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半導体製造装置・材料

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半導体製造装置・材料

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洗浄効率の最適化とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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検査・測定装置
材料
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製造装置
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その他半導体製造装置・材料
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？

半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。

各社の製品

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【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品製造 ・基板実装 ・半導体製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・不良率の低減 ・製品信頼性の向上
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【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【��半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における異物除去 ・洗浄工程の最適化による歩留まり改善 ・洗浄剤選定によるコスト削減 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上による歩留まり改善 ・不良率の低減 ・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上
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【半導体製造・温調機器向け】継手「ハイフローカプラ」フランジ固定

【半導体製造・温調機器向け】継手「ハイフローカプラ」フランジ固定
日東工器株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの効率化と品質向上が常に求められています。 特に冷却システムにおける流量制御は、装置の安定稼働および製品品質に大きな影響を与えます。 一方で、冷却効率の低下や配管の接続・分離に時間を要することは、生産性低下の要因となります。 「ハイフローカプラ」フランジ固定型は、大流量設計により冷却効率を高めるとともに、 パネルへの設置性およびメンテナンス性を向上させ、これらの課題を解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の冷却システム ・流量制御が必要な各種製造プロセス ・装置パネル内での配管接続 【導入の効果】 ・冷却効率の向上による装置の安定稼働 ・パネル取付作業時間の短縮 ・メンテナンス性の向上によるダウンタイム削減
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【半導体向け】ケミカルポンプ修理

【半導体向け】ケミカルポンプ修理
千代田交易株式会社
半導体業界の薬液供給用途では、製品の品質維持のため、ポンプの安定稼働が不可欠です。薬液の漏れや異物混入は、製品不良につながる可能性があります。当社ケミカルポンプ修理サービスは、全工程をクリーンルーム内で実施し、ポンプの安定稼働をサポートします。 【活用シーン】 ・薬液供給ラインにおけるポンプのオーバーホール ・ポンプの故障修理 ・ポンプの機体改善延命対策 【導入の効果】 ・製品品質の維持 ・設備信頼性の向上 ・コスト削減
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【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
半導体業界における精密洗浄は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な工程です。特に、微細化が進む中で、ウェハーや基板に付着した微細な異物や残留物は、デバイスの性能低下や不良の原因となります。そのため、高い洗浄能力と、基板へのダメージを最小限に抑えることが求められます。ファインジェットは、低出力から高出力まで安定した発振により、様々な洗浄ニーズに対応し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウェハー洗浄 【導入の効果】 ・幅広い洗浄ニーズへの対応 ・高品質な洗浄による歩留まり向上 ・多様なノズルバリエーションによる最適な洗浄
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界、特に微細化プロセスにおいては、レジストの除去精度が製品の品質を大きく左右します。微細なパターン形成においては、レジスト残渣や異物の混入は致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、高い剥離性能と均一性を実現し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・微細配線加工 ・高アスペクト比構造のレジスト除去 ・ウェーハレベルでのリフトオフ処理 【導入の効果】 ・歩留まり向上 ・品質安定化 ・ランニングコスト削減
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【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
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【電子業界向け】バブルスクラバー

【電子業界向け】バブルスクラバー
株式会社テクネ計測
電子業界の洗浄工程では、高い清浄度が求められます。洗浄液やプロセスガスに含まれる酸性ガスや微粒子は、洗浄システムの性能を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を効果的に除去し、洗浄システムの信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・半導体製造工程 ・電子部品の洗浄工程 ・基板製造工程 【導入の効果】 ・洗浄液やガスの清浄度向上 ・システムのダウンタイム削減 ・製品の品質向上
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【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』

【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』
株式会社タカトテクニカ
半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。 【活用シーン】 * 半導体製造工程における薬液供給 * ウェーハ洗浄 * 基板洗浄 【導入の効果】 * 薬液供給の安定化による品質向上 * 低騒音化による作業環境の改善 * コンパクト設計による省スペース化
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【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ

【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ
三和油化工業株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の洗浄が重要です。特に、製造工程における油分や異物の除去は、製品の性能や寿命に大きく影響します。不適切な洗浄は、製品の誤作動や故障を引き起こす可能性があります。当社の洗浄剤総合カタログは、電子機器の製造における様々な洗浄ニーズに対応します。 【活用シーン】 * 電子部品の製造工程 * 基板実装工程 * 精密機器の洗浄 【導入の効果】 * 製品の信頼性向上 * 歩留まりの改善 * 品質の安定化
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【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置

【電子部品製造向け】スーパーアルカリイ�オン水生成装置
株式会社Eプラン
電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子部品の製造工程における精密洗浄 ・基板や半導体部品の洗浄 ・製造後の最終クリーニング 【導入の効果】 ・高い洗浄力で、電子部品の品質向上 ・水のみを使用するため、環境負荷を低減 ・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現 ・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能
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【半導体製造向け】スイベルジョイント

【半導体製造向け】スイベルジョイント
TBグローバルテクノロジーズ株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの品質を維持するために、温度管理が非常に重要です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、冷却水や温水の適切な供給が不可欠です。配管のねじれや損傷は、温度管理の精度を低下させ、製品の歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があります。TBグローバルテクノロジーズのスイベルジョイントは、360度回転することで、配管のねじれや損傷を解消し、安定した流体供給を実現します。これにより、温度管理の精度を向上させ、半導体製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の冷却水配管 ・高温環境下での冷却配管 ・精密機器への温水供給 【導入の効果】 ・配管の取り回しが容易になり、メンテナンス性が向上 ・ホースの破損リスクを低減 ・温度管理の安定化による歩留まり向上
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【電子部品洗浄向け】スチームトラップ PHV-Rシリーズ

【電子部品洗浄向け】スチームトラップ PHV-Rシリーズ
西進商事株式会社
電子部品の洗浄工程では、安定した蒸気供給が品質と効率を左右します。蒸気配管のドレン（水分）は、洗浄プロセスの妨げとなり、製品の品質低下やエネルギー効率の悪化を招く可能性があります。PHV-Rシリーズは、ドレンを連続して排出することで、安定した蒸気供給を実現し、洗浄品質の向上に貢献します。可動部がないため、故障のリスクを低減し、メンテナンスコストを削減します。 【活用シーン】 ・電子部品の洗浄工程における蒸気配管 ・洗浄後の乾燥工程 ・蒸気を使用するあらゆる工程 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・エネルギー効率の改善 ・メンテナンスコストの削減 ・安定した蒸気供給による生産性の向上
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界の微細化プロセスにおいては、レジストの精密な剥離が不可欠です。特に、高密度化が進む中で、レジスト残渣や異物の混入は、歩留まりを大きく低下させる要因となります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの組み合わせにより、高い剥離性能を実現します。 【活用シーン】 * 微細加工プロセスにおけるレジスト剥離 * 研究開発用途 * 少量生産 【導入の効果】 * 高い剥離性能による歩留まり向上 * 省スペース化による設置効率向上 * 薬液再利用によるランニングコスト削減
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【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
ピュアトラスト株式会社
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
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【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策

【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策
株式会社サノテック
電子機器業界の精密洗浄工程では、異物の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、洗浄液中の微細な異物は、配管詰まりを引き起こし、洗浄効率の低下や製品不良の原因となります。MAGPICKERは、配管の上流でカスや端材に含まれる磁性体と非磁性体を同時に回収することで、配管詰まりのリスクを軽減し、安定した洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・電子機器製造における精密洗浄工程 ・ケミカル材料製造工程 ・配管詰まりによる生産停止リスクの低減 【導入の効果】 ・配管清掃費用、修繕費の軽減 ・洗浄工程の安定化 ・製品品質の向上
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【電子部品向け】回転式エアーナイフによる基板乾燥

【電子部品向け】回転式エアーナイフによる基板乾燥
ティックコーポレーション株式会社
電子部品業界では、基板の品質を左右する乾燥工程において、均一な乾燥が求められます。特に、実装部品が多い基板や、複雑な形状の基板では、乾燥ムラが発生しやすく、これが製品の不良や性能低下につながる可能性があります。ソニック社製回転式エアーナイフは、基板全体に均一なエアーを供給し、効率的な乾燥を実現します。これにより、製品の品質向上と歩留まりの改善に貢献します。 【活用シーン】 ・電子基板製造工程 ・実装後の基板乾燥 ・洗浄後の基板乾燥 【導入の効果】 ・乾燥時間の短縮 ・エネルギーコストの削減 ・製品品質の向上
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【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル

【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
エンバイロ・ビジョン株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・電子部品の洗浄 ・製造装置の洗浄 【導入の効果】 ・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減 ・洗浄力の向上による品質向上 ・ランニングコストの削減
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KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプ

KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプ
株式会社ケー・エヌ・エフ・ジャパン
半導体製造業界では、製造プロセスにおける排気ガスの効率的な処理が求められます。特に、真空環境下でのガス排出は、製品の品質と製造効率に大きく影響します。不適切な排気は、製品の不良や製造時間の増加につながる可能性があります。KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプは、高い真空度と圧力性能により、半導体製造における排気プロセスを最適化します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の排気 ・真空チャンバーからのガス排出 ・分析装置におけるガス排出 【導入の効果】 ・高い真空度と圧力性能による効率的な排気 ・製品品質の向上 ・製造プロセスの最適化
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【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生

【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
株式会社栄光
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。 再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施 異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。 既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。 （再生成績証明書の発行可能） ランニングコスト低減のお役に立ちます。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の洗浄工程 ・精密部品の洗浄 ・研究開発における純水利用 【導入の効果】 ・高品質な純水による製品品質の向上 ・ランニングコストの削減 ・安定した純水供給による生産効率の向上
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【半導体向け】各種薬品の配管に｜迅速流体継手「セミコンカプラ」

【半導体向け】各種薬品の配管に｜迅速流体継手「セミコンカプラ」
日東工器株式会社
半導体業界の薬液供給では、高純度薬品の漏れや汚染を防ぎ、 製造プロセスの安定性を確保することが重要です。 特に、微細化が進む半導体製造においては、薬液のわずかな異物混入や漏れが 製品の品質を大きく左右する可能性があります。 当社のセミコンカプラは、各種高純度薬品に対応し 高いシール性と耐食性を持つことで、これらの課題を解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置における薬液供給ライン ・高純度薬品を使用する製造プロセス ・薬液漏れのリスクを低減したい現場 【導入の効果】 ・薬液供給ラインの信頼性向上 ・製品品質の安定化 ・設備での段取り替え時間の短縮
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【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
電子機器業界において、基板洗浄は製品の品質と信頼性を確保する上で重要な工程です。特に、微細化が進む電子部品においては、異物や残留物の徹底的な除去が求められます。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振により、電子機器基板洗浄の幅広いニーズに対応します。 【活用シーン】 ・各種ウエハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウエハー洗浄 【導入の効果】 ・多様な基板に対応 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【半導体向け】酸性液対応 TSPポンプ ACモデル

【半導体向け】酸性液対応 TSPポンプ ACモデル
株式会社タカトテクニカ
半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薬液の正確な定量注入が求められます。不適切な薬液供給は、製品の不良や製造効率の低下につながる可能性があります。当社酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の薬液を正確に送るソレノイド駆動方式を採用しています。これにより、半導体製造プロセスにおける薬液供給の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・フォトリソグラフィー工程における現像液供給 ・エッチング工程における薬液供給 ・洗浄工程における薬液供給 【導入の効果】 ・薬液供給の精度向上 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【電子部品製造向け】PT-VM02 超音波音圧センサー

【電子部品製造向け】PT-VM02 超音波音圧センサー
株式会社プレテック　静岡製作所
電子部品製造業界の品質管理において、洗浄工程は製品の信頼性を左右する重要な要素です。洗浄槽内のキャビテーション強度の変化や経年劣化は、洗浄効果の低下や製品への悪影響を引き起こす可能性があります。これらの問題を未然に防ぎ、安定した品質を維持するためには、洗浄槽の状態を正確に把握し、適切な管理を行うことが不可欠です。PT-VM02は、洗浄槽の状態を数値化することで、品質管理における課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・洗浄槽の日常管理 ・経年劣化管理 ・洗浄装置の性能比較 ・キャビテーション強度の評価 【導入の効果】 ・洗浄槽の状態を可視化し、異常を早期発見 ・洗浄工程の最適化による品質向上 ・装置の安定稼働と製品の歩留まり向上 ・メンテナンスコストの削減
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【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ

【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ
ユニコントロールズ株式会社
半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。 【導入の効果】 ・液ダレによる製品不良の削減 ・洗浄液の使用量最適化 ・洗浄工程の効率化
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【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム

【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム
株式会社HCI
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、部品の精密洗浄が不可欠です。特に、微細な埃や異物が製品の性能に悪影響を与える可能性があるため、徹底した洗浄が求められます。当社の金属表面処理・ブラストロボット洗浄ロボットシステムは、協働ロボットにより、ムラなく金属表面処理を行い、電子機器の精密洗浄ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・電子部品の表面処理 ・基板の洗浄 ・コネクタなどの精密部品の洗浄 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・作業効率の向上
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ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」
株式会社ダン科学
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
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USLフッ素樹脂製　ウエハー洗浄ホルダー

USLフッ素樹脂製　ウエハー洗浄ホルダー
株式会社ユニバーサル
株式会社ユニバーサルより、「USLフッ素樹脂製ウエハー洗浄ホルダー」のご案内です。
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レジスト剥離液『PURMS＋Y』

レジスト剥離液『PURMS＋Y』
株式会社山縣機械
『PURMS＋Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、 剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。 液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。 また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。 【特長】 ■リンス排水は生化学処理が可能 ■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い ■下地の金属にダメージを与えない　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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研究開発向け枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置/産業機械

研究開発向け枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置/産業機械
日精株式会社
通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発向けメタルリフトオフ処理装置。 コンパクトなTWPmから、搬送ユニットを省いてさらに小型化とコストメリットを追求したモデル。 レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用することも可能で、ランニングコストの削減にも寄与致します。 ※レジスト剥離・リフトオフだけでなく、有機洗浄装置としても転用が可能です。 【特長】 ■省フットプリント　60%削減（当社比TWPmと比較） ■1チャンバー完結 ■薬液の裏面廻り込み防止（特許） ■液・ミストの飛散、再付着防止 ※詳しくはお問合せいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
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ウェットプロセス装置『BATCHSPRAY Acid』

ウェットプロセス装置『BATCHSPRAY Acid』
Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社
当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積2m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■sic/GaNでプロセス実行可能 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ■抽出可能なプロセスチャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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ケミカルサーキュレータ

ケミカルサーキュレータ
日本エクセル株式会社
日本エクセル株式会社では『ケミカルサーキュレータ』を取り扱っております。 当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる薬液の温度を高精度に コントロール可能。ゴムOリングが直接液に触れないシール構造のため 酸性液、アルカリ性液など薬液毎のシール材質の選定が不要です。 また、冷却加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用しており 溶出金属イオンによる汚染の心配がなく、表面保護膜も不要のため 剥離による能力低下もありません。 【特長】 ■薬液の温度を高精度にコントロール ■電子冷熱方式のため、室温付近の温度コントロールに適し且つ高精度 ■国際保護規格IP31に適合 ■漏液センサ、温度スイッチを内蔵 ■高メガピット化に伴うクリーン度アップのご要求にお応え ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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PVAスポンジ　※洗浄、吸水、吸液、塗布等２種類のPVAスポンジ

PVAスポンジ　※洗浄、吸水、吸液、塗布等２種類のPVAスポンジ
アイオン株式会社
シリコンウエハやフォトマスク、ＦＰＤ用ガラス基板等で使用実績のあるPVAスポンジ「BE-Fine」と、 吸水・吸液・洗浄などに使用されるPVAスポンジ「ベルイーターＤシリーズ」の2種類をラインアップ！ 【ビーファインの特長】 ■気孔生成剤フリーの新製法により清浄度を向上 ■引張強度、引裂き強度など物理的強度にも優れた素材 ■高い気孔率を実現し、ソフトな風合いを可能に！ 【ベルイーターDシリーズの特長】 ■ウエット状態(含水状態)では、柔軟性、弾力性を持ち、吸水性にも優れる ■気孔径のバリエーションが広く、目的に応じた品番選択が可能 ■加工性にも優れている材料のため、様々な用途、分野で使用実績有 ※詳細は、カタログをダウンロードしてご覧いただくか、 　お気軽にお問い合わせください。
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スピン洗浄装置

スピン洗浄装置
株式会社フクシマ
当社では、薬液不使用の為、一般的な規模の排水処理設備が不要な 『スピン洗浄装置』を取り扱っております。 化学火傷などの皮膚刺激が無い為、作業環境が改善。 また、洗浄性・すすぎ性が高い為、純水使用量を低減可能です。 【特長】 ■排水処理負荷低減 ■作業環境改善 ■純水使用量低減 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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洗浄装置用　ハイブローノズル　ALシリーズ

洗浄装置用　ハイブローノズル　ALシリーズ
株式会社関西電熱
急速水切　乾燥　冷却　バイブローノズル
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フッ素樹脂コーティング　耐食性と純粋性で化学・半導体に業界採用

フッ素樹脂コーティング　耐食性と純粋性で化学・半導体に業界採用
株式会社吉田ＳＫＴ
■厚膜フッ素樹脂コーティング（膜厚300～2000μｍ）とは 【耐薬品性に優れるフッ素樹脂】 フッ素樹脂は、化学的に安定しているため、 ほとんどの酸やアルカリなどの化学薬品に侵されたり、 分子が溶けて流出することがありません。 【フッ素樹脂厚膜ピンホールレスコーティング】 ライニング及び成型品が不可能な缶体や基材に、 ピンホールレスの厚膜コーティングをすることにより、 酸やアルカリなどの腐食性のある液体やガスからの保護、 または金属イオンなどの溶出防止が可能です。 ※下記リンクより詳しい内容をご覧いただけます。
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LCD超高圧洗浄装置

LCD超高圧洗浄装置
株式会社山縣機械
当社では、超高圧ジェットによる洗浄を行う『LCD超高圧洗浄装置』を 取り扱っております。 20MPaの超高圧ジェットで、洗浄力アップ。 その他、回転ブラシにより洗浄を行う『LCDブラシ洗浄装置』も ご用意しております。 【特長】 ■独自の搬送システムでスモールLCD（0.4t/30×30mm）基板を枚葉搬送 ■エアナイフシステムによりワークを完全乾燥　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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スクリュー式ドライ真空ポンプ　BEHシリーズ

スクリュー式ドライ真空ポンプ　BEHシリーズ
大晃機械工業株式会社
大型機もシリーズに追加しました。
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ケミカルヒータ

ケミカルヒータ
日本エクセル株式会社
日本エクセル株式会社では『ケミカルヒータ』を取り扱っております。 当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる各種薬液の 高温加熱用として、短時間に精度よく温度制御する抵抗ヒータを用いて います。 さらに、接液部にはフッ素樹脂と高純度ガラス状炭素のみを用いているため 不純物汚染の恐れが無く、酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への 対応が可能です。 【特長】 ■加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用 ■溶出金属イオンによる汚染の心配がない ■表面保護膜不要のため、剥離による能力低下がない ■酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への対応が可能 ■薬液の漏れを検知する漏液センサ、異常温度を検知する温度スイッチを内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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薬液スクラブ洗浄装置

薬液スクラブ洗浄装置
株式会社LC
当社で取り扱っている「薬液スクラブ洗浄装置」について ご紹介いたします。 ワークサイズはΦ2"～12"ウェハ、角基板(最大600mm□まで対応)に 対応しており、サイズ変更による段取り替えは不要です。 ワーク材質は、Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LT/LN、セラミック、 水晶、樹脂、ガラス等。 ブラシ摩耗に応じて0.1mm単位で押圧力を制御する自動補正機能を 備え、スクラブ洗浄前にブラシを毎回自動洗浄。 本体両側面に薬液供給タンクおよび廃液タンク内蔵が可能です。 【処理構成】 ■スクラブ洗浄：PVAブラシによる表面スクラブ洗浄(洗剤・純水洗浄) ■スピン洗浄：二流体洗浄、SPM/DHF/SC-1薬液洗浄(選択) ■リンス洗浄：MSシャワー、O3洗浄(オプション) ■裏面洗浄：純水洗浄 ■乾燥：N2ブロー乾燥 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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フラットパネルディスプレイの洗浄サービス

フラットパネルディスプレイの洗浄サービス
スピードファムクリーンシステム株式会社
常に『ベストな洗浄』を提案する スピードファムクリーンシステム社の『フラットパネルディスプレイの洗浄』 ■□■洗浄工程■□■ 【1】切断、面取り後の洗浄 【2】スパッタ前の洗浄 【3】工程前の洗浄 【4】現像、エッチング、はく離処理 【5】液晶注入、封止後の洗浄 ■□■洗浄方法■□■ ■超音波併用　両面同時スクラブ洗浄 ■カップ型ディスクブラシ洗浄 ■ロールブラシ洗浄 ■超音波洗浄 ■二流体洗浄 ■超音波シャワー洗浄 ■高圧スプレー洗浄 ■□■乾燥方法■□■ ■エアーナイフ ■IR ■その他詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。
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卓上型超音波洗浄機 WTC-600-40/WTC-1200-40

卓上型超音波洗浄機 WTC-600-40/WTC-1200-40
本多電子株式会社
■卓上型で大出力(600W/1200W) ■大型器具、機械部品などに対応した洗浄が可能となりました。 ■操作部に光電式センサ及び音声ガイドを採用。 ■濡れた手や汚れた手でスイッチに接触せずに音声ガイドにより確認しながら操作できます。 ■発振周波数及び設定した出力にて自動追尾 ■安定した洗浄力が得られます。また、発振異常時用のアラーム表示付です。 ■排水ドレインコック以外にもオーバーフロー用ドレイン取付穴を設置 ■循環システムへの拡張が容易になりました。
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半導体洗浄装置　開発、製造サービス

半導体洗浄装置　開発、製造サービス
株式会社レイアーク
当社では、国内はもとより、海外の大手、半導体メーカーに輸出している 半導体洗浄装置の開発、製造、販売をおこなっています。 当社の半導体洗浄装置は、お客様のニーズに合わせたカスタマイズも 可能であり、柔軟な対応力が当社の強みです。 また、アフターサービスの充実やトラブルシューティングの迅速な 対応など、お客様との信頼関係を大切にしており、長期的なパートナー シップを築き、お客様のビジネス成功に貢献しております。 【特長】 ■確かな技術と自由な発想で提案 ■お客様のニーズに合った製品の提供し品質向上、信頼性を確保 ■お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能 ■アフターサービスが充実 ■トラブルシューティングを迅速に対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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洗浄再生 よりきれいに、新しく、どんな部品も洗浄・再生します！

洗浄再生 よりきれいに、新しく、どんな部品も洗浄・再生します！
株式会社エム・エー・シーテクノロジー
洗浄再生事業部では、お預かりから納入まで厳密な工程管理体制のもと、 たしかな技術で様々な部品を地球に配慮し洗浄・再生します。 市場が高まるLED・パワーデバイス製造装置に使用している構成パーツを、 母材を傷めることのない「ドライ洗浄サービス」などを展開。 MOCVD装置の構成部品をドライ洗浄することで、再利用することが可能になり、 お客様のコスト削減に大きく貢献しています。 【ドライ洗浄サービス 特長】 ■市場が高まるLED・パワーデバイス製造装置に使用している構成パーツを 　母材を傷めることがない ■MOCVD装置の構成部品をドライ洗浄することで、再利用することが 　可能になり、お客様のコスト削減に大きく貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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真空関連機器およびオリジナル関連機材の販売　洗浄ジグなど

真空関連機器およびオリジナル関連機材の販売　洗浄ジグなど
株式会社エイエルエステクノロジー
当社では、お客様のご要望にお応えするため各種お役立ちツール 『真空関連機器およびオリジナル関連機材の販売　洗浄ジグなど』 を設計・製造・販売しております。 【特徴】 [洗浄ジグ] ○お客様のご希望に合わせたガラス基板対応 [有機物用蒸着ボート] ○米国マチス社製 ○お客様のニーズにあった種類のボードをご提供 [キャリアボックス] ○グローブボックス内で成膜された基板を、大気に触れないように別の場所に搬送 [計測チャンバー] ○真空環境下で有機ELデバイスの光学特性を測定
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『半導体部品の精密洗浄』

『半導体部品の精密洗浄』
ノースヒルズ溶接工業株式会社
ノースヒルズ溶接工業は、航空宇宙、エネルギー、半導体、検査機器、 防衛関連のコア部分の製品づくりを行っている会社です。 製造・ご注文の流れより、表面処理の中の精密洗浄について説明いたします。 当社では、ベーパー式超音波洗浄装置を使用した精密洗浄を行っております。 ベーパー式超音波洗浄装置を使用することにより、高品質な溶接が可能となり、 半導体の部品を綺麗な状態で提供することができます。 500×500×500（ｍｍ）までの部品を洗浄可能。 納期は、最短で即日出荷、単価は1500円より承っております。 【特長】 ■ベーパー洗浄槽：専用液から出る蒸気で汚れを浮かせ洗浄 ■超音波槽：超音波の振動により細部の汚れを浮かし取り除く ■リンス槽：最終的な汚れを取り除く ■ベーパー洗浄槽：蒸気で乾かしながら、細部の汚れを落とす 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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超音波発生器

超音波発生器
株式会社インテリンク
当社が販売している超音波発生器のメーカー、KYUNG　IL　MEGASONIC(韓国）は創業以来１０年の製造経験を持ち、国内の半導体メーカーはもとより、欧米にも輸出実績を持っています。 特に、三星電子、及びHYNIXには、過去3年間で約３００台以上の 実績を誇り、装置の完成度の高さと、安定性には定評が あります。 シリコンウェーハー、ガリウム砒素、ハードディスク、 液晶基板等の通常洗浄はもとより、45Nm以下の超微粒子の 除去も対応可能です。
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【新商品 2025年5月発売開始】滞留防止機能付きウォーターガン

【新商品 2025年5月発売開始】滞留防止機能付きウォーターガン
株式会社キッツマイクロフィルター
主に半導体製造装置のメンテナンス用途で ご使用頂ける、クリーンルームでのご使用が 可能な純水洗浄ガンです。 ■滞留防止機能付属による、長期未使用時のバクテリア繁殖防止 ガン未使用時、内蔵されたインナーチューブ からガン本体、ホース内部の残水が排水される為、 バクテリア繁殖に伴う濁り水の流出を防止することが 可能です。 ■軽量化による作業者の負担軽減 コイルホースなので、軽量で作業時の取り回しがしやすく、 快適な作業が可能。 未使用時の収納性も抜群です。 ■C/R内での使用が可能 グリース不使用の禁油品です。 ■安定供給が可能 材質は汎用樹脂のPP製で、且つ国内生産である為、 継続的な安定供給が可能です。 ★水分の吹き飛ばしで使えるエアーブローガンの情報は 下記リンクからアクセス https://mono.ipros.com/product/detail/159520001 ★医療用ガン製品情報は下記リンクからアクセス https://www.kitzmf.com/medical/
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精密洗浄機『APS-HQシリーズ』

精密洗浄機『APS-HQシリーズ』
株式会社AQUAPASS
『APS-HQシリーズ』は、洗浄ワークを上下から洗浄することでムラのない 洗浄が可能な精密洗浄機です。 洗浄ワークは水中を貫通するため、汚れの再付着を防ぎます。 また、中高圧揺動シャワーでムラのない洗浄ができ、洗浄ワークに合った ノズルを選定いたします。 【特長】 ■上下対向超音波波振動子 ■サインジェット ■吹き飛ばし乾燥 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。
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ドライ洗浄装置 HSC/PDC

ドライ洗浄装置 HSC/PDC
株式会社ハリーズ
クリーンクロスを用い汚れを落とします。 独自ヘッドの動きと、極少量アルコール(溶剤可)塗布のW機構で、指紋痕や、油性な洗浄が難しい汚れも確実に落とします。 薬液を洗い流したり、乾燥したりする工程は不要です。
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化

レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？

半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。

​課題

残留レジストによる歩留まり低下

剥離・洗浄が不十分な場合、残留レジストが後工程での欠陥原因となり、歩留まりを著しく低下させる。

洗浄液の過剰使用とコスト増

洗浄効率が低いと、洗浄時間を延長したり、洗浄液の使用量を増やしたりする必要があり、製造コストが増大する。

ウェハー表面へのダメージ

過度な洗浄や不適切な洗浄方法により、ウェハー表面や微細構造にダメージを与え、デバイス性能に影響を及ぼす可能性がある。

洗浄ムラによる性能ばらつき

洗浄効率のばらつきにより、ウェハー表面で洗浄ムラが発生し、デバイス性能のばらつきを引き起こす。

​対策

洗浄液組成の最適化

レジストの種類やウェハー材質に適した洗浄液を開発・選定し、剥離性能とダメージ低減を両立させる。

洗浄プロセスの精密制御

温度、圧力、流量、時間などの洗浄条件を精密に制御し、均一で効率的な洗浄を実現する。

超音波・マイクロバブル技術の活用

物理的な洗浄力を高めるために、超音波やマイクロバブルを発生させる装置を導入し、微細な異物除去能力を向上させる。

インラインモニタリングとフィードバック

洗浄工程中に洗浄状態をリアルタイムで監視し、異常を検知した場合に自動で条件を調整するシステムを構築する。

​対策に役立つ製品例

高性能剥離洗浄液

特定のレジストに対して高い剥離性能を持ちつつ、ウェハー表面へのダメージを最小限に抑えるように設計された洗浄液。

精密洗浄装置

温度、流量、圧力などを高精度に制御し、均一な洗浄を実現する機能を備えた半導体製造装置。

洗浄効果向上添加剤

既存の洗浄液に添加することで、レジスト剥離能力や異物除去能力を向上させる化学物質。

洗浄状態可視化システム

洗浄工程中のウェハー表面の状態をリアルタイムで画像解析し、洗浄ムラや残留物を検知・評価するシステム。

⭐今週のピックアップ

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