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半導体製造装置・材料

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半導体製造装置・材料

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不純物混入の防止とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
界面特性の向上
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
界面特性の向上
リーク電流の抑制

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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検査・測定装置
材料
自動化・ITソリューション
製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
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ウェーハ表面の酸化における不純物混入の防止とは？

半導体製造プロセスにおいて、ウェーハ表面の酸化は不可欠な工程ですが、この際に微細な不純物が混入すると、半導体デバイスの性能低下や歩留まりの悪化に直結します。そのため、不純物の混入を徹底的に防止することが、高品質な半導体チップを製造するための最重要課題の一つとなっています。

各社の製品

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【電子機器向け】生産現場のドライブレコーダー

【電子機器向け】生産現場のドライブレコーダー
株式会社コヤマ・システム
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、製造工程における不良の早期発見と原因究明が不可欠です。特に、微細な部品の組立や複雑な工程が多い電子機器製造においては、不良発生時の迅速な対応が、生産効率の維持に重要となります。不良の原因特定に時間がかかると、生産ラインの停止や製品の廃棄につながり、大きな損失を招く可能性があります。RekamoMAは、高速カメラによる詳細な記録と波形グラフとの同期表示により、不良発生の原因を迅速に特定し、対策を講じることを可能にします。 【活用シーン】 ・電子部品の製造ライン ・半導体製造工程 ・基板実装工程 ・製品の品質検査 【導入の効果】 ・不良解析時間の短縮 ・不良原因の特定精度向上 ・生産効率の改善 ・品質管理の強化
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【半導体製造向け】薬液プロセスの自動化に高精度・長寿命ポンプ

【半導体製造向け】薬液プロセスの自動化に高精度・長寿命ポンプ
テカンジャパン株式会社
Cavro XLP6000は、様々な自動化装置に採用されている超精密吐出ユニットです。半導体製造装置に求められる24時間365日の連続稼働に耐えうる堅牢な設計と、化学薬品に対する高い耐性を兼ね備えています。 長年培われた信頼のメカニズムが、プロセス液の供給における「ダウンタイムゼロ」を追求し、装置の稼働率（OEE）を最大化します。 【活用シーン】 ・メッキ槽への添加剤・薬液の自動補充：光沢剤や抑制剤を正確かつ定期的に定量補充 ・洗浄・エッチング用薬液のオンデマンド調合：インライン供給するブレンディングシステムに最適 ・現像液・剥離剤の精密供給：大口径ウェーハの面内均一性を確保するための安定した液送りを実現 【なぜXLP600なのか？】 ・量産ラインでの圧倒的な信頼実績 ・メンテナンス性の高さと長寿命設計 ・グローバルなサポート体制
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【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル

【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。 基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。 従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。 【活用シーン】 ・基板洗浄後の水切り工程 ・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥 ・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の完全省略による時間短縮 ・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減 ・生産ライン全体の効率化 ・製品品質の向上
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【半導体製造向け】防爆ハンディ露点計 SDHmini-EX

【半導体製造向け】防爆ハンディ露点計 SDHmini-EX
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、製造プロセスのクリーン度を維持するために、空気中の水分量を厳密に管理することが重要です。微量の水分が製品の品質や歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があるため、高精度な水分測定が求められます。SDHmini-EXは、高応答速のドライチャンバーと防爆性能を備え、クリーンルーム環境下での水分測定を容易にします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の露点測定 ・工業ガス、圧縮空気の水分チェック ・製造ラインの品質管理 【導入の効果】 ・正確な水分管理による製品品質の向上 ・製造プロセスの安定化 ・迅速な測定による異常の早期発見
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【電子機器製造向け】電子冷却式ドライヤーユニット TKZH008

【電子機器製造向け】電子冷却式ドライヤーユニット TKZH008
株式会社テクネ計測
電子機器製造業界では、基板の品質を維持するために、炉内雰囲気ガスの水分管理が重要です。水分は、基板の腐食や絶縁不良を引き起こし、製品の信頼性を損なう可能性があります。TKZH008は、炉内雰囲気ガス中の水分を除去し、基板を保護します。 【活用シーン】 ・電子機器製造における基板の乾燥工程 ・炉内雰囲気ガスの水分管理が必要な工程 【導入の効果】 ・基板の腐食や絶縁不良を防止 ・製品の信頼性向上 ・歩留まりの向上
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【電子部品業界向け】PSA方式-窒素発生装置

【電子部品業界向け】PSA方式-窒素発生装置
株式会社カケンジェネックス
電子部品業界では、製品の品質維持のため、製造工程における酸化防止が重要です。特に、精密な電子部品においては、酸化による性能劣化や不良品の発生を防ぐことが求められます。不適切な環境下での製造は、製品寿命を縮める可能性があります。当社のPSA方式-窒素発生装置は、高品質な窒素ガスを安定供給し、酸化を抑制することで、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子部品製造工程 ・半導体製造工程 ・基板製造工程 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・不良品率の低減 ・製品寿命の延長
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【太陽電池製造向け】SiO2(石英)リング

【太陽電池製造向け】SiO2(石英)リング
株式会社スパッタコア
太陽電池製造業界では、高品質な太陽電池セルの製造が求められます。特に、拡散工程における不純物の混入を防ぎ、効率的な拡散処理を行うことが重要です。不適切な材料の使用や管理は、太陽電池セルの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のSiO2(石英)リングは、高い純度と耐熱性により、拡散工程における最適な環境を提供し、高品質な太陽電池セルの製造をサポートします。 【活用シーン】 ・太陽電池セルの拡散工程 ・高温環境下での使用 ・不純物の混入防止 【導入の効果】 ・高品質な太陽電池セルの製造 ・歩留まりの向上 ・製品の信頼性向上
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【半導体向け】TEKHNEPort40-LDPTによる清浄度管理

【半導体向け】TEKHNEPort40-LDPTによる清浄度管理
株式会社テクネ計測
半導体業界では、製造プロセスにおける清浄度の維持が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細な水分は製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。TEKHNEPort 40-LDPTは、高精度な露点測定により、製造環境の水分量を正確に把握し、清浄度管理を支援します。持ち運び可能で、現場での測定に最適です。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の露点測定 ・製造プロセスにおける配管内の露点測定 ・品質管理部門での測定 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・不良品の削減 ・製造プロセスの最適化
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【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型

【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。特に、微細な回路を扱う半導体製造においては、不純物の混入は製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースを有効活用し、高純度な純水を安定供給することで、半導体製造における洗浄工程の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・製造装置の洗浄 ・各種試薬の希釈 【導入の効果】 ・洗浄工程における異物混入リスクの低減 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【電子部品向け】高分子式露点計 TE-660TR

【電子部品向け】高分子式露点計 TE-660TR
株式会社テクネ計測
電子部品業界において、絶縁性は製品の信頼性を左右する重要な要素です。水分は絶縁性を低下させ、部品の性能劣化や故障を引き起こす可能性があります。特に、高密度実装が進む現代の電子部品においては、微小な水分量も厳密に管理する必要があります。高分子式露点計 TE-660TRは、-60 ℃dpまでの低露点範囲を測定し、自動校正機能により正確な水分管理を実現します。これにより、電子部品の絶縁性を確保し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 * 半導体製造工程 * 電子部品の保管環境 * クリーンルーム環境 【導入の効果】 * 製品の信頼性向上 * 不良率の低減 * 品質管理の効率化
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【半導体製造向け】不活性ガス中酸素濃度コントロールシステム

【半導体製造向け】不活性ガス中酸素濃度コントロールシステム
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、製造プロセスにおける酸素濃度の厳密な管理が不可欠です。特に、酸化を抑制し、製品の性能劣化を防ぐためには、不活性ガス環境の維持が重要となります。不適切な酸素濃度管理は、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。当社の不活性ガス中酸素濃度コントロールシステム(ICS)は、酸素濃度を監視し、不活性ガスの投入流量を制御することで、半導体製造プロセスにおける酸化を効果的に防止します。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおける不活性ガスパージ ・爆発限界管理による安全性の向上 ・VOC排出量の削減 【導入の効果】 ・製品の品質向上と歩留まりの改善 ・製造プロセスの安全性向上 ・VOC排出量の削減による環境負荷低減
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【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット

【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおける微量な水分管理が重要です。特に、炉内雰囲気ガス中の水分は、製品の歩留まりや信頼性に悪影響を及ぼす可能性があります。TKZH008電子冷却式ドライヤーユニットは、炉内雰囲気ガス中の水分を効率的に除去し、製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における炉内雰囲気ガスの精密乾燥 ・露点管理が必要なガス供給ライン ・クリーンルーム内での使用 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製品の信頼性向上 ・製造コストの削減
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【半導体向け】高温対応ダイヤフラムバルブ

【半導体向け】高温対応ダイヤフラムバルブ
株式会社キッツエスシーティー
半導体製造における薬液供給では、高い純度と温度管理が求められます。特に、薬液の劣化や異物混入は、製品の品質に深刻な影響を与える可能性があります。また、高温環境下での使用は、バルブの耐久性や信頼性を大きく左右します。高温対応ダイヤフラムバルブ『ZDシリーズ』『ZDーKシリーズ』は、これらの課題に対応し、安定した薬液供給を実現します。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・材料容器への供給 ・高温環境下での使用 【導入の効果】 ・シート交換によるメンテナンス性の向上 ・高温環境下での安定した性能 ・高い製品純度の維持
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【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション

【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション
福井キヤノンマテリアル株式会社
研究開発分野では、実験の再現性が極めて重要であり、不純物の混入は実験結果に大きな影響を与えます。半導体製造プロセスにおいては、金属やパーティクルの混入がデバイスの性能劣化や歩留まり低下につながるため、高度な清浄度が求められます。当社の低メタル、低パーティクル化ソリューションは、これらの課題に対応し、研究開発における信頼性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の研究開発 ・半導体製造プロセスの評価 ・金属汚染、パーティクル汚染が問題となる研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究開発の効率化 ・高品質な半導体製造への貢献
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【半導体製造向け】スプリングリターンボールバルブ

【半導体製造向け】スプリングリターンボールバルブ
富永物産株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの純度を厳格に管理することが求められます。特に、薬液や純水などの流体管理において、異物混入や漏洩は、製品の品質を著しく低下させる要因となります。閉め忘れや誤操作による流体の意図しない流出は、製造ラインの停止や製品の不良につながる可能性があります。スプリングリターンボールバルブは、自動で閉止（または開放）することで、これらのリスクを低減し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・純水供給ライン ・各種ガス供給ライン 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品品質の向上 ・製造ラインの安定稼働
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【半導体向け】超純水の水質監視装置

【半導体向け】超純水の水質監視装置
セントラル科学株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける超純水（UPW）の品質管理が、製品の歩留まりと品質を左右する重要な要素です。特に、微量のTOC（全有機炭素）やホウ素の混入は、半導体デバイスの性能に悪影響を及ぼす可能性があります。当社の水質監視装置は、これらの微量成分を高精度で連続的に監視し、UPWシステムの品質を維持します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場のUPWシステム ・原水、RO水、回収水、UF/EDI、ユースポイントなど、各工程 【導入の効果】 ・UPWの品質を安定化し、歩留まり向上に貢献 ・TOCやホウ素による製品不良のリスクを低減 ・製造プロセスの効率化とコスト削減
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【半導体製造向け】水質監視システム

【半導体製造向け】水質監視システム
グリッドリンク株式会社
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の水質管理が重要です。特に、不純物の混入は、製造プロセスに悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品不良の原因となります。本システムは、超純水の濁度、色度、残留塩素をリアルタイムで監視し、異常を早期に発見することで、高品質な製品製造を支援します。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセス ・純水供給ライン ・水質管理の自動化 【導入の効果】 ・製品品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製造プロセスの安定化
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【半導体向け】MBW573 鏡面冷却式露点計

【半導体向け】MBW573 鏡面冷却式露点計
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、製品の品質を維持するために、製造環境の清浄度管理が重要です。特に、微細な水分や不純物は、製品の歩留まりを低下させる可能性があります。MBW573は、高精度な露点計測により、製造プロセスにおける水分管理を支援し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の露点監視 ・製造プロセスにおける乾燥空気の露点管理 ・ガス供給ラインの水分モニタリング 【導入の効果】 ・高精度な露点計測による品質管理の強化 ・製品不良のリスク低減 ・製造プロセスの最適化
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【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG

【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG
興和株式会社
半導体製造業界では、ウェーハの微細加工に伴い、異物や金属イオンの混入が製品の品質を大きく左右します。洗浄工程では、これらの不純物を徹底的に除去し、高い清浄度を維持することが求められます。不適切な洗浄は、歩留まりの低下やデバイスの性能劣化につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。半導体製造における高品質な洗浄をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ洗浄 ・電子部品製造 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・高い洗浄力による歩留まり向上 ・金属不純物によるデバイスへの影響を抑制 ・クリーンルーム環境での安定した使用
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【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル

【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル
ピュアトラスト株式会社
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。 基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。 従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。 【活用シーン】 ・基板洗浄後の水切り工程 ・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥 ・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の完全省略による時間短縮 ・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減 ・生産ライン全体の効率化 ・製品品質の向上
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【化学プラント向け】全面PTFE接液ライニングパイプ

【化学プラント向け】全面PTFE接液ライニングパイプ
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
化学プラント業界では、腐食性のある薬品や溶剤を安全に輸送することが重要です。特に、配管からの溶出や劣化は、製品の品質低下やプラントの稼働停止につながる可能性があります。当社の全面PTFE接液ライニングパイプは、耐薬品性に優れたPFA/PTFEライニングにより、これらの問題を解決します。流体の品質を維持し、プラントの安定稼働に貢献します。 【活用シーン】 ・高純度化学薬品の輸送 ・腐食性溶剤の移送 ・製薬プロセス 【導入の効果】 ・薬品への高い耐性 ・溶出リスクの低減 ・製品品質の維持
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『ASM Epsilon用温度センサー』

『ASM Epsilon用温度センサー』
ＩＢＰテクノロジー株式会社
今回新たに、米国CONAX社が開発した新技術“EtchDefender”を採用し、 ウエハの異物付着の低減、失透速度、浸食速度のスロー化などにより、 従来のセンサーの最大3倍にまで寿命延ばすことが可能となりました！ “EtchDefender”は数年間にわたり、大学の研究機関、大手ウエハメーカーの 製造設備にて、検証を繰り返して達成した信頼性のある技術です。 この新しいコーティング技術によって、センサーの寿命を延ばし、 35～45％もの大幅なコストダウンを実現することができます。 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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オンラインUPWホウ素計 Sievers Boron Ultra

オンラインUPWホウ素計 Sievers Boron Ultra
セントラル科学株式会社
超高感度検出：0.010～100 ppb B、定量下限0.030 ppb B 迅速な測定：3分または6分の測定サイクル 選べる流路構成：1流路／2流路モデル 直感的な操作：10.1インチのマルチカラータッチスクリーン 高い防塵・防水性能：IP45等級取得 多様な出力対応：アナログ出力、RS-232、Modbus TCP/IPなど
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水分発生装置『WVG』

水分発生装置『WVG』
株式会社フジキン(Fujikin Incorporated)
1.触媒を利用した反応炉。 2.幅広い濃度制御範囲。 3.優れた安全性。 4.各種インターロック。 5.安全仕様。
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ケミカルヒータ

ケミカルヒータ
日本エクセル株式会社
日本エクセル株式会社では『ケミカルヒータ』を取り扱っております。 当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる各種薬液の 高温加熱用として、短時間に精度よく温度制御する抵抗ヒータを用いて います。 さらに、接液部にはフッ素樹脂と高純度ガラス状炭素のみを用いているため 不純物汚染の恐れが無く、酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への 対応が可能です。 【特長】 ■加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用 ■溶出金属イオンによる汚染の心配がない ■表面保護膜不要のため、剥離による能力低下がない ■酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への対応が可能 ■薬液の漏れを検知する漏液センサ、異常温度を検知する温度スイッチを内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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石英ガラス 高純度アニール炉

石英ガラス 高純度アニール炉
アドバンエンジ株式会社
『石英ガラス 高純度アニール炉』は、アニール工程における 石英ガラス製品の表面汚染を大幅に減少させることが可能です。 ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。 処理製品の大口径化、長尺化に対応するべく炉体の大型化を進めており、 お客様のご要望に応じて専用設計いたします。 【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱源はSiCヒーターを採用し温度分布性能の向上を図る ■対象製品の大きさに合わせて専用設計が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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フッ素樹脂製ヒーター『EDH』

フッ素樹脂製ヒーター『EDH』
有限会社エクサ
『EDH』は、接液部に全てPFA・PTFEを使用したフッ素樹脂製ヒーターです。 標準の容量は1KWから5KWで、処理槽の形状に合わせて製作いたします。 その他に、標準以外も製作可能です。 半導体高純度薬品をはじめ、超純水、純水や化学薬品、メッキ関係、 実験装置にご使用いただけます。 【特長】 ■接液部は全てPFA・PTFE製 ■処理槽の形状に合わせて製作 ■標準の容量は1KWから5KW ■標準以外も製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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高真空シリンダーバルブ SERIES25.0/25.1/25.2

高真空シリンダーバルブ SERIES25.0/25.1/25.2
VAT株式会社
大きなコンダクタンスが要求される高真空アプリケーションの排気およびベント用バルブ -過酷な環境にも対応（腐食に対しての高い耐性）します。 -穴の開いたシリンダーが回転するため、フルコンダクタンスが可能です。 -O-リングがバルブボディに隠れる回転構造。腐食性ガスからO-リングを守り、長寿命を実現します！
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【イオンクロマトグラフィー資料】水酸化アンモニウムの不純物測定

【イオンクロマトグラフィー資料】水酸化アンモニウムの不純物測定
メトロームジャパン株式会社
半導体産業では、超高純度試薬が必要とされます。イオン性不純物が含まれていると製品の品質を損なう可能性があります。 このアプリケーションでは、28%の半導体グレードの水酸化アンモニウム溶液中の陰イオン不純物の測定結果を示します。 マトリックスの影響を避けるために、インライン中和とマトリックス除去を伴う濃縮テクニックを用いて測定を行ないました。
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超高純度用減圧弁　テスコム社製　64-2600シリーズ

超高純度用減圧弁　テスコム社製　64-2600シリーズ
株式会社テクメイション
■　高感度金属ダイヤフラム減圧弁
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

電子材料向け洗浄瓶

電子材料向け洗浄瓶
堀内硝子株式会社
主に電子材料関係のユーザー様向けに、硝子瓶の微粒子の除去を目的として、クリーンルーム内で超純水による洗浄加工を施された瓶です。 硝子瓶は事前に脱アルカリ処理を施す事により、ナトリウムなどのアルカリ金属の抑制効果が期待できます。これによりアルカリ溶出が気になる内容物にも対応が出来ます。 高純度な洗浄を必要とされない場合でも、洗浄レベルをあわせた簡易洗浄にも対応致します。 各種サイズの瓶、ボトルの洗浄対応が可能です。 御希望の容量、口形状(細口、広口)、洗浄スペック等お気軽にご相談下さい。 ・洗浄クラス１００まで対応可能　 ・超純水による洗浄、超音波浸漬洗浄による高清浄度洗浄 ・液中パーティクル測定可能 ・各種洗浄サンプル手配可能
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【プロセス分析計 技術資料】ウエハ用洗浄槽の自動モニタリング

【プロセス分析計 技術資料】ウエハ用洗浄槽の自動モニタリング
メトロームジャパン株式会社
半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法（NIRS）によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計　プロセス分析計　インライン分析計
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非接触CV測定装置 Cn0CV

非接触CV測定装置 Cn0CV
日本セミラボ株式会社
世界に400台以上の実績を持つ非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置です。 鉄濃度測定の感度はDSPVを採用することでE8を実現し、近年のCMOSイメージセンサーの歩留まり向上に寄与しております。 化合物半導体のCV測定が可能です。非接触で面内の濃度分布、プロファイル測定が可能です。
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石英ガラス加工サービス

石英ガラス加工サービス
株式会社カワタ石英硝子
当社では、石英ガラス加工を取り扱っております。 蓄積されたノウハウ、新しいテクニックで、高度なご要望にお応えし、 先端産業を支える石英ガラス製品をご提供。 他にも、ガラス溶接加工やサンドブラスト加工、半導体製造部品、 特殊ガラスなどの取り扱いがございます。 【石英ガラスのおもな性質】 ■透過性：様々な光をよく通す ■耐熱性：熱に強い ■高純度：不純物が極めて少ない ■耐酸性：薬品に侵されにくい ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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インライン　フッ素樹脂製超純水ヒーター

インライン　フッ素樹脂製超純水ヒーター
株式会社セラ
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UV装置

UV装置
クリーン・テクノロジー株式会社
UV装置は、紫外線(UV)を用い、基板表面の有機物を除去する為の装置です。 【特長】 ■自社製低圧水銀ランプにより発生する185nm、254nm波長の紫外線効果により 　基板表面の有機性汚れを除去します。 ■ランプ寿命は6000時間保証。低ランニングコストを実現。 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
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半導体向け超純水製造装置の水質監視装置（TOC・ホウ素）

半導体向け超純水製造装置の水質監視装置（TOC・ホウ素）
セントラル科学株式会社
【用途に応じたラインアップ】 原水、RO水、回収水、UF/EDI、ユースポイントなど、各工程に対応
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高温恒温槽『クリーンオーブン』【半導体ウェハーの高温処理に！】

高温恒温槽『クリーンオーブン』【半導体ウェハーの高温処理に！】
三田産業株式会社
『クリーンオーブン』は、クリーンエアによる高温恒温槽です。 装置内のHEPAフィルターにより高いクリーン度を保つ為、半導体ウェハー の高温処理に適しております。各寸法、使用温度の変更や操作スイッチの 配置等の細かい仕様をご使用条件に合わせて設計させていただきます。 【特長】 ■装置内のHEPAフィルターにより高いクリーン度を保つ ■半導体ウェハーの高温処理に好適 ■操作パネルに配置されたカラータッチパネルによる 　操作、温度モニターが可能 ■プログラム温調計の採用によりプログラム運転が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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超小型オゾン水分解装置『OZK-ISC001』

超小型オゾン水分解装置『OZK-ISC001』
株式会社アプリクス
『OZK-ISC001』は、制御ユニット・分解塔・活性炭処理槽が 一体となった小型オゾン水分解装置です。 分解塔下部のIN側から入り塔内に溜められたオゾン水に溶解しているオゾンを 紫外線ランプ（254nm）の光で分解。さらに、分解塔の後段に設置した 活性炭槽でオゾンの分解を促進します。 半導体や液晶製造プロセスで活躍する製品です。 【標準仕様】 分解原理：紫外線照射式＋活性炭式 分解対象液：純オゾン水 分解液温度：20～50℃（周囲温度：15～40℃、90％RH以下） 使用圧力範囲：0.4MPa以下 使用流量：20L/min以下（条件による） 分解後の濃度：5ppm以下（条件による） ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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UVオゾンクリーナー

UVオゾンクリーナー
フィルジェン株式会社
『UVオゾンクリーナー』は、ダメージフリーの乾式洗浄法で、基板に付着 している有機汚染物質を、光化学的酸化分解プロセスによって除去できます。 洗浄室内が0.02MPaの加圧状態に保持することができる安心の密閉構造です。 また、その他の機種では標準装備のオゾンキラー（オゾン分解装置）に 接続することで、外部へのオゾン漏れを防ぎます。 【特長】 ■超音波洗浄だけでは除去できなかった基板上の有機汚染物質を容易に除去 ■湿式洗浄で使用した有機溶剤も除去 ■基板表面に損傷を与えないで、有機汚染物質の除去が可能 ■薄膜の製膜が容易 ■大気圧で使用可能な、真空装置不要のドライクリーニング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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薬品・有機溶剤用ボトル『MF 酸洗浄PFAパック』

薬品・有機溶剤用ボトル『MF 酸洗浄PFAパック』
株式会社マルイチフロロ販売
『MF 酸洗浄PFAパック』は、独自の洗浄技術により、 極限まで金属イオンを削減したPFAボトルです。 金属イオン溶出値を30pptレベルから１pptレベルまで清浄化、 半導体製造前工程などで使用する薬品や有機溶剤の保存に好適。 1本1本を粉塵のでにくい材質の袋で個別二重包装をしております。 容量も20～1000ml、細口と広口と豊富に取り揃えております。 【特長】 ■-200～260℃の幅広い温度環境で使用可能 ■30pptから1pptのレベルまで金属イオン除去可能 ■中栓なしでも漏れない高い密封性 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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配管のコンタミ最少に貢献できる継手　クリーンガス配管　ユニット

配管のコンタミ最少に貢献できる継手　クリーンガス配管　ユニット
イハラサイエンス株式会社
従来、ナット式のメタルガスケットシール継手を使用する配管は以下のような問題があります。 ・銀メッキの剥離による、パーティクルの発生 ・締めつけの際に配管が供回りし、配管位置がズレる ・狭い場所で施工性の悪い 施工時に発生する配管のねじれから、 シール面が傷つき、パーティクルが発生します。 全ての原因は、ナットで締め付ける構造にあります。 イハラは施工方法のナットを締めるという常識をなくしました。 結果として ・コンタミが出ない継手施工 ・省スペース化に貢献 ・狭いスペースでも施工が可能に
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ヒーター『EHS型超純水加熱インラインヒーター』

ヒーター『EHS型超純水加熱インラインヒーター』
有限会社エクサ
『EHS型超純水加熱インラインヒーター』は、接液部には全てPFAを 使用したフッ素樹脂製の半導体用インダインヒーターです。 不純物の溶出がなく、低温設計ヒーターなので長寿命です。 また、コンパクトなので設置も容易に行えます。 【特長】 ■フッ酸水の使用可 ■常用最高使用圧力は0.4MPa ■常用最高使用温度は150℃ ■ヒーター保護機能つき ■リモート制御が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【半導体産業/電子産業向け】TOC計 Sievers M9e

【半導体産業/電子産業向け】TOC計 Sievers M9e
セントラル科学株式会社
Sievers M9eは、独自のガス透過膜式導電率測定方式と幅広い測定範囲（0.03 ppb〜50 ppm）により、さまざまなアプリケーションに対応できます。オプションのターボモード（分析時間4秒）は回収水監視に役立ちます。 Sievers M9e の特長： ・機差のマッチング ・超低濃度域の安定性 ・自動操作（校正 / 検証 / データ分析など） ・12か月の校正安定性 ・用途に応じて選べる3モデル（ラボ型/ポータブル型/オンライン型） ・サンプル導電率測定機能（オプション）により、TOCと導電率を同時に測定できます ・オートサンプラー（オプション）により、最大63本（40mL）のサンプルを自動で分析できます。
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ガス精製フィルター『02Kシリーズ』

ガス精製フィルター『02Kシリーズ』
アップ・テック・ジャパン株式会社
『02Kシリーズ』は、室温型ガス精製器で、ガスに含まれる不純物を ほとんどの場合1ppb未満に除去するガス精製フィルターです。 窒素や希ガス、水素、アンモニア、アルシン、ホスフィン、HCI等を 含めた様々なガスから不純物を除去するように設計されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■寿命 　・公称流量で標準的な5N5(99.9995%)のガスを基準として約1年 　(具体的な寿命についてはお問い合わせください。) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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石英ガラス　サーマルプロセス用製品

石英ガラス　サーマルプロセス用製品
東ソー・クォーツ株式会社
当社では、高耐熱、高純度、パーティクル対策などの要求にこたえる CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等の サーマルプロセス用製品を取り扱っております。 大型化要求に対しては、φ1000mmを超えるチューブやフランジ等の 大口径石英ガラス部材を実現。 新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に対応します。 【製品例】 ■チューブ ■フランジ ■大型フランジ（不透明） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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半導体業界専用設計　純水・超純水向　マイクロ熱交換器

半導体業界専用設計　純水・超純水向　マイクロ熱交換器
ＭＤＩ株式会社
超純水で高効率を実現した世界初の全チタン溶接形熱交換器 半導体業界専用設計　純水・超純水向　マイクロ熱交換器 【特徴】 ■水/純水向に専用設計された内部構造で、 　 海外に出荷しても容易にコピーができないメードインジャパン設計 ■超純水で高効率を実現した世界初の全チタン溶接形熱交換器 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。
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【用途例】フッ素樹脂を用いた製品とは？

【用途例】フッ素樹脂を用いた製品とは？
関西ポリマー株式会社
フッ素樹脂は、低摩擦・非粘着性・耐薬品性といった特性を持つ優れた樹脂です。 その特性から様々な用途で活用されており、なかでも耐薬品性に優れていることから薬品を使用する半導体製造装置やプラントに使用されています。 半導体の製造現場では、他にもクリーンな環境が求められることから非粘着性が低く、ゴミの付着を防ぐことが出来るフッ素樹脂は正にうってつけの樹脂と言えます。 【用途例】 ・反応槽 ・タンク ・バルブ ・配管 ・パッキン 詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
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【技術資料】高濃度水酸化ナトリウム溶液中の陰イオンの定量

【技術資料】高濃度水酸化ナトリウム溶液中の陰イオンの定量
メトロームジャパン株式会社
イオンクロマトグラフを使用して、半導体製造分野などで使われる、高濃度水酸化ナトリウム溶液を、中和化を自動化しつつ、溶液中の陰イオン分析を行ったアプリケーション資料です。
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半導体材料

半導体材料
ヤマナカ アドバンス マテリアル株式会社
当社では、半導体製造工程で使用されるさまざまな材料を提供しております。 P型ドーパント材料のボロン、ガリウム、N型ドーパント材料の赤燐、 アンチモン等を主にご提供いたします。 また、半導体工程において使用されるCVD材料・イオン注入材料等も 取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【取扱品目】 ■シリコンドープ材料 ■イオン注入材料 ■CVD・拡散材料 ■その他（蒸着材料・MBE材料） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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ウェーハ表面の酸化における不純物混入の防止

ウェーハ表面の酸化における不純物混入の防止とは？

半導体製造プロセスにおいて、ウェーハ表面の酸化は不可欠な工程ですが、この際に微細な不純物が混入すると、半導体デバイスの性能低下や歩留まりの悪化に直結します。そのため、不純物の混入を徹底的に防止することが、高品質な半導体チップを製造するための最重要課題の一つとなっています。

​課題

微粒子による汚染

製造環境中の微細な粒子がウェーハ表面に付着し、酸化膜中に取り込まれることで欠陥の原因となります。

化学物質の残留

洗浄工程などで使用された化学物質が十分に除去されず、酸化時に不純物として影響を与える可能性があります。

装置からのコンタミネーション

酸化装置内部の摩耗粉や残留物がウェーハ表面に付着し、不純物混入を引き起こします。

作業者の介在による汚染

ウェーハのハンドリング中に作業者の皮膚や衣服から発生する微粒子や油分が付着するリスクがあります。

​対策

クリーンルーム環境の維持

高度な清浄度管理が施されたクリーンルームで作業を行い、浮遊微粒子の侵入を最小限に抑えます。

高純度薬液の使用

酸化工程や洗浄工程で使用する薬液を極めて高純度なものに限定し、化学的な汚染源を排除します。

装置の定期的なメンテナンスと清浄化

酸化装置の内部を定期的に点検・清掃し、摩耗や残留物の発生を防ぎ、クリーンな状態を保ちます。

自動化とロボットハンドリング

ウェーハの搬送や処理を自動化し、人の手を介する機会を減らすことで、作業者由来の汚染リスクを低減します。

​対策に役立つ製品例

超清浄度フィルター

クリーンルーム内の空気中の微粒子を極限まで除去し、浮遊汚染源を削減します。

高純度洗浄剤

ウェーハ表面に残留する可能性のある有機物や金属不純物を効果的に除去し、クリーンな状態にします。

特殊コーティングされた治具

酸化装置内でウェーハを保持する治具に、不純物の付着や発生を抑制する特殊なコーティングを施します。

自動搬送システム

ウェーハの取り扱いを自動化し、人の介在による汚染リスクを排除した安全な搬送を実現します。

⭐今週のピックアップ

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