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半導体製造装置・材料

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半導体製造装置・材料

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汚染物質の除去とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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検査・測定装置
材料
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関連技術
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ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨工程で発生する微細な異物や化学物質による汚染を除去する技術です。高精度な半導体デバイスの製造には、ウェーハ表面の清浄度が極めて重要であり、この工程はその品質を保証する上で不可欠です。

各社の製品

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【半導体製造向け】アルファクールNVシリーズ

【半導体製造向け】アルファクールNVシリーズ
出光興産株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。切削油の腐敗やべたつきは、微細な部品への汚染を引き起こし、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。アルファクールNVシリーズは、耐腐敗性の向上により、清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造における切削・研削工程 ・クリーンルーム内での使用 ・精密部品加工 【導入の効果】 ・腐敗臭や油煙の抑制による作業環境の改善 ・製品へのべたつきを抑制し、清浄度を向上 ・切削油の交換頻度を減らし、廃棄コストを削減
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【半導体クリーン環境向け】Grace-TRAP

【半導体クリーン環境向け】Grace-TRAP
日本精器株式会社
半導体製造のクリーン環境では、コンプレッサーから発生するドレンの適切な管理が求められます。ドレンは、製品の品質を損なうだけでなく、設備の腐食や故障の原因にもなり得ます。特に、微細な部品を扱う半導体製造においては、ドレンの混入は致命的な問題を引き起こす可能性があります。Grace-TRAPは、現場の運転条件に合わせて排出スケジュールを最適化することで、これらの問題を解決します。無駄なドレン排出を削減し、クリーン環境を維持します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場 ・クリーンルーム ・精密機器製造 【導入の効果】 ・クリーン環境の維持 ・製品品質の向上 ・設備の長寿命化 ・エネルギーコストの削減
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【半導体向け】Muromac HG シリーズ

【半導体向け】Muromac HG シリーズ
室町ケミカル株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける超純水の品質が製品の歩留まりと性能を大きく左右します。特に、微細化が進む中で、ppm、ppbオーダーの微量な不純物の混入が、製品の品質劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。Muromac HGシリーズは、これらの課題に対応するため、高純度な超純水製造を可能にするイオン交換樹脂です。 【活用シーン】 * 半導体製造プロセスにおける超純水製造 * 電子材料薬品やプロセス液の高純度化 【導入の効果】 * ppm、ppbオーダーのイオン性不純物除去による製品品質向上 * 歩留まりの改善 * 安定した製造プロセスの実現
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【電子部品向け】ステンレスメッシュフィルター

【電子部品向け】ステンレスメッシュフィルター
株式会社バンテック
電子部品業界では、製品の信頼性と性能維持のために冷却効率の向上が求められます。特に、高密度実装が進む中で発熱による部品の劣化を防ぐことは重要な課題です。不適切な冷却は、部品の故障や性能劣化につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、異物濾過と同時に冷却効率を高めることで、電子部品の長寿命化に貢献します。 【活用シーン】 ・電子機器の冷却システム ・半導体製造装置 ・電源ユニット 【導入の効果】 ・異物の混入を防ぎ、冷却システムの性能を維持 ・冷却効率の向上による部品の長寿命化 ・オーダーメイド対応による最適なフィルタリング
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【半導体向け】真空用・クリーンルーム用膨張シール セフィリア

【半導体向け】真空用・クリーンルーム用膨張シール セフィリア
テクネティクス・グループ・ジャパン株式会社
半導体製造業界では、真空環境下での精密なプロセスが製品の品質を左右します。特に、真空封止は、コンタミネーションを防ぎ、高精度な製造を支える上で不可欠です。シール性能のわずかな劣化が、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。当社の膨張シールは、真空0.133Paから高圧まで、-50℃から+250℃の温度範囲に対応し、半導体製造における厳しい環境下での真空封止を強力にサポートします。 【活用シーン】 * クリーンルームドアシール * 半導体製造装置のパネルシール * 真空搬送システム 【導入の効果】 * 高いシール性による真空度の維持 * コンタミネーションのリスク低減 * 装置の安定稼働と製品品質の向上
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【半導体材料向け】ウェーハ表面のゼータ電位測定

【半導体材料向け】ウェーハ表面のゼータ電位測定
大塚電子株式会社
CMPプロセスにおいては、ウェーハ表面の清浄度維持が製品の品質を左右する重要な要素です。CMPスラリーとウェーハ間の静電的な相互作用を理解し、最適化することは、パーティクルの再付着を防ぎ、高い洗浄効果を得るために不可欠です。当社の固体表面のゼータ電位測定は、CMPスラリーとウェーハのゼータ電位を測定し、静電相互作用を評価することで、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・CMPスラリーとウェーハの静電相互作用評価 ・洗浄条件の最適化 ・パーティクル再付着防止 【導入の効果】 ・CMPプロセスの効率化 ・ウェーハ表面の清浄度向上 ・製品の品質向上
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【電子材料向け】タッチレスバルブフィーダ

【電子材料向け】タッチレスバルブフィーダ
赤武エンジニアリング株式会社
電子材料業界では、製品の品質を左右する異物混入のリスクを最小限に抑えることが重要です。特に、高純度な材料を扱う場合、微細な異物の混入が製品の性能劣化や歩留まりの低下につながる可能性があります。タッチレスバルブフィーダは、非接触構造と容易な洗浄性により、異物混入リスクを低減し、高純度な材料供給を可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造 ・ディスプレイ材料製造 ・高機能フィルム製造 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品品質の向上 ・歩留まりの向上 ・清掃性の向上 ・効率的な品種切替
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【電子材料向け】メカニカルシール撹拌機 KZF-Mシリーズ

【電子材料向け】メカニカルシール撹拌機 KZF-Mシリーズ
ユニコントロールズ株式会社
電子材料業界では、材料の品質を維持するために、コンタミネーションを最小限に抑え、均一な混合が求められます。特に、精密な電子部品製造においては、材料のわずかな異物混入や混合ムラが、製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。メカニカルシール撹拌機 KZF-Mシリーズは、シャフトとシールの摺動面をなくすことでコンタミ発生を抑制し、高品質な材料混合を可能にします。 【活用シーン】 ・高純度材料の撹拌 ・加圧環境下での撹拌 【導入の効果】 ・コンタミのリスクを低減 ・材料の品質向上 ・製品の歩留まり向上
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【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル

【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。 基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。 従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。 【活用シーン】 ・基板洗浄後の水切り工程 ・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥 ・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の完全省略による時間短縮 ・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減 ・生産ライン全体の効率化 ・製品品質の向上
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【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション

【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション
福井キヤノンマテリアル株式会社
研究開発分野では、実験の再現性が極めて重要であり、不純物の混入は実験結果に大きな影響を与えます。半導体製造プロセスにおいては、金属やパーティクルの混入がデバイスの性能劣化や歩留まり低下につながるため、高度な清浄度が求められます。当社の低メタル、低パーティクル化ソリューションは、これらの課題に対応し、研究開発における信頼性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の研究開発 ・半導体製造プロセスの評価 ・金属汚染、パーティクル汚染が問題となる研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究開発の効率化 ・高品質な半導体製造への貢献
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【半導体製造向け】迅速流体継ぎ手

【半導体製造向け】迅速流体継ぎ手
東洋国際株式会社
半導体製造業界では、微細な粒子や異物の混入が製品の品質を大きく左右します。 クリーンルーム環境下での配管接続においては、流体の漏れや異物の発生を極限まで抑えることが求められます。 メンテナンスや装置の段取り替え時に、配管の着脱を頻繁に行う必要があるため、作業効率も重要です。当社の迅速流体継ぎ手は、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での配管接続 ・半導体製造装置の配管 ・薬液供給ライン ・純水供給ライン ・ガス供給ライン 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・作業時間の短縮 ・メンテナンス性の向上 ・製品品質の安定化 ・歩留まりの向上
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【電子業界向け】バブルスクラバー

【電子業界向け】バブルスクラバー
株式会社テクネ計測
電子業界の洗浄工程では、高い清浄度が求められます。洗浄液やプロセスガスに含まれる酸性ガスや微粒子は、洗浄システムの性能を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を効果的に除去し、洗浄システムの信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・半導体製造工程 ・電子部品の洗浄工程 ・基板製造工程 【導入の効果】 ・洗浄液やガスの清浄度向上 ・システムのダウンタイム削減 ・製品の品質向上
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【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター

【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター
日本フィルトレーショングループ株式会社
半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、高度な清浄化が不可欠です。特に、微細な粒子や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。グローバルフィルターのカートリッジフィルターは、これらの課題に対し、高いろ過性能と幅広い製品ラインナップで対応します。トータルコストの削減にも貢献します。 【活用シーン】 ・純水、薬液、現像液などのろ過 ・製造工程における異物除去 ・クリーンルーム内の空気清浄化 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【半導体向け】視認性・耐薬品性・柔軟性を一体化 PFAホース

【半導体向け】視認性・耐薬品性・柔軟性を一体化 PFAホース
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
半導体製造プロセスでは、薬液の品質管理が製品の歩留まりを大きく左右します。特に、高純度な薬液を扱う際には、コンタミネーションのリスクを最小限に抑え、薬液の状態を常に把握できることが重要です。TH50は、高い内面視認性により、薬液の流れを目視で確認でき、異物混入や異常を早期に発見できます。PFAの耐薬品性と、プラチナシリコーンの柔軟性を兼ね備え、多様な温度条件下での使用にも対応します。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・純水供給ライン ・各種洗浄液供給 【導入の効果】 ・薬液の品質維持 ・プロセスの安定化 ・メンテナンス性の向上 【主な適用業界】 ■食品・醸造・飲料・調味料 ■医薬品・化粧品・化成品 ■電子材料・半導体・超純水 【機能】 ■負圧吸引 ■視認性 ■耐油 ■非粘着 ■防臭
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【半導体製造向け】SUS ステンレス パイプ

【半導体製造向け】SUS ステンレス パイプ
株式会社ハギテック
半導体製造業界では、薬液の正確な供給が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細な回路形成においては、薬液の純度を保ちながら、正確な流量制御が求められます。不適切なパイプの使用は、薬液の汚染や流量の不安定さを引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のSUS304パイプは、耐薬品性に優れ、精密な薬液供給を可能にします。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・高純度薬液の輸送 ・微細加工における薬液塗布 【導入の効果】 ・薬液の純度を維持 ・安定した流量供給 ・歩留まり向上
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【半導体向け】ナノバブルで切削クーラントを長寿命化！

【半導体向け】ナノバブルで切削クーラントを長寿命化！
株式会社IZUSHI
半導体業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを向上させるために不可欠です。クーラントや洗浄液の腐敗は、微粒子の発生や異物混入を引き起こし、清浄度を低下させる可能性があります。ナノブースターは、水溶性クーラントの腐敗を抑制し、洗浄液の浸透性を高めることで、清浄度維持に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置のクーラント ・洗浄工程における洗浄液 【導入の効果】 ・クーラントの長寿命化 ・洗浄性の向上 ・清浄度の維持
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【半導体向け】Y型ストレーナー用スクリーンフィルター

【半導体向け】Y型ストレーナー用スクリーンフィルター
株式会社バンテック
半導体製造業界では、製品の品質を左右する異物混入対策が非常に重要です。特に、配管内の微細な異物は製品の歩留まりを低下させるだけでなく、製造装置の故障の原因にもなり得ます。Y型ストレーナーは、配管内の異物を除去し各機器を保護しますが、既存のフィルターではメッシュの粗さや細かさにより、異物が十分に除去できない、または目詰まりを起こすことがあります。そこで、当社ではお客様のニーズに合わせて、最適なメッシュのフィルターを製作いたします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における純水、薬液、ガスの清浄化 ・クリーンルーム内の配管システム ・各種製造装置の保護 【導入の効果】 ・異物混入による製品不良率の低減 ・製造装置の安定稼働 ・高品質な製品の安定供給
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【半導体製造装置業界向け】隙間シール用 ワイパーブラシ

【半導体製造装置業界向け】隙間シール用 ワイパーブラシ
株式会社共伸技研
半導体業界における研磨工程では、ウェーハ表面の精密な加工が求められます。微細な傷や異物の付着は、製品の品質を大きく損なう原因となります。高密度チャンネル直線ブラシは、ナイロン毛材を高密度に植毛することで、均一な研磨と高い清浄度を実現します。これにより、歩留まりの向上と製品の高品質化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置内の搬送装置周辺の隙間シール ・ロードポート・ロードボード部の開口部シール ・ウエハ搬送部のパーティクル侵入防止 ・可動部・スライド部のワイパー用途 【導入の効果】 ・パーティクル侵入リスクの低減 ・装置内部の清浄度維持 ・歩留まり・品質の安定化 ・可動部でも安定したシール性能を確保 ・装置設計自由度の向上（完全密閉不要）
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【半導体製造向け】水質監視システム

【半導体製造向け】水質監視システム
グリッドリンク株式会社
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の水質管理が重要です。特に、不純物の混入は、製造プロセスに悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品不良の原因となります。本システムは、超純水の濁度、色度、残留塩素をリアルタイムで監視し、異常を早期に発見することで、高品質な製品製造を支援します。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセス ・純水供給ライン ・水質管理の自動化 【導入の効果】 ・製品品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製造プロセスの安定化
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【電子部品向け】ラジカル洗浄ユニット

【電子部品向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
電子部品業界の表面処理工程では、微細な有機物や金属汚染の除去が、製品の品質と信頼性を左右します。特に、高密度化が進む電子部品においては、コンタミを徹底的に除去し、高品質な表面処理を行うことが重要です。ラジカル洗浄ユニットは、高効率なOHラジカル生成により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・フォトレジスト除去 ・金属膜酸化防止 ・有機・金属汚染除去 【導入の効果】 ・洗浄効率の向上 ・環境負荷の低減 ・製品品質の向上
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【半導体製造向け】PPSUサニタリー配管（パイプ）

【半導体製造向け】PPSUサニタリー配管（パイプ）
日星産業株式会社
半導体製造業界における純水管理では、高い清浄度と信頼性が求められます。配管内の物質付着や汚染は、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のPPSUサニタリー配管は、透明性により内部の状態を容易に確認でき、異物混入のリスクを低減します。耐薬品性、耐熱性、耐熱水性に優れ、純水環境下での長期的な使用に最適です。1000回以上の蒸気滅菌が可能で、高い安全性を実現します。 【活用シーン】 ・純水供給ライン ・薬液供給ライン ・製造装置内の配管 【導入の効果】 ・配管内の状態を可視化し、異常を早期発見 ・高い耐薬品性により、純水品質を維持 ・長寿命で、交換頻度を削減
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【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工

【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工
NPO諏訪圏ものづくり推進機構
半導体業界では、微細な部品の製造において、表面の清浄度と精密な形状が求められます。特に、クリーンな環境下での製造においては、研磨加工による微細なバリや異物の除去が重要です。これらの不具合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の超精密特殊鏡面研磨技術は、形状に沿って粗い面を鏡面に仕上げ、エッジを損なうことなく微細なバリを取り除くことが可能です。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での半導体部品の研磨 ・微細加工部品のバリ取り ・試作部品の鏡面仕上げ 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・異物混入のリスク低減
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【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット

【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する異物除去が重要です。特に、微細な異物が混入すると、表示不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のラジカル洗浄ユニットは、OHラジカルを効率的に生成し、ディスプレイ製造工程における異物除去を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造工程での異物除去 ・フォトレジスト残渣の除去 ・金属汚染の抑制 【導入の効果】 ・高純度洗浄による品質向上 ・省スペース化によるコスト削減 ・環境負荷低減
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【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
ガラス表面処理業界では、高品質な表面処理を実現するために、基材の徹底的な洗浄が不可欠です。特に、異物や油分が残っていると、その後のコーティングや加工の品質を著しく損なう可能性があります。洗浄ムラや洗浄力の不足は、製品の不良や歩留まりの低下につながります。ファインジェットは、多彩な周波数を選択できるため、ガラス基板の特性や表面処理工程に最適な洗浄条件を設定できます。 【活用シーン】 ・ガラス基板のCMP後洗浄 ・各種ガラス基板洗浄 ・表面処理前処理 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・表面処理工程の効率化
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【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ

【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ
ケーザー・コンプレッサー株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、コンプレッサーから排出される凝縮水の管理が重要です。特に、精密な製造工程においては、凝縮水による汚染や、それによる装置の故障は、生産効率の低下や製品品質の劣化につながる可能性があります。エコ・ドレンシリーズは、空気損失なく安全で信頼性の高い凝縮水排水を実現し、半導体製造における高い品質基準をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内でのコンプレッサー設置場所 ・精密機器製造ライン ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・凝縮水による汚染リスクの低減 ・装置の安定稼働 ・製品品質の向上
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【半導体向け】Magrevリニア搬送システム

【半導体向け】Magrevリニア搬送システム
株式会社イトー
半導体業界では、製造工程の効率化とクリーン環境の維持が不可欠です。高速搬送は、生産性の向上に直結し、高品質な製品を安定的に供給するために重要です。従来の搬送システムでは、摩耗粉やオイルによる汚染のリスクがありましたが、Magrevリニア搬送システムは、非接触搬送により、これらの問題を解決します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での高速搬送 ・ウェーハ、基板、部品の搬送 ・組み立て工程における高速搬送 【導入の効果】 ・タクトタイムの短縮 ・クリーン環境の維持 ・レイアウト変更への柔軟な対応 ・製品品質の向上
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【電子材料向け】超音波粉体ふるい器で純度向上

【電子材料向け】超音波粉体ふるい器で純度向上
ユーシー・ジャパン株式会社
電子材料業界では、製品の品質を左右する粉体の純度管理が重要です。異物混入は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながるため、粉体ふるい工程における確実な異物除去が求められます。当社の超音波粉体ふるい器は、目詰まりや付着といった問題を解決し、粉体ふるい工程の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料製造における粉体ふるい工程 ・ハイメッシュふるいによる微細粉体の分級 ・異物混入を防ぎ、製品の品質を向上 【導入の効果】 ・粉体ふるい工程の効率化による時間短縮 ・異物除去による製品品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】フェルールライニングパイプ 送液中の流体を保持する

【半導体向け】フェルールライニングパイプ 送液中の流体を保持する
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
半導体製造業界では、製品の品質を左右する純水の清浄度が重要です。配管材からの不純物の混入は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。当社のフェルールライニングパイプは、全面接液PFA/PTFEライニングにより、純水への不純物溶出を抑制し、高い安全性を実現します。 【活用シーン】 * 純水製造装置 * 半導体製造プロセス * クリーンルーム内配管 【導入の効果】 * 純水供給システムの信頼性向上 * 製品品質の安定化 * メンテナンスコストの削減
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【半導体クリーンルーム向け】負圧オートドレーン

【半導体クリーンルーム向け】負圧オートドレーン
株式会社テクネ計測
半導体製造業界のクリーンルーム環境では、微細な粒子や液体の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、ガスサンプリングラインや関連機器に蓄積する液体や液滴は、システムの誤作動や汚染の原因となり、歩留まりの低下を招く可能性があります。負圧オートドレーンは、これらの問題を解決するために設計されました。蓄積された液体を連続的に自動排出することで、クリーンルーム環境の清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内のガスサンプリングライン ・半導体製造装置の排液処理 ・プレフィルター、スプレースクラバー、リキッドトラップからの排水 【導入の効果】 ・クリーンルーム環境の汚染リスクを低減 ・システムの信頼性向上とメンテナンス頻度の削減 ・製品品質の安定化と歩留まり向上
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【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO

【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。微細な異物や不純物が混入した水は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。TW-020-SROはRO膜による高い浄水能力で、90～99％の分子レベルでの除去性能により、高品質な純水を供給し、半導体製造における洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部品の洗浄 ・製造設備の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型

【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型
株式会社トップウォーターシステムズ
電子部品業界の精密製造においては、洗浄、めっき、その他製造工程において、不純物のない高純度な水が不可欠です。不純物が混入すると、製品の品質低下や歩留まりの悪化を招く可能性があります。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースでも高純度のRO純水を供給し、電子部品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密電子部品の洗浄工程 ・半導体製造における薬液調整 ・電子部品製造工場の冷却水 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【半導体向け】プラント設備を止めない漏洩補修

【半導体向け】プラント設備を止めない漏洩補修
富士ファーマナイト株式会社
半導体製造業界の環境では、配管やバルブからの漏洩については、設備の停止を招き、生産効率を低下させるリスクがあります。富士ファーマナイトの漏洩補修技術は、プラントを停止することなく漏洩を封止し、稼働を維持します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の配管からの漏洩 ・半導体製造装置周辺のバルブからの漏洩 ・薬液配管からの漏洩 【導入の効果】 ・プラント停止による生産ロスの回避 ・製品品質の安定化
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【半導体製造向け】防爆露点計TK-100TR-EX

【半導体製造向け】防爆露点計TK-100TR-EX
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、製造プロセスにおける微量な水分が製品の品質を大きく左右します。特に、クリーンルーム環境下でのガス中の水分管理は、歩留まりの向上、製品の信頼性確保のために不可欠です。水分は、半導体デバイスの性能劣化や腐食を引き起こす可能性があります。TK-100TR-EXは、爆発危険区域でのガス中水分計測を念頭に開発された静電容量式露点計であり、清浄度維持に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内のガス供給ライン ・半導体製造プロセスの乾燥空気供給 ・特殊ガス供給ライン 【導入の効果】 ・高精度な露点測定による品質管理の強化 ・製品の歩留まり向上 ・製造プロセスの安定化 ・コスト削減
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け�】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG

【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG
興和株式会社
半導体製造業界では、ウェーハの微細加工に伴い、異物や金属イオンの混入が製品の品質を大きく左右します。洗浄工程では、これらの不純物を徹底的に除去し、高い清浄度を維持することが求められます。不適切な洗浄は、歩留まりの低下やデバイスの性能劣化につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。半導体製造における高品質な洗浄をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ洗浄 ・電子部品製造 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・高い洗浄力による歩留まり向上 ・金属不純物によるデバイスへの影響を抑制 ・クリーンルーム環境での安定した使用
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【電子業界向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター

【電子業界向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター
日本フィルトレーショングループ株式会社
電子業界では、半導体製造プロセスにおいて、超純水の清浄度が製品の品質を左右します。微粒子や微生物などの不純物は、製品の歩留まりを低下させるだけでなく、性能劣化や故障の原因にもなります。グローバルフィルターのカートリッジフィルターは、これらの課題に対し、高いろ過性能で超純水の清浄度を維持し、安定した製品品質をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造 ・液晶パネル製造 ・電子部品洗浄 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製品の品質安定化 ・製造コストの削減
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【半導体洗浄向け】TRIシリーズ カートリッジ純水器

【半導体洗浄向け】TRIシリーズ カートリッジ純水器
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、不純物のない高純度イオン交換水が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながります。TRIシリーズは、RO純水設備の後段に設置することで、手軽に高純度イオン交換水を供給し、洗浄工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部材の精密洗浄 ・製造装置のリンス 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・安定した製品供給
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【電池業界向け】高粘度スラリー対応ろ過装置

【電池業界向け】高粘度スラリー対応ろ過装置
株式会社荒井鉄工所
電池業界では、製品の性能を安定させるために、製造プロセスにおける異物混入の徹底的な排除が求められます。特に、電極材料やセパレータなどの製造工程では、スラリー中の微細な異物が電池の性能劣化や短寿命化を引き起こす可能性があります。当社の『W-CELL フィルター装置』は、高粘度スラリーでも安定したろ過を実現し、電池製造における粒度調整・異物除去に貢献します。 【活用シーン】 ・電極材料スラリーのろ過 ・セパレータ製造工程での異物除去 ・電池材料の分級ろ過 【導入の効果】 ・電池の性能安定化 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【半導体製造向け】水質管理システム（濁度）

【半導体製造向け】水質管理システム（濁度）
グリッドリンク株式会社
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の水質管理が非常に重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。当社の水質管理システム（濁度）は、超純水製造プロセスにおける濁度をリアルタイムで監視し、異常を早期に検知することで、高品質な製品製造をサポートします。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセスにおける濁度監視 ・純水供給ラインにおける水質管理 ・製造ラインへの異物混入リスクの低減 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【半導体向け】超純水の水質監視装置

【半導体向け】超純水の水質監視装置
セントラル科学株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける超純水（UPW）の品質管理が、製品の歩留まりと品質を左右する重要な要素です。特に、微量のTOC（全有機炭素）やホウ素の混入は、半導体デバイスの性能に悪影響を及ぼす可能性があります。当社の水質監視装置は、これらの微量成分を高精度で連続的に監視し、UPWシステムの品質を維持します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場のUPWシステム ・原水、RO水、回収水、UF/EDI、ユースポイントなど、各工程 【導入の効果】 ・UPWの品質を安定化し、歩留まり向上に貢献 ・TOCやホウ素による製品不良のリスクを低減 ・製造プロセスの効率化とコスト削減
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【半導体向け】純水供給用ポンプ

【半導体向け】純水供給用ポンプ
グルンドフォスポンプ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける不純物の混入を極限まで抑えるために、高品質な純水供給が不可欠です。純水の質は、製品の歩留まりや性能に直接影響するため、安定した供給と高い信頼性が求められます。グルンドフォスのポンプは、これらの要求に応えるべく、高い耐久性と省エネ性能を備え、半導体製造における純水供給の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の純水供給システム ・研究開発施設における純水供給 ・クリーンルーム内での純水循環 【導入の効果】 ・安定した純水供給による歩留まり向上 ・省エネ性能による運用コスト削減 ・高い信頼性によるダウンタイムの最小化
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【半導体向け】MAGPICKERによる微粒子除去

【半導体向け】MAGPICKERによる微粒子除去
株式会社サノテック
半導体製造工程では、微粒子の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、ケミカル材料を使用する工程では、配管内の微粒子が堆積し、配管詰まりを引き起こすことで、生産効率の低下や修繕費用の増加につながる可能性があります。MAGPICKERは、配管の上流で使用することで、カス・端材に含まれる磁性体と共に非磁性体も同時に約30パーセント回収することが確認されており、配管詰まりや沈殿層清掃頻度の軽減に貢献します。 【活用シーン】 ・ケミカル材料製造工程 ・配管詰まりによる生産停止のリスクを低減したい場合 ・配管清掃や交換にかかる費用を削減したい場合 【導入の効果】 ・配管清掃費用、修繕費の軽減 ・生産効率の向上 ・製品品質の安定化
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【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO

【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO
株式会社トップウォーターシステムズ
電子部品製造業界では、製品の品質を左右する洗浄工程や、製造プロセスにおける純水の利用が不可欠です。特に、微細な回路や精密部品の製造においては、不純物の混入は製品の性能劣化や不良品の発生につながる可能性があります。TW-300-LROは、RO（逆浸透膜）方式により原水中の有機物・無機物・微生物等を90～99%除去、高純度な水を安定供給し、電子部品製造における品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品の洗浄工程 ・製造プロセスにおける純水供給 ・研究開発用途 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・安定した製造プロセスの実現
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【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置

【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置
テクノアルファ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や有機物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェーハや基板の洗浄は、デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠です。プラズマ洗浄は、これらの課題に対し、高い洗浄力と材質への適合性を提供します。当社の低圧・大気圧プラズマ装置は、半導体製造における洗浄工程の最適化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ、基板の洗浄 ・有機物、異物の除去 ・表面改質による接着性向上 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット

【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおける微量な水分管理が重要です。特に、炉内雰囲気ガス中の水分は、製品の歩留まりや信頼性に悪影響を及ぼす可能性があります。TKZH008電子冷却式ドライヤーユニットは、炉内雰囲気ガス中の水分を効率的に除去し、製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における炉内雰囲気ガスの精密乾燥 ・露点管理が必要なガス供給ライン ・クリーンルーム内での使用 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製品の信頼性向上 ・製造コストの削減
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【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』

【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』
株式会社タカトテクニカ
半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。 【活用シーン】 * 半導体製造工程における薬液供給 * ウェーハ洗浄 * 基板洗浄 【導入の効果】 * 薬液供給の安定化による品質向上 * 低騒音化による作業環境の改善 * コンパクト設計による省スペース化
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【半導体向け】高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』

【半導体向け】高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』
ニチダイフィルタ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の混入が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高純度なシリコンウェーハの製造や、微細加工技術においては、空気中の微粒子や液中の不純物を徹底的に除去し、清浄度を維持することが不可欠です。異物の混入は、デバイスの性能低下や短絡、断線といった致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』は、半導体製造プロセスにおける清浄度管理の課題に応えるために開発されました。 【活用シーン】 ・薬液製造ライン ・薬液供給ライン ・ガス供給ライン ・各種製造装置 【導入の効果】 ・異物混入による歩留まり低下を抑制 ・製品の品質向上 ・ランニングコストの削減 ・メンテナンス性の向上
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【半導体向け】超純水製造用ポンプ

【半導体向け】超純水製造用ポンプ
グルンドフォスポンプ株式会社
半導体業界では、高品質な製品を製造するために、超純水の利用が不可欠です。超純水は、製造プロセスにおける異物混入を防ぎ、製品の歩留まりを向上させるために重要です。ポンプの選定においては、高い清浄度を維持し、安定した水質を供給できることが求められます。グルンドフォスのポンプは、これらの要求に応えるべく設計されています。 【活用シーン】 ・超純水製造プラント ・半導体製造ライン ・各種洗浄工程 【導入の効果】 ・高い清浄度の維持 ・安定した水質供給 ・製品歩留まりの向上
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【電子材料向け】CAS型エアセパレータ

【電子材料向け】CAS型エアセパレータ
株式会社増野製作所
電子材料業界では、製品の品質を左右する微粒子の制御が重要です。特に、高純度な材料を扱う場合、不純物の混入は製品の性能を著しく低下させる可能性があります。CAS型エアセパレータは、45μm～150μmの範囲で分級点を設定でき、遠心力と循環旋回気流を利用することで、効率的に微粒子を分級します。これにより、電子材料の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料製造における異物除去 ・高純度材料の分級 ・微粒子サイズの精密な制御 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・品質の安定化 ・付帯設備が不要なため、イニシャルコストの削減
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ウェーハの研磨における汚染物質の除去

ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨工程で発生する微細な異物や化学物質による汚染を除去する技術です。高精度な半導体デバイスの製造には、ウェーハ表面の清浄度が極めて重要であり、この工程はその品質を保証する上で不可欠です。

​課題

微細異物の残留

研磨時に発生する微細な粒子がウェーハ表面に付着し、後工程での欠陥原因となる。

化学的汚染の拡散

研磨液に含まれる化学物質や、装置からの溶出物がウェーハ表面に残り、電気特性に悪影響を与える。

除去効率の限界

従来の洗浄方法では、ナノレベルの微細な汚染物質を完全に除去することが困難な場合がある。

処理時間の増大

汚染物質の除去に時間を要し、製造ライン全体の生産性を低下させる要因となる。

​対策

高純度洗浄液の適用

不純物を極限まで排除した特殊な洗浄液を使用し、化学的汚染を抑制する。

超音波・マイクロバブル洗浄

微細な気泡や超音波の物理的な力を利用して、ウェーハ表面の異物を効率的に剥離・除去する。

プラズマ洗浄技術

低ダメージのプラズマを用いて、有機物や無機物の汚染を化学的に分解・除去する。

自動化されたリンス・乾燥

汚染物質の再付着を防ぐための精密なリンスと、均一で迅速な乾燥プロセスを自動化する。

​対策に役立つ製品例

高純度洗浄剤

微量の金属イオンや有機物を含まない特殊配合により、ウェーハ表面への汚染物質の付着を最小限に抑える。

精密洗浄装置

超音波やマイクロバブル発生機構を備え、ウェーハ表面の微細な凹凸に入り込み、効率的に異物を除去する。

プラズマ処理システム

ウェーハ表面の汚染物質を化学的に分解し、揮発性物質として除去することで、高い清浄度を実現する。

自動リンス乾燥ユニット

洗浄後のウェーハを汚染させずに、均一かつ迅速に乾燥させることで、工程間の品質を維持する。

⭐今週のピックアップ

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