汚染物質の除去とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、薬液の正確な供給が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細な回路形成においては、薬液の純度を保ちながら、正確な流量制御が求められます。不適切なパイプの使用は、薬液の汚染や流量の不安定さを引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のSUS304パイプは、耐薬品性に優れ、精密な薬液供給を可能にします。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・高純度薬液の輸送
・微細加工における薬液塗布

【導入の効果】
・薬液の純度を維持
・安定した流量供給
・歩留まり向上

半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。

【活用シーン】
* 半導体製造工程における薬液供給
* ウェーハ洗浄
* 基板洗浄

【導入の効果】
* 薬液供給の安定化による品質向上
* 低騒音化による作業環境の改善
* コンパクト設計による省スペース化

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、コンプレッサーから排出される凝縮水の管理が重要です。特に、精密な製造工程においては、凝縮水による汚染や、それによる装置の故障は、生産効率の低下や製品品質の劣化につながる可能性があります。エコ・ドレンシリーズは、空気損失なく安全で信頼性の高い凝縮水排水を実現し、半導体製造における高い品質基準をサポートします。

【活用シーン】
・クリーンルーム内でのコンプレッサー設置場所
・精密機器製造ライン
・半導体製造装置

【導入の効果】
・凝縮水による汚染リスクの低減
・装置の安定稼働
・製品品質の向上

半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の水質管理が重要です。特に、不純物の混入は、製造プロセスに悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品不良の原因となります。本システムは、超純水の濁度、色度、残留塩素をリアルタイムで監視し、異常を早期に発見することで、高品質な製品製造を支援します。

【活用シーン】
・超純水製造プロセス
・純水供給ライン
・水質管理の自動化

【導入の効果】
・製品品質の向上
・歩留まりの改善
・製造プロセスの安定化

半導体製造業界では、真空環境下での精密なプロセスが製品の品質を左右します。特に、真空封止は、コンタミネーションを防ぎ、高精度な製造を支える上で不可欠です。シール性能のわずかな劣化が、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。当社の膨張シールは、真空0.133Paから高圧まで、-50℃から+250℃の温度範囲に対応し、半導体製造における厳しい環境下での真空封止を強力にサポートします。

【活用シーン】
* クリーンルームドアシール
* 半導体製造装置のパネルシール
* 真空搬送システム

【導入の効果】
* 高いシール性による真空度の維持
* コンタミネーションのリスク低減
* 装置の安定稼働と製品品質の向上

半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の水質管理が非常に重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。当社の水質管理システム（濁度）は、超純水製造プロセスにおける濁度をリアルタイムで監視し、異常を早期に検知することで、高品質な製品製造をサポートします。

【活用シーン】
・超純水製造プロセスにおける濁度監視
・純水供給ラインにおける水質管理
・製造ラインへの異物混入リスクの低減

【導入の効果】
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
・製造コストの削減

研究開発分野では、実験の再現性が極めて重要であり、不純物の混入は実験結果に大きな影響を与えます。半導体製造プロセスにおいては、金属やパーティクルの混入がデバイスの性能劣化や歩留まり低下につながるため、高度な清浄度が求められます。当社の低メタル、低パーティクル化ソリューションは、これらの課題に対応し、研究開発における信頼性の向上に貢献します。

【活用シーン】
・半導体材料の研究開発
・半導体製造プロセスの評価
・金属汚染、パーティクル汚染が問題となる研究

【導入の効果】
・実験データの信頼性向上
・研究開発の効率化
・高品質な半導体製造への貢献

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・電子部品の洗浄
・製造装置の洗浄

【導入の効果】
・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減
・洗浄力の向上による品質向上
・ランニングコストの削減

半導体業界では、製造プロセスにおける不純物の混入を極限まで抑えるために、高品質な純水供給が不可欠です。純水の質は、製品の歩留まりや性能に直接影響するため、安定した供給と高い信頼性が求められます。グルンドフォスのポンプは、これらの要求に応えるべく、高い耐久性と省エネ性能を備え、半導体製造における純水供給の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造工場の純水供給システム
・研究開発施設における純水供給
・クリーンルーム内での純水循環

【導入の効果】
・安定した純水供給による歩留まり向上
・省エネ性能による運用コスト削減
・高い信頼性によるダウンタイムの最小化

半導体業界では、製造プロセスにおける超純水の品質が製品の歩留まりと性能を大きく左右します。特に、微細化が進む中で、ppm、ppbオーダーの微量な不純物の混入が、製品の品質劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。Muromac HGシリーズは、これらの課題に対応するため、高純度な超純水製造を可能にするイオン交換樹脂です。

【活用シーン】
* 半導体製造プロセスにおける超純水製造
* 電子材料薬品やプロセス液の高純度化

【導入の効果】
* ppm、ppbオーダーのイオン性不純物除去による製品品質向上
* 歩留まりの改善
* 安定した製造プロセスの実現

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。
基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。
従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。

【活用シーン】
・基板洗浄後の水切り工程
・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥
・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の完全省略による時間短縮
・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減
・生産ライン全体の効率化
・製品品質の向上

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。
基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。
従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。

【活用シーン】
・基板洗浄後の水切り工程
・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥
・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の完全省略による時間短縮
・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減
・生産ライン全体の効率化
・製品品質の向上

半導体製造のクリーン環境では、コンプレッサーから発生するドレンの適切な管理が求められます。ドレンは、製品の品質を損なうだけでなく、設備の腐食や故障の原因にもなり得ます。特に、微細な部品を扱う半導体製造においては、ドレンの混入は致命的な問題を引き起こす可能性があります。Grace-TRAPは、現場の運転条件に合わせて排出スケジュールを最適化することで、これらの問題を解決します。無駄なドレン排出を削減し、クリーン環境を維持します。

【活用シーン】
・半導体製造工場
・クリーンルーム
・精密機器製造

【導入の効果】
・クリーン環境の維持
・製品品質の向上
・設備の長寿命化
・エネルギーコストの削減

Sievers M9eは、独自のガス透過膜式導電率測定方式と幅広い測定範囲（0.03 ppb〜50 ppm）により、さまざまなアプリケーションに対応できます。オプションのターボモード（分析時間4秒）は回収水監視に役立ちます。
Sievers M9e の特長：
・機差のマッチング
・超低濃度域の安定性
・自動操作（校正 / 検証 / データ分析など）
・12か月の校正安定性
・用途に応じて選べる3モデル（ラボ型/ポータブル型/オンライン型）
・サンプル導電率測定機能（オプション）により、TOCと導電率を同時に測定できます
・オートサンプラー（オプション）により、最大63本（40mL）のサンプルを自動で分析できます。

超高感度検出：0.010～100 ppb B、定量下限0.030 ppb B
迅速な測定：3分または6分の測定サイクル
選べる流路構成：1流路／2流路モデル
直感的な操作：10.1インチのマルチカラータッチスクリーン
高い防塵・防水性能：IP45等級取得
多様な出力対応：アナログ出力、RS-232、Modbus TCP/IPなど

『ファインジェット』は、多彩な周波数を選択可能な洗浄ユニットです。

低出力から高出力までの安定した発振で枚葉洗浄の幅広いニーズに対応。
各種ウエハー基板洗浄や磁気ディスク、ウエハーのCMP後洗浄などの
用途に適しております。

また、耐薬品、メタルコンタミネーションフリーといった多彩なノズル
バリエーションがございます。

【特長】
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-010J50)
■多彩な周波数を選択可能(400kHz/1500kHz/3000kHz)
■多彩なノズルバリエーション：耐薬品、メタルコンタミネーションフリー
■検出機能強化：振動子劣化を検出可能(PT-010J50)
■通信機能強化：発振器状態の監視、外部設定(PT-010J50)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ファインソニック』は、均一な音圧を実現できる洗浄ユニットです。

1W刻みの安定した出力調整が可能。各種ウエハー基板洗浄や
各種フォトマスク、磁気ディスクなどに適しております。

また、最大出力アップで洗浄エリアの拡大に貢献します。
ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■均一な音圧を実現
■多彩な周波数を選択可能[750kHz/(1000kHz)/(1500kHz)/2000kHz]
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能
■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大
■通信機能：発振器状態の監視、外部設定(PT-150MV)
■各種規格対応(FCC,CE,RoHS)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ファインスコール』は、FPD用基板洗浄や各種ウエハー基板洗浄などに
適した洗浄ユニットです。

洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ。
きめ細やかなサイズバリエーションをご用意しております。

また、最大出力アップで、洗浄エリアの拡大及びコストダウンに貢献します。
ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■きめ細やかなサイズバリエーション
■洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-150MV)
■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大及びコストダウン
■通信機能：発振器状態の監視、外部設定
■各種規格対応(FCC,CE,RoHS)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

Scuba 3sは、残留塩素やpH、シアヌル酸など最大9項目の水質を簡単に測定できる、スマートで多機能な水質測定器です。プールやスパ、温浴施設などの水質管理における「簡単に測定したい」「スマホにデータを送りたい」といったニーズに応えます

〜概要〜
・フタにULPA又は、HEPAフィルターを内蔵し、クリーンエアーを導入することによりチャンバー内のクリーン度を飛躍的に向上。
・クレドールの交換により4〜8インチウエハーの乾燥が出来ます。12インチは2キャリアタイプまで。
・異常振動が発生した場合、自動的に停止します。

【用途に応じたラインアップ】
原水、RO水、回収水、UF/EDI、ユースポイントなど、各工程に対応

オンラインTOC計 Sievers M500eは、電子産業におけるSieversの長年の分析技術を発展させた、3世代目のオンラインTOC計です。Sieversの無試薬型ガス透過膜式導電率測定技術を採用し、TOC 1ppb未満の精度、再現性、安定性を実現しました。
●ガス透過膜式導電率測定方式で妨害イオンを除去
●無試薬測定のためランニングコストを大幅に削減
●分析時間を最大50％短縮（旧モデルと比較）

Sievers 500RLe型の後継機種です。
正確性、効率性を向上させ、安定した超純水（UPW）の生産をサポートします。

高温環境下にて、優れた耐熱性能を示します。
また、真空環境下でも、優れた低アウトガス性能を示します。

実績ございます。
詳細情報はお気軽にお問い合わせください。

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。

本ページでは、太陽電池用シリコン基板の切削粉を除去処理した際のデータ資料を掲載しております。

【特長】
■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減
■使用するのは「純水」のみ
■化学薬品の使用量を大幅に削減
■洗浄力を大幅に向上
■半導体用洗浄にも使用

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

ウェハーケース『Paragon series』は、独自のCOC材を使用した半導体容器（キャリアケース）です。

Paragonケースはカバーとボディに当社独自の材料を使用しており
従来のPPケース、PBTケースにはないカバーの透明性やボディーの
耐摩耗性に優れている製品があります。

世界最大級のファウンドリメーカーをはじめとする、多数のグロー
バル企業へ、長年に渡り長期採用されてきました。この実績は、
製品の信頼性と性能の高さを証明しています。
サイズは４，５，６，８インチ用をご用意しています。

【特長】
■透明カバーで保管キャリアの確認が可能
■カラーバリエーションあり
■耐摩耗性・耐薬品性
■帯電防止
■低アウトガス性
■高コストパフォーマンス

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

300mmウェハーを1枚のみ搬送する為のケースです。

『EHS型超純水加熱インラインヒーター』は、接液部には全てPFAを
使用したフッ素樹脂製の半導体用インダインヒーターです。

不純物の溶出がなく、低温設計ヒーターなので長寿命です。

また、コンパクトなので設置も容易に行えます。

【特長】
■フッ酸水の使用可
■常用最高使用圧力は0.4MPa
■常用最高使用温度は150℃
■ヒーター保護機能つき
■リモート制御が可能

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『TAS300 Type-4E』は、徹底した装置クリーン化設計と配線・配管部の
稼動時非接触を実現したFOUPロードポートです。

微小なバーティクル発生を極限まで抑制。PWP試験において
世界最高レベルとなっております。

またFOUPごとの微差(公差)に対応する独自機構が、FOUPとロードポート
の衝突を防ぎ、確実なラッチキー挿入で、高い互換性をも実現します。

【特長】
■業界最高レベルのクリーン度を実現
■高い互換性　各社FOUPに対応
■メンテナンス性を向上
■高信頼性・高耐久

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です。

【特徴】
○タンク容量：125L アイボリー塩ビ製
○ダイアフラムポンプ：10リットル毎分
○供給エア：85リットル毎分
○電源容量：AC100V 5A

日本エクシード株式会社は、主に半導体材料、酸化物材料、化合物材料、
金属材料の精密研磨加工及び洗浄を行っている会社です。

超平坦化技術・超薄化技術・超無歪み化技術・超清浄化技術・超平滑化
技術の5超の研磨技術を有し、すべての結晶材料の研磨加工を可能として
おります。

素材ごとに独自の加工技術を用いた比類ない精度と品質で、あらゆる素材
の研磨ニーズにお応えします。

【事業内容】
■半導体材料、酸化物材料、化合物材料、金属材料の精密研磨加工及び洗浄

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

中村科学器械工業株式会社にて取り扱う「電子フッ素化液」について、
ご紹介いたします。

日常洗浄、洗浄後のすすぎ、乾燥剤などや、オイル、グリース、ワックス、
フラックスなどの除塵洗浄、シリコン材料などの高精度な塗布用途に好適。

応用分野は、フッ素系クーラント液、電子洗浄剤、油取りなどです。
ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。

【規格指標(一部)】
■Name：Perfluoroisobutyl methylether＋Trans-1,2-dichloroethylene＋Ethanol
■Code：CFL71DA
■Benchmarking：3M Novec 71DA
■CAS：163702-08-7/156-60-5/64-17-5
■Vapor Pressure：50.8kPa(25℃)
■Appearance：Colorless

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー（研磨材）の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。

当社が行った、スラリーアームの洗浄前と洗浄後をご紹介しています。

今なら資料を無料進呈中！

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当カタログは、ミライアル株式会社が取り扱うウエハ出荷容器などの
半導体関連製品を掲載した総合カタログです。

長年培った高機能プラスチックの精密成形／加工技術をもとに、
主に半導体業界において製品展開を行っております。
お客様の用途に合わせた製品選定に、お役立てください。

【掲載製品】
■FOSB
■FOUP
■カセット
■ボックス
■出荷容器
■ハンドル
■その他

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

半導体や液晶パネルなどの製造工程において、回路に付着している余分な
化学物質を除去するために、不純物を極限まで除去した超純水で洗浄を行う
必要があります。

そこで、クリタグループでは超純水の供給サービスを新たに開始。

薬品・食品工場等で必要となる純水製造設備のメンテナンスをサポートし、
お客様の負担を軽減します。

【特長】
＜運転管理・メンテナンス＞
■クリタグループ内協業のもと、半導体・液晶工場における
　超純水製造プラントへ、高度な運転管理・メンテナンスサービスを提供

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

オールＰＴＦＥ製ですので、酸やアルカリ等の耐薬品性に優れております。

『D-Trans』は、ウェーハ持上げ時の過負荷監視、
トランスファー時の異常監視などによりウェーハを確実に保護する、
バッチ式ウェーハ移し換え機です。

ハンドリング時にモータを加減速制御し、ショックを最小として
発塵を防止します。

【特長】
■全ウェーハを一度に持ち上げ、キャリアからキャリアへ一括移載
■ウェーハ保持部はV溝形状としウェーハの端面だけをハンドリング
■最適速度制御により、短時間での移載が可能

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『ASM401N』は、高出力・長寿命型低圧水銀ランプを採用した
UVオゾン洗浄表面改質装置です。

スピーディな処理が可能で、熱処理と違い、ワークへの熱弊害を軽減します。
また、コンパクトな箱型設計で、設置エリアも少なく、設置も簡易です。

オゾン漏れや紫外線漏れの心配がなく、扉開時にはランプが消灯
する安全設計です。

【特長】
■コンパクト
■ローコスト
■安全設計
■取扱いと設置が簡単
■スピーディな処理

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

本装置は、シリコンウェハー，液晶ガラス基板，ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。

【特徴】
○純水加熱容器は石英ガラスを使用
○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用
○純水加熱に好適なカーボンヒーターを使用
○加熱効率が９６％以上
○PID制御による±1℃の安定した温度制御
○起動から使用温度まで120秒以内の昇温
○幅広い使用流量・温度に対応
○流量変化に対応した温度調整が可能

※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。
※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

ウェハーケース／ウェハー容器『プロトスキャリア』は、半導体ウェハーを安全かつ効率的に搬送できる製品です。

当社が培ってきたウェハー搬送のノウハウを基にデザインした梱包容器、
低パーティクル・低イオン素材を用いたスペーサー及び緩衝材を使用。

全ての材料に静電気対策が施されており、ANSI／ESD S541規格にも対応しています。

テストウェハーなどの小LOTからお客様のウェハー搬送をお手伝い致します。
3Ds-ICやレンズ実装などウェハーの表面に触れない非接触搬送や、
フィルムフレーム付ウェハーの搬送、GaN、化合物ウェハーの搬送など、
ウェハー搬送にお困りの際はぜひご相談下さい。

【特長】
■薄ウェハーも安全に搬送可能
■スペーサーは両面波状エンボス加工によりウェハーへの貼りつきを防止
■自動梱包装置に対応

※「PDFダウンロード」よりカタログ（英語版）をご覧いただけます。
　お問い合わせもお気軽にどうぞ。

当社では、Perlast社製の『ウェハハンドリング製品』を取り扱っております。

材料は、完全に有機物のみで構成されているため、ウェハとの接触時に
パーティクル汚染を起こしません。

また、エンドエフェクター・パッドをカスタムデザインすることができます。
このようなデザインにより、パッドが相手側ハードウェアに確実に捕捉され、
アッセンブリが簡単になります。

【特長】
■完全に有機物のみで構成
■ウェハとの接触時にパーティクル汚染を起こさない
■低接触力ソリューションを最適化
■エンドエフェクター・パッドをカスタムデザインできる
■パッドが相手側ハードウェアに確実に捕捉され、アッセンブリが簡単

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する
高周波超音波洗浄処理システムです。

半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。

ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを
ラインアップしています。

【特長】
■微細凹凸部のダストを超音波で除去
■400kHz～5MHzのトランスデューサを備える
■最小0.1μmからのパーティクルを除去
■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。

■表裏側面を同時に洗浄可能
■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等
■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談
■透明ウエハにも対応

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

シリコンウエハやフォトマスク、ＦＰＤ用ガラス基板等で使用実績のあるPVAスポンジ「BE-Fine」と、
吸水・吸液・洗浄などに使用されるPVAスポンジ「ベルイーターＤシリーズ」の2種類をラインアップ！

【ビーファインの特長】
■気孔生成剤フリーの新製法により清浄度を向上
■引張強度、引裂き強度など物理的強度にも優れた素材
■高い気孔率を実現し、ソフトな風合いを可能に！

【ベルイーターDシリーズの特長】
■ウエット状態(含水状態)では、柔軟性、弾力性を持ち、吸水性にも優れる
■気孔径のバリエーションが広く、目的に応じた品番選択が可能
■加工性にも優れている材料のため、様々な用途、分野で使用実績有

※詳細は、カタログをダウンロードしてご覧いただくか、
　お気軽にお問い合わせください。

単／多結晶ＰＶ製造において、粉塵及び粒子は従来の吸込真空フィルタをすぐに詰まらせてしまうことがあります。

当製品は、洗浄液中の液粒子に振動を与えて、発生する液粒子の移動する
加速度を利用し、洗浄対象物表面の汚れを剥離させる発振器です。

波長が短く、定在波に起因する洗浄ムラがなく、サブミクロンレベルの
超微細な汚れに対しても有効です。

超精密洗浄システムに不可欠な製品です。

【特長】
■洗浄対象物表面の汚れを剥離
■波長が短い
■洗浄ムラがない

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『TG REMOVE』は、アセトンベースの高性能ナノクリーナーです。

熱伝導グリスやCPU及びGPUに付着している残留物を効率的に除去することに
焦点を当てて開発されました。

また、従来の熱伝導グリスだけでなく、Conductonaut等の液体金属を
除去するディープクレンジング能力を持っています。

【特長】
■アセトンベース
■液体金属の除去に効果的
■Conductonaut等の液体金属を除去するディープクレンジング能力を有する
■脱脂効果による塗布面を最適化
■シビアな作業が要求される液状金属の塗布に効果的

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『DNCC-320』は、ガラス基板を流体で浮上移動させながら、
洗浄からリンス、乾燥処理まで行う洗浄装置です。

本来洗浄媒体である純水等で浮上させ且つ洗浄し、
垂直端面だけで駆動制御させ、川幅方面のサイズ変更も可能です。

従来のローラー搬送の様なスリップ等によるキズがガラス面に付かず
ガラス全面に洗浄液が均一に接触流水しスプレー洗浄の様なムラがありません。

【特長】
■ガラス基板にローラー痕ゼロ
■表面、裏面同時洗浄乾燥が可能
■薄板軽量基板（0.5t以下）の搬送に好適
■機能水＋超音波洗浄

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社が販売している超音波発生器のメーカー、KYUNG　IL　MEGASONIC(韓国）は創業以来１０年の製造経験を持ち、国内の半導体メーカーはもとより、欧米にも輸出実績を持っています。
特に、三星電子、及びHYNIXには、過去3年間で約３００台以上の
実績を誇り、装置の完成度の高さと、安定性には定評が
あります。 シリコンウェーハー、ガリウム砒素、ハードディスク、
液晶基板等の通常洗浄はもとより、45Nm以下の超微粒子の
除去も対応可能です。

純水系洗浄装置は、真空洗浄、QDRシステム、超音波洗浄、温純水低速引き上げ、真空乾燥システムなど優れたテクノロジーを組合せた洗浄システムです。あらゆる純水系洗浄システムに対応しておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問い合わせ下さい。

【ラインアップ】
■自動純水器
■純水再生ユニット
■自動BGA、CSP半導体洗浄装置
■6槽式純水洗浄装置
■自動NMP剥離装置など

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

『DACC-061-3L』は、4インチ（61mmx124mm）から7インチ
（140mmｘ200mm）のパターン付き小判ガラス両面の各種汚れを
洗浄除去する装置です。

洗浄液は一般の洗剤やクリーナーに含まれる界面活性剤や化学合成物質
BOD/CODなどの環境汚染物質の含有量がゼロの機能水を生成する装置を搭載。

成分の99.9%が純水でありながら合成洗剤と同等、
またはそれ以上の洗浄効果を発揮します。

【特長】
■ガラス基板にローラー痕ゼロ
■多品種生産対応可能
■優れた洗浄力
■機能水＋超音波洗浄

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。