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半導体製造装置・材料

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半導体製造装置・材料

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汚染物質の除去とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
界面特性の向上
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
界面特性の向上
リーク電流の抑制

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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検査・測定装置
材料
自動化・ITソリューション
製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
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ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨工程で発生する微細な異物や化学物質による汚染を除去する技術です。高精度な半導体デバイスの製造には、ウェーハ表面の清浄度が極めて重要であり、この工程はその品質を保証する上で不可欠です。

各社の製品

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【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル

【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。 基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。 従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。 【活用シーン】 ・基板洗浄後の水切り工程 ・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥 ・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の完全省略による時間短縮 ・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減 ・生産ライン全体の効率化 ・製品品質の向上
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【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル

【電子機器向け】100％水切りできるエアーノズル
ピュアトラスト株式会社
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 電子機器業界、特に基板洗浄においては、徹底的な水切りと乾燥が製品の品質と信頼性を左右します。 基板に残った水分は、腐食や絶縁不良を引き起こし、製品寿命を縮める原因となります。 従来の乾燥工程は時間とコストがかかり、生産効率を低下させる要因となっていました。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで基板を完全に水切り・その場で完全乾燥させることが可能。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産ライン全体の効率化を実現します。 【活用シーン】 ・基板洗浄後の水切り工程 ・電子部品製造における精密洗浄後の乾燥 ・クリーンルーム内での乾燥工程（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の完全省略による時間短縮 ・乾燥設備、ランニングコスト、人員コストの削減 ・生産ライン全体の効率化 ・製品品質の向上
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【半導体向け】真空用・クリーンルーム用膨張シール セフィリア

【半導体向け】真空用・クリーンルーム用膨張シール セフィリア
テクネティクス・グループ・ジャパン株式会社
半導体製造業界では、真空環境下での精密なプロセスが製品の品質を左右します。特に、真空封止は、コンタミネーションを防ぎ、高精度な製造を支える上で不可欠です。シール性能のわずかな劣化が、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。当社の膨張シールは、真空0.133Paから高圧まで、-50℃から+250℃の温度範囲に対応し、半導体製造における厳しい環境下での真空封止を強力にサポートします。 【活用シーン】 * クリーンルームドアシール * 半導体製造装置のパネルシール * 真空搬送システム 【導入の効果】 * 高いシール性による真空度の維持 * コンタミネーションのリスク低減 * 装置の安定稼働と製品品質の向上
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【半導体向け】プラント設備を止めない漏洩補修

【半導体向け】プラント設備を止めない漏洩補修
富士ファーマナイト株式会社
半導体製造業界の環境では、配管やバルブからの漏洩については、設備の停止を招き、生産効率を低下させるリスクがあります。富士ファーマナイトの漏洩補修技術は、プラントを停止することなく漏洩を封止し、稼働を維持します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の配管からの漏洩 ・半導体製造装置周辺のバルブからの漏洩 ・薬液配管からの漏洩 【導入の効果】 ・プラント停止による生産ロスの回避 ・製品品質の安定化
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【電子材料向け】オクトマット

【電子材料向け】オクトマット
赤武エンジニアリング株式会社
電子材料業界では、製品の品質を左右する粉体の計量精度が重要です。特に、高純度な材料を扱う場合、コンタミネーションを防ぎ、正確な計量を行うことが求められます。従来のフレコンバッグからの粉体取り出し方法では、粉塵の発生や計量時の誤差が生じやすく、作業環境の悪化や製品不良のリスクがありました。オクトマットは、フレコンバッグ上部から直接粉粒体を取り出すことで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・電子材料製造における原料の精密計量 ・クリーンルーム内での粉体供給 ・粉塵対策が必要な環境での作業 【導入の効果】 ・計量精度の向上 ・作業環境の改善 ・製品品質の安定化 ・作業効率の向上
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【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO

【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO
株式会社トップウォーターシステムズ
半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。微細な異物や不純物が混入した水は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。TW-020-SROはRO膜による高い浄水能力で、90～99％の分子レベルでの除去性能により、高品質な純水を供給し、半導体製造における洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部品の洗浄 ・製造設備の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子材料向け】超音波粉体ふるい器で純度向上

【電子材料向け】超音波粉体ふるい器で純度向上
ユーシー・ジャパン株式会社
電子材料業界では、製品の品質を左右する粉体の純度管理が重要です。異物混入は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながるため、粉体ふるい工程における確実な異物除去が求められます。当社の超音波粉体ふるい器は、目詰まりや付着といった問題を解決し、粉体ふるい工程の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料製造における粉体ふるい工程 ・ハイメッシュふるいによる微細粉体の分級 ・異物混入を防ぎ、製品の品質を向上 【導入の効果】 ・粉体ふるい工程の効率化による時間短縮 ・異物除去による製品品質の向上 ・歩留まりの改善
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【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型

【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型
株式会社トップウォーターシステムズ
電子部品業界の精密製造においては、洗浄、めっき、その他製造工程において、不純物のない高純度な水が不可欠です。不純物が混入すると、製品の品質低下や歩留まりの悪化を招く可能性があります。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースでも高純度のRO純水を供給し、電子部品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密電子部品の洗浄工程 ・半導体製造における薬液調整 ・電子部品製造工場の冷却水 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【半導体向け】超純水の水質監視装置

【半導体向け】超純水の水質監視装置
セントラル科学株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける超純水（UPW）の品質管理が、製品の歩留まりと品質を左右する重要な要素です。特に、微量のTOC（全有機炭素）やホウ素の混入は、半導体デバイスの性能に悪影響を及ぼす可能性があります。当社の水質監視装置は、これらの微量成分を高精度で連続的に監視し、UPWシステムの品質を維持します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場のUPWシステム ・原水、RO水、回収水、UF/EDI、ユースポイントなど、各工程 【導入の効果】 ・UPWの品質を安定化し、歩留まり向上に貢献 ・TOCやホウ素による製品不良のリスクを低減 ・製造プロセスの効率化とコスト削減
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【電子業界向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター

【電子業界向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター
日本フィルトレーショングループ株式会社
電子業界では、半導体製造プロセスにおいて、超純水の清浄度が製品の品質を左右します。微粒子や微生物などの不純物は、製品の歩留まりを低下させるだけでなく、性能劣化や故障の原因にもなります。グローバルフィルターのカートリッジフィルターは、これらの課題に対し、高いろ過性能で超純水の清浄度を維持し、安定した製品品質をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造 ・液晶パネル製造 ・電子部品洗浄 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製品の品質安定化 ・製造コストの削減
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【半導体クリーンルーム向け】ネオマパイプカバー

【半導体クリーンルーム向け】ネオマパイプカバー
旭化成建材株式会社
半導体製造のクリーンルーム環境では、微細な塵埃や水分の混入が製品の品質に深刻な影響を与える可能性があります。配管からの結露は、カビや細菌の発生源となり、クリーンルームの清浄度を損なう大きな要因です。ネオマパイプカバーは、トップレベルの断熱性能により、配管表面での結露発生リスクを低減し、クリーンな環境を維持します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の配管 ・半導体製造装置の冷却水配管 ・空調設備の配管 【導入の効果】 ・結露によるカビや細菌の発生を抑制 ・クリーンルームの清浄度を維持 ・製品の品質向上に貢献
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【半導体材料向け】ウェーハ表面のゼータ電位測定

【半導体材料向け】ウェーハ表面のゼータ電位測定
大塚電子株式会社
CMPプロセスにおいては、ウェーハ表面の清浄度維持が製品の品質を左右する重要な要素です。CMPスラリーとウェーハ間の静電的な相互作用を理解し、最適化することは、パーティクルの再付着を防ぎ、高い洗浄効果を得るために不可欠です。当社の固体表面のゼータ電位測定は、CMPスラリーとウェーハのゼータ電位を測定し、静電相互作用を評価することで、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・CMPスラリーとウェーハの静電相互作用評価 ・洗浄条件の最適化 ・パーティクル再付着防止 【導入の効果】 ・CMPプロセスの効率化 ・ウェーハ表面の清浄度向上 ・製品の品質向上
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【電子部品向け】超音波振動ふるい機 Artechウルトラソニック

【電子部品向け】超音波振動ふるい機 Artechウルトラソニック
ケイエスリンクス株式会社
電子部品業界では、微細な粉体の高純度化が製品の性能と信頼性を左右します。微細な異物混入は、部品の故障や性能低下に直結する可能性があります。そのため、高精度な選別とコンタミ防止が不可欠です。『Artechウルトラソニック』は、超音波発振子を接粉部外に設置することで、コンタミ混入リスクを低減し、ミクロン単位の微粉体選別において高い能力を発揮します。 【活用シーン】 ・高純度が求められる電子材料の製造プロセス ・微細粉体の異物除去 ・精密な粒子径分布の制御 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・不良率の低減
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【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット

【ディスプレイ向け】ラジカル洗浄ユニット
株式会社プレテック　静岡製作所
ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する異物除去が重要です。特に、微細な異物が混入すると、表示不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のラジカル洗浄ユニットは、OHラジカルを効率的に生成し、ディスプレイ製造工程における異物除去を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造工程での異物除去 ・フォトレジスト残渣の除去 ・金属汚染の抑制 【導入の効果】 ・高純度洗浄による品質向上 ・省スペース化によるコスト削減 ・環境負荷低減
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【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO

【電子部品製造向け】中型RO純水装置 TW-300-LRO
株式会社トップウォーターシステムズ
電子部品製造業界では、製品の品質を左右する洗浄工程や、製造プロセスにおける純水の利用が不可欠です。特に、微細な回路や精密部品の製造においては、不純物の混入は製品の性能劣化や不良品の発生につながる可能性があります。TW-300-LROは、RO（逆浸透膜）方式により原水中の有機物・無機物・微生物等を90～99%除去、高純度な水を安定供給し、電子部品製造における品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品の洗浄工程 ・製造プロセスにおける純水供給 ・研究開発用途 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・安定した製造プロセスの実現
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【半導体製造向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体製造向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】アドロンコーティング | 高純度環境対応

【半導体向け】アドロンコーティング | 高純度環境対応
株式会社フロロコート
半導体業界では、製造プロセスにおけるコンタミネーションの抑制が極めて重要です。高純度な環境を維持し、製品の品質と歩留まりを向上させるために、部材の表面処理は重要な要素となります。アドロンコーティングは、フッ素樹脂の持つ優れた特性を活かし、高純度環境下での使用に最適なコーティングを提供します。くっつきにくさにより、異物の付着を防ぎ、清浄度を維持します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・高純度試薬容器 【導入の効果】 ・コンタミネーションのリスク低減 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【半導体製造向け】迅速流体継ぎ手

【半導体製造向け】迅速流体継ぎ手
東洋国際株式会社
半導体製造業界では、微細な粒子や異物の混入が製品の品質を大きく左右します。 クリーンルーム環境下での配管接続においては、流体の漏れや異物の発生を極限まで抑えることが求められます。 メンテナンスや装置の段取り替え時に、配管の着脱を頻繁に行う必要があるため、作業効率も重要です。当社の迅速流体継ぎ手は、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での配管接続 ・半導体製造装置の配管 ・薬液供給ライン ・純水供給ライン ・ガス供給ライン 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・作業時間の短縮 ・メンテナンス性の向上 ・製品品質の安定化 ・歩留まりの向上
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【半導体製造向け】防爆露点計TK-100TR-EX

【半導体製造向け】防爆露点計TK-100TR-EX
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、製造プロセスにおける微量な水分が製品の品質を大きく左右します。特に、クリーンルーム環境下でのガス中の水分管理は、歩留まりの向上、製品の信頼性確保のために不可欠です。水分は、半導体デバイスの性能劣化や腐食を引き起こす可能性があります。TK-100TR-EXは、爆発危険区域でのガス中水分計測を念頭に開発された静電容量式露点計であり、清浄度維持に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内のガス供給ライン ・半導体製造プロセスの乾燥空気供給 ・特殊ガス供給ライン 【導入の効果】 ・高精度な露点測定による品質管理の強化 ・製品の歩留まり向上 ・製造プロセスの安定化 ・コスト削減
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【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生

【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
株式会社栄光
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。 再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施 異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。 既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。 （再生成績証明書の発行可能） ランニングコスト低減のお役に立ちます。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の洗浄工程 ・精密部品の洗浄 ・研究開発における純水利用 【導入の効果】 ・高品質な純水による製品品質の向上 ・ランニングコストの削減 ・安定した純水供給による生産効率の向上
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【半導体向け】卓上型・貼合装置『Lamico』

【半導体向け】卓上型・貼合装置『Lamico』
株式会社オリジン
半導体業界、特にウェハー保護工程では、微細な気泡の混入が製品の信頼性に影響を与える可能性があります。作業者の熟練度に依存する手貼りや治具貼りでは、品質のばらつきや歩留まり低下のリスクが伴います。これらの課題に対し、当社の卓上型・貼合装置『Lamico』は、接着剤塗布から貼り合わせまでを一貫して制御し、透明接着剤でも気泡を抑えた安定した貼合を実現します。 【活用シーン】 ・ウェハー保護フィルムの貼合 ・少量多品種の試作品評価 ・精密な貼合が求められる工程 【導入の効果】 ・作業者による品質ばらつきの低減 ・気泡混入による不良の削減 ・工程の標準化と歩留まり向上 ＼詳しくはお問い合わせいただくか、カタログダウンロードよりPDF資料をご覧ください。／
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【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター

【半導体向け】グローバルフィルター カートリッジフィルター
日本フィルトレーショングループ株式会社
半導体業界では、製造プロセスの品質を維持するために、高度な清浄化が不可欠です。特に、微細な粒子や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。グローバルフィルターのカートリッジフィルターは、これらの課題に対し、高いろ過性能と幅広い製品ラインナップで対応します。トータルコストの削減にも貢献します。 【活用シーン】 ・純水、薬液、現像液などのろ過 ・製造工程における異物除去 ・クリーンルーム内の空気清浄化 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【半導体向け】純水供給用ポンプ

【半導体向け】純水供給用ポンプ
グルンドフォスポンプ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける不純物の混入を極限まで抑えるために、高品質な純水供給が不可欠です。純水の質は、製品の歩留まりや性能に直接影響するため、安定した供給と高い信頼性が求められます。グルンドフォスのポンプは、これらの要求に応えるべく、高い耐久性と省エネ性能を備え、半導体製造における純水供給の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の純水供給システム ・研究開発施設における純水供給 ・クリーンルーム内での純水循環 【導入の効果】 ・安定した純水供給による歩留まり向上 ・省エネ性能による運用コスト削減 ・高い信頼性によるダウンタイムの最小化
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【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【ガラス表面処理向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
ガラス表面処理業界では、高品質な表面処理を実現するために、基材の徹底的な洗浄が不可欠です。特に、異物や油分が残っていると、その後のコーティングや加工の品質を著しく損なう可能性があります。洗浄ムラや洗浄力の不足は、製品の不良や歩留まりの低下につながります。ファインジェットは、多彩な周波数を選択できるため、ガラス基板の特性や表面処理工程に最適な洗浄条件を設定できます。 【活用シーン】 ・ガラス基板のCMP後洗浄 ・各種ガラス基板洗浄 ・表面処理前処理 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・表面処理工程の効率化
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
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【電子業界向け】バブルスクラバー

【電子業界向け】バブルスクラバー
株式会社テクネ計測
電子業界の洗浄工程では、高い清浄度が求められます。洗浄液やプロセスガスに含まれる酸性ガスや微粒子は、洗浄システムの性能を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を効果的に除去し、洗浄システムの信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・半導体製造工程 ・電子部品の洗浄工程 ・基板製造工程 【導入の効果】 ・洗浄液やガスの清浄度向上 ・システムのダウンタイム削減 ・製品の品質向上
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【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル

【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
エンバイロ・ビジョン株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・電子部品の洗浄 ・製造装置の洗浄 【導入の効果】 ・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減 ・洗浄力の向上による品質向上 ・ランニングコストの削減
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】コンプレッサー内フィルター（ショートタイプ）

【半導体向け】コンプレッサー内フィルター（ショートタイプ）
株式会社バンテック
半導体製造業界では、製品の品質を左右する微粒子の混入防止が極めて重要です。コンプレッサーから供給される圧縮空気中の微粒子は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。当社のコンプレッサー内フィルターは、これらの課題に対し、高い濾過性能で微粒子を効果的に除去し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・クリーンルーム内の空気清浄 ・精密機器への空気供給 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・装置の安定稼働 ・品質管理コストの削減
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【半導体向け】アキュームレーターフィルター

【半導体向け】アキュームレーターフィルター
株式会社バンテック
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の清浄度が重要です。超純水中に混入する微細な異物は、製品の歩留まりを低下させるだけでなく、製造装置の故障の原因にもなり得ます。アキュームレーターフィルターは、超純水中の不純物を効果的に除去し、高品質な製品製造をサポートします。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセス ・半導体製造装置 ・クリーンルーム環境 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製造装置の安定稼働 ・高品質な製品の安定供給
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【半導体業界向け】サビに強いステンレス製パレットラック

【半導体業界向け】サビに強いステンレス製パレットラック
株式会社ヨシカワ
SUS304オールステンレス製のため、サビによる異物混入対策が求められる現場に適したパレットラックです。 クリーンルームや冷蔵・冷凍庫内でも使用しやすく、重量物を衛生的かつ効率的に保管できます。 組立式のため搬入しやすく、保管物や設置場所に合わせたオーダーメイド設計にも対応します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での半導体製造用資材の保管 ・ウェハーや部品などの重量物の整理 ・冷蔵・冷凍庫内での保管 【導入の効果】 ・サビの発生を抑制し、製品への異物混入リスクを低減 ・クリーンルーム内の清浄度を維持 ・重量物の整理整頓による作業効率の向上
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【半導体向け】小型・軽量レーザークリーナー「CLMシリーズ」

【半導体向け】小型・軽量レーザークリーナー「CLMシリーズ」
イデア株式会社
半導体業界のウェハー清掃においては、微細な汚れを母材にダメージを与えずに除去する精密な洗浄が求められます。特に、ウェハー表面の微細な傷や汚染は、製品の歩留まりや性能に直接影響を与えるため、高度な清浄度が不可欠です。従来の洗浄方法では、ウェハーへの物理的な負荷や、残留物の問題が生じる可能性がありました。当社の小型・軽量レーザークリーナー「CLMシリーズ」は、非接触で精密な洗浄を実現し、ウェハーの清浄度維持に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェハー表面の微細な異物除去 ・製造工程における部分的な汚れの除去 ・デリケートな素材の精密洗浄 【導入の効果】 ・母材へのダメージを低減し、ウェハーの品質を維持 ・非接触洗浄により、精密な清掃が可能 ・薬品やブラストを使用しないため、環境負荷が少ない
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【半導体クリーンルーム向け】PFA樹脂製フローサイト GL管代替

【半導体クリーンルーム向け】PFA樹脂製フローサイト GL管代替
株式会社アルティベイト（旧社名：東葛テクノ株式会社）
半導体業界のクリーンルーム環境では、微細な異物混入が製品の品質を大きく左右します。特に、製造プロセスで使用される流体の目視確認を行うサイトグラスの破損は、異物混入のリスクを高め、重大な問題を引き起こす可能性があります。当社のPFA樹脂製フローサイトは、ガラス製の代替品として、破損による異物混入リスクを大幅に低減します。高い透明度を持つPFA素材により、流体の目視確認を容易にし、製造プロセスの品質管理を向上させます。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の配管 ・高純度薬品を使用するライン ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製造プロセスの安定化 ・製品品質の向上 【適合規格】 ・食品衛生法
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【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
電子機器業界において、基板洗浄は製品の品質と信頼性を確保する上で重要な工程です。特に、微細化が進む電子部品においては、異物や残留物の徹底的な除去が求められます。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振により、電子機器基板洗浄の幅広いニーズに対応します。 【活用シーン】 ・各種ウエハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウエハー洗浄 【導入の効果】 ・多様な基板に対応 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【電子部品向け】ラベルプリンター【Bepop】ロット管理に！

【電子部品向け】ラベルプリンター【Bepop】ロット管理に！
マックス株式会社
電子部品業界では、製品のトレーサビリティ確保のため、正確なロット管理が求められます。特に、製造から出荷までの各工程で、正確なロット情報を記録し、迅速に識別できる表示が必要です。不適切な表示や管理は、誤出荷や品質問題につながるリスクを高めます。ラベルプリンター【Bepop】は、現場で必要なロット管理ラベルを、必要な時に必要な数だけスピーディに作成できます。 【活用シーン】 ・製造ラインでの部品識別 ・在庫管理におけるロット番号表示 ・出荷時の製品トレーサビリティ確保
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【半導体向け】超純水製造用ポンプ

【半導体向け】超純水製造用ポンプ
グルンドフォスポンプ株式会社
半導体業界では、高品質な製品を製造するために、超純水の利用が不可欠です。超純水は、製造プロセスにおける異物混入を防ぎ、製品の歩留まりを向上させるために重要です。ポンプの選定においては、高い清浄度を維持し、安定した水質を供給できることが求められます。グルンドフォスのポンプは、これらの要求に応えるべく設計されています。 【活用シーン】 ・超純水製造プラント ・半導体製造ライン ・各種洗浄工程 【導入の効果】 ・高い清浄度の維持 ・安定した水質供給 ・製品歩留まりの向上
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【半導体向け】ガスケット流体適合表

【半導体向け】ガスケット流体適合表
株式会社ダイコー
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な汚染物質の混入が、製品の品質と性能に深刻な影響を与える可能性があります。特に、高純度を要求される環境下では、ガスケットからの微量成分の溶出や、流体との適合性が重要な課題となります。適切なガスケット選定は、製品の歩留まり向上、製造コスト削減に不可欠です。当社の「ガスケット流体適合表」は、半導体製造プロセスで使用される様々な流体に対応したガスケットの適合性を、◎・A・Xの3段階で評価し、直感的に判断できるように設計されています。これにより、最適なガスケットを迅速に選定し、高純度環境を維持することが可能になります。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での配管 ・薬液供給ライン ・純水製造設備 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品の品質向上 ・製造プロセスの安定化
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【半導体製造向け】PPSUサニタリー配管（パイプ）

【半導体製造向け】PPSUサニタリー配管（パイプ）
日星産業株式会社
半導体製造業界における純水管理では、高い清浄度と信頼性が求められます。配管内の物質付着や汚染は、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のPPSUサニタリー配管は、透明性により内部の状態を容易に確認でき、異物混入のリスクを低減します。耐薬品性、耐熱性、耐熱水性に優れ、純水環境下での長期的な使用に最適です。1000回以上の蒸気滅菌が可能で、高い安全性を実現します。 【活用シーン】 ・純水供給ライン ・薬液供給ライン ・製造装置内の配管 【導入の効果】 ・配管内の状態を可視化し、異常を早期発見 ・高い耐薬品性により、純水品質を維持 ・長寿命で、交換頻度を削減
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【CMP工程向け】超音波メガソニック洗浄装置

【CMP工程向け】超音波メガソニック洗浄装置
ティックコーポレーション株式会社
CMP工程では、ウェーハ表面のスラリー除去が、製品の品質に影響を与える重要なプロセスです。ウェーハ表面に残存したスラリーは、後工程での欠陥や歩留まりの低下につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、高い洗浄力と均一な洗浄を実現し、CMP工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・CMP工程におけるスラリー除去 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』

【半導体向け】高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』
ニチダイフィルタ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の混入が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高純度なシリコンウェーハの製造や、微細加工技術においては、空気中の微粒子や液中の不純物を徹底的に除去し、清浄度を維持することが不可欠です。異物の混入は、デバイスの性能低下や短絡、断線といった致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。高機能フィルターメディア『ボンメッシュ』は、半導体製造プロセスにおける清浄度管理の課題に応えるために開発されました。 【活用シーン】 ・薬液製造ライン ・薬液供給ライン ・ガス供給ライン ・各種製造装置 【導入の効果】 ・異物混入による歩留まり低下を抑制 ・製品の品質向上 ・ランニングコストの削減 ・メンテナンス性の向上
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【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工

【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工
NPO諏訪圏ものづくり推進機構
半導体業界では、微細な部品の製造において、表面の清浄度と精密な形状が求められます。特に、クリーンな環境下での製造においては、研磨加工による微細なバリや異物の除去が重要です。これらの不具合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の超精密特殊鏡面研磨技術は、形状に沿って粗い面を鏡面に仕上げ、エッジを損なうことなく微細なバリを取り除くことが可能です。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内での半導体部品の研磨 ・微細加工部品のバリ取り ・試作部品の鏡面仕上げ 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・異物混入のリスク低減
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【半導体向け】Y型ストレーナー用スクリーンフィルター

【半導体向け】Y型ストレーナー用スクリーンフィルター
株式会社バンテック
半導体製造業界では、製品の品質を左右する異物混入対策が非常に重要です。特に、配管内の微細な異物は製品の歩留まりを低下させるだけでなく、製造装置の故障の原因にもなり得ます。Y型ストレーナーは、配管内の異物を除去し各機器を保護しますが、既存のフィルターではメッシュの粗さや細かさにより、異物が十分に除去できない、または目詰まりを起こすことがあります。そこで、当社ではお客様のニーズに合わせて、最適なメッシュのフィルターを製作いたします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における純水、薬液、ガスの清浄化 ・クリーンルーム内の配管システム ・各種製造装置の保護 【導入の効果】 ・異物混入による製品不良率の低減 ・製造装置の安定稼働 ・高品質な製品の安定供給
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【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション

【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション
福井キヤノンマテリアル株式会社
研究開発分野では、実験の再現性が極めて重要であり、不純物の混入は実験結果に大きな影響を与えます。半導体製造プロセスにおいては、金属やパーティクルの混入がデバイスの性能劣化や歩留まり低下につながるため、高度な清浄度が求められます。当社の低メタル、低パーティクル化ソリューションは、これらの課題に対応し、研究開発における信頼性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の研究開発 ・半導体製造プロセスの評価 ・金属汚染、パーティクル汚染が問題となる研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究開発の効率化 ・高品質な半導体製造への貢献
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【半導体クリーンルーム向け】負圧オートドレーン

【半導体クリーンルーム向け】負圧オートドレーン
株式会社テクネ計測
半導体製造業界のクリーンルーム環境では、微細な粒子や液体の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、ガスサンプリングラインや関連機器に蓄積する液体や液滴は、システムの誤作動や汚染の原因となり、歩留まりの低下を招く可能性があります。負圧オートドレーンは、これらの問題を解決するために設計されました。蓄積された液体を連続的に自動排出することで、クリーンルーム環境の清浄度を維持し、安定した製造プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内のガスサンプリングライン ・半導体製造装置の排液処理 ・プレフィルター、スプレースクラバー、リキッドトラップからの排水 【導入の効果】 ・クリーンルーム環境の汚染リスクを低減 ・システムの信頼性向上とメンテナンス頻度の削減 ・製品品質の安定化と歩留まり向上
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【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット

【半導体製造向け】TKZH008　電子冷却式ドライヤーユニット
株式会社テクネ計測
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおける微量な水分管理が重要です。特に、炉内雰囲気ガス中の水分は、製品の歩留まりや信頼性に悪影響を及ぼす可能性があります。TKZH008電子冷却式ドライヤーユニットは、炉内雰囲気ガス中の水分を効率的に除去し、製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における炉内雰囲気ガスの精密乾燥 ・露点管理が必要なガス供給ライン ・クリーンルーム内での使用 【導入の効果】 ・製品の歩留まり向上 ・製品の信頼性向上 ・製造コストの削減
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【電子部品向け】ステンレスメッシュフィルター

【電子部品向け】ステンレスメッシュフィルター
株式会社バンテック
電子部品業界では、製品の信頼性と性能維持のために冷却効率の向上が求められます。特に、高密度実装が進む中で発熱による部品の劣化を防ぐことは重要な課題です。不適切な冷却は、部品の故障や性能劣化につながる可能性があります。当社のステンレスメッシュフィルターは、異物濾過と同時に冷却効率を高めることで、電子部品の長寿命化に貢献します。 【活用シーン】 ・電子機器の冷却システム ・半導体製造装置 ・電源ユニット 【導入の効果】 ・異物の混入を防ぎ、冷却システムの性能を維持 ・冷却効率の向上による部品の長寿命化 ・オーダーメイド対応による最適なフィルタリング
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【電子材料精製向け】粉体コンテナシステム

【電子材料精製向け】粉体コンテナシステム
赤武エンジニアリング株式会社
電子材料業界の精製工程では、材料の純度を保ちながら、効率的に粉体をハンドリングすることが求められます。異物混入やコンタミネーションを防ぎ、正確な計量と排出を行うことが、製品の品質と歩留まりを向上させるために不可欠です。当社の粉体コンテナシステムは、これらの課題に対応し、電子材料の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子材料の精製工程における粉体の貯留、搬送、計量、排出 ・ロット管理によるトレーサビリティの確保 ・自動化による省人化と作業環境の改善 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減による製品品質の向上 ・計量精度の向上による歩留まりの改善 ・作業効率の向上と作業者の負担軽減
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【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』

【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』
株式会社タカトテクニカ
半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。 【活用シーン】 * 半導体製造工程における薬液供給 * ウェーハ洗浄 * 基板洗浄 【導入の効果】 * 薬液供給の安定化による品質向上 * 低騒音化による作業環境の改善 * コンパクト設計による省スペース化
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【半導体製造向け】水質監視システム

【半導体製造向け】水質監視システム
グリッドリンク株式会社
半導体製造業界では、製品の品質を左右する超純水の水質管理が重要です。特に、不純物の混入は、製造プロセスに悪影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品不良の原因となります。本システムは、超純水の濁度、色度、残留塩素をリアルタイムで監視し、異常を早期に発見することで、高品質な製品製造を支援します。 【活用シーン】 ・超純水製造プロセス ・純水供給ライン ・水質管理の自動化 【導入の効果】 ・製品品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製造プロセスの安定化
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【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ

【半導体製造向け】エコ・ドレンシリーズ
ケーザー・コンプレッサー株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、コンプレッサーから排出される凝縮水の管理が重要です。特に、精密な製造工程においては、凝縮水による汚染や、それによる装置の故障は、生産効率の低下や製品品質の劣化につながる可能性があります。エコ・ドレンシリーズは、空気損失なく安全で信頼性の高い凝縮水排水を実現し、半導体製造における高い品質基準をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内でのコンプレッサー設置場所 ・精密機器製造ライン ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・凝縮水による汚染リスクの低減 ・装置の安定稼働 ・製品品質の向上
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ウェーハの研磨における汚染物質の除去

ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨工程で発生する微細な異物や化学物質による汚染を除去する技術です。高精度な半導体デバイスの製造には、ウェーハ表面の清浄度が極めて重要であり、この工程はその品質を保証する上で不可欠です。

​課題

微細異物の残留

研磨時に発生する微細な粒子がウェーハ表面に付着し、後工程での欠陥原因となる。

化学的汚染の拡散

研磨液に含まれる化学物質や、装置からの溶出物がウェーハ表面に残り、電気特性に悪影響を与える。

除去効率の限界

従来の洗浄方法では、ナノレベルの微細な汚染物質を完全に除去することが困難な場合がある。

処理時間の増大

汚染物質の除去に時間を要し、製造ライン全体の生産性を低下させる要因となる。

​対策

高純度洗浄液の適用

不純物を極限まで排除した特殊な洗浄液を使用し、化学的汚染を抑制する。

超音波・マイクロバブル洗浄

微細な気泡や超音波の物理的な力を利用して、ウェーハ表面の異物を効率的に剥離・除去する。

プラズマ洗浄技術

低ダメージのプラズマを用いて、有機物や無機物の汚染を化学的に分解・除去する。

自動化されたリンス・乾燥

汚染物質の再付着を防ぐための精密なリンスと、均一で迅速な乾燥プロセスを自動化する。

​対策に役立つ製品例

高純度洗浄剤

微量の金属イオンや有機物を含まない特殊配合により、ウェーハ表面への汚染物質の付着を最小限に抑える。

精密洗浄装置

超音波やマイクロバブル発生機構を備え、ウェーハ表面の微細な凹凸に入り込み、効率的に異物を除去する。

プラズマ処理システム

ウェーハ表面の汚染物質を化学的に分解し、揮発性物質として除去することで、高い清浄度を実現する。

自動リンス乾燥ユニット

洗浄後のウェーハを汚染させずに、均一かつ迅速に乾燥させることで、工程間の品質を維持する。

⭐今週のピックアップ

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