top of page
半導体製造装置・材料

半導体製造装置・材料に関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。

ホーム

>

半導体製造装置・材料

>

プロセスの安定化とは?課題と対策・製品を解説

mushimegane.png

目的・課題で絞り込む

​カテゴリで絞り込む

検査・測定装置
材料
自動化・ITソリューション
製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
nowloading.gif

露光・現像におけるプロセスの安定化とは?

半導体製造における露光・現像プロセスは、微細な回路パターンをウェハー上に形成する極めて重要な工程です。このプロセスの安定化とは、製造条件の変動や外部要因の影響を最小限に抑え、常に均一で高品質なパターン形成を実現することを指します。これにより、歩留まり向上、製品性能の安定、そして製造コストの削減に繋がります。

各社の製品

絞り込み条件:

​▼チェックした製品のカタログをダウンロード

​一度にダウンロードできるカタログは20件までです。

【半導体製造向け】HIWINウエハアライナー

【半導体製造向け】HIWINウエハアライナー
半導体製造業界では、ウエハの正確な位置合わせが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工技術が進む中で、位置合わせの精度はますます重要になっています。位置ずれは、回路パターンの不良やデバイスの性能低下を引き起こす可能性があります。HIWINウエハアライナーは、高速・高精度な位置合わせを実現し、半導体製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウエハの搬送 ・露光装置への位置合わせ ・検査装置への位置合わせ 【導入の効果】 ・位置合わせ時間の短縮 ・歩留まりの向上 ・製造コストの削減

【半導体製造向け】ガルバニ式低価格酸素濃度計

【半導体製造向け】ガルバニ式低価格酸素濃度計
半導体製造業界では、製品の品質を維持するために、クリーンルーム内の環境管理が重要です。特に、酸素濃度は、製品の酸化や劣化に影響を与えるため、厳密な管理が求められます。不適切な酸素濃度管理は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。Model 201LC/2001LCは、ppmレベルおよびパーセントレベルでの酸素濃度測定が可能であり、クリーンルームの酸素濃度管理に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の酸素濃度監視 ・製造プロセスにおける酸素濃度のモニタリング ・ガス供給ラインの酸素濃度測定 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減

【半導体向け】計測におけるトレーサビリティ

【半導体向け】計測におけるトレーサビリティ
半導体業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、計測の正確性が不可欠です。特に、微細加工技術が求められる分野においては、計測結果のトレーサビリティが重要となります。不確かな計測は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。本資料は、計測におけるトレーサビリティ、不確かさ、校正の重要性など、基礎知識を分かりやすく解説します。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスの品質管理 ・研究開発における計測データの信頼性確保 ・製造現場での計測器の適切な管理 【導入の効果】 ・計測データの信頼性向上 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善

【産業用ロボット向け】SMTネジ端子ライトアングルタイプ

【産業用ロボット向け】SMTネジ端子ライトアングルタイプ
産業用ロボット業界では、高精度な位置決めが求められます。ロボットアームの正確な動作は、製品の品質と生産効率を左右する重要な要素です。特に、基板実装においては、部品の正確な配置が不可欠であり、わずかなズレが不良品の発生につながる可能性があります。当社のSMTネジ端子ライトアングルタイプは、自動実装プロセスに対応し、高精度な位置決めを実現することで、産業用ロボットの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・基板対基板、基板対パネルの固定 ・L字ブラケットの置き換え 【導入の効果】 ・自動実装プロセスへの対応 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・作業効率の改善

設備把握と保全迅速化|半導体×Orizuru 3D

設備把握と保全迅速化|半導体×Orizuru 3D
半導体業界では、クリーンルーム内の特殊設備を安定稼働させるために、設備情報の正確な把握と迅速な保全対応が重要です。特に、図面が残っていない設備では、構造確認や必要部品の特定に時間を要し、保全業務の負担が大きくなります。Orizuru 3Dは、3Dデータから設備情報を直感的に把握できる環境を提供し、保全対応や部品確認の迅速化を支援します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の老朽化した設備の部品調達 ・図面がない場合の部品特定 ・3Dデータからの部品手配 【導入の効果】 ・2D図面作成が不要になり、調達業務の効率化 ・部品調達時間の短縮 ・設備の安定稼働に貢献

【研究開発向け】HIWINウエハアライナー

【研究開発向け】HIWINウエハアライナー
研究開発分野における試作工程では、ウエハの正確な位置合わせが、実験の再現性や精度の向上に不可欠です。特に、微細加工や高度なデバイス製造においては、ウエハの位置ずれが、実験結果の信頼性を大きく損なう可能性があります。HIWINウエハアライナーは、高速・高精度なアライメント性能により、試作工程における課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの研究開発 ・MEMSデバイスの試作 ・光学デバイスの試作 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・歩留まりの改善 ・研究開発期間の短縮

【IoT 無線検証向け】MXO3 オシロスコープ

【IoT 無線検証向け】MXO3 オシロスコープ
IoTデバイスの無線検証においては、電波の品質を正確に把握し、問題点を迅速に特定することが重要です。電波干渉や信号の歪みは、デバイスの通信性能を低下させる原因となります。MXO3オシロスコープは、高速波形取込みと高確度な測定能力により、無線信号の異常を詳細に分析し、IoTデバイスの信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・無線LAN、Bluetooth、Zigbeeなどの無線通信評価 ・電波干渉の特定と対策 ・信号品質の評価 ・プロトコル解析 【導入の効果】 ・無線通信のトラブルシューティング時間の短縮 ・製品開発サイクルの短縮 ・製品の品質向上

【半導体向け】コストを抑えたシンプルなメタルマスク用収納棚

【半導体向け】コストを抑えたシンプルなメタルマスク用収納棚
半導体製造の現場では、メタルマスクをクリーンに保管し、必要な時にスムーズに取り出せることが重要です。 とはいえ、保管量によっては大型棚までは不要で、まずは整理しやすい収納設備を導入したい場合もあります。 当社のメタルマスク用収納棚は、650×550×30mmの枠付きメタルマスクを30枚/台収納可能。 スライド式の仕切りにより、手袋着用時でも出し入れしやすく、省スペースでの保管をサポートします。

【電子機器向け】クラウド型生産管理システム『GEN』

【電子機器向け】クラウド型生産管理システム『GEN』
電子機器業界の部品管理では、正確な在庫数の把握と、適切なタイミングでの部品補充が重要です。過剰な在庫は保管コストを増大させ、不足は生産の遅延を招く可能性があります。クラウド型生産管理システム『GEN』は、在庫管理機能を備え、リアルタイムな在庫状況の可視化を実現します。これにより、適切な部品管理が可能となり、コスト削減と生産効率の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子機器製造業における部品管理の効率化 ・リアルタイムな部品在庫状況の把握 ・過剰在庫・在庫不足の防止 【導入の効果】 ・部品管理コストの削減 ・生産効率の向上 ・正確な部品管理による機会損失の防止

【電子機器向け】パレット管理システムで製品追跡

【電子機器向け】パレット管理システムで製品追跡
電子機器業界では、製品の追跡と在庫管理が重要です。特に、部品の紛失や誤出荷は、生産効率の低下や顧客からのクレームにつながる可能性があります。当社のパレット管理システムは、QRコードと端末を活用し、パレット単位での製品追跡を可能にします。これにより、在庫管理の精度向上と、誤出荷のリスクを低減します。 【活用シーン】 ・電子機器製造工場での部品管理 ・倉庫での製品保管と出荷管理 ・修理品の追跡 【導入の効果】 ・在庫管理の効率化 ・誤出荷防止 ・トレーサビリティの向上

【半導体向け】高分子式露点計 TE-660TR

【半導体向け】高分子式露点計 TE-660TR
半導体製造業界では、製品の品質を左右する清浄度管理が非常に重要です。特に、製造プロセスにおける微量な水分は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。高分子式露点計 TE-660TRは、-60 ℃dpまでの低露点範囲を測定し、高精度な水分管理を実現することで、半導体製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 * クリーンルーム内の露点管理 * 製造プロセスにおける乾燥空気の露点監視 * 半導体製造装置への組み込み 【導入の効果】 * 製品の歩留まり向上 * 品質管理の効率化 * 製造コストの削減

【半導体向け】露点計モニターボックス TKZH001Y

【半導体向け】露点計モニターボックス TKZH001Y
半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、空気中の水分量を厳密に管理することが重要です。微量の水分でも、製品の歩留まりや性能に悪影響を及ぼす可能性があります。露点計モニターボックス TKZH001Yは、露点計の表示器として、半導体製造環境における清浄度管理をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の露点監視 ・製造装置への露点計接続 ・乾燥空気供給ラインの水分管理 【導入の効果】 ・露点計の設置と運用が容易になります。 ・清浄度管理に必要な情報を一元管理できます。 ・製品の品質安定に貢献します。

【半導体向け】精密空調機PAUシリーズ

【半導体向け】精密空調機PAUシリーズ
半導体業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高度な製造技術においては、温度のわずかな変動が歩留まりや性能に大きな影響を与える可能性があります。精密な温度管理は、製品の信頼性を確保し、不良品の発生を抑制するために不可欠です。アピステの精密空調機PAUシリーズは、温度±0.1℃、湿度±0.5%RHという超高精度な制御を実現し、半導体製造における厳しい温湿度管理のニーズに応えます。大型空調機と比較して、短時間かつ低コストでの導入が可能です。 【活用シーン】 ・クリーンルーム ・検査室 ・製造ライン ・研究開発施設 【導入の効果】 ・温度・湿度の安定化による歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・製造プロセスの最適化 ・省エネルギー化

【半導体向け】基板トレサビ印字 CO2レーザマーカー

【半導体向け】基板トレサビ印字 CO2レーザマーカー
半導体業界では、ウェーハの製造プロセスにおけるトレーサビリティの確保が重要です。ウェーハIDを正確に印字することで、製造工程の追跡、品質管理、不良品の早期発見が可能になります。特に、微細加工技術が進む中で、正確なID管理が製品の歩留まりと信頼性を左右します。当社の基板トレサビ印字 CO2レーザマーカーは、ウェーハにIDを印字することで、トレーサビリティを向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハへのロット番号、製造情報、日付などの印字 ・製造ラインでのウェーハID印字 ・検査工程でのID読み取り 【導入の効果】 ・トレーサビリティの向上による品質管理の強化 ・製造プロセスの効率化 ・不良品の早期発見と対応 ・製品信頼性の向上

【半導体製造向け】連結して増設できるメタルマスク収納棚

【半導体製造向け】連結して増設できるメタルマスク収納棚
半導体製造では、クリーンルーム内の限られたスペースで、開発や試作の進行に合わせて メタルマスクを整理・保管する必要があります。連結式なら、保管量の増減に応じて段階的に拡張できます。

【半導体製造装置向け】RedHawk Linux

【半導体製造装置向け】RedHawk Linux
半導体製造装置の分野では、高度な制御と精密な動作が求められます。製造プロセスにおけるわずかな遅延やエラーは、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。リアルタイムOSは、これらの課題に対し、正確なタイミング制御と高い信頼性を提供することで、製造効率の向上に貢献します。RedHawk Linuxは、5マイクロ秒未満のイベント応答を保証し、半導体製造装置のミッションクリティカルな環境に安全性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の精密制御 ・ウェーハ搬送システムのリアルタイム制御 ・検査装置の高速データ処理 【導入の効果】 ・製造プロセスの安定化 ・歩留まりの向上 ・装置の高性能化

【電子部品向け】MBW973 鏡面冷却式露点計

【電子部品向け】MBW973 鏡面冷却式露点計
電子部品業界の品質管理において、製品の信頼性を確保するためには、湿度管理が重要です。特に、吸湿性の高い部品や、湿度の影響を受けやすい製造プロセスにおいては、正確な露点測定が不可欠です。不適切な湿度管理は、製品の性能劣化や不良品の発生につながる可能性があります。MBW973 鏡面冷却式露点計は、高精度な露点測定により、電子部品の品質管理を支援します。 【活用シーン】 ・電子部品製造におけるクリーンルーム内の湿度管理 ・半導体製造プロセスにおける露点管理 ・品質管理部門での製品検査 【導入の効果】 ・高精度な露点測定による品質向上 ・不良品発生率の低減 ・製造プロセスの最適化 ・製品の信頼性向上

【半導体向け】露光装置で微細化プロセスを支援!

【半導体向け】露光装置で微細化プロセスを支援!
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、微細化技術が不可欠です。微細化プロセスにおいては、高精度な露光技術が求められ、製造プロセスの品質と歩留まりを左右します。露光装置の選定は、製品の信頼性向上、歩留まり改善に繋がります。当社露光装置は、MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応し、お客様の微細化プロセスを強力にサポートします。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造 ・半導体ウェーハへのパターン露光 ・微細加工プロセス 【導入の効果】 ・高精度な露光による歩留まり向上 ・多様なデバイスへの対応 ・ローコストでの量産体制構築

液晶・半導体関連装置 設計・製造サービス

液晶・半導体関連装置 設計・製造サービス
当社は、基板WET洗浄装置(枚葉、スピン)をはじめ、基板DRY洗浄装置 (エキシマUV)、レジストコーター、HP/CPなどさまざまな液晶・半導体 関連装置の設計・製造を行っています。 また、インクジェット関連装置、自動車関連装置、半導体関連装置なども 取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■基板WET洗浄装置(枚葉、スピン) ■基板DRY洗浄装置(エキシマUV) ■レジストコーター、HP/CP ■搬送ロボットシステム、ストッカー ■検査装置 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

電子フッ素化液『CFL7200』

電子フッ素化液『CFL7200』
中村科学器械工業株式会社で取り扱う、電子フッ素化液『CFL7200』を ご紹介いたします。 電子洗浄剤、絶縁冷却材。電子部品、精密光学機器、半導体装置などの 精密洗浄、冷熱衝撃実験液、熱交換冷媒、伝熱、潤滑材などに使用可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【規格指標(抜粋)】 ■Name:Perfluoroisobutyl Ethyl ether ■Code:CFL7200 ■Benchmarking:3M Novec 7200 ■CAS:163702-06-5 ■Vapor Pressure:14.5kPa(25℃) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

禁油処理の基礎知識・選定ガイド集【資料進呈中】

禁油処理の基礎知識・選定ガイド集【資料進呈中】
完全禁油を誇るハマイのボールバルブ。 そんなバルブメーカーとして禁油が必要な理由等を解説した基礎知識の資料です。 【掲載内容】 ・使用業界、使用事例集 ・一般的な禁油品の説明 ・非禁油品を使用した場合の問題

裏面アライメントシステム(IRAS)

裏面アライメントシステム(IRAS)
『裏面アライメントシステム(IRAS)』は、MPA、PLAに搭載する事により、 ウェハーの裏面をアライメントできるユニットです。 MPA、PLAを裏面露光装置として使用する為に製作。 新規で裏面露光装置のご購入を考えているユーザー様に適しています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【概要】 ■主要追加部品  ・マスクアライメント用CCDカメラ  ・ウェハー裏面アライメント用近赤外線CCDカメラ  ・画像解析用モニター&パソコン  ・裏面カメラユニットステージ  ・その他 ■対応機種:MPA600Series、PLASeries ■設置期間:1.5週間 ■近赤外線仕様もあります ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

【資料】NWフランジ用QDS, ヘリコ&デルタ

【資料】NWフランジ用QDS, ヘリコ&デルタ
当社では、NWフランジ用(KFフランジ用)ヘリコフレックス・デルタシール・ QDS(クイックディスコネクトシステム・専用クランプ)を取扱っています。 当資料では、ヘリコフレックス・デルタシール+QDSのラインアップや その仕様をご紹介しています。 【掲載内容】 ■NW呼径 ■DN呼径 ■シール仕様 ■QDS仕様 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

卓上型超音波洗浄機 WTC-600-40/WTC-1200-40

卓上型超音波洗浄機 WTC-600-40/WTC-1200-40
■卓上型で大出力(600W/1200W) ■大型器具、機械部品などに対応した洗浄が可能となりました。 ■操作部に光電式センサ及び音声ガイドを採用。 ■濡れた手や汚れた手でスイッチに接触せずに音声ガイドにより確認しながら操作できます。 ■発振周波数及び設定した出力にて自動追尾 ■安定した洗浄力が得られます。また、発振異常時用のアラーム表示付です。 ■排水ドレインコック以外にもオーバーフロー用ドレイン取付穴を設置 ■循環システムへの拡張が容易になりました。

【完全禁油・3方弁】ステンレス製ボールバルブ RSS-31型

【完全禁油・3方弁】ステンレス製ボールバルブ RSS-31型
ステンレス製3方ボールバルブのベーシックモデル「RSS-14」を禁油化。炭化水素系洗浄機で部品ごとに脱脂洗浄を行い、 乾燥後、素手で油分を一切使用せず組上げ、個包装で出荷します。 ハマイの最新バルブテクノロジーにより、国内の自社工場で生産されています。 ■【特長】 ・グリス等の油分を除去した完全禁油を実現 ・低コストを実現するロット生産 ・即納体制を実現する常時メーカー在庫の保有 ・禁油処理証明書等、各種書類の迅速な発行 ・耐食性・耐熱性に優れた、SUSF316を使用 ■【プロが認める製品クオリティ】 ハマイのボールバルブはこれまで、各種大手メーカーを中心に、様々な産業機器や工作機械へ 大量供給実績(OEM)を誇る業界トップクラスの高性能ボールバルブです。 各社の純正部品に採用されるなど、ボールバルブへ求めるあらゆるニーズに、最高の製品クオリティでお応えします。 ★【オーダーメイド/カスタマイズに対応しています】 詳しくは、[東京本社]TEL 03-3492-6655まで お問合せください。

オシロスコープ用プローブポジショナ『PSシリーズ』

オシロスコープ用プローブポジショナ『PSシリーズ』
当社では、オシロスコープ等のプローブを実装基板等へ接触・維持させる プローブポジショナ『PSシリーズ』を取り扱っております。 水平、垂直など様々な設置状態の基板に迅速で安定した、 ハンドフリー・プロービングを可能にします。 また当社「PVシリーズ」より関節数を削減してシンプルで 扱いやすい構造となっています。 (1アーム辺りの固定部数が「PVシリーズ」の6箇所に対して3箇所) 【特長】 ■コンパクトながらアームを伸ばせば⼤型の基板にも対応可能 ■C型クランプ(別売)の使⽤による作業台への直接取付も可能 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

リソグラフィシミュレータ PROLITH

リソグラフィシミュレータ PROLITH
リソグラフィ・シミュレータは、数値計算により、露光光学系による結像およびフォトレジストの感光・現像の過程をコンピュータ上に表現し、現像後のフォトレジストの形状を算出します。リソグラフィの研究、開発、そして製造に欠かすことのできないツールとなっています。

携帯型多項目水質測定器 Scuba 3s

携帯型多項目水質測定器 Scuba 3s
Scuba 3sは、プールや温浴施設などの水質管理を目的とした携帯型の多項目水質測定器です。 残留塩素・pH・シアヌル酸をはじめ、最大9項目(※オプション含む)の測定が可能。 4つのキーによる簡単操作と、測定結果を色表示で直感的に確認できる視認性の高い設計で、日常点検を迅速かつ確実に行えます。 測定データはNFC通信によりスマートフォンへ転送でき、管理業務の効率化にも貢献します。 【特長】 ・残留塩素+αの多項目測定に対応 残留塩素、pH、シアヌル酸のほか、アルカリ度・硬度等も測定可能。 ・簡単操作・短時間測定 サンプル採水後、試薬投入のみのシンプルな測定手順。 ・測定結果を色で表示 画面色(緑/赤)により、基準範囲内・範囲外を一目で判断。 ・スマートフォンへデータ転送 NFC機能により、測定結果を瞬時にスマホへ送信可能。 ・高い耐久性・防水性能 IPX7防水構造で、現場使用にも安心。 ・長寿命バッテリー 単3電池2本で最大約5,000回の測定が可能。

【完全禁油】レバー式ステンレス製ボールバルブ BSS-43型

【完全禁油】レバー式ステンレス製ボールバルブ BSS-43型
レバーハンドル型ステンレス製ボールバルブ「BSS-01/820」を禁油化。 部品ごとに脱脂洗浄を行い、乾燥後、素手で油分を一切使用せず組上げ、個包装で出荷します。 ハマイの最新バルブテクノロジーにより、国内の自社工場で生産されています。 ■【特長】 ・BSS-01/820型がベースの禁油仕様モデル ・耐食性・耐熱性に優れた、SUS316を使用 ・グリス等の油分を除去した完全禁油を実現 ・低コストを実現するロット生産 ・即納体制を実現する常時メーカー在庫の保有 ・禁油処理証明書等、各種書類の迅速な発行 ■【プロが認める製品クオリティ】 ハマイのボールバルブは、各種大手メーカーを中心に、様々な産業機器や工作機械へ 大量供給実績(OEM)を誇る業界トップクラスの高性能ボールバルブです。 各社の純正部品に採用されるなど、ボールバルブへ求めるあらゆるニーズに、最高の製品クオリティでお応えします。 ★【オーダーメイド/カスタマイズに対応しています】 詳しくは、[東京本社]TEL 03-3492-6655<受付担当/第二営業>まで お問合せください。

USLフッ素樹脂製 ウエハー洗浄ホルダー

USLフッ素樹脂製 ウエハー洗浄ホルダー
株式会社ユニバーサルより、「USLフッ素樹脂製ウエハー洗浄ホルダー」のご案内です。

オンラインTOC計 Sievers M500e型

オンラインTOC計 Sievers M500e型
オンラインTOC計 Sievers M500eは、電子産業におけるSieversの長年の分析技術を発展させた、3世代目のオンラインTOC計です。Sieversの無試薬型ガス透過膜式導電率測定技術を採用し、TOC 1ppb未満の精度、再現性、安定性を実現しました。 ●ガス透過膜式導電率測定方式で妨害イオンを除去 ●無試薬測定のためランニングコストを大幅に削減 ●分析時間を最大50%短縮(旧モデルと比較) Sievers 500RLe型の後継機種です。 正確性、効率性を向上させ、安定した超純水(UPW)の生産をサポートします。

【半導体産業/電子産業向け】TOC計 Sievers M9e

【半導体産業/電子産業向け】TOC計 Sievers M9e
Sievers M9eは、独自のガス透過膜式導電率測定方式と幅広い測定範囲(0.03 ppb〜50 ppm)により、さまざまなアプリケーションに対応できます。オプションのターボモード(分析時間4秒)は回収水監視に役立ちます。 Sievers M9e の特長: ・機差のマッチング ・超低濃度域の安定性 ・自動操作(校正 / 検証 / データ分析など) ・12か月の校正安定性 ・用途に応じて選べる3モデル(ラボ型/ポータブル型/オンライン型) ・サンプル導電率測定機能(オプション)により、TOCと導電率を同時に測定できます ・オートサンプラー(オプション)により、最大63本(40mL)のサンプルを自動で分析できます。

LCD超高圧洗浄装置

LCD超高圧洗浄装置
当社では、超高圧ジェットによる洗浄を行う『LCD超高圧洗浄装置』を 取り扱っております。 20MPaの超高圧ジェットで、洗浄力アップ。 その他、回転ブラシにより洗浄を行う『LCDブラシ洗浄装置』も ご用意しております。 【特長】 ■独自の搬送システムでスモールLCD(0.4t/30×30mm)基板を枚葉搬送 ■エアナイフシステムによりワークを完全乾燥 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

精密洗浄サービス(ウェット洗浄)

精密洗浄サービス(ウェット洗浄)
株式会社エム・エー・シーテクノロジーの洗浄再生事業部では、 『精密洗浄サービス(ウェット洗浄)』を行っております。 半導体製造装置の部品を中心にこれまで培ってきた知識・経験を活かし、 母材・生成物の状況に応じて薬剤を選定し、ウェット洗浄サービスを展開。 また、イオン注入、スパッタ、CVD装置の構成部品を中心に精密洗浄を行い、 拡散炉、エッチング、リソグラフィ工程の精密洗浄も対応可能です。 【対象材質品目】 ■石英 ■セラミック ■ステンレス ■モリブデン ■タングステン等の各種金属や樹脂部品 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

パネル型遠赤外線ヒータ『インフラレッド CH型』

パネル型遠赤外線ヒータ『インフラレッド CH型』
『インフラレッド CH型』は、特殊セラミックによる表面加工のため、 高温でも発塵しない完パネル型遠赤外線ヒータです。 クリーンルームに好適です。 また、ヒータ接合枠がなく、温度分布の均一化を実現いたしました。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【対応用途】 ■電子工業 ■情報産業用製品の加熱 ■プラスチック工業 ■バイオテクノロジー工業 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

【解説動画あり】振動・衝突による開閉事故を防ぐボールバルブ

【解説動画あり】振動・衝突による開閉事故を防ぐボールバルブ
スプリング式ロック機構付きボールバルブ『TSS-140』は、スプリングロックに加え、 キーロックによる二重の安全機構を搭載したフルボアボールバルブです。 開閉のどちらの状態でも上下の向きを問わずしっかりロックでき、 ヒューマンエラーや振動・衝突による誤動作を防止可能。 バルブ一体型のロック機構のため、省スペースでの使用が可能です。 南京錠(別売)を使用したロックアウトにも対応し、 装置や設備配管の安全対策に貢献します。 【特長】 ■内蔵スプリングにより全開・全閉状態でしっかりロック可能 ■ロック機構が一体化しており設置スペースを取らない ■南京錠を使用したロックアウト運用が可能 ■国内の量産体制により低コストを追求 ■書類対応にも迅速に対応(含有成分の調査等トレーサビリティ完備) ■厳密な開閉管理が必要な半導体製造装置等で求められる事が有る、  ロックアウト・ハスプ等にも対応。 ※詳しくは資料をご覧ください。 ※製品サンプル貸出可。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

【無料進呈】海外製の不満を解決!国内製バルブの改善成功事例集

【無料進呈】海外製の不満を解決!国内製バルブの改善成功事例集
海外製のバルブで、 「含有物質調査の回答に時間がかかる」「4M変更の管理が難しい」「破損や漏れ等、信頼性に不安が有る」「誤操作による事故リスクがある」 ─こうした課題にお困りではありませんか? ハマイの【国内製造ボールバルブ】なら、 調達から組立まで一貫生産することで、スピード対応と品質安定を実現。 実際に多くの大手メーカー様で、業務改善や事故防止に繋がっています。 ▼導入事例 ・建設機械メーカー様:破損トラブル激減、事故ゼロ化に貢献 ・石油プラントメーカー様:誤操作防止で労災リスクを解消 ・半導体製造装置メーカー様:1週間で調査書類を提出、品質管理負担を大幅軽減 詳細は下記の「カタログをダウンロード」よりぜひご確認ください。

有機溶剤系スピン現像装置 WSD-200T

有機溶剤系スピン現像装置 WSD-200T
基板をマニュアルでチャックにセットし、パドル現像、リンス、スピン乾燥します。 本体側面にキャニスター缶を収納可能。

FPD製造装置ローダアンローダ及び搬送システム

FPD製造装置ローダアンローダ及び搬送システム
当社のFPD搬送ロボットを使ったローダアンローダシステムを ご紹介いたします。 各工程では、カセットステージ、基板のアライメント、旋回ターン、 基板を天地反転するターンオーバー等のユニットが必要になり、 必要に応じた専用のユニットを含めてラインを構築。 液晶基板製造工場で、ARRAY、CF、CELL工程でインデクサや インラインシステムの納入実績があります。 【特長】 ■適したレイアウトでのインラインシステム構築を提案 ■ご要望タクトに適切な装置レイアウトを提案 ■装置や周辺装置やロボット取り合い決定に貢献 ■IoTによる全体オートメーションの構築 ■装置間の通信や情報収集、管理を含む装置間インタフェース仕様 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

露光装置 MA/BA8 Gen4 Pro

露光装置 MA/BA8 Gen4 Pro
自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

ボールバルブの改善事例集【ハンドル変更】

ボールバルブの改善事例集【ハンドル変更】
本資料では、ハンドルにまつわるオーダーメイド製品の改善事例を紹介致します。 工場・装置に広くボールバルブは使用されていますが、 合わない既存品を無理矢理使用していませんか? 今まで使用しているから問題無いと諦めず、 効率向上・生産性向上の為に、 御社の環境に最適なボールバルブの特注品をお勧め致します。 ハマイでは、ボールバルブの特注品製造を行っております。 本資料のハンドル以外にも、ボディ本体・樹脂材、また完全オーダーメイド迄対応致します。 特注品は高い・一注文辺りのロット数が必要になりハードルが高いとお考えの方にも、 国産ならではの柔軟性で少ロットから対応致します。 【資料内容例】 ■スペース不足 ■清浄環境 ■流量管理 ■安全対策

ガラス基板及び有機膜の洗浄剤 GC3000ER/EC

ガラス基板及び有機膜の洗浄剤 GC3000ER/EC
液晶ディスプレイ(LCD)で世界をリードする韓国より、高性能かつ低価格な精密洗浄剤、信頼のBEX社製「GCシリーズ」をご提案いたします。

半導体産業用超音波流量計『FLUXUS F501SC』

半導体産業用超音波流量計『FLUXUS F501SC』
【特長】 ・非接触流量測定 ・トランスデューサ配管とフレキシブルチューブ対応  配管径:3.8”、1/2”、3/4”、1”、1 1/4” ・優れた低流速計測 ・プラント運転中に設置と調整可能 ・潜在的なコンタミネーションや漏れの危険性なし  配管外側からの取付のため ・ユーザーフレンドナビゲーションプログラム  半導体産業に適した内容 ※詳しくはお問い合わせ、もしくはPDF資料をダウンロードしてご覧ください。

ケミカルヒータ

ケミカルヒータ
日本エクセル株式会社では『ケミカルヒータ』を取り扱っております。 当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる各種薬液の 高温加熱用として、短時間に精度よく温度制御する抵抗ヒータを用いて います。 さらに、接液部にはフッ素樹脂と高純度ガラス状炭素のみを用いているため 不純物汚染の恐れが無く、酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への 対応が可能です。 【特長】 ■加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用 ■溶出金属イオンによる汚染の心配がない ■表面保護膜不要のため、剥離による能力低下がない ■酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への対応が可能 ■薬液の漏れを検知する漏液センサ、異常温度を検知する温度スイッチを内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

非接触 ローシェア ポンプタンクミキサー PTM-1/3/4

非接触 ローシェア ポンプタンクミキサー PTM-1/3/4
PTMポンプミキサーは、お客様に用意いただいたタンク内部のミキシング(攪拌)とタンクから別の場所への移送を一台のコンポーネントでおこなう、革新的なシステムです。 攪拌はポンプの吐出噴流を用います。ポンプは、弊社の磁気浮上型ベアリングレスポンプシステムをベースにしており摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的な非接触ポンプ兼ミキサーです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとケーシングは、共に耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石と共にポンプヘッドを構成しています。

【現像装置】均一な処理と搬送安定性を実現する高信頼モデル

【現像装置】均一な処理と搬送安定性を実現する高信頼モデル
『現像装置』は、露光処理後のパターニング現像を行う装置です。 当社独自のスプレー配列により、基材全体を均一に処理可能。 さらに、基材の蛇行やスリップによるレジスト損傷を防ぎ、常に安定した現像品質を確保します。 また、現像チャンバーの蓋を大きく開口できる設計とし、メンテナンス性に優れた構造を実現しました。 【特長】 ■ 均一な現像処理を実現 ■ スリップレス搬送で安定処理 ■ 蛇行によるレジスト損傷を軽減 ■ 優れたメンテナンス性 ※詳細は下記よりお問い合わせください https://toagrp.co.jp/contact

ケミカルサーキュレータ

ケミカルサーキュレータ
日本エクセル株式会社では『ケミカルサーキュレータ』を取り扱っております。 当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる薬液の温度を高精度に コントロール可能。ゴムOリングが直接液に触れないシール構造のため 酸性液、アルカリ性液など薬液毎のシール材質の選定が不要です。 また、冷却加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用しており 溶出金属イオンによる汚染の心配がなく、表面保護膜も不要のため 剥離による能力低下もありません。 【特長】 ■薬液の温度を高精度にコントロール ■電子冷熱方式のため、室温付近の温度コントロールに適し且つ高精度 ■国際保護規格IP31に適合 ■漏液センサ、温度スイッチを内蔵 ■高メガピット化に伴うクリーン度アップのご要求にお応え ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

Ø150mm対応露光装置

Ø150mm対応露光装置
【主な特長】 ・全機能がコンパクトに一体化 ・独自のアライメントシステムを搭載。 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助と生産管理。 ・上位通信システム対応可能。 ・量産用としてのべ500台以上の販売実績。

半導体洗浄装置 開発、製造サービス

半導体洗浄装置 開発、製造サービス
当社では、国内はもとより、海外の大手、半導体メーカーに輸出している 半導体洗浄装置の開発、製造、販売をおこなっています。 当社の半導体洗浄装置は、お客様のニーズに合わせたカスタマイズも 可能であり、柔軟な対応力が当社の強みです。 また、アフターサービスの充実やトラブルシューティングの迅速な 対応など、お客様との信頼関係を大切にしており、長期的なパートナー シップを築き、お客様のビジネス成功に貢献しております。 【特長】 ■確かな技術と自由な発想で提案 ■お客様のニーズに合った製品の提供し品質向上、信頼性を確保 ■お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能 ■アフターサービスが充実 ■トラブルシューティングを迅速に対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

オンラインUPWホウ素計 Sievers Boron Ultra

オンラインUPWホウ素計 Sievers Boron Ultra
超高感度検出:0.010~100 ppb B、定量下限0.030 ppb B 迅速な測定:3分または6分の測定サイクル 選べる流路構成:1流路/2流路モデル 直感的な操作:10.1インチのマルチカラータッチスクリーン 高い防塵・防水性能:IP45等級取得 多様な出力対応:アナログ出力、RS-232、Modbus TCP/IPなど
nowloading.gif

​お探しの製品は見つかりませんでした。

1 / 2

露光・現像におけるプロセスの安定化

露光・現像におけるプロセスの安定化とは?

半導体製造における露光・現像プロセスは、微細な回路パターンをウェハー上に形成する極めて重要な工程です。このプロセスの安定化とは、製造条件の変動や外部要因の影響を最小限に抑え、常に均一で高品質なパターン形成を実現することを指します。これにより、歩留まり向上、製品性能の安定、そして製造コストの削減に繋がります。

​課題

微細パターン形成におけるばらつき

回路パターンの微細化が進むにつれて、露光時の光量や焦点のわずかなずれ、現像液の濃度や温度の変動が、パターン形状のばらつきや欠陥に直結しやすくなっています。

環境要因による影響

製造ライン内の温度、湿度、清浄度などの環境変化が、露光・現像プロセスに影響を与え、再現性の低下や歩留まりの悪化を招く可能性があります。

材料特性のばらつき

フォトレジストや現像液といった材料のロット間や経時変化による特性のばらつきが、プロセスの安定性を損ない、予期せぬ不良を引き起こすことがあります。

装置の経年劣化とメンテナンス不足

露光装置や現像装置の部品の経年劣化、定期的なメンテナンス不足は、性能の低下や予期せぬ故障に繋がり、プロセスの安定稼働を妨げます。

​対策

精密なプロセス制御とモニタリング

露光時の光量、焦点、現像時の温度、時間、液量などをリアルタイムで高精度に制御し、異常を早期に検知・修正するシステムを導入します。

クリーンルーム環境の徹底管理

温度、湿度、粒子数などを厳密に管理されたクリーンルーム環境を維持し、外部からの汚染や環境変動の影響を最小限に抑えます。

材料品質管理とトレーサビリティ

使用する材料の品質を厳格に管理し、ロットごとの特性評価やトレーサビリティを確保することで、材料起因のばらつきを抑制します。

予防保全と定期的な装置校正

装置の定期的な点検・メンテナンス計画を策定し、予防保全を実施するとともに、定期的な校正により装置性能を維持・管理します。

​対策に役立つ製品例

高精度プロセス制御システム

露光・現像装置の各パラメータをリアルタイムで監視・調整し、微細な変動を補正することで、パターン形成の均一性を高めます。

環境モニタリング・制御装置

クリーンルーム内の温度、湿度、粒子数などを常時監視し、設定値からの逸脱を自動で補正することで、安定した製造環境を提供します。

材料特性評価・管理サービス

フォトレジストや現像液などの材料特性を詳細に評価・分析し、ロットごとのばらつきを管理することで、プロセスの再現性を向上させます。

装置予知保全・診断ツール

装置の稼働データやセンサー情報を分析し、故障の兆候を事前に検知することで、計画的なメンテナンスを可能にし、突発的な停止を防ぎます。

⭐今週のピックアップ

noimage_l.gif

読み込み中

ikkatsu_maru_flat_shadow.png
bottom of page