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半導体製造装置・材料

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汚染物質の除去とは？課題と対策・製品を解説

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ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨工程で発生する微細な異物や化学物質による汚染を除去する技術です。高精度な半導体デバイスの製造には、ウェーハ表面の清浄度が極めて重要であり、この工程はその品質を保証する上で不可欠です。

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【半導体製造向け】マイクロバブル・ナノバブル発生装置 YJノズル

【半導体製造向け】マイクロバブル・ナノバブル発生装置 YJノズル
エンバイロ・ビジョン株式会社
半導体製造業界の精密洗浄においては、微細な汚れの除去と、洗浄液の効率的な使用が求められます。特に、高度な清浄度が要求される工程では、洗浄ムラや洗浄液の残留が製品の品質に影響を与える可能性があります。また、洗浄工程における廃水処理の負荷軽減も重要な課題です。YJノズルは、マイクロ・ナノバブルの力で汚れを効果的に除去し、精密洗浄の効率化と廃水処理の負荷軽減に貢献します。オゾンマイクロバブル洗浄での活用が広まっています。 【活用シーン】オゾンマイクロナノバブル洗浄など ＊精密部品の洗浄 ＊ウェハー洗浄 ＊製造ラインの洗浄 【導入の効果】 * 精密洗浄における洗浄効果の向上 * 洗浄液の使用量削減の可能性 * 廃水処理負荷の軽減
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【半導体製造向け】アルファクールNVシリーズ

【半導体製造向け】アルファクールNVシリーズ
出光興産株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの清浄度を維持することが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。切削油の腐敗やべたつきは、微細な部品への汚染を引き起こし、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。アルファクールNVシリーズは、耐腐敗性の向上により、清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造における切削・研削工程 ・クリーンルーム内での使用 ・精密部品加工 【導入の効果】 ・腐敗臭や油煙の抑制による作業環境の改善 ・製品へのべたつきを抑制し、清浄度を向上 ・切削油の交換頻度を減らし、廃棄コストを削減
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【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル

【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
エンバイロ・ビジョン株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・電子部品の洗浄 ・製造装置の洗浄 【導入の効果】 ・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減 ・洗浄力の向上による品質向上 ・ランニングコストの削減
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【半導体向け】真空用・クリーンルーム用膨張シール セフィリア

【半導体向け】真空用・クリーンルーム用膨張シール セフィリア
テクネティクス・グループ・ジャパン株式会社
半導体製造業界では、真空環境下での精密なプロセスが製品の品質を左右します。特に、真空封止は、コンタミネーションを防ぎ、高精度な製造を支える上で不可欠です。シール性能のわずかな劣化が、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。当社の膨張シールは、真空0.133Paから高圧まで、-50℃から+250℃の温度範囲に対応し、半導体製造における厳しい環境下での真空封止を強力にサポートします。 【活用シーン】 * クリーンルームドアシール * 半導体製造装置のパネルシール * 真空搬送システム 【導入の効果】 * 高いシール性による真空度の維持 * コンタミネーションのリスク低減 * 装置の安定稼働と製品品質の向上
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【半導体製造向け】ウェハー保護用エアロフィックス

【半導体製造向け】ウェハー保護用エアロフィックス
株式会社ナノテム
半導体製造業界において、ウェハー保護の工程では、微細な傷や汚染を防ぐための精密な固定が求められます。特に、薄くデリケートなウェハーを扱う際には、従来の真空チャック製品に見られるような、吸着面のエアー抜きの穴に素材が引き込まれて生じるたわみが、品質上の問題となるケースがありました。当社が提供する高精度多孔質セラミックス真空チャック『エアロフィックス』は、このような課題に対応するため開発されました。たわみのない部分吸着が可能で、ウェハーを安定的に固定し、保護します。 【活用シーン】 ・ウェハーの搬送・固定 ・精密な位置決めが必要な工程 【導入の効果】 ・ウェハーへのサクションマークの発生を抑制 ・デリケートな素材の安定した吸着
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【電池業界向け】高粘度スラリー対応ろ過装置

【電池業界向け】高粘度スラリー対応ろ過装置
株式会社荒井鉄工所
電池業界では、製品の性能を安定させるために、製造プロセスにおける異物混入の徹底的な排除が求められます。特に、電極材料やセパレータなどの製造工程では、スラリー中の微細な異物が電池の性能劣化や短寿命化を引き起こす可能性があります。当社の『W-CELL フィルター装置』は、高粘度スラリーでも安定したろ過を実現し、電池製造における粒度調整・異物除去に貢献します。 【活用シーン】 ・電極材料スラリーのろ過 ・セパレータ製造工程での異物除去 ・電池材料の分級ろ過 【導入の効果】 ・電池の性能安定化 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO

【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。微細な異物や不純物が混入した水は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。TW-020-SROはRO膜による高い浄水能力で、90～99％の分子レベルでの除去性能により、高品質な純水を供給し、半導体製造における洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部品の洗浄 ・製造設備の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生

【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
株式会社栄光
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。 再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施 異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。 既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。 （再生成績証明書の発行可能） ランニングコスト低減のお役に立ちます。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の洗浄工程 ・精密部品の洗浄 ・研究開発における純水利用 【導入の効果】 ・高品質な純水による製品品質の向上 ・ランニングコストの削減 ・安定した純水供給による生産効率の向上
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【半導体向け】Y型ストレーナー用スクリーンフィルター

【半導体向け】Y型ストレーナー用スクリーンフィルター
株式会社バンテック
半導体製造業界では、製品の品質を左右する異物混入対策が非常に重要です。特に、配管内の微細な異物は製品の歩留まりを低下させるだけでなく、製造装置の故障の原因にもなり得ます。Y型ストレーナーは、配管内の異物を除去し各機器を保護しますが、既存のフィルターではメッシュの粗さや細かさにより、異物が十分に除去できない、または目詰まりを起こすことがあります。そこで、当社ではお客様のニーズに合わせて、最適なメッシュのフィルターを製作いたします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における純水、薬液、ガスの清浄化 ・クリーンルーム内の配管システム ・各種製造装置の保護 【導入の効果】 ・異物混入による製品不良率の低減 ・製造装置の安定稼働 ・高品質な製品の安定供給
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【半導体向け】電気集塵機の点検、補修、改造（他社製の対応も可能）

【半導体向け】電気集塵機の点検、補修、改造（他社製の対応も可能）
住友金属鉱山エンジニアリング株式会社
半導体製造業界では、製品の品質を左右する微粒子の除去が極めて重要です。電気集塵機は、クリーンルーム環境を維持するために不可欠な設備ですが、その性能を最大限に発揮させるには、適切なメンテナンスが不可欠です。定期的な点検や補修、集塵極の更新を行うことで、微粒子除去効率の向上、歩留まりの改善、そして設備の長寿命化を実現できます。当社サービスは、これらの課題に対し、最適なソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム ・半導体製造工程 ・微粒子除去が必要な工程 【導入の効果】 ・微粒子除去効率の向上 ・歩留まりの改善 ・設備の長寿命化
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【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置

【半導体洗浄向け】大気圧プラズマ装置/低圧プラズマ装置
テクノアルファ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や有機物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェーハや基板の洗浄は、デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠です。プラズマ洗浄は、これらの課題に対し、高い洗浄力と材質への適合性を提供します。当社の低圧・大気圧プラズマ装置は、半導体製造における洗浄工程の最適化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ、基板の洗浄 ・有機物、異物の除去 ・表面改質による接着性向上 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【ディスプレイ製造向け】高純度薬品用SUSタンク

【ディスプレイ製造向け】高純度薬品用SUSタンク
ユニコントロールズ株式会社
ディスプレイ製造業界では、製品の品質を左右する異物混入を徹底的に排除することが求められます。特に、高純度薬品を使用する工程においては、コンタミネーションを防ぎ、製品の歩留まりを向上させることが重要です。当社の高純度薬品用SUSタンクは、クリーンな環境下での精密洗浄、検査、組み付け、クリーンパック包装まで対応し、お客様のクリーンルームで直ちに使用できる状態でお届けします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造における高純度薬品の保管 ・薬液供給工程 ・クリーンルーム内での使用 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品品質の向上 ・歩留まりの改善
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半導体用金型清掃向けオーダーメイドブラシ

半導体用金型清掃�向けオーダーメイドブラシ
株式会社共伸技研
半導体製造では、モールディング工程をはじめさまざまな工程で金型が使用されています。金型は品質を左右する重要な部品であり、安定した生産を維持するためには適切なメンテナンスが欠かせません。工業用ブラシメーカーの共伸技研では、半導体製造装置向けの金型清掃ブラシをオーダーメイドで設計・製作しています。実際にモールディング装置向けブラシの納入実績もあり、お客様の設備仕様や金型形状に合わせたご提案が可能です。半導体製造における金型清掃工程の改善をご検討の際はぜひご相談ください。
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【電子部品製造向け】高純度薬品用SUSタンク

【電子部品製造向け】高純度薬品用SUSタンク
ユニコントロールズ株式会社
電子部品製造業界では、製品の品質を左右する異物混入対策が重要です。特に、高純度薬品を使用する工程においては、コンタミネーションを防ぐための徹底した管理が求められます。異物の混入は、製品の不良や性能低下を引き起こし、歩留まりの悪化につながります。当社の高純度薬品用SUSタンクは、クリーンな環境下での精密洗浄、検査、組み付け、クリーンパック包装まで対応し、お客様のクリーンルームで直ちにご使用いただけます。 【活用シーン】 ・高純度薬品の保管 ・半導体製造工程 ・電子部品製造工程 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体クリーン環境向け】Grace-TRAP

【半導体クリーン環境向け】Grace-TRAP
日本精器株式会社
半導体製造のクリーン環境では、コンプレッサーから発生するドレンの適切な管理が求められます。ドレンは、製品の品質を損なうだけでなく、設備の腐食や故障の原因にもなり得ます。特に、微細な部品を扱う半導体製造においては、ドレンの混入は致命的な問題を引き起こす可能性があります。Grace-TRAPは、現場の運転条件に合わせて排出スケジュールを最適化することで、これらの問題を解決します。無駄なドレン排出を削減し、クリーン環境を維持します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場 ・クリーンルーム ・精密機器製造 【導入の効果】 ・クリーン環境の維持 ・製品品質の向上 ・設備の長寿命化 ・エネルギーコストの削減
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【半導体向け】プラント設備を止めない漏洩補修

【半導体向け】プラント設備を止めない漏洩補修
富士ファーマナイト株式会社
半導体製造業界の環境では、配管やバルブからの漏洩については、設備の停止を招き、生産効率を低下させるリスクがあります。富士ファーマナイトの漏洩補修技術は、プラントを停止することなく漏洩を封止し、稼働を維持します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の配管からの漏洩 ・半導体製造装置周辺のバルブからの漏洩 ・薬液配管からの漏洩 【導入の効果】 ・プラント停止による生産ロスの回避 ・製品品質の安定化
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【電子業界向け】バブルスクラバー

【電子業界向け】バブルスクラバー
株式会社テクネ計測
電子業界の洗浄工程では、高い清浄度が求められます。洗浄液やプロセスガスに含まれる酸性ガスや微粒子は、洗浄システムの性能を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を効果的に除去し、洗浄システムの信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・半導体製造工程 ・電子部品の洗浄工程 ・基板製造工程 【導入の効果】 ・洗浄液やガスの清浄度向上 ・システムのダウンタイム削減 ・製品の品質向上
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【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル

【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。 基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。 従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。 【活用シーン】 ・基板洗浄後の水切り工程 ・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥 ・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の完全省略による時間短縮 ・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減 ・生産ライン全体の効率化 ・製品品質の向上
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【半導体向け】超純水の水質監視装置

【半導体向け】超純水の水質監視装置
セントラル科学株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける超純水（UPW）の品質管理が、製品の歩留まりと品質を左右する重要な要素です。特に、微量のTOC（全有機炭素）やホウ素の混入は、半導体デバイスの性能に悪影響を及ぼす可能性があります。当社の水質監視装置は、これらの微量成分を高精度で連続的に監視し、UPWシステムの品質を維持します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場のUPWシステム ・原水、RO水、回収水、UF/EDI、ユースポイントなど、各工程 【導入の効果】 ・UPWの品質を安定化し、歩留まり向上に貢献 ・TOCやホウ素による製品不良のリスクを低減 ・製造プロセスの効率化とコスト削減
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【半導体製造向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体製造向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット

【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する異物除去が重要です。特に、微細な異物が混入すると、表示不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のラジカル洗浄ユニットは、OHラジカルを効率的に生成し、ディスプレイ製造工程における異物除去を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造工程での異物除去 ・フォトレジスト残渣の除去 ・金属汚染の抑制 【導入の効果】 ・高純度洗浄による品質向上 ・省スペース化によるコスト削減 ・環境負荷低減
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【電子材料向け】CAS型エアセパレータ

【電子材料向け】CAS型エアセパレータ
株式会社増野製作所
電子材料業界では、製品の品質を左右する微粒子の制御が重要です。特に、高純度な材料を扱う場合、不純物の混入は製品の性能を著しく低下させる可能性があります。CAS型エアセパレータは、45μm～150μmの範囲で分級点を設定でき、遠心力と循環旋回気流を利用することで、効率的に微粒子を分級します。これにより、電子材料の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料製造における異物除去 ・高純度材料の分級 ・微粒子サイズの精密な制御 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・品質の安定化 ・付帯設備が不要なため、イニシャルコストの削減
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【電子材料向け】メカニカルシール撹拌機 KZF-Mシリーズ

【電子材料向け】メカニカルシール撹拌機 KZF-Mシリーズ
ユニコントロールズ株式会社
電子材料業界では、材料の品質を維持するために、コンタミネーションを最小限に抑え、均一な混合が求められます。特に、精密な電子部品製造においては、材料のわずかな異物混入や混合ムラが、製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。メカニカルシール撹拌機 KZF-Mシリーズは、シャフトとシールの摺動面をなくすことでコンタミ発生を抑制し、高品質な材料混合を可能にします。 【活用シーン】 ・高純度材料の撹拌 ・加圧環境下での撹拌 【導入の効果】 ・コンタミのリスクを低減 ・材料の品質向上 ・製品の歩留まり向上
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【液晶パネル製造向け】高精度多孔質セラミックス真空チャック

【液晶パネル製造向け】高精度多孔質セラミックス真空チャック
株式会社ナノテム
液晶パネル製造業界やガラス基板の固定においては、精密な位置決めと安定した吸着が求められます。特に、薄くデリケートなガラス基板を取り扱う際には、均一で確実な吸着力が不可欠であり、わずかなズレや衝撃が製品の品質に影響を与える可能性があります。また、製造工程における環境変化（ドライ、ウェット、高温）への対応も重要となります。高精度多孔質セラミックス真空チャック『エアロフィックス』は、これらの課題に対し、高性能・高精度な均一吸着力で応えます。 【活用シーン】 ・ガラス基板の固定 ・精密な位置決めが必要な工程 ・ドライ、ウェット、高温環境下での使用 【導入の効果】 ・ガラス基板の安定した固定による品質向上 ・製造工程の効率化 ・幅広い環境下での使用による汎用性の向上
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【電子部品向け】ステンレスメッシュフィルター

【電子部品向け】ステンレスメッシュフィルター
株式会社バンテック
電子部品業界では、製品の信頼性と性能維持のために冷却効率の向上が求められます。特に、高密度実装が進む中で発熱による部品の劣化を防ぐことは重要な課題です。不適切な冷却は、部品の故障や性能劣化につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、異物濾過と同時に冷却効率を高めることで、電子部品の長寿命化に貢献します。 【活用シーン】 ・電子機器の冷却システム ・半導体製造装置 ・電源ユニット 【導入の効果】 ・異物の混入を防ぎ、冷却システムの性能を維持 ・冷却効率の向上による部品の長寿命化 ・オーダーメイド対応による最適なフィルタリング
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【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ

【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ
ケーザー・コンプレッサー株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、コンプレッサーから排出される凝縮水の管理が重要です。特に、精密な製造工程においては、凝縮水による汚染や、それによる装置の故障は、生産効率の低下や製品品質の劣化につながる可能性があります。エコ・ドレンシリーズは、空気損失なく安全で信頼性の高い凝縮水排水を実現し、半導体製造における高い品質基準をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内でのコンプレッサー設置場所 ・精密機器製造ライン ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・凝縮水による汚染リスクの低減 ・装置の安定稼働 ・製品品質の向上
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【半導体向け】フェルールライニングパイプ 送液中の流体を保持する

【半導体向け】フェルールライニングパイプ 送液中の流体を保持する
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
半導体製造業界では、製品の品質を左右する純水の清浄度が重要です。配管材からの不純物の混入は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。当社のフェルールライニングパイプは、全面接液PFA/PTFEライニングにより、純水への不純物溶出を抑制し、高い安全性を実現します。 【活用シーン】 * 純水製造装置 * 半導体製造プロセス * クリーンルーム内配管 【導入の効果】 * 純水供給システムの信頼性向上 * 製品品質の安定化 * メンテナンスコストの削減
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【半導体製造向け】水質監視システム

【半導体製造向け】水質監視システム
グリッドリンク株式会社
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の水質管理が重要です。特に、不純物の混入は、製造プロセスに悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品不良の原因となります。本システムは、超純水の濁度、色度、残留塩素をリアルタイムで監視し、異常を早期に発見することで、高品質な製品製造を支援します。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセス ・純水供給ライン ・水質管理の自動化 【導入の効果】 ・製品品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製造プロセスの安定化
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【半導体製造向け】SUS ステンレス パイプ

【半導体製造向け】SUS ステンレス パイプ
株式会社ハギテック
半導体製造業界では、薬液の正確な供給が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細な回路形成においては、薬液の純度を保ちながら、正確な流量制御が求められます。不適切なパイプの使用は、薬液の汚染や流量の不安定さを引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のSUS304パイプは、耐薬品性に優れ、精密な薬液供給を可能にします。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・高純度薬液の輸送 ・微細加工における薬液塗布 【導入の効果】 ・薬液の純度を維持 ・安定した流量供給 ・歩留まり向上
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【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工

【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工
NPO諏訪圏ものづくり推進機構
半導体業界では、微細な部品の製造において、表面の清浄度と精密な形状が求められます。特に、クリーンな環境下での製造においては、研磨加工による微細なバリや異物の除去が重要です。これらの不具合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の超精密特殊鏡面研磨技術は、形状に沿って粗い面を鏡面に仕上げ、エッジを損なうことなく微細なバリを取り除くことが可能です。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での半導体部品の研磨 ・微細加工部品のバリ取り ・試作部品の鏡面仕上げ 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・異物混入のリスク低減
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【CMP工程向け】超音波メガソニック洗浄装置

【CMP工程向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
CMP工程では、ウェーハ表面のスラリー除去が、製品の品質に影響を与える重要なプロセスです。ウェーハ表面に残存したスラリーは、後工程での欠陥や歩留まりの低下につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、高い洗浄力と均一な洗浄を実現し、CMP工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・CMP工程におけるスラリー除去 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【半導体クリーンルーム向け】PFA樹脂製フローサイト GL管代替

【半導体クリーンルーム向け】PFA樹脂製フローサイト GL管代替
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
半導体業界のクリーンルーム環境では、微細な異物混入が製品の品質を大きく左右します。特に、製造プロセスで使用される流体の目視確認を行うサイトグラスの破損は、異物混入のリスクを高め、重大な問題を引き起こす可能性があります。当社のPFA樹脂製フローサイトは、ガラス製の代替品として、破損による異物混入リスクを大幅に低減します。高い透明度を持つPFA素材により、流体の目視確認を容易にし、製造プロセスの品質管理を向上させます。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の配管 ・高純度薬品を使用するライン ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製造プロセスの安定化 ・製品品質の向上 【適合規格】 ・食品衛生法
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【電子部品向け】安全を確保した化学吸着剤

【電子部品向け】安全を確保した化学吸着剤
株式会社ジェイエムエス
電子部品業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、製造工程における環境管理が重要視されます。特に、洗浄工程においては、微細な汚染物質の除去が製品の性能に直接影響を与えます。不適切な環境下での洗浄は、部品の故障や性能低下の原因となり得ます。当社の化学吸着剤「Purafil SP」は、酸化材に過マンガン酸ナトリウムを使用し、従来の過マンガン酸カリウム製剤と比較して酸化剤の充填量を増やし、酸化力を強化しています。安全性を確保しながら、窒素酸化物、ホルムアルデヒド、亜硫酸ガスなどを酸化反応で除去し、洗浄工程における環境を清浄に保つことが可能です。 【活用シーン】 ・電子部品の洗浄工程における空気清浄 ・製造ライン周辺のガス除去 ・クリーンルーム内の環境維持 【導入の効果】 ・洗浄工程における汚染リスクの低減 ・製品の品質安定化 ・製造環境の改善
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【半導体向け】高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』

【半導体向け】高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』
ニチダイフィルタ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の混入が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高純度なシリコンウェーハの製造や、微細加工技術においては、空気中の微粒子や液中の不純物を徹底的に除去し、清浄度を維持することが不可欠です。異物の混入は、デバイスの性能低下や短絡、断線といった致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』は、半導体製造プロセスにおける清浄度管理の課題に応えるために開発されました。 【活用シーン】 ・薬液製造ライン ・薬液供給ライン ・ガス供給ライン ・各種製造装置 【導入の効果】 ・異物混入による歩留まり低下を抑制 ・製品の品質向上 ・ランニングコストの削減 ・メンテナンス性の向上
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【半導体向け】アキュームレーターフィルター

【半導体向け】アキュームレーターフィルター
株式会社バンテック
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の清浄度が重要です。超純水中に混入する微細な異物は、製品の歩留まりを低下させるだけでなく、製造装置の故障の原因にもなり得ます。アキュームレーターフィルターは、超純水中の不純物を効果的に除去し、高品質な製品製造をサポートします。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセス ・半導体製造装置 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製造装置の安定稼働 ・高品質な製品の安定供給
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【半導体製造向け】洗浄性にも優れたロータリーポンプ

【半導体製造向け】洗浄性にも優れたロータリーポンプ
株式会社ナカキン
半導体製造業界では、製造プロセスの品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、微細な回路を形成する工程においては、薬液の純度を保ち、異物の混入を防ぐことが重要です。不適切な薬液供給は、製品の歩留まり低下や品質不良につながる可能性があります。ナカキンのロータリーポンプは、非接触でありながら自吸力があり、定量性に優れているため、薬液供給に最適です。 【活用シーン】 ・薬液の移送 ・純水供給 ・各種洗浄液供給 【導入の効果】 ・薬液の純度を維持 ・安定した供給量の確保 ・異物混入のリスク低減
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【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型

【半導体向け】RO純水製造装置スキッド型
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。特に、微細な回路を扱う半導体製造においては、不純物の混入は製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースを有効活用し、高純度な純水を安定供給することで、半導体製造における洗浄工程の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・製造装置の洗浄 ・各種試薬の希釈 【導入の効果】 ・洗浄工程における異物混入リスクの低減 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【電子部品向け】ラベルプリンター【Bepop】ロット管理に！

【電子部品向け】ラベルプリンター【Bepop】ロット管理に！
マックス株式会社
電子部品業界では、製品のトレーサビリティ確保のため、正確なロット管理が求められます。特に、製造から出荷までの各工程で、正確なロット情報を記録し、迅速に識別できる表示が必要です。不適切な表示や管理は、誤出荷や品質問題につながるリスクを高めます。ラベルプリンター【Bepop】は、現場で必要なロット管理ラベルを、必要な時に必要な数だけスピーディに作成できます。 【活用シーン】 ・製造ラインでの部品識別 ・在庫管理におけるロット番号表示 ・出荷時の製品トレーサビリティ確保
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【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
ガラス表面処理業界では、高品質な表面処理を実現するために、基材の徹底的な洗浄が不可欠です。特に、異物や油分が残っていると、その後のコーティングや加工の品質を著しく損なう可能性があります。洗浄ムラや洗浄力の不足は、製品の不良や歩留まりの低下につながります。ファインジェットは、多彩な周波数を選択できるため、ガラス基板の特性や表面処理工程に最適な洗浄条件を設定できます。 【活用シーン】 ・ガラス基板のCMP後洗浄 ・各種ガラス基板洗浄 ・表面処理前処理 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・表面処理工程の効率化
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【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット

【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおける微量な水分管理が重要です。特に、炉内雰囲気ガス中の水分は、製品の歩留まりや信頼性に悪影響を及ぼす可能性があります。TKZH008電子冷却式ドライヤーユニットは、炉内雰囲気ガス中の水分を効率的に除去し、製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における炉内雰囲気ガスの精密乾燥 ・露点管理が必要なガス供給ライン ・クリーンルーム内での使用 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製品の信頼性向上 ・製造コストの削減
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【半導体製造装置向け】ダイヤモンド・CBN工具 HORN

【半導体製造装置向け】ダイヤモンド・CBN工具 HORN
株式会社IZUSHI
半導体製造装置の真空チャンバーにおいては、微細な加工精度と清浄度が求められます。特に、真空環境下での部品の密閉性や機能維持には、表面の平滑性や異物混入の防止が重要となります。不十分な加工は、装置の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社ダイヤモンド・CBN工具 HORNは、これらの要求に応えるための精密加工をサポートします。 【活用シーン】 ・真空チャンバー部品の精密加工 ・高精度が求められる半導体製造装置部品の仕上げ ・異物混入リスク低減が必要な箇所への適用 【導入の効果】 ・加工面の平滑性向上による気密性維持 ・微細加工による部品精度の向上 ・歩留まり向上への貢献
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【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター

【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター
日本フィルトレーショングループ株式会社
半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、高度な清浄化が不可欠です。特に、微細な粒子や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。グローバルフィルターのカートリッジフィルターは、これらの課題に対し、高いろ過性能と幅広い製品ラインナップで対応します。トータルコストの削減にも貢献します。 【活用シーン】 ・純水、薬液、現像液などのろ過 ・製造工程における異物除去 ・クリーンルーム内の空気清浄化 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【電子材料精製向け】粉体コンテナシステム

【電子材料精製向け】粉体コンテナシステム
赤武エンジニアリング株式会社
電子材料業界の精製工程では、材料の純度を保ちながら、効率的に粉体をハンドリングすることが求められます。異物混入やコンタミネーションを防ぎ、正確な計量と排出を行うことが、製品の品質と歩留まりを向上させるために不可欠です。当社の粉体コンテナシステムは、これらの課題に対応し、電子材料の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料の精製工程における粉体の貯留、搬送、計量、排出 ・ロット管理によるトレーサビリティの確保 ・自動化による省人化と作業環境の改善 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減による製品品質の向上 ・計量精度の向上による歩留まりの改善 ・作業効率の向上と作業者の負担軽減
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【半導体向け】Magrevリニア搬送システム

【半導体向け】Magrevリニア搬送システム
株式会社イトー
半導体業界では、製造工程の効率化とクリーン環境の維持が不可欠です。高速搬送は、生産性の向上に直結し、高品質な製品を安定的に供給するために重要です。従来の搬送システムでは、摩耗粉やオイルによる汚染のリスクがありましたが、Magrevリニア搬送システムは、非接触搬送により、これらの問題を解決します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での高速搬送 ・ウェーハ、基板、部品の搬送 ・組み立て工程における高速搬送 【導入の効果】 ・タクトタイムの短縮 ・クリーン環境の維持 ・レイアウト変更への柔軟な対応 ・製品品質の向上
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【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』

【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』
株式会社タカトテクニカ
半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。 【活用シーン】 * 半導体製造工程における薬液供給 * ウェーハ洗浄 * 基板洗浄 【導入の効果】 * 薬液供給の安定化による品質向上 * 低騒音化による作業環境の改善 * コンパクト設計による省スペース化
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【半導体製造向け】オメガエア 圧縮空気浄化製品

【半導体製造向け】オメガエア 圧縮空気浄化製品
株式会社シー・エス・シー
半導体製造業界では、微細な異物混入を防ぎ、高い清浄度を維持することが製品の信頼性向上に不可欠です。特に、製造プロセスにおける圧縮空気の品質は、微細なダストや水分、油分などが製品に付着し、歩留まり低下や不良の原因となる可能性があります。エアの品質を見直すことは、製品品質の向上に直結します。当社のオメガエア圧縮空気浄化製品は、これらの課題に対応し、クリーンな圧縮空気を提供します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での精密機器へのエア供給 ・微細な部品の洗浄・乾燥工程 ・塗装・コーティング工程 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製造ラインのトラブル低減 ・設備機械の耐用年数向上
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【半導体向け】視認性・耐薬品性・柔軟性を一体化 PFAホース

【半導体向け】視認性・耐薬品性・柔軟性を一体化 PFAホース
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
半導体製造プロセスでは、薬液の品質管理が製品の歩留まりを大きく左右します。特に、高純度な薬液を扱う際には、コンタミネーションのリスクを最小限に抑え、薬液の状態を常に把握できることが重要です。TH50は、高い内面視認性により、薬液の流れを目視で確認でき、異物混入や異常を早期に発見できます。PFAの耐薬品性と、プラチナシリコーンの柔軟性を兼ね備え、多様な温度条件下での使用にも対応します。 【活用シーン】 ・薬液供給ライン ・純水供給ライン ・各種洗浄液供給 【導入の効果】 ・薬液の品質維持 ・プロセスの安定化 ・メンテナンス性の向上 【主な適用業界】 ■食品・醸造・飲料・調味料 ■医薬品・化粧品・化成品 ■電子材料・半導体・超純水 【機能】 ■負圧吸引 ■視認性 ■耐油 ■非粘着 ■防臭
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【半導体関連部材向け】高純度シリカ SiO2

【半導体関連部材向け】高純度シリカ SiO2
共立マテリアル株式会社
光学・電子・ガラス材料分野などでお使いいただける『高純度シリカ』を取り扱っております。 品位や粒度の異なる各種グレードを取り揃えております。 鉄やチタン、重金属等の含有量を抑えた商品がございますので、用途やご要望に応じた最適な材料提案が可能です。 ■強み 弊社はメーカー機能兼ね備えた販売店です。 サプライヤーの分析値のみならず、原料メーカーという強みを活かしEC測定・誘電率・化学分析・粒度測定が可能です。 各ご要望に応じて適切に対応させていただいております！ ■ 取扱製品　産地：豪州・インド・中国 　・珪石 　・珪砂 　・高純度シリカ ■用途 　・液晶パネル用ガラス（テレビ、スマホ、タブレット） 　・強化ガラス 　・半導体封止材 　・半導体関連部材（サポートガラス、石英つるぼ etc.） 　・電子部材 　・光学レンズ
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【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG

【半導体製造向け】インド産 アンモニア水（29%）EG
興和株式会社
半導体製造業界では、ウェーハの微細加工に伴い、異物や金属イオンの混入が製品の品質を大きく左右します。洗浄工程では、これらの不純物を徹底的に除去し、高い清浄度を維持することが求められます。不適切な洗浄は、歩留まりの低下やデバイスの性能劣化につながる可能性があります。当社のインド産アンモニア水（29%）Electronic Gradeは、RO＋DM処理による超純水プロセスを採用し、ppm〜ppbレベルでの不純物除去を実現。半導体製造における高品質な洗浄をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ洗浄 ・電子部品製造 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・高い洗浄力による歩留まり向上 ・金属不純物によるデバイスへの影響を抑制 ・クリーンルーム環境での安定した使用
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ウェーハの研磨における汚染物質の除去

ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨工程で発生する微細な異物や化学物質による汚染を除去する技術です。高精度な半導体デバイスの製造には、ウェーハ表面の清浄度が極めて重要であり、この工程はその品質を保証する上で不可欠です。

​課題

微細異物の残留

研磨時に発生する微細な粒子がウェーハ表面に付着し、後工程での欠陥原因となる。

化学的汚染の拡散

研磨液に含まれる化学物質や、装置からの溶出物がウェーハ表面に残り、電気特性に悪影響を与える。

除去効率の限界

従来の洗浄方法では、ナノレベルの微細な汚染物質を完全に除去することが困難な場合がある。

処理時間の増大

汚染物質の除去に時間を要し、製造ライン全体の生産性を低下させる要因となる。

​対策

高純度洗浄液の適用

不純物を極限まで排除した特殊な洗浄液を使用し、化学的汚染を抑制する。

超音波・マイクロバブル洗浄

微細な気泡や超音波の物理的な力を利用して、ウェーハ表面の異物を効率的に剥離・除去する。

プラズマ洗浄技術

低ダメージのプラズマを用いて、有機物や無機物の汚染を化学的に分解・除去する。

自動化されたリンス・乾燥

汚染物質の再付着を防ぐための精密なリンスと、均一で迅速な乾燥プロセスを自動化する。

​対策に役立つ製品例

高純度洗浄剤

微量の金属イオンや有機物を含まない特殊配合により、ウェーハ表面への汚染物質の付着を最小限に抑える。

精密洗浄装置

超音波やマイクロバブル発生機構を備え、ウェーハ表面の微細な凹凸に入り込み、効率的に異物を除去する。

プラズマ処理システム

ウェーハ表面の汚染物質を化学的に分解し、揮発性物質として除去することで、高い清浄度を実現する。

自動リンス乾燥ユニット

洗浄後のウェーハを汚染させずに、均一かつ迅速に乾燥させることで、工程間の品質を維持する。

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回路・パターン設計

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

フォトマスク作成

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

シリコンインゴット切断

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

ウェーハ表面の酸化

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

薄膜形成

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

フォトレジスト塗布

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

露光・現像

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

エッチング

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

レジスト剥離・洗浄

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

イオン注入

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

平坦化

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

電極形成

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

ウェーハ検査

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

ダイシング

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

ワイヤーボンディング

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

モールディング

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去

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