プロセス安定性の向上とは？課題と対策・製品を解説

電池業界の塗布工程では、電極材などの粉体を均一かつ正確に供給することが、製品の性能と品質を左右する重要な要素です。粉体の供給精度が低いと、塗布膜の厚さにムラが生じ、電池の容量低下や寿命短縮につながる可能性があります。また、粉体の吸湿や凝集も、塗布工程における課題となります。ハイフローSP型は、計量マスでの充填密度の一定化と全量排出性能により、高い粉体定量供給精度を実現します。ドライエア供給による吸湿防止機能も備え、安定した塗布工程をサポートします。 【活用シーン】 ・電池材料（正極材、負極材など）の塗布工程 ・電極合剤の調合工程 ・塗布前の粉体供給工程 【導入の効果】 ・塗布膜厚の均一化による電池性能の向上 ・粉体供給量の安定化による歩留まり向上 ・吸湿防止による材料の品質保持 ・粉体ロス削減によるコスト削減

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な圧力制御が製品の品質を左右します。特に、ウェーハ製造や各種コーティング工程においては、圧力のわずかな変動が製品の歩留まりや性能に大きな影響を与える可能性があります。パイロットレギュレータP-200は、微圧から低圧までの幅広い圧力範囲で、安定した圧力供給を実現し、半導体製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程での圧力制御 ・各種コーティング工程での圧力調整 ・微圧制御が必要な実験・研究 【導入の効果】 ・圧力の再現性向上による品質安定化 ・歩留まりの向上 ・微圧制御による高精度なプロセス管理

ディスプレイ業界では、高品質な製品を製造するために、均一な塗布が求められます。特に、光学フィルムやセパレータなどの機能性フィルムにおいては、塗布の均一性が製品の性能を大きく左右します。塗布ムラは、表示品質の低下や製品不良につながる可能性があります。当社スムーズフローポンプTPLは、再現精度±0.1％以下、脈動率±1％以下の連続一定流を実現し、均一な塗布を可能にします。 【活用シーン】 ・光学フィルムの薄膜塗工 ・セパレータへの薬液塗布 ・機能性フィルムの製造 【導入の効果】 ・塗布の均一性向上 ・製品品質の向上 ・歩留まりの改善

半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な湿度管理が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、ウェーハ製造やクリーンルーム環境においては、湿度のわずかな変動が、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。Model me-40DPは、高精度な湿度制御を実現し、半導体製造プロセスにおける安定した環境を提供します。これにより、歩留まりの向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程 ・クリーンルーム環境 ・研究開発部門 【導入の効果】 ・歩留まりの向上 ・製品品質の安定化 ・製造コストの削減

Cavro XLP6000は、様々な自動化装置に採用されている超精密吐出ユニットです。半導体製造装置に求められる24時間365日の連続稼働に耐えうる堅牢な設計と、化学薬品に対する高い耐性を兼ね備えています。 長年培われた信頼のメカニズムが、プロセス液の供給における「ダウンタイムゼロ」を追求し、装置の稼働率（OEE）を最大化します。 【活用シーン】 ・メッキ槽への添加剤・薬液の自動補充：光沢剤や抑制剤を正確かつ定期的に定量補充 ・洗浄・エッチング用薬液のオンデマンド調合：インライン供給するブレンディングシステムに最適 ・現像液・剥離剤の精密供給：大口径ウェーハの面内均一性を確保するための安定した液送りを実現 【なぜXLP600なのか？】 ・量産ラインでの圧倒的な信頼実績 ・メンテナンス性の高さと長寿命設計 ・グローバルなサポート体制

半導体製造業界では、製造プロセスの品質管理において、正確な温度測定が不可欠です。特に、高温での処理や精密な温度制御が求められる工程では、温度測定の精度が製品の歩留まりや品質に大きく影響します。熱電対センサーは、極低温から超高温まで幅広い温度範囲に対応し、多様な形状と素材で、半導体製造現場の様々なニーズに応えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程 ・高温焼成炉 ・真空蒸着装置 ・各種プロセスチャンバー 【導入の効果】 ・正確な温度測定による品質向上 ・プロセスの安定化 ・歩留まりの改善 ・多様な形状と素材による柔軟な対応

ワトローウルトラミック(R)は、半導体や電気自動車(EV) 等の開発において、好適なパフォーマンスを提供する窒化アルミヒーターです。 高い熱伝導性、急速な温度変化への対応能力、高温時でも安定した電気的特性、そして正確な温度制御が可能な熱電対内蔵構造を持つ当ヒーターは、高度な熱処理ニーズに応えます。 【特長】 ○熱伝導性の高い窒化アルミ基板を採用 ○急速昇温(最大150℃/sec)・急速降温に対応 ○優れた電気的特性 ○熱電対(Kタイプ)内蔵構造 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

近年、半導体製造・液晶製造工程において大型石英加工品のご要求が多い中で、当社は最大寸法が直径φ700×長さ1500Lの製造が可能です。

当社では、ニューセラミックスの製造販売を行っております。 鉄鋼・セメントメーカー向け耐火物の多くは、天然の鉱石を用いて 製造しますが、電子部品メーカー向け耐火物は、高純度に精製した天然原料や 人工原料を用いて製造するニューセラミックスを使用するのが一般的です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【取扱品目】 ■セラミック焼成用道具材 ■焼成炉用炉材 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

『CDドライヤー』は、熱源からの熱伝導によって液体を間接加熱して乾燥を行う、 伝導加熱型液体乾燥機です。 薄いディスクの両面を伝熱面として使用するため、 コンパクトな空間の中で広い伝熱面積を確保可能。 伝熱面上の乾燥物は常にスクレーバーでかき取られるので、高い処理能力を 安定して発揮するほか、伝熱部のディスクの熱容量が小さく、大型機でも 蒸気投入から約5分で稼働できます。 【特長】 ■高性能 ■コンパクト（ダブルドライヤーと比べ、設置面積が約40％） ■省エネルギー、高効率 ■スピーディー ■省工程 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社アクティブは、お客様の新技術をワンストップでサポートする 製造メーカーです。 「ACT-220A II」をはじめ、「ACT-300A II」や「ACT-400A II」など、 当社の主力製品である様々なスピンコーターをご提供。 当社の製品開発力により、お客様の要望・仕様に合わせたカスタマイズも 承ります。ぜひご相談ください。 【当社だからできること】 ■ご要望・課題に、ヒアリング力・課題解決力をもって取り組む ■既成の概念にとらわれない新しい提案を行う ■アフターフォロー体制が充実しており、日本全国、スピーディな対応が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

・円筒上真空チャンバー外周には、８個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。

基板をマニュアルでチャックにセットし、スプレー現像、リンス、スピン乾燥します。

当社は、ハードデイスク（HDD)分野での磁性材料熱処理装置、 各種電子デバイス分野でのセラミックス、磁性材料などの製造装置、 各種単結晶育成装置および技術開発、 新規素材に関連する製造装置開発を事業領域としております。 各種の環境下での高精度な熱処理技術を自社技術として保有しており、 特に磁場中での熱処理技術では、多くの特許を取得。 顧客との共同開発による新規プロセス設備の開発でも実績を持っています。 【業務内容】 ■磁気ヘッド関連装置の設計・製造・販売 ■単結晶育成関連装置の設計・製造・販売 ■ファインセラミックス用各種高温電気炉の設計・製造・販売 ■新規素材開発関連装置の設計・製造・販売 ■上記分野及びその他における委託研究開発及び 　関連装置・プロセスの設計・製造・販売 ※詳しくはPDF（英語版）をダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『スピンコーター』とは、高速回転の遠心力を使い平面な基材に塗膜を 構成させる装置です。理想通りの塗膜を得るためには、回転プログラムの 構築が重要となります。 当製品は、現在抱えている課題や要望に合わせて細かな設定をすることが可能。 1ステップの動作で“回転数”、“加減速時間”、“キープ時間”を 同時に設定でき、簡単に思い描く環境を実現いただけます。 【当社製品の特長】 ■現在抱えている課題や要望に合わせて細かな設定ができる ■10ステップ・100パターンで様々な条件の設定が行える ■必要なオプションを追加したり、特注カスタマイズすることにより 　優れた動作環境を作り出すことも可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

センサーは信頼性が高く、測定されるウエハーに直接配置されているため、 センサーが配置された正確な場所で実際の温度を提供できます。また、ウエハーの温度プロファイルを正確に測定し、 ランピングアップ、クーリングダウン、遅延期間などの過渡状態を含む完全な熱サイクルの温度変化を連続的に監視することができます。

従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。

水や薬剤などの液体を、まるで霧のように細かく噴霧できる装置をご存じですか？ SONOSYS（ソノシス）の超音波アトマイザーは、従来の圧縮空気式ノズルとは異なり、「超音波の力」で液体を繊細なミスト状に変えることができます。 SONOSYSの超音波アトマイザーは、次のような幅広い用途に対応しています： 製品や原材料の加湿（乾燥防止） 液体のガス置換や脱気 離型剤（型から製品をはがしやすくする液）の噴霧 混合・撹拌工程中の液体添加 消毒液の噴霧 ポイントは「空気を使わずに霧を作る」 従来の噴霧ノズルは、圧縮空気が必要だったため「音がうるさい」「エネルギーコストが高い」といった問題がありました。 しかし、超音波アトマイザーは空気を使わず、静かで省エネ。 しかも粒子が非常に細かいため、均一な加湿や噴霧が可能です。 最後に 「水や薬剤を静かに、均一にミスト化したい」「限られたスペースでも使いたい」そんなニーズをお持ちの方に、超音波アトマイザーは最適です。 工場、医療、研究、農業、様々な分野での活用が進んでいます。