨Rateと研磨面品質を実現する研磨剤です。 SAWデバイス用基板に利用されるタンタル酸リチウム(LiTaO3)をはじめ、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、サファイア、酸化亜鉛、ガーネットなどを対象としています。【特長】 ■コロイダルシリカを砥粒としたポリシング用鏡面研磨剤である ■難加工性材料である、タンタル酸リチウム(LiTaO3)、サファイア等に　対して、高い研磨Rate、研磨面品質を実現 ■お客様のニーズ･ご要望にお答えしカスタマイズした研磨剤を提供 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

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製品カタログ　半導体製造装置用セラミックス製品

橋本理研工業株式会社

当カタログは、ファインセラミックス等の各種産業機械部品を取り扱う橋本理研工業株式会社の「半導体製造装置用セラミックス製品」を掲載している製品カタログです。ウェハ製造プロセスで用いられる「ウェハポリシングプレート」や「SiC製ウェハポリッシングプレート」の他、様々な製品を掲載しています。【掲載内容】 ■ウェハ製造プロセス ■デバイス製造プロセス ■セラミックス応用技術 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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シリコンウェーハ　研磨加工サービス

株式会社松崎製作所

当社では、プライムウェーハ、ダミー／モニターウェーハの加工販売、および再生加工を行っております。　入手困難になりつつある1インチ～3インチSiウェーハも提供可能。小口径Siウェーハも、お客様のご要望に応じた仕様をご提案いたします。特殊な厚さや抵抗率なども、お気軽にご相談ください。【業務内容】 ■シリコンウェーハの再生加工　・半導体メーカー様より支給された評価使用済みウェーハを再加工して納入　・酸化膜や金属膜付きウェーハの再処理も実施 ■シリコンウェーハの製造販売（1インチ～8インチ）　・インゴット切断から鏡面研磨加工までの一貫加工ラインで、　　研究開発用の少量生産から量産まで対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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加工Siウエハ　受託サービス

株式会社フィルテック　

株式会社フィルテックは、テストウエハと小型高効率熱交換器 (ヒートビームシリンダー)でお客様の技術開発を支援します。テストウエハサービスでは、ベアSiウエハ、膜付ウエハ、パターンウエハ等をご提供。更に、チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、世界的に評価されています。【事業】 ■テストウエハソリューション事業 ■装置部品事業 ■コンサルティング事業 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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シリコンダミーウェハー

株式会社トリニティー

半導体向けシリコン素材の専門商社、トリニティーでは多品種の『ダミーウェハ―』を取り扱っております。お客様のご要望に合わせた加工もご対応させて頂いております。詳細スペック、数量、その他品目についてもお気軽にご相談下さい。【特長】 ■2インチ～12インチ ■P/N型 ■ベア品／膜品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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半導体中古装置・部品サービス

TST SEMICONDUCTOR株式会社

当社では、中国・香港といった自社拠点のみならず、世界各国のネットワークで、半導体中古装置を販売しております。また、電子パッケージ装置、プラズマクリーナーなどの輸入販売、再生装置販売では設備の改造からメンテナンスまでお任せください。その他、工場半導体装置の一括買取、移設・撤去も行っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【事業内容】 ■半導体中古装置・部品販売 ■新規装置販売 ■再生装置製造販売 ■買取査定 ■移設・撤去 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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化学研磨サービス

株式会社電硝エンジニアリング

当社では、携帯電話やゲーム機向けガラス基板の軽量化を図るためにガラスを薄くする化学研磨を行っております。ディスプレイに使用されるガラス基板を、薬品を使って化学的に削って超薄型に仕上げることで、軽量薄型化する電気製品の開発・生産を支援。その他、当社独自のサンドブラスト技術を用いた精密洗浄や専門スタッフがお客様の工場内で作業することができるオンサイト事業も提供しております。【主要装置】 ■大型乾燥炉 ■Qmas ガス分析装置 ■パーティクル測定装置 ■溶射ロボット ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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半導体製造用の耐摩耗部品・耐摩耗配管

株式会社東京ハードフェイシング

『CIPクラッドパイプ』は、真空溶解・ガスアトマイズ法により製造された高品質の粉末を熱間押出して製造されています。 HIP、遠心鋳造、溶射、肉盛溶接に比べ、微細な炭化物が均一に分散されており、より硬く耐磨耗性に優れています。また、HIP、遠心鋳造、溶射、肉盛技術では、製造不可能な長尺細径管の製造も可能です。【特長】 ■耐磨耗性が極めて高く、恒久対策に好適 ■錆によるベレットへの着色がない ■高クローム鋼の配管に比べ、軽量であるため、取付作業が容易 ■熱間ベンド加工により、様々な角度に曲げ加工が可能 ■曲げ加工による内面ステライト合金へのクラックがない ■外径がステンレス鋼のため、フランジ、アースラグの溶接が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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基板『MD』

鋼鈑工業株式会社

当製品は、コンピューターの記憶装置（ハードディスクドライブ）に使用されている基板です。アルミ円板を素材として、研削加工、無電解ニッケル・燐メッキ、鏡面研磨、また各種特性検査等の工程を経て製造されています。【特長】 ■高度なナノレベルの研磨技術・メッキ技術を駆使して製造 ■劇的に記憶容量を増加 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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SiC・GaN基板研磨加工サービス『CARE-TEC(R)』

株式会社東邦鋼機製作所

『CARE-TEC(R)』は、究極の平坦面とダメージフリー化により、デバイス性能を飛躍的に向上できる技術です。加工液は環境に配慮した純水のみを使用しております。ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。【特長】 ■原子レベルの平坦性が得られる ■加工ダメージ（内部の潜傷）を除去可能 ■リーク電流を低減できる ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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受託加工「SiC＆サファイア」

六甲電子株式会社

六甲電子株式会社の受託加工は、独自の手法によりSiCウエハの研削→研磨→RCA洗浄を一貫して行えます。既存のシリコン加工機で、研削→研磨→RCA洗浄を実現。現状の専用機での加工に比べ高速・低ソリ・高面粗度・大口径対応が可能となり、一貫加工にて対応いたします。半導体の特性や性能に影響するシリコンウエハの研削・研磨技術。高度な精密度を有する技術を開発・改良・更新し、製造しています。【特徴】 ○グラインド研削で加工時間、コスト低減 ○高速・超平滑を得るCMP ○RCA洗浄による高品質実現 ○エピ再生加工詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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ステップアライメント処理サービス

株式会社CUSIC

『ステップアライメント処理』は、単結晶 SiC ウエハ表面（エピ表面を含む）の平滑化を促進する前処理（または後処理）です。単結晶SiCのSi面に対して顕著な平滑化の効果を発揮し、微傾斜基板に対してはステップ間隔の均一化を促進。 SiC基板に与える熱的ストレスが小さいことに加え、バッチ式の処理であるため、処理枚数が増えるほどコストが低減します。【実績】 ■SiCデバイス製造工程においては、熱酸化膜前に　ステップアライメント処理を施すことにより、酸化膜/SiC界面の　平滑性が向上することが確認されている ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ウェハのCMP工程で過酸化水素を全自動で測定【技術資料】

メトロームジャパン株式会社

ケミカル・メカニカル・ポリシャ«CMP»は、シリコンウェハ表面を滑らかにしたり研磨したりするために使用される主要な技術の1つです。一般的には、この工程では、脱イオン水、CMPスラリー(コロイド状シリコンやアルミナ液体分散体)、および過酸化水素(強酸化剤)を一定の濃度と比率で混合する工程です。過酸化水素は経時的に劣化するため、CMP工程を効率よく繰り返し行うためには、その濃度をオンラインで常時監視する必要があります。このように、CMPスラリーが常に規格内であることを確認し、必要に応じて混合物を調整することで、製品の歩留まりを抑制します。

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粉塵対策と効率化！フルオートメーション真空搬送システム振動篩

サマック株式会社

薬品・粉末調味料・粉末パウダーなど“粉体搬送＋ふるい分け”の現場でこんな課題はありませんか？・ホコリが舞って作業環境が悪い・人手をかけずに投入・ふるいまで済ませたい・異物混入や粉塵爆発のリスクを減らしたい【そのすべてを解決するのが、RUSSELL FINEX AIR SWEPT SIEVE】粉体の真空搬送とふるい分けを一括処理。導入によって、以下のような成果が見込めます：・作業環境の改善・粉塵爆発リスクの低減・マンパワー削減と作業ラインの自動化を実現

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石英ガラス加工製品・再生石英材料

株式会社インテリンク

当社は得意分野ごとに石英ガラスの加工業者を選定し、最高の加工技術で作られた製品をお客様に提供しています。また、合成石英材料の取り扱もしていますのでお気軽にお問い合わせください。

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再生シリコンウェーハ

SE TECH INTERNATIONAL合同会社

当社では、厳密な品質管理のもとで、超高純度・超高品質なシリコンウェーハの再生を実現し、高品質の再生シリコンウェーハをご提供しております。最高水準のシリコンウェーハの材料を使用し、万全の品質管理のもと、お客様の様々なニーズに対応。各仕様、各種別Si材料提供し、用途に合わせた加工を承ります。ご要望の際は、お気軽にご相談ください。【仕様（直径：200mm）】 ■結晶軸・方位：＜ 100 ＞0 ±0.5 ノッチ ■導電型・抵抗値：P/N：0.01～100Ωcm ■ウェーハ厚み：700um～725um±25um ■平坦度　・GBIR：≦10um 　・WARP：≦50um ■仕上面：鏡面+エッチ面 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

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半導体表面温度測定用熱電対

株式会社システック

当社で取り扱う『半導体表面温度測定用熱電対』をご紹介いたします。先端にばね材を使用し、測定対象物と接触して安定した温度測定が可能。半導体温度測定装置に使用する消耗品のコストダウンが可能で、自動車部品メーカー各社に納入実績があります。【特長】 ■先端にばね材を使用 ■測定対象物と接触して安定した温度測定が可能 ■測定時の応答速度が早い ■アタッチメントの形状を自由に変更が可能 ■1000℃の高温でも高精度で温度測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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自然冷媒チラー『RJ-CA型』

株式会社荏原製作所

『RJ-CA型』は、自然冷媒(CO2)を採用した半導体製造装置向けチラーです。超小型キャンドポンプ内蔵・荏原のインバータ制御技術により省スペース・省エネ化をはかることが可能。また、±0.1℃の温度制御が可能となりプロセスの安定性向上及び歩留まり向上へ貢献します。【特長】 ■自然冷媒(CO2)採用(GWP＝1) ■精密温度制御 ■省エネ ■省スペース ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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両面加工研磨マシン専用治具　ラッピング・ポリッシング　キャリヤ

サンコースプリング株式会社

サンコースプリングのラッピング・ポリッシングキャリヤは現代の高度情報化社会を支えています。携帯電話、パソコン、デジタルカメラなどの電子機器に組み込まれる素材（人工水晶、石英、半導体、セラミック、磁気素材、ガラス等）のラッピング、ポリッシング加工に適したラッピングキャリヤを各種製造販売しております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ウェーハの研磨におけるコスト効率の改善

ウェーハの研磨におけるコスト効率の改善とは？

課題

研磨時間の長期化による生産性低下

要求される平坦度や表面粗さを達成するために、研磨時間が長くなり、装置稼働率の低下や生産量の伸び悩みにつながっています。

消耗品コストの増大

研磨パッドやスラリーといった消耗品は、高品質な研磨を実現するために不可欠ですが、その単価が高く、交換頻度も高いため、製造コストを押し上げる要因となっています。

歩留まりのばらつきと不良発生

研磨条件のわずかな変動や装置の経年劣化が、ウェーハごとの研磨品質のばらつきや、スクラッチ、異物付着などの不良発生につながり、歩留まりの低下と再研磨コストの増加を招いています。

エネルギー消費量の増加

研磨装置の稼働には多くの電力を消費し、特に長時間稼働や高負荷での研磨は、エネルギーコストの増加だけでなく、環境負荷の観点からも課題となっています。

対策

研磨プロセスの最適化と高速化

研磨条件（圧力、回転数、流量など）の精密な制御や、新しい研磨メカニズムの導入により、研磨時間を短縮しつつ、要求される品質を維持・向上させます。

高耐久・低コスト消耗品の開発・導入

長寿命でかつ低価格な研磨パッドや、研磨効率の高いスラリーの開発・採用により、消耗品コストを削減し、交換頻度を低減させます。

インライン検査と自動補正機能の強化

研磨中のウェーハ状態をリアルタイムでモニタリングし、異常を早期に検知。自動で研磨条件を補正することで、不良発生を抑制し、歩留まりを安定させます。

省エネルギー型研磨装置の導入

低消費電力設計の研磨装置や、より効率的な研磨方法を採用した装置を導入することで、エネルギーコストを削減し、環境負荷を低減します。

対策に役立つ製品例

高精度研磨制御システム

研磨中の圧力、流量、温度などをリアルタイムで高精度に制御し、最適な研磨条件を維持することで、研磨時間の短縮と品質の安定化を実現します。

高性能研磨パッド

特殊な素材や構造により、高い研磨能力と長寿命を両立させた研磨パッド。消耗品コストの削減と交換頻度の低減に貢献します。

インライン品質モニタリングセンサー

研磨中のウェーハ表面の状態を非接触でリアルタイムに計測し、異常を早期に検知。不良発生を未然に防ぎ、歩留まり向上に寄与します。

低粘度・高効率研磨スラリー

研磨粒子を均一に分散させ、高い研磨効率を発揮するスラリー。少ない使用量で高い研磨性能を発揮し、コスト削減と環境負荷低減に貢献します。

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検査・測定装置

材料

自動化・ITソリューション

製造装置

コスト効率の改善とは？課題と対策・製品を解説

ウェーハの研磨におけるコスト効率の改善とは？

各社の製品

ウェーハの研磨におけるコスト効率の改善

ウェーハの研磨におけるコスト効率の改善とは？

​課題

研磨時間の長期化による生産性低下

消耗品コストの増大

歩留まりのばらつきと不良発生

エネルギー消費量の増加

​対策

研磨プロセスの最適化と高速化

高耐久・低コスト消耗品の開発・導入

インライン検査と自動補正機能の強化

省エネルギー型研磨装置の導入

​対策に役立つ製品例

高精度研磨制御システム

高性能研磨パッド

インライン品質モニタリングセンサー

低粘度・高効率研磨スラリー

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

課題

対策

対策に役立つ製品例