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半導体製造装置・材料

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半導体製造装置・材料

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洗浄効率の最適化とは？課題と対策・製品を解説

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回路・パターン設計

消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化
歩留まり予測精度の向上
設計エラーの早期検出
設計データの検証時間短縮
次世代微細化技術への対応
複雑化する回路の管理
消費電力削減の最適化
ノイズ耐性向上の検討
設計プロセスの自動化

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
新素材への対応
製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写

シリコンインゴット切断

切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮
切断精度の向上
切断時のウェーハ損傷防止
切削液の再利用
プロセス自動化の推進
エネルギー消費の最適化
切断歩留まりの最大化
材料の有効活用
切断時間の短縮

ウェーハの研磨

次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減
研磨後の表面欠陥の抑制
研磨時間の短縮
コスト効率の改善
プロセス安定性の確保
汚染物質の除去
次世代ウェーハへの対応
表面平坦度の均一化
ウェーハ厚みのばらつき低減

ウェーハ表面の酸化

酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮
不純物混入の防止
膜質制御の精密化
熱処理プロセスの最適化
酸化膜厚の均一化
リーク電流の抑制
製造時間の短縮

薄膜形成

膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止
膜の物理的特性の向上
成膜速度の向上
材料コストの最適化
新しい薄膜材料の適用
膜厚均一性の確保
成膜プロセスの効率化
異物混入の防止

フォトレジスト塗布

塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化
レジストの消費量削減
異物混入の排除
レジストリサイクルの検討
膜厚制御の精密化
プロセス安定性の向上
塗布膜厚の均一化
レジスト塗布ムラの抑制
塗布プロセスの高速化

露光・現像

回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減
焦点深度の最適化
露光位置精度の向上
プロセスの安定化
現像液の効率利用
次世代露光技術への対応
回路パターンの寸法均一化
露光時間短縮の実現
パターン欠陥の低減

エッチング

回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮
ウェーハ損傷の防止
エッチング後の洗浄効率向上
プロセスガスの消費削減
ドライエッチングの精密制御
異方性エッチングの高精度化
回路の垂直・水平方向の寸法制御
サイドウォール形状の改善
エッチング時間の短縮

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化
レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止

イオン注入

不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減
スループットの向上
注入プロセスの自動化
イオン注入装置の安定稼働
不純物濃度の均一化
注入深さの精密制御
ウェーハへのダメージ低減

平坦化

ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化
平坦化プロセスの効率化
プロセス時間の短縮
欠陥発生の抑制
化学機械研磨プロセスの安定化
ウェーハ表面の超平坦化
層間膜の均一化
研磨プロセスの高精度化

電極形成

電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成
配線間のショート防止
電極形成プロセスの効率化
金属汚染の防止
電極材料の密着性向上
接触抵抗の低減
配線パターンの高精度形成

ウェーハ検査

検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化
検査データの統合管理
検査装置の安定稼働
AIを活用した検査効率化
検査時間の短縮
不良品検出精度の向上
欠陥分類の自動化

ダイシング

チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮
刃の摩耗管理
切削液の効率利用
ダイシングプロセスの自動化
異物付着の防止
チップ切断精度の向上
切断時のチップの欠け・割れ防止
切断時間の短縮

ワイヤーボンディング

ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止
ボンディング時間の短縮
ボンディングコストの削減
プロセス自動化の推進
熱応力の最適化
ボンディングパッドの損傷防止
ワイヤー接続強度の向上
位置合わせ精度の精密化
ワイヤーの断線・接触不良防止

モールディング

樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和
反りの抑制
成形不良の低減
モールド樹脂の品質管理
樹脂の均一充填
気泡混入の防止
モールド時のチップへの応力緩和

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検査・測定装置
材料
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製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？

半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。

各社の製品

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【電子業界向け】バブルスクラバー

【電子業界向け】バブルスクラバー
株式会社テクネ計測
電子業界の洗浄工程では、高い清浄度が求められます。洗浄液やプロセスガスに含まれる酸性ガスや微粒子は、洗浄システムの性能を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を効果的に除去し、洗浄システムの信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・半導体製造工程 ・電子部品の洗浄工程 ・基板製造工程 【導入の効果】 ・洗浄液やガスの清浄度向上 ・システムのダウンタイム削減 ・製品の品質向上
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【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における異物除去 ・洗浄工程の最適化による歩留まり改善 ・洗浄剤選定によるコスト削減 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上による歩留まり改善 ・不良率の低減 ・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上
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【半導体向け】各種薬品の配管に｜迅速流体継手「セミコンカプラ」

【半導体向け】各種薬品の配管に｜迅速流体継手「セミコンカプラ」
日東工器株式会社
半導体業界の薬液供給では、高純度薬品の漏れや汚染を防ぎ、 製造プロセスの安定性を確保することが重要です。 特に、微細化が進む半導体製造においては、薬液のわずかな異物混入や漏れが 製品の品質を大きく左右する可能性があります。 当社のセミコンカプラは、各種高純度薬品に対応し 高いシール性と耐食性を持つことで、これらの課題を解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置における薬液供給ライン ・高純度薬品を使用する製造プロセス ・薬液漏れのリスクを低減したい現場 【導入の効果】 ・薬液供給ラインの信頼性向上 ・製品品質の安定化 ・設備での段取り替え時間の短縮
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【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
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【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策

【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策
株式会社サノテック
電子機器業界の精密洗浄工程では、異物の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、洗浄液中の微細な異物は、配管詰まりを引き起こし、洗浄効率の低下や製品不良の原因となります。MAGPICKERは、配管の上流でカスや端材に含まれる磁性体と非磁性体を同時に回収することで、配管詰まりのリスクを軽減し、安定した洗浄工程をサポートします。 【活用シーン】 ・電子機器製造における精密洗浄工程 ・ケミカル材料製造工程 ・配管詰まりによる生産停止リスクの低減 【導入の効果】 ・配管清掃費用、修繕費の軽減 ・洗浄工程の安定化 ・製品品質の向上
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【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置

【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置
株式会社Eプラン
電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子部品の製造工程における精密洗浄 ・基板や半導体部品の洗浄 ・製造後の最終クリーニング 【導入の効果】 ・高い洗浄力で、電子部品の品質向上 ・水のみを使用するため、環境負荷を低減 ・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現 ・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能
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【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・電子部品製造 ・基板実装 ・半導体製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・不良率の低減 ・製品信頼性の向上
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【電子部品向け】回転式エアーナイフによる基板乾燥

【電子部品向け】回転式エアーナイフによる基板乾燥
ティックコーポレーション株式会社
電子部品業界では、基板の品質を左右する乾燥工程において、均一な乾燥が求められます。特に、実装部品が多い基板や、複雑な形状の基板では、乾燥ムラが発生しやすく、これが製品の不良や性能低下につながる可能性があります。ソニック社製回転式エアーナイフは、基板全体に均一なエアーを供給し、効率的な乾燥を実現します。これにより、製品の品質向上と歩留まりの改善に貢献します。 【活用シーン】 ・電子基板製造工程 ・実装後の基板乾燥 ・洗浄後の基板乾燥 【導入の効果】 ・乾燥時間の短縮 ・エネルギーコストの削減 ・製品品質の向上
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【半導体向け】ケミカルポンプ修理

【半導体向け】ケミカルポンプ修理
千代田交易株式会社
半導体業界の薬液供給用途では、製品の品質維持のため、ポンプの安定稼働が不可欠です。薬液の漏れや異物混入は、製品不良につながる可能性があります。当社ケミカルポンプ修理サービスは、全工程をクリーンルーム内で実施し、ポンプの安定稼働をサポートします。 【活用シーン】 ・薬液供給ラインにおけるポンプのオーバーホール ・ポンプの故障修理 ・ポンプの機体改善延命対策 【導入の効果】 ・製品品質の維持 ・設備信頼性の向上 ・コスト削減
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【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
ピュアトラスト株式会社
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
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【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生

【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
株式会社栄光
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。 再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施 異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。 既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。 （再生成績証明書の発行可能） ランニングコスト低減のお役に立ちます。 【活用シーン】 ・半導体製造工場の洗浄工程 ・精密部品の洗浄 ・研究開発における純水利用 【導入の効果】 ・高品質な純水による製品品質の向上 ・ランニングコストの削減 ・安定した純水供給による生産効率の向上
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界の微細化プロセスにおいては、レジストの精密な剥離が不可欠です。特に、高密度化が進む中で、レジスト残渣や異物の混入は、歩留まりを大きく低下させる要因となります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの組み合わせにより、高い剥離性能を実現します。 【活用シーン】 * 微細加工プロセスにおけるレジスト剥離 * 研究開発用途 * 少量生産 【導入の効果】 * 高い剥離性能による歩留まり向上 * 省スペース化による設置効率向上 * 薬液再利用によるランニングコスト削減
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【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』

【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』
株式会社タカトテクニカ
半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。 【活用シーン】 * 半導体製造工程における薬液供給 * ウェーハ洗浄 * 基板洗浄 【導入の効果】 * 薬液供給の安定化による品質向上 * 低騒音化による作業環境の改善 * コンパクト設計による省スペース化
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【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置

【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
日精株式会社
半導体業界、特に微細化プロセスにおいては、レジストの除去精度が製品の品質を大きく左右します。微細なパターン形成においては、レジスト残渣や異物の混入は致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、高い剥離性能と均一性を実現し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・微細配線加工 ・高アスペクト比構造のレジスト除去 ・ウェーハレベルでのリフトオフ処理 【導入の効果】 ・歩留まり向上 ・品質安定化 ・ランニングコスト削減
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【電子部品洗浄向け】スチームトラップ PHV-Rシリーズ

【電子部品洗浄向け】スチームトラップ PHV-Rシリーズ
西進商事株式会社
電子部品の洗浄工程では、安定した蒸気供給が品質と効率を左右します。蒸気配管のドレン（水分）は、洗浄プロセスの妨げとなり、製品の品質低下やエネルギー効率の悪化を招く可能性があります。PHV-Rシリーズは、ドレンを連続して排出することで、安定した蒸気供給を実現し、洗浄品質の向上に貢献します。可動部がないため、故障のリスクを低減し、メンテナンスコストを削減します。 【活用シーン】 ・電子部品の洗浄工程における蒸気配管 ・洗浄後の乾燥工程 ・蒸気を使用するあらゆる工程 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・エネルギー効率の改善 ・メンテナンスコストの削減 ・安定した蒸気供給による生産性の向上
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KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプ

KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプ
株式会社ケー・エヌ・エフ・ジャパン
半導体製造業界では、製造プロセスにおける排気ガスの効率的な処理が求められます。特に、真空環境下でのガス排出は、製品の品質と製造効率に大きく影響します。不適切な排気は、製品の不良や製造時間の増加につながる可能性があります。KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプは、高い真空度と圧力性能により、半導体製造における排気プロセスを最適化します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の排気 ・真空チャンバーからのガス排出 ・分析装置におけるガス排出 【導入の効果】 ・高い真空度と圧力性能による効率的な排気 ・製品品質の向上 ・製造プロセスの最適化
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【半導体向け】酸性液対応 TSPポンプ ACモデル

【半導体向け】酸性液対応 TSPポンプ ACモデル
株式会社タカトテクニカ
半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薬液の正確な定量注入が求められます。不適切な薬液供給は、製品の不良や製造効率の低下につながる可能性があります。当社酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の薬液を正確に送るソレノイド駆動方式を採用しています。これにより、半導体製造プロセスにおける薬液供給の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・フォトリソグラフィー工程における現像液供給 ・エッチング工程における薬液供給 ・洗浄工程における薬液供給 【導入の効果】 ・薬液供給の精度向上 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【半導体製造・温調機器向け】継手「ハイフローカプラ」フランジ固定

【半導体製造・温調機器向け】継手「ハイフローカプラ」フランジ固定
日東工器株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの効率化と品質向上が常に求められています。 特に冷却システムにおける流量制御は、装置の安定稼働および製品品質に大きな影響を与えます。 一方で、冷却効率の低下や配管の接続・分離に時間を要することは、生産性低下の要因となります。 「ハイフローカプラ」フランジ固定型は、大流量設計により冷却効率を高めるとともに、 パネルへの設置性およびメンテナンス性を向上させ、これらの課題を解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の冷却システム ・流量制御が必要な各種製造プロセス ・装置パネル内での配管接続 【導入の効果】 ・冷却効率の向上による装置の安定稼働 ・パネル取付作業時間の短縮 ・メンテナンス性の向上によるダウンタイム削減
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【電子部品製造向け】PT-VM02 超音波音圧センサー

【電子部品製造向け】PT-VM02 超音波音圧センサー
株式会社プレテック　静岡製作所
電子部品製造業界の品質管理において、洗浄工程は製品の信頼性を左右する重要な要素です。洗浄槽内のキャビテーション強度の変化や経年劣化は、洗浄効果の低下や製品への悪影響を引き起こす可能性があります。これらの問題を未然に防ぎ、安定した品質を維持するためには、洗浄槽の状態を正確に把握し、適切な管理を行うことが不可欠です。PT-VM02は、洗浄槽の状態を数値化することで、品質管理における課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・洗浄槽の日常管理 ・経年劣化管理 ・洗浄装置の性能比較 ・キャビテーション強度の評価 【導入の効果】 ・洗浄槽の状態を可視化し、異常を早期発見 ・洗浄工程の最適化による品質向上 ・装置の安定稼働と製品の歩留まり向上 ・メンテナンスコストの削減
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【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
電子機器業界において、基板洗浄は製品の品質と信頼性を確保する上で重要な工程です。特に、微細化が進む電子部品においては、異物や残留物の徹底的な除去が求められます。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振により、電子機器基板洗浄の幅広いニーズに対応します。 【活用シーン】 ・各種ウエハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウエハー洗浄 【導入の効果】 ・多様な基板に対応 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善
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【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ

【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ
三和油化工業株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の洗浄が重要です。特に、製造工程における油分や異物の除去は、製品の性能や寿命に大きく影響します。不適切な洗浄は、製品の誤作動や故障を引き起こす可能性があります。当社の洗浄剤総合カタログは、電子機器の製造における様々な洗浄ニーズに対応します。 【活用シーン】 * 電子部品の製造工程 * 基板実装工程 * 精密機器の洗浄 【導入の効果】 * 製品の信頼性向上 * 歩留まりの改善 * 品質の安定化
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【半導体製造向け】スイベルジョイント

【半導体製造向け】スイベルジョイント
TBグローバルテクノロジーズ株式会社
半導体製造業界では、製造プロセスの品質を維持するために、温度管理が非常に重要です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、冷却水や温水の適切な供給が不可欠です。配管のねじれや損傷は、温度管理の精度を低下させ、製品の歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があります。TBグローバルテクノロジーズのスイベルジョイントは、360度回転することで、配管のねじれや損傷を解消し、安定した流体供給を実現します。これにより、温度管理の精度を向上させ、半導体製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の冷却水配管 ・高温環境下での冷却配管 ・精密機器への温水供給 【導入の効果】 ・配管の取り回しが容易になり、メンテナンス性が向上 ・ホースの破損リスクを低減 ・温度管理の安定化による歩留まり向上
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【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル

【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
エンバイロ・ビジョン株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・電子部品の洗浄 ・製造装置の洗浄 【導入の効果】 ・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減 ・洗浄力の向上による品質向上 ・ランニングコストの削減
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【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ

【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ
ユニコントロールズ株式会社
半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。 【導入の効果】 ・液ダレによる製品不良の削減 ・洗浄液の使用量最適化 ・洗浄工程の効率化
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【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
株式会社プレテック　静岡製作所
半導体業界における精密洗浄は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な工程です。特に、微細化が進む中で、ウェハーや基板に付着した微細な異物や残留物は、デバイスの性能低下や不良の原因となります。そのため、高い洗浄能力と、基板へのダメージを最小限に抑えることが求められます。ファインジェットは、低出力から高出力まで安定した発振により、様々な洗浄ニーズに対応し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウェハー洗浄 【導入の効果】 ・幅広い洗浄ニーズへの対応 ・高品質な洗浄による歩留まり向上 ・多様なノズルバリエーションによる最適な洗浄
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【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム

【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム
株式会社HCI
電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、部品の精密洗浄が不可欠です。特に、微細な埃や異物が製品の性能に悪影響を与える可能性があるため、徹底した洗浄が求められます。当社の金属表面処理・ブラストロボット洗浄ロボットシステムは、協働ロボットにより、ムラなく金属表面処理を行い、電子機器の精密洗浄ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・電子部品の表面処理 ・基板の洗浄 ・コネクタなどの精密部品の洗浄 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・作業効率の向上
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洗浄機　巻葉式連続洗浄機

洗浄機　巻葉式連続洗浄機
特機工業株式会社
第５世代と呼ばれる液晶生産システムに対応！ 【特徴】 ○ガラス厚みは液晶ガラス0.4tからPDPガラス2.8tまで対応 ○ガラス幅は『第５世代』と呼ばれる１４００ミリまで対応 ○ガラス搬送スピードは0.5～2m/min無断可変（インバーター）
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

ケミカルヒータ

ケ�ミカルヒータ
日本エクセル株式会社
日本エクセル株式会社では『ケミカルヒータ』を取り扱っております。 当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる各種薬液の 高温加熱用として、短時間に精度よく温度制御する抵抗ヒータを用いて います。 さらに、接液部にはフッ素樹脂と高純度ガラス状炭素のみを用いているため 不純物汚染の恐れが無く、酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への 対応が可能です。 【特長】 ■加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用 ■溶出金属イオンによる汚染の心配がない ■表面保護膜不要のため、剥離による能力低下がない ■酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への対応が可能 ■薬液の漏れを検知する漏液センサ、異常温度を検知する温度スイッチを内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

ＡＱヒーター

ＡＱヒーター
株式会社ダステム
ＡＱヒーターは、半導体製造プロセスの洗浄用・各種薬液の加熱を 低温で加熱できるヒーターです。 接液部は全て高純度の透明石英ガラスで、又当社独自の赤外線加熱の為、 不純物（ガラスの溶出）の汚染を最小限に抑え、且つ安全にご使用頂ける ヒーターです。 ・加熱方式が当社独自の赤外線加熱方式の為、流体のピーク　波長が近いので透過率を最小限に抑え、また昇温時間が極　めて早い。 ・流体のピーク波長に近い為、ヒーター表面温度を低くし、 　不純物（ガラスの溶出）の汚染を最小限に抑えます。 ・コンパクト設計の為、小スペースで取り付けが出来ます。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

低価格Ｗｅｔ処理装置

低価格Ｗｅｔ処理装置
株式会社ＭＴＫ
～高性能はいいな。でも、手が届かないと思っている方へ～ ＭＴＫのＷｅｔ処理装置は、わずかな隙間でも設置できるコンパクト設計でありながら、わずかな薬液・純水で洗浄できる高性能な洗浄装置です。 【特徴】 ・パーティクル数が極めて少ない（ウエハ表面上） ・純水・薬液の使用量が少ない ※純水…0.5 リッタ（１枚当り）、薬液…20 リッタ（１日当り） ・コンパクトな装置サイズ 〈処理本体〉 幅1100mm/ 奥行800mm/ 高さ1900mm 〈薬液供給本体〉 幅500mm/ 奥行800mm/ 高さ1800mm ・驚きの低価格 ～詳細はカタログダウンロードもしくはお問い合わせください～
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ガスケミカル『スルフォラン』

ガスケミカル『スルフォラン』
住友精化株式会社
当社では、ガスケミカル『スルフォラン』を取り扱っています。 「一般品規格」の純度は97.0～98.0％、水分は2.0～3.0％。 「電子材料用特別規格」の純度は99.9％以上となっております。 BTX抽出溶媒をはじめ、反応溶媒、半導体用洗浄剤、コンデンサや 二次電池の電解液などにご活用いただけます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■テトラヒドロチオフェン－1，1－ジオキシド ■CAS No.126-33-0 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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電子フッ素化液『CFL7200』

電子フッ素化液『CFL7200』
中村科学器械工業株式会社
中村科学器械工業株式会社で取り扱う、電子フッ素化液『CFL7200』を ご紹介いたします。 電子洗浄剤、絶縁冷却材。電子部品、精密光学機器、半導体装置などの 精密洗浄、冷熱衝撃実験液、熱交換冷媒、伝熱、潤滑材などに使用可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【規格指標(抜粋)】 ■Name：Perfluoroisobutyl Ethyl ether ■Code：CFL7200 ■Benchmarking：3M Novec 7200 ■CAS：163702-06-5 ■Vapor Pressure：14.5kPa(25℃) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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プラズマアッシング処理装置『WPA800S』

プラズマアッシング処理装置『WPA800S』
株式会社リバティー
『WPA800S』は、同軸バレル構造をチャンバーに持つウエハ50枚のバッチ式 プラズマアッシング装置です。 ウエハサイズ200mm（8インチ）に対応しており、シリコンウエハ上に 形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起によって、 低ダメージアッシング（灰化除去）や表面改質等の多様なプロセス用途に 利用が可能です。 【特長】 ■同軸バレル構造 ■50枚バッチ式 ■ウエハサイズ200mm（8インチ）に対応 ■簡単レシピ入力 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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洗浄ユニット『ファインスコール』

洗浄ユニット『ファインスコール』
株式会社プレテック　静岡製作所
『ファインスコール』は、FPD用基板洗浄や各種ウエハー基板洗浄などに 適した洗浄ユニットです。 洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ。 きめ細やかなサイズバリエーションをご用意しております。 また、最大出力アップで、洗浄エリアの拡大及びコストダウンに貢献します。 ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■きめ細やかなサイズバリエーション ■洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ ■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-150MV) ■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大及びコストダウン ■通信機能：発振器状態の監視、外部設定 ■各種規格対応(FCC,CE,RoHS) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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薬液スクラブ洗浄装置

薬液スクラブ洗浄装置
株式会社LC
当社で取り扱っている「薬液スクラブ洗浄装置」について ご紹介いたします。 ワークサイズはΦ2"～12"ウェハ、角基板(最大600mm□まで対応)に 対応しており、サイズ変更による段取り替えは不要です。 ワーク材質は、Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LT/LN、セラミック、 水晶、樹脂、ガラス等。 ブラシ摩耗に応じて0.1mm単位で押圧力を制御する自動補正機能を 備え、スクラブ洗浄前にブラシを毎回自動洗浄。 本体両側面に薬液供給タンクおよび廃液タンク内蔵が可能です。 【処理構成】 ■スクラブ洗浄：PVAブラシによる表面スクラブ洗浄(洗剤・純水洗浄) ■スピン洗浄：二流体洗浄、SPM/DHF/SC-1薬液洗浄(選択) ■リンス洗浄：MSシャワー、O3洗浄(オプション) ■裏面洗浄：純水洗浄 ■乾燥：N2ブロー乾燥 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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枚葉式スピン洗浄装置

枚葉式スピン洗浄装置
株式会社LC
当社で取り扱っている「枚葉式スピン洗浄装置」について ご紹介いたします。 ワークサイズはΦ2"～12"ウェハ、または角基板 (最大600mm□まで対応可能)。 サイズ変更による段取り替えは不要です。 自動タイプでは、カセットをローダーにセットすると、 クリーンロボットがワークを搬送し、薬液処理・リンス・ スピン乾燥を自動で行います。手動タイプでは、ワークを 手動でチャックにセットし、同様の工程を実施できます。 【仕様(一部)】 ■ワーク材質 ・Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LT/LN、セラミック、水晶、樹脂、ガラス、SUS板等 ■薬液タンク：本体両側面に薬液供給タンクおよび廃液タンク内蔵可能 ■PVAディスクブラシ搭載可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【半導体業界解決事例】吸着治具レジスト液付着防止『ナノプロセス』

【半導体業界解決事例】吸着治具レジスト液付着防止『ナノプロセス』
株式会社吉田ＳＫＴ
精密な基盤にレジスト液を塗布する装置部品への表面処理の事例をご紹介します。 ■ご相談 フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、 吸着治具にレジスト液が精密な基盤にレジスト液を塗布する工程でのご相談でした。 ■お悩み フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、 吸着治具にレジスト液が付着して、次に搬送される基板に治具のレジスト液がくっついてしまう問題が発生。 基板へのレジスト液の付着は製品不良になるため、 搬送治具の清掃頻度を増やさざるを得ず、生産性も上がりませんでした。 ■ご要望 問題を解決するため当初はテフロンTMコーティングで試作しましたが、 コーティングのわずかな表面の凹凸が薄い基板に模様として転写し、 製品不良となってしまいました。 問題解決には精密性とレジスト液の付着防止を両立させる表面処理が 必要でした。 【解決課題】 ・レジスト液の付着 ・清掃時間 ・コーティングの厚みムラ ■採用コーティング 『ナノプロセス(R)　TC-10』 ※詳しい解決の内容はPDFをダウンロードしてご覧頂くかお問い合わせください。
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小型溶剤回収装置（バッジ式）

小型溶剤回収装置（バッジ式）
コーベックス株式会社
『小型溶剤回収装置　CA-100シリーズ』は、 廃溶剤の排出量が月2ton以下の処理に適した溶剤回収装置です。 また、回収対象溶剤の沸点が凡そ250℃以下であれば「非防爆エリア」、「防爆エリア」問わず設置、溶剤回収が可能です。 本製品は有機溶剤を使用しているモノづくり企業で幅広く活用されております。 【特長】 ・接液部は全てSUS304製 ・複雑な操作は無くボタン一つで簡単に操作可能 ・堅牢でメンテナンスも容易な為、長期にわたって使用が可能 ・一斗缶ごと廃液を投入、処理が可能 ・真空減圧タイプ、防爆タイプもラインアップ ・使用環境に応じたカスタムオーダーメイド可能
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超音波発生器

超音波発生器
株式会社インテリンク
当社が販売している超音波発生器のメーカー、KYUNG　IL　MEGASONIC(韓国）は創業以来１０年の製造経験を持ち、国内の半導体メーカーはもとより、欧米にも輸出実績を持っています。 特に、三星電子、及びHYNIXには、過去3年間で約３００台以上の 実績を誇り、装置の完成度の高さと、安定性には定評が あります。 シリコンウェーハー、ガリウム砒素、ハードディスク、 液晶基板等の通常洗浄はもとより、45Nm以下の超微粒子の 除去も対応可能です。
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多槽式超音波洗浄装置

多槽式超音波洗浄装置
新サン電子株式会社
IT関連産業に於ける様々な機器・部品は目覚しい進歩により製造工程において、より高品質の精密洗浄が求められています。 弊社では、光学・液晶分野で培った技術を精密洗浄に応用することで超音波周波数・発振出力や液構成など目的に応じた最適な洗浄工程により、高精度な洗浄を実現します。 又自動洗浄装置としての多機能・高効率そして信頼性に加え、優れた操縦性・メンテナンス性に対応しています。 昨今、環境への関心が非常に高まるなか、排液・排水処理の環境負荷軽減も進めております。
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超純水・純水供給サービス

超純水・純水供給サービス
株式会社クリタス
半導体や液晶パネルなどの製造工程において、回路に付着している余分な 化学物質を除去するために、不純物を極限まで除去した超純水で洗浄を行う 必要があります。 そこで、クリタグループでは超純水の供給サービスを新たに開始。 薬品・食品工場等で必要となる純水製造設備のメンテナンスをサポートし、 お客様の負担を軽減します。 【特長】 ＜運転管理・メンテナンス＞ ■クリタグループ内協業のもと、半導体・液晶工場における 　超純水製造プラントへ、高度な運転管理・メンテナンスサービスを提供 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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『半導体部品の精密洗浄』

『半導体部品の精密洗浄』
ノースヒルズ溶接工業株式会社
ノースヒルズ溶接工業は、航空宇宙、エネルギー、半導体、検査機器、 防衛関連のコア部分の製品づくりを行っている会社です。 製造・ご注文の流れより、表面処理の中の精密洗浄について説明いたします。 当社では、ベーパー式超音波洗浄装置を使用した精密洗浄を行っております。 ベーパー式超音波洗浄装置を使用することにより、高品質な溶接が可能となり、 半導体の部品を綺麗な状態で提供することができます。 500×500×500（ｍｍ）までの部品を洗浄可能。 納期は、最短で即日出荷、単価は1500円より承っております。 【特長】 ■ベーパー洗浄槽：専用液から出る蒸気で汚れを浮かせ洗浄 ■超音波槽：超音波の振動により細部の汚れを浮かし取り除く ■リンス槽：最終的な汚れを取り除く ■ベーパー洗浄槽：蒸気で乾かしながら、細部の汚れを落とす 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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大和工業株式会社　会社案内

大和工業株式会社　会社案内
大和工業株式会社
大和工業はプラスチックの特殊加工技術により最先端産業を支え続けています。 半導体をはじめとする電子部品の製造工程でのケミカルプロセス『化学的な処理工程』で使用する特殊な装置を製造しています。 国内、国外問わず、全世界で進化し続ける産業とともに製造装置も進化をして行かねばならない使命があります。 プラスチック特殊加工という物作りを通じ、常に先を見据えて価値、ニーズを創造してまいります。 【掲載内容】 ■会社概要 ■関連企業 ■主な取扱材質・切削加工例 ■商品一覧 ■自社設計製品一覧 ■製造サービス一覧 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【半導体業界事例】レジスト液の這い上がり防止技術『ナノプロセス』

【半導体業界事例】レジスト液の這い上がり防止技術『ナノプロセス』
株式会社吉田ＳＫＴ
精密な基盤にレジスト液を塗布する装置部品への表面処理の事例をご紹介します。 ■ご相談 フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、 吸着治具にレジスト液が精密な基盤にレジスト液を塗布する工程でのご相談でした。 ■お悩み フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、 吸着治具にレジスト液が付着して、次に搬送される基板に治具のレジスト液がくっついてしまう問題が発生。 基板へのレジスト液の付着は製品不良になるため、 搬送治具の清掃頻度を増やさざるを得ず、生産性も上がりませんでした。 ■ご要望 問題を解決するため当初はテフロンTMコーティングで試作しましたが、 コーティングのわずかな表面の凹凸が薄い基板に模様として転写し、 製品不良となってしまいました。 問題解決には精密性とレジスト液の付着防止を両立させる表面処理が 必要でした。 【解決課題】 ・レジスト液の付着 ・清掃時間 ・コーティングの厚みムラ ■採用コーティング 『ナノプロセス(R)　TC-10』 ※詳しい解決の内容はPDFをダウンロードしてご覧頂くかお問い合わせください。
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『スピン洗浄装置』

『スピン洗浄装置』
島田テクノロジー株式会社
『スピン洗浄装置』は、島田テクノロジー株式会社が取り扱っている製品です。 「水とエア」を中心とした環境配慮型洗浄を採用。全周型排気カップ構造による 高効率排気も実現しています。 また、多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現。さらに、ウェーハ型・角型基板に 対応したハンドリング、幅広いサイズに対応したユニットラインアップを ご用意しています。 【特長】 ■高性能化で省エネに貢献 ■多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現 ■多彩なサイズ・基板にもマッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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非接触 ローシェア ポンプタンクミキサー PTM-1/3/4

非接触 ローシェア ポンプタンクミキサー PTM-1/3/4
Levitronix Japan株式会社
PTMポンプミキサーは、お客様に用意いただいたタンク内部のミキシング(攪拌)とタンクから別の場所への移送を一台のコンポーネントでおこなう、革新的なシステムです。 攪拌はポンプの吐出噴流を用います。ポンプは、弊社の磁気浮上型ベアリングレスポンプシステムをベースにしており摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的な非接触ポンプ兼ミキサーです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとケーシングは、共に耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石と共にポンプヘッドを構成しています。
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フッ素系溶剤『Halocarbon HFE』

フッ素系溶剤『Halocarbon HFE』
Halocarbon合同会社
『Halocarbon HFE』は、地球温暖化係数(GWP)が低く、 オゾン層破壊係数(ODP)がゼロのフッ素系溶剤です。 不燃性、環境への影響の改善、および材料への適合性を有し、 電子機器の洗浄、蒸気脱脂、および関連する精密洗浄用途での 洗浄性能を向上させる溶剤として使用。 一般的な洗浄溶剤に代わる安全で環境に配慮した代替品です。 【特長】 ■低毒性・不燃性 ■国内法規対応済み(化審法、労安法) ■すでに継続的な商業生産を行っている ■北米における安定した原料調達 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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Slurry Arm　Fumed Silica

Slurry Arm　Fumed Silica
有限会社ファーストダック
有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー（研磨材）の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。 当社が行った、スラリーアームの洗浄前と洗浄後をご紹介しています。 今なら資料を無料進呈中！ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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空中搬送洗浄装置『DACC-061-3L』

空中搬送洗浄装置『DACC-061-3L』
株式会社ダン科学
『DACC-061-3L』は、4インチ（61mmx124mm）から7インチ （140mmｘ200mm）のパターン付き小判ガラス両面の各種汚れを 洗浄除去する装置です。 洗浄液は一般の洗剤やクリーナーに含まれる界面活性剤や化学合成物質 BOD/CODなどの環境汚染物質の含有量がゼロの機能水を生成する装置を搭載。 成分の99.9%が純水でありながら合成洗剤と同等、 またはそれ以上の洗浄効果を発揮します。 【特長】 ■ガラス基板にローラー痕ゼロ ■多品種生産対応可能 ■優れた洗浄力 ■機能水＋超音波洗浄 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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超音波発振器『メガヘルツシリーズ』

超音波発振器『メガヘルツシリーズ』
新サン電子株式会社
当製品は、洗浄液中の液粒子に振動を与えて、発生する液粒子の移動する 加速度を利用し、洗浄対象物表面の汚れを剥離させる発振器です。 波長が短く、定在波に起因する洗浄ムラがなく、サブミクロンレベルの 超微細な汚れに対しても有効です。 超精密洗浄システムに不可欠な製品です。 【特長】 ■洗浄対象物表面の汚れを剥離 ■波長が短い ■洗浄ムラがない ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化

レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？

半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。

​課題

残留レジストによる歩留まり低下

剥離・洗浄が不十分な場合、残留レジストが後工程での欠陥原因となり、歩留まりを著しく低下させる。

洗浄液の過剰使用とコスト増

洗浄効率が低いと、洗浄時間を延長したり、洗浄液の使用量を増やしたりする必要があり、製造コストが増大する。

ウェハー表面へのダメージ

過度な洗浄や不適切な洗浄方法により、ウェハー表面や微細構造にダメージを与え、デバイス性能に影響を及ぼす可能性がある。

洗浄ムラによる性能ばらつき

洗浄効率のばらつきにより、ウェハー表面で洗浄ムラが発生し、デバイス性能のばらつきを引き起こす。

​対策

洗浄液組成の最適化

レジストの種類やウェハー材質に適した洗浄液を開発・選定し、剥離性能とダメージ低減を両立させる。

洗浄プロセスの精密制御

温度、圧力、流量、時間などの洗浄条件を精密に制御し、均一で効率的な洗浄を実現する。

超音波・マイクロバブル技術の活用

物理的な洗浄力を高めるために、超音波やマイクロバブルを発生させる装置を導入し、微細な異物除去能力を向上させる。

インラインモニタリングとフィードバック

洗浄工程中に洗浄状態をリアルタイムで監視し、異常を検知した場合に自動で条件を調整するシステムを構築する。

​対策に役立つ製品例

高性能剥離洗浄液

特定のレジストに対して高い剥離性能を持ちつつ、ウェハー表面へのダメージを最小限に抑えるように設計された洗浄液。

精密洗浄装置

温度、流量、圧力などを高精度に制御し、均一な洗浄を実現する機能を備えた半導体製造装置。

洗浄効果向上添加剤

既存の洗浄液に添加することで、レジスト剥離能力や異物除去能力を向上させる化学物質。

洗浄状態可視化システム

洗浄工程中のウェハー表面の状態をリアルタイムで画像解析し、洗浄ムラや残留物を検知・評価するシステム。

⭐今週のピックアップ

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