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半導体製造装置・材料に関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。
塗布膜厚の均一化とは？課題と対策・製品を解説
フォトレジスト塗布における塗布膜厚の均一化とは？
半導体製造プロセスにおいて、フォトレジスト（感光材）をウェハー上に均一な厚さで塗布する技術です。微細な回路パターンを形成するために不可欠であり、塗布膜厚の均一性は半導体の性能や歩留まりに直結します。
各社の製品
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【ディスプレイ向け】スムーズフローポンプTPL
【半導体製造向け】微量送液ポンプ
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、薬液の正確な供給が不可欠です。特に、微細加工プロセスにおいては、薬液の流量や供給量のわずかな変動が、製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。薬液供給の不安定さは、歩留まりの低下や不良品の発生につながり、生産効率を著しく低下させる要因となります 。無脈動・定量ポンプ『0.01ml/min単位で微小量送液Q』は、0.01mL単位での微量送液を可能にし、長時間の安定送液を実現します。これにより、半導体製造プロセスにおける薬液供給の課題を解決し、高品質な製品の安定生産に貢献します。
【活用シーン】
・フォトリソグラフィー工程におけるレジスト液供給
・エッチング工程における薬液供給
・CMP工程におけるスラリー供給
・洗浄工程における薬液供給
【導入の効果】
・薬液供給量の安定化による歩留まり向上
・不良品発生率の低減
・製造プロセスの効率化
・高品質な半導体製品の安定供給
【半導体製造向け】無脈動・定量ポンプ『TPL』
半導体製造業界では、微細な回路形成や機能 性材料の塗布において、極めて高い精度が求められます。特に、光学フィルムやセパレータなどの薄膜塗工プロセスでは、材料の均一性と再現性が製品の性能を左右するため、微細な寸法のばらつきや塗布ムラは許容されません。これらの課題に対応するため、精密ポンプのタクミナが提供するスムーズフローポンプTPLは、再現精度±0.1％以下、脈動率±1％以下の連続一定流を実現し、高精度な塗布プロセスをサポートします。
【活用シーン】
・光学フィルム、セパレータなどの機能性フィルムの薄膜塗工
・精密計量プロセス
・インライン注入
【導入の効果】
・塗布精度向上による製品歩留まり改善
・均一な塗布による機能性向上
・安定した流量供給による生産性向上
【マイクロエレクトロニクス向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
マイクロエレクトロニクス業界、特に高密度実装においては、微細な回路パターンを正確に形成するための技術が求められます。フォトレジストは、この微細加工プロセスにおいて、露光によるパターン形成を可能にする感光性材料として、その役割は非常に重要です。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の精度低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社は、電着レジストの製造・ 販売を通じて、お客様の高度なニーズにお応えしてまいりました。この度、フォトレジストの基礎知識に関する情報提供の重要性を鑑み、本基礎知識ページを作成いたしました。フォトレジストの基本的な仕組み、ネガ型・ポジ型の違い、具体的な工程イメージ、そして液状フォトレジストの塗装方法について解説しています。さらに、当社の電着レジストの特長についてもご紹介しておりますので、ぜひカタログをダウンロードください。
【活用シーン】
・半導体製造における微細回路パターニング
・高密度実装基板の製造プロセス
・電子部品の精密加工
【導入の効果】
・回路パターンの精度向上
・製造プロセスの安定化
・製品の信頼性向上
【半導体製造向け】薬液プロセスの自動化に低脈動・超高分解能ポンプ
半導体製造のさらなる微細化・高集積化において、製品品質と歩留まりを左右するのは薬液ハンドリングの極限的な精度です。特に、わずかな流量変動が致命的な欠陥につながる次世代プロセスにおいて、従来の送液システムでは対応しきれない課題が表面化しています。
Cavro Centris Pumpは、業界最高水準の分解能（最大192,000ステップ）により、微細化が進む各工程でこれまでにない安定性を提供します 。
【活用シーン】
・フォトレジストの精密滴下（リソグラフィ）
・ナノインプリント用樹脂の供給
・スリットダイコーティングの流量制御（薄膜形成）
・無電解メッキ液の自動調整
・電気メッキ（ECP）の添加剤管理
・薬液のインラインブレンディング
・CMP（化学機械研磨）工程でのスラリー・添加剤の精密供給
【導入の効果】
Centris Pumpは、吐出量のわずかなバラつきや脈動による塗布ムラを解消し、歩留まりの劇的な向上に貢献します。装置への組み込みを前提としたコンパクトな設計は、既存装置のアップグレードや次世代装置の開発において、設計の自由度を最大限に高めます。
【半導体製造向け】薬液プロセスの自動化に省スペース高精度ポンプ
Cavro Xcaliburは、装置の小型化・高集積化が求められる半導体関連装置に最適な、コンパクト設計の精密液送ポンプです。30mmストロークのスリムな筐体ながら、上位モデル譲りの定量精度を維持。設置場所を選ばないため、複数のポンプを並列配置する多系統の液送ラインも、最小限のフットプリントで構築可能です。
「高精度な液送はそのままに、装置をよりコンパクトにしたい」——その理想を現実に する、組み込み専用ポンプです。
【活用シーン】
・マルチチャンネル方式の薬液供給ユニット：複数の異なる薬液を個別に制御して供給する多系統供給システムに好適
・卓上型・ラボ向け半導体評価装置：研究開発用の試作コーターや、材料特性を評価する小型装置への組み込みに好適
・分析・検査モジュールへの統合：半導体製造プロセス中の薬液濃度をリアルタイムで監視する分析ユニットや、不純物検査装置のサンプリング・希釈用ポンプとして機能
【なぜCavro Xcalibur なのか？】
・30mmストロークを採用したショートボディ
・多系統（マルチチャンネル）液送への最適性
・十分な精度かつリーズナブルな導入コスト
【半導体向け】無脈動・定量・スラリーポンプ Qシリーズ
【半導体成膜向け】ソニア社製超音波スプレーノズル
半導体製造における成膜工程では、均一な膜厚と高品質な成膜が求められます。特に、微細なパターン形成においては、塗布液の粒子径や塗布精度が製品の性能を大きく左右します。塗布ムラや異物の混入は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。ソニア社製超音波スプレーノズルは、ピエゾセラミックの振動により微粒子を生成し、均一な塗布を実現します。加圧不要で、飛散や液体の跳ね返りを抑制し、塗布液の無駄を削減します。設備投資とランニングコストの削減にも貢献します。
【活用シーン】
・ウェーハへの薬液塗布
・薄膜形成
・フォトレジスト塗布
【導入の効果】
・均一な膜厚の実現
・塗布液の無駄を削減
・歩留まり向上
・設備投資とランニングコストの削減
【半導体プロセス制御向け】熱電対素線
【プリント基板向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
プリント基板業界や配線パターン形成においては、微細で精密な回路形成が求められます。特に、フォトレジストは、回路パターンを基板上に転写するための重要な材料であり、その特性を理解し適切に扱うことが、製品の品質と信頼性に直結します。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の欠陥や性能低下の原因となり得ます。本ページでは、フォトレジストの基礎知識を解説し、お客様の課題解決に貢献します。
【活用シーン】
・フォトレジストの基本的な仕組みを知りたい
・ネガ型とポジ型の違いを理解したい
・具体的な工程イメージを把握したい
【導入の効果】
・フォトレジストに関する理解を深められる
・回路形成プロセスの最適化に役立つ
・製品の品質向上につながる
【ロボティクス向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
ロボティクス分野、特に小型アクチュエータの製造においては、精密な回路形成が求められます。微細なパターンを正確に転写する技術は、アクチュエータの性能や信頼性に直結します。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のフォトレジスト基礎知識集は、これらの課題に対し、フォトレジストの基本から理解を深めることで、最適な材料選定と工程設計をサポートします。
【活用シーン】
・小型アクチュエータの精密な回路パターン形成
・半導体製造プロセスにおける微細加工
・研究開発段階での材料評価
【導入の効果】
・回路形成の精度向上
・製品の信頼性・性能維持
・開発プロセスの効率化
【LED製造向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
LED製造業界では、高精度な発光層パターン形成が求められます。特に、微細な回路を形成する際には、フォトレジストの特性理解と適切な使用が、製品の性能や歩留まりに影響を与えます。フォトレジストの基本的な知識がないと、期待通りのパターン形成が難しくなる可能性があります。
本ページでは、フォトレジストの基本から種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅し、LED製造における発光層パターン形成の理解を深めるための情報を提供します。
【活用シーン】
・LEDの発光層パターン形成
・微細回路の形成
・半導体製造プロセス
【導入の効果】
・フォトレジストの基礎知識の習得
・パターン形成プロセスの理解向上
・製品品質の安定化
【電子部品向け】超音波スプレーノズル
【自動車部品向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
自動車部品業界では、センサーや制御基板の小型化・高機能化に伴い、微細な回路形成技術が求められています。特に、これらの部品の信頼性を確保するためには、精密なパターン形成が不可欠であり、そのプロセスにおいてフォトレジストの役割は重要です。フォトレジストの選定や使用方法が適切でない場合、回路の不良や製品の性能低下につながる可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基本的な知識から、種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅し、お客様の課題解決に役立つ情報を提供いたします。
【活用シーン】
・半導体製造プロセスにおける回路パターニング
・センサーや制御基板の精密な製造
・微細加工技術の理解促進
【導入の効果】
・フォトレジストに関する基礎知識の習得
・製造プロセスの理解向上
・適切なフォトレジスト選定のサポート
【半導体製造向け】精密・コンパクトな装置組込用ポンプよる薬液滴下
微細なパターン形成や高度なプロセス制御が求められる半導体製造においては、薬液の正確な吐出が不可欠です。テカンのCavroポンプシリーズは、1μl以下～50mlの範囲で精密な液送を実現し、お客様の装置への組み込みを容易にするため、最適なソリューションを提供します。
シリンジポンプ：Centris、Xcalibur、XLP6000
マルチチャネルシリンジポンプ：XMP6000
ピストンポンプ：Pullsar PBC
【活用シーン】
・ウェーハへのフォトレジストの精密滴下
・化学機械研磨（CMP）におけるスラリー添加
・洗浄・エッチング工程での薬液調合
・メッキ工程（電解・無電解）の添加剤管理
・パッケージング工程 など
【Cavroシリーズが選ばれる技術的理由】
・高い分解能: ステッピングモーターによる細かいステップ制御で、極微量の吐出が可能
・メンテナンス性: 装置への組込み（OEM）を前提とした設計で、クリーンルーム内でのダウンタイムを最小限に
・多様なシリンジ材質: 腐食性の強い半導体用薬液に対しても、適切な材質（PTFE、セラミックなど）を選択することで対応可能
【LED向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
LED業界や発光素子形成においては、微細な回路パターン形成が製品の性能に影響を与えます。特に、光の効率や応答速度に関わる 素子形成プロセスでは、精密なパターニング技術が求められます。不適切なフォトレジストの選定や使用は、歩留まりの低下や期待される性能が得られない原因となる可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、その種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅しており、LED製造における技術課題解決の一助となる情報を提供します。
【活用シーン】
・LEDチップ製造における回路パターニング
・微細な発光領域の形成
・高精度なパターン転写が求められる工程
【導入の効果】
・フォトレジストに関する基礎知識の習得
・LED製造プロセスへの理解促進
・適切なフォトレジスト選定の判断材料提供
【マイクロマシン製造向け】ネガ型アニオン電着フォトレジスト
マイクロマシン製造業界や微細構造形成においては、精密なパターン形成が求められます。特に、複雑な形状や微細な凹凸を正確に再現することは、製品の性能や機能に直結するため、高度な技術が不可欠です。不十分なパターン形成は、製品の歩留まり低下や性能不足を招く可能性があります。本製品は、アニオン電着のネガ型フォトレジストとして、こうした課題に対応します。
【活用シーン】
・マイクロマシニングプロセスにおける精密なパターン形成
・微細な構造を持つ部品の製造
・高精度な表面加工が必要な分野
【導入の効果】
・微細構造の正確な形成を支援
・製品の性能向上に寄与する可能性
・開発・製造プロセスの効率化に貢献する可能性
【マイクロマシン向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
マイクロマシン業界や微細構造加工においては、高精度なパターン形成が求められます。特に、微細な回路や構造を精密に作り込むためには、フォトレジストの特性理解と適切な選定が重要となります。不適切なフォトレジストの使用や、工程の誤りは、微細構造の精度低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、その種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅しており、マイクロマシン製造における技術課題解決の一助となる情報を提供します。
【活用シーン】
・マイクロマシンの微細構造設計
・精密な回路パターニング
・半導体製造プロセス
・MEMSデバイス製造
【導入の効果】
・微細構造加工の精度向上
・歩留まりの改善
・製造プロセスの理解促進
・適切なフォトレジスト選定の支援
【半導体製造向け】高圧スムーズフローポンプHPL
【電池向け】ハイフローSP型：塗布工程の最適化
電池業界の塗布工程では、電極材などの粉体を均一かつ正確に供給することが、製品の性能と品質を左右する重要な要素です。粉体の供給精度が低いと、塗布膜の厚さにムラが生じ、電池の容量低下や寿命短縮につながる可能性があります。また、粉体の吸湿や凝集も、塗布工程における課題となります。ハイフローSP型は、計量マスでの充填密度の一定化と全量排出性能により、高い粉体定量供給精度を実現します。ドライエア供給による吸湿防止機能も備え、安定した塗布工程をサポートします。
【活用シーン】
・電池材料（正極材、負極材など）の塗布工程
・電極合剤の調合工程
・塗布前の粉体供給工程
【導入の効果】
・塗布膜厚の均一化による電池性能の向上
・粉体供給量の安定化による歩留まり向上
・吸湿防止による材料の品質保持
・粉体ロス削減によるコスト削減
【電子部品向け】軽量ステンレスタンクシリーズ
【半導体向け】エンジニアリング・ラボの精密塗布装置
【MEMS向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
MEMS分野の微細構造加工においては、高精度なパターン形成が求められます。特に、微細な回路や構造を正確に作り出すためには、フォトレジストの特性理解と適切な選定が重要となります。不適切なフォトレジストの使用や、工程の誤りは、微細構造の再現性やデバイス性能に影響を与える可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを解説し、MEMS分野における微細構造加工の課題解決に貢献します。
【活用シーン】
・MEMSデバイスの試作・開発
・微細な回路パターンの形成
・高精度な構造加工が必要な製品開発
【導入の効果】
・フォトレジストに関する基礎知識の習得
・ネガ型・ポジ型の理解促進
・工程イメージの具体化
・液状フォトレジストの塗装方法の理解
・電着レジストの特長把握
【ディスプレイ製造向け】pptレベル金属管理 高純度溶剤
【電池電極向け】超音波スプレーノズル
【ディスプレイ製造向け】あわとり練太郎 ARE-310S
【半導体製造向け】各種ヒーター素線（電熱線）
【電子部品向け】ジャイロミキサー『HS-GY-1』
電子部品業界において、コーティングは製品の保護と性能向上に不可欠です。均一なコーティングは、製品の品質を左右する重要な要素であり、塗布ムラや気泡の混入は、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。ジャイロミキサー『HS-GY-1』は、一斗缶などの容器を回転させて液体材料を撹拌・混合することで、均一なコーティング液の調合を可能にします。自動操作により、誰でも簡単に高品質なコーティング液を調合できます。
【活用シーン】
・電子部品のコーティング液調合
・塗料、インク、接着剤などの混合
・研究開発における少量混合
【導入の効果】
・均一な混合によるコーティング品質の向上
・作業時間の短縮と効率化
・材料の無駄を削減し、コスト削減に貢献
【半導体成膜管理向け】SM-100 series
半導体業界の成膜管理においては、高品質な製品を安定的に製造するために、膜厚の正確な測定が不可欠です。特に、薄膜の成膜プロセスにおいては、膜厚のわずかな差異が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。測定結果のばらつきや精度の低さは、歩留まりの低下や不良品の 増加につながり、大きな損失を招く可能性があります。SM-100 seriesは、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能で、基材を選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で膜厚を測ることができます。
【活用シーン】
・半導体製造工程における成膜プロセスの品質管理
・研究開発における薄膜材料の評価
・製造現場での迅速な膜厚測定
【導入の効果】
・測定時間の短縮
・測定結果の安定化
・不良品の削減
【半導体成膜向け】ソニア社製超音波スプレーノズル
【電子業界向け】薬液に適した接液材質！Pharma Pump
【半導体向け】酸性 液対応 TSPポンプ ACモデル
半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薬液の正確な定量注入が求められます。不適切な薬液供給は、製品の不良や製造効率の低下につながる可能性があります。当社酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の薬液を正確に送るソレノイド駆動方式を採用しています。これにより、半導体製造プロセスに おける薬液供給の課題解決に貢献します。
【活用シーン】
・フォトリソグラフィー工程における現像液供給
・エッチング工程における薬液供給
・洗浄工程における薬液供給
【導入の効果】
・薬液供給の精度向上
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
【電子材料コーティング向け】試験室用 チューブラーミキサー
【液晶ディスプレイ向け】フォトレジストとは？ 基礎知識集
液晶ディスプレイ業界では、微細な画素パターンを正確に形成するために、フォトレジストの適切な理解と活用が求められます。特に、高精細化が進むディスプレイにおいては、パターン形成の精度が製品の品質に直結します。フォトレジストの特性を理解せずに使用すると、意図しないパターンが生じ、ディスプレイの表示不良につながる可能性があります。当社は、電着レジストの製造・販売を 通じて、お客様の技術課題解決をサポートいたします。フォトレジストの基礎知識について、カタログで詳しく解説しておりますので、ぜひダウンロードください。
【活用シーン】
・液晶ディスプレイの画素パターン形成
・微細回路の形成
【導入の効果】
・高精度なパターン形成の実現
・ディスプレイ製品の品質向上
【電子部品向け】ソニア社製超音波スプレーノズル
電子部品業界では、製品の品質と信頼性を高めるために、コーティングの均一性と精密さが求められます。特に、小型化が進む電子部品においては、コーティング剤の無駄をなくし、正確に塗布することが重要です。不適切なコーティングは、部品の性能劣化や故障につながる可能性があります。ソニア 社製超音波スプレーノズルは、微細な粒子を均一に噴霧することで、高品質なコーティングを実現し、歩留まり向上に貢献します。
【活用シーン】
・電子部品の表面保護コーティング
・基板への絶縁膜形成
・コネクタへの防湿・防錆処理
・小型部品への精密塗布
【導入の効果】
・塗布量の削減によるコストダウン
・均一なコーティングによる品質向上
・微細な部品への対応
・設備投資とランニングコストの削減
【ポンプ×塗装事例】少量塗装の作業性と塗装品質を向上
受託加工メーカー様では、小型部品の塗装ラインで、スプレーガンに
ポンプで塗料を供給しており、従来、エア駆動式ダイヤフラムポンプを
使用していました。
しかし、"実流量を計測して管理・制御を行いたいが、脈動があるため
流量計で正確に測定できない"などの問題がありました。
課題・要望解決方法は、PDF資料をDLいただきご覧ください。
【お客様の課題・要望】
■ノズルの詰まりや塗料の粘度変化などによって配管内の圧力が上がると
ポンプの吐出量が減少するため、背圧弁・減圧弁・エア補給弁などを
操作して圧力を調整する必要がある
■実流量を計測して管理・制御を行いたいが、脈動があるため
流量計で正確に測定できない
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ポンプ×塗工事例】塗工品質向上と廃液量の大幅削減を実現
素材メーカー様では、機能性フィルムの製造工程で、
フィルムを貼り合わせるための接着剤をポンプで塗工機に
供給していました。
しかし、"既設ポンプは送液量が不安定で、塗膜厚が均一にならない"
"廃棄量が年間1000万円相当に上っている"などといった課題が
ありました。
課題・要望解決方法は、PDF資料をDLいただきご覧ください。
【お客様の課題・要望】
■既設ポンプは送液量が不安定で、塗膜 厚が均一にならない
■塗工液が足りない場合、気泡が入り不良品となるため、
送液量を多めに設定している
■過剰供給した塗工液は再利用できないため廃棄しており、
廃棄量が年間1000万円相当に上っている
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ふわっと塗布して塗着効率アップ！『超音波スプレーノズル』
光増感剤『NFシリーズ』
分光干渉式ウェーハ膜厚計 SF-3
『SF-3』は、ウェーハ等の研削研磨プロセスにおいて、非接触でウェーハや
樹脂の厚みを超高速・高精度に測定を行う、分光干渉式ウェーハ膜厚計です。
光学式により非接触・非破壊での厚み測定ができ、高い測定再現性を実現し、
高速でリアルタイムに研磨モニタも可能です。
また、長いWD(ワークディスタンス)を実現し、機器への組み込みが容易で
多層厚み測定も可能です。
【特長】
■光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能
■高い測定再現性を実現
■高速でリアルタイムに研磨モニタが可能
■長いWD( ワークディスタンス)を実現し、機器への組み込みが容易
■ホスト機器からLANを使用したTCP/IP通信で制御
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
卓上型スプレー装置『ULTIMA-SSP』
半導体関連装置 製品カタログ
【歩留りアップ】半導体業界
円形塗布装置『RSコータ』
『RSコータ』は、独自スリットダイで自由に円形塗布ができる装置です。
円形以外にも四角形、八角形等基板形状に依存しない自由な塗布形状が可能。
φ300mmウエハへの塗布に要する時間は僅か30秒と高いスループットを誇り、
バブルレスで優れた品質を実現します。
【特長】
■高粘度液の厚膜塗布が可能（数100μmの厚塗りも1回で塗布可能）
■パターンへの埋め込み性に優れる（ボイドも少ない）
■EBR（Edge Back Rinse）不要で工程数を削減
■圧倒的な省液性を実現（塗布液使用量はスピンコータの1/3以下）
■洗浄液の使用量及び廃液量も大幅に削減でき、よりエコな生産が可能に
■異形材料への塗布、異形状の塗布が可能
システム提案も対応いたします。
プロセスフロー例：
ロードポート（EFEM） → アライメント →コータ → BAKE → CP → ロードポート（EFEM)
乾燥プロセス Option：VCD（真空乾燥装置）
焼成プロセス Option：Cure Oven等との組合せも可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
エアー駆動ディスペンサー SB 『レジスト塗布工程に最適』
ふわっと無加圧で噴霧する『超音波スプレーノズル』シリーズ
ピエゾセラミックの振動により超音波がノズルに伝わり、
液体膜を振動させ、きめ細かい粒子を形成、噴霧します。
最小流量10ml/分から最大流量100ml/分の液体まで幅広く対応しており、
全流量域での粒子径がほぼ一定です。
◆製品特徴◆
・液体を加圧せずに少ない電力で供給できるため、省エネ
・流量に関係なく均一霧化
・全流量域での粒子径がほぼ一定
・目詰まりしにくく、作業上の安全性が高い
・粒子の自己速度が遅いため、塗着効率が良い
・標準仕様の最大流量は100ml/分
・操作周波数は20～130kHz（機種により異なります）
・ザウター粒子径は11.8～42μm（機種により異なります）
◆アクセサリー◆
空気搬送治具を使うことで、塗布された微粒子（液滴）の噴霧形状を
自由自在に変える事が可能
◆送液ポンプ◆
シリンジポンプ等を使って送液することで、精密制御が可能
≪注目ポイント≫
デモ機の貸出も可能ですので、お気軽にお問い合わせください。
※※超音波洗浄装置※※
ソノシス社は超音波洗浄装置の製造、販売もしています。
スピンコーターの基礎知識
『スピンコーター 』とは、高速回転の遠心力を使い平面な基材に塗膜を
構成させる装置です。理想通りの塗膜を得るためには、回転プログラムの
構築が重要となります。
当製品は、現在抱えている課題や要望に合わせて細かな設定をすることが可能。
1ステップの動作で“回転数”、“加減速時間”、“キープ時間”を
同時に設定でき、簡単に思い描く環境を実現いただけます。
【当社製品の特長】
■現在抱えている課題や要望に合わせて細かな設定ができる
■10ステップ・100パターンで様々な条件の設定が行える
■必要なオプションを追加したり、特注カスタマイズすることにより
優れた動作環境を作り出すことも可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精度塗布工具『スロットダイ』
『スロットダ イ』は、液晶パネル、高機能フィルムやリチウムイオン電池など
幅広い分野の精密コーティング工程で採用される高精度塗布工具です。
刃先には、自社開発の超微粒超硬合金を採用し、厳格に管理された作業環境のもとで、
卓越した加工技術により高精度な製品を実現いたしました。
貸出し用スロットダイで、お客様にて性能評価いただく事や、
弊社ラボコーターにて塗工テストいただく事も可能です。
ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。
【特長】
■さまざまな用途に対応可能
■独自の研磨技術の採用で高精度化を実現
■超硬合金刃先が長寿命・高品質の塗布を実現
■大型品も対応可能
■パターン塗布可能 など
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。
半導体工場向け イエローLEDランプ(AC直結タイプ)
当社では、半導体工場向け イエローLEDランプ(AC直結タイプ)を
取り扱っております。
イエロー蛍光灯の発光色(黄色)を、基準の色として開発した原料をもとに、
国内工場で製造する2種類のオリジナルカバーは、オリジナルLED素子と
組み合わせることで、レジストが反応する光を遮断。
標準タイプ「BrinisAX イエローミルキー MTAX40YM」や
高天井タイプ「BrinisAX イエロークリア MTAX40YCS」など
様々なラインアッ プをご用意しております。
【特長】
■波長500nm以下の光を遮断
■消費電力削減
■長寿命
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
電子材料事業
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フォトレジスト塗布における塗布膜厚の均一化
フォトレジスト塗布における塗布膜厚の均一化とは？
半導体製造プロセスにおいて、フォトレジスト（感光材）をウェハー上に均一な厚さで塗布する技術です。微細な回路パターンを形成するために不可欠であり、塗布膜厚の均一性は半導体の性能や歩留まりに直結します。
課題
塗布液の粘度・表面張力のばらつき
フォトレジスト液の粘度や表面張力が一定でないと、塗布時の広がり方が変わ り、膜厚のムラが生じやすくなります。
ウェハー表面の清浄度不足
ウェハー表面に異物や油分が付着していると、フォトレジストが均一に密着せず、塗布膜厚の不均一や欠陥の原因となります。
塗布装置の回転ムラ・振動
スピンコート方式など、回転塗布を行う装置の回転速度が不安定だったり、振動が発生したりすると、遠心力による塗布膜厚にばらつきが生じ ます。
塗布環境（温度・湿度）の変動
塗布時の温度や湿度が変動すると、フォトレジスト液の蒸発速度や粘度が変化し、塗布膜厚の均一性に影響を与えます。
対策
塗布液の精密な粘度・表面張力管理
塗布液の製造段階で厳密な品質管理を行い、粘度や表面張力のばらつきを最小限に抑えます。
ウェハー表面の徹底的な洗浄・前処理
高度な洗浄技術やプラズマ処理などを施し、ウェハー表面の異物や汚染を完全に除去し、フォトレジストの密着性を向上させます。
高精度な塗布装置の導入・制御
回転速度の安定性が高く、振動の少ない塗布装置を選定し、精密な制御システムで塗布プロセスを管理します。
クリーンルーム環境の最適化
塗布を行うクリーンルームの温度・湿度を一定に保ち、安定した塗布環境を維持します。
対策に役立つ製品例
高純度フォトレジスト用溶剤
不純物が極めて少なく、安定した粘度と表面張力を維持するため、塗布液の均一性を高めます。
ウェハー表面処理剤
ウェハー表面の親水性・疎水性を調整し、フォトレジストの均一な濡れ性と密着性を促進します。
精密 塗布装置用モーター・制御システム
回転ムラや振動を極限まで抑え、安定した遠心力を発生させることで、塗布膜厚の均一性を実現します。
環境制御システム
クリーンルーム内の温度・湿度をリアルタイムでモニタリングし、自動で最適値に制御することで、塗布プロセスを安定させます。
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