洗浄効率の最適化とは？課題と対策・製品を解説

半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。

再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施
異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。

既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。
（再生成績証明書の発行可能）
ランニングコスト低減のお役に立ちます。

【活用シーン】
・半導体製造工場の洗浄工程
・精密部品の洗浄
・研究開発における純水利用

【導入の効果】
・高品質な純水による製品品質の向上
・ランニングコストの削減
・安定した純水供給による生産効率の向上

精密機器業界では、製品の品質を維持するために、部品の徹底的な洗浄が求められます。特に、微細な部品や複雑な形状の部品においては、細部まで確実に汚れを除去することが重要です。不十分な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。電解超音波洗浄機クリピカエースVは、金型の隅々まで洗浄液が浸透し、手作業では難しい汚れを短時間で除去します。

【活用シーン】
・精密機器部品の洗浄
・金型のガス焼け、樹脂汚れ、ゴムや離型剤のこびりつき、薄錆の除去

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・洗浄時間の短縮
・作業効率の改善

半導体製造業界では、製造プロセスにおける排気ガスの効率的な処理が求められます。特に、真空環境下でのガス排出は、製品の品質と製造効率に大きく影響します。不適切な排気は、製品の不良や製造時間の増加につながる可能性があります。KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプは、高い真空度と圧力性能により、半導体製造における排気プロセスを最適化します。

【活用シーン】
・半導体製造装置の排気
・真空チャンバーからのガス排出
・分析装置におけるガス排出

【導入の効果】
・高い真空度と圧力性能による効率的な排気
・製品品質の向上
・製造プロセスの最適化

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。

【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・電子部品の洗浄
・製造装置の洗浄

【導入の効果】
・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減
・洗浄力の向上による品質向上
・ランニングコストの削減

半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。

【活用シーン】
* 半導体製造工程における薬液供給
* ウェーハ洗浄
* 基板洗浄

【導入の効果】
* 薬液供給の安定化による品質向上
* 低騒音化による作業環境の改善
* コンパクト設計による省スペース化

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。

【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上

半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薬液の正確な定量注入が求められます。不適切な薬液供給は、製品の不良や製造効率の低下につながる可能性があります。当社酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の薬液を正確に送るソレノイド駆動方式を採用しています。これにより、半導体製造プロセスにおける薬液供給の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・フォトリソグラフィー工程における現像液供給
・エッチング工程における薬液供給
・洗浄工程における薬液供給

【導入の効果】
・薬液供給の精度向上
・製品の品質向上
・歩留まりの改善

純水系洗浄装置は、真空洗浄、QDRシステム、超音波洗浄、温純水低速引き上げ、真空乾燥システムなど優れたテクノロジーを組合せた洗浄システムです。あらゆる純水系洗浄システムに対応しておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問い合わせ下さい。

【ラインアップ】
■自動純水器
■純水再生ユニット
■自動BGA、CSP半導体洗浄装置
■6槽式純水洗浄装置
■自動NMP剥離装置など

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

第５世代と呼ばれる液晶生産システムに対応！

【特徴】
○ガラス厚みは液晶ガラス0.4tからPDPガラス2.8tまで対応
○ガラス幅は『第５世代』と呼ばれる１４００ミリまで対応
○ガラス搬送スピードは0.5～2m/min無断可変（インバーター）

ＡＱヒーターは、半導体製造プロセスの洗浄用・各種薬液の加熱を
低温で加熱できるヒーターです。

接液部は全て高純度の透明石英ガラスで、又当社独自の赤外線加熱の為、
不純物（ガラスの溶出）の汚染を最小限に抑え、且つ安全にご使用頂ける
ヒーターです。


・加熱方式が当社独自の赤外線加熱方式の為、流体のピーク　波長が近いので透過率を最小限に抑え、また昇温時間が極　めて早い。
・流体のピーク波長に近い為、ヒーター表面温度を低くし、
　不純物（ガラスの溶出）の汚染を最小限に抑えます。
・コンパクト設計の為、小スペースで取り付けが出来ます。

■厚膜フッ素樹脂コーティング（膜厚300～2000μｍ）とは

【耐薬品性に優れるフッ素樹脂】
フッ素樹脂は、化学的に安定しているため、
ほとんどの酸やアルカリなどの化学薬品に侵されたり、
分子が溶けて流出することがありません。

【フッ素樹脂厚膜ピンホールレスコーティング】
ライニング及び成型品が不可能な缶体や基材に、
ピンホールレスの厚膜コーティングをすることにより、
酸やアルカリなどの腐食性のある液体やガスからの保護、
または金属イオンなどの溶出防止が可能です。

※下記リンクより詳しい内容をご覧いただけます。

当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。

【特長】
■最大150wphのスループット
■ばらつきが1％未満の均一性
■設置面積2m2未満
■タンクシステムによる化学物質の再循環
■sic/GaNでプロセス実行可能
■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能
■抽出可能なプロセスチャンバー



※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

電気機器メーカー会社の工業洗浄を行った事例をご紹介します。

愛知県のN社様は洗浄設備を持っておらず、洗浄工程は知り合いの工場A社に
お願いをしてやってもらっていました。

ところが、A社の業務が段々と伸びてくるにつれて、N社様も洗浄だけを
お願いする事に対して申し訳ないという思いが募り、「洗浄業務」だけを
依頼できる外注先はないかと調べた時に見つかったのが当社でした。

近所のA社より当社は遠くにあるため、A社にお願いをしていた時よりは少し
費用が高くなったとの事ですが、これが本来の形と納得してご依頼を
頂いております。

【事例概要】
■取引先：電気機器メーカー会社 N社様
■課題：知り合いの工場に洗浄業務だけお願いをしていた

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『N9000シリーズ』は、サブミクロンのパーティクルを除去する
超精密洗浄のための次世代高周波超音波洗浄機です。

約10万G（1MHz/730kHzの場合）の加速度で水分子を振動させ、
その力でパーティクルを被洗浄物から剥離します。

接続する超音波振動子は、
洗浄槽のサイズや仕様に応じて個別に設計・製作いたします。

【特長】
■高ワット密度
■容易で多彩な出力設定で生産性向上
■容易なセッティングと作業効率性の向上
■ユーザビリティに優れたインターフェイス
■グローバル対応が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

この製品群は、当社は世界でも類をみないほど多くの品種を生産しております。さらに独自の精製技術により、低臭気・低金属のグリコールエーテルを生産しております。
グリコールエーテルは、主に塗料、インク、洗剤、電子材料の溶剤に使用されております。
グリコールエーテルの中でもジアルキルグリコールエーテルは樹脂を溶解させるだけでなく金属を分散させるので、電子材料の溶剤、医薬品の合成に使用されております。
また、芳香族系、脂肪族系、エステル系のグリコールエーテルは、主にアクリル、ポリエステルなど樹脂原料に使用されております。　

＜用途/実績例＞
可塑剤、希釈剤、成膜助剤、ハンダ、医薬・有機合成の反応溶剤、ブレーキ液、洗浄剤、半導体・電子材料用、その他

※詳しくはPDF資料をダウンロードし、ご確認をお願いし致します。
お問い合わせにより無償サンプルを進呈しております。
品番選定、SDS、法規制情報、委託生産、国内製造対応、BCP対策などお気軽にお問い合わせください。

液晶ディスプレイ（LCD）で世界をリードする韓国より、高性能かつ低価格な精密洗浄剤、信頼のBEX社製「GCシリーズ」をご提案いたします。

『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、
高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。

当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや
様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。

またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作
パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに
情報提供することを可能としています。

当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータの
モニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートする
ための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。

【特長】
■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット
■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ
■最大6kWの出力
■高い出力再現性
■高精度出力コントロール＜1％

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

使用する水の量が少なく水膜のできにくい
既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット

最大30Hzで駆動する洗浄ノズル
5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ
コントロールユニットの組合せ

従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる＝圧力を上げる＝流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP－Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも少ない流量となり、水膜ができにくく、スプレーした水が対象物へダイレクトに衝撃を加えます。

断続スプレーが繰り返し衝撃を加えることで、被洗浄物の異物除去、マスク洗浄、カセット等の立体物（細い溝や入り組んだ形状）の洗浄などで、優れた洗浄効果を発揮します。

ポンプユニットはノズルの開閉による流量変化に合わせたフィードバック制御を行うことで、圧力調整での捨て水が少なく安定した水圧コントロールを実現しています。

※液体の一定量をスプレーする
　測量＋スプレー塗布についてもご相談ください
※ノズル、ポンプは定期的なメンテナンスが必要となります。

井阪産業株式会社では、『電子関連向け製品・工事』を承っております。

熟練のスタッフが自社工場でポンプのオーバーホール・洗浄(重金属可)を行う
各種ポンプO/H・洗浄をはじめ、電子工業薬品については、
高純度・機能性薬品、洗浄液、レジスト等幅広くご提供。

また、高圧ガス・真空・冷却水・排気、薬液配管等、装置立上げに関わる
付帯工事一式を行います。

【取り扱い製品(一部)】
■各種ポンプ O/H・洗浄
■電子工業薬品
■真空関連製品・消耗品

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社による「精密洗浄装置」の制作事例をご紹介いたします。

半導体のウエーハやハードディスク等精密部品の洗浄に使用される
枚様式で、パーティクルや薬液、金属などの汚染を洗浄。

ウエーハを1枚ずつ洗浄するため、多品種少量生産や高機能の洗浄に
適しています。

【製品仕様】
■半導体ウェハ(SiC、GaN、シリコン、サファイア等)、MEMS
■ウェハ材質：SiC、Si、GaAs、GaN、ガラス、LT基板
■ウェハサイズ：2～12インチ
■処理チャンバー数：1～4
■薬液：最大2種類(オプション：3種類)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

メンテナンス性や高精度インライン計測などのFUD-1 Model-13のメリットはそのままに、半導体製造プロセス 用として小型セル型発信器を特長としたモデルとなります。
薬液中の超音波伝播速度（音速）は薬液濃度及び温度によって変化する特性があり、本 濃度計は薬液中の音速・温度を高精度に測定します。
この音速・温度情報を基に内臓データロムに記録した検量線により濃度を演算し、出力します。

詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

クリーンクロスを用い汚れを落とします。
独自ヘッドの動きと、極少量アルコール(溶剤可)塗布のW機構で、指紋痕や、油性な洗浄が難しい汚れも確実に落とします。
薬液を洗い流したり、乾燥したりする工程は不要です。

有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー（研磨材）の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。

当社が行った、スラリーアームの洗浄前と洗浄後をご紹介しています。

今なら資料を無料進呈中！

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

中村科学器械工業株式会社で取り扱う、電子フッ素化液『CFL7200』を
ご紹介いたします。

電子洗浄剤、絶縁冷却材。電子部品、精密光学機器、半導体装置などの
精密洗浄、冷熱衝撃実験液、熱交換冷媒、伝熱、潤滑材などに使用可能。

ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。

【規格指標(抜粋)】
■Name：Perfluoroisobutyl Ethyl ether
■Code：CFL7200
■Benchmarking：3M Novec 7200
■CAS：163702-06-5
■Vapor Pressure：14.5kPa(25℃)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、
精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。

従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。
純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。

また、液の再生利用も容易であり、装置の小型化、消費電力の削減などコスト面でも優れた性質を持っています。
弊社は洗浄液として優れた物性を持つフッ素系溶剤の専用機としてザウバーを完成させました。

（SAUBER/ザウバーの特長）
・真空洗浄・真空乾燥を行い、システム全体を減圧下でコントロール。
・洗浄槽は4面オーバーフローを採用。
・真空洗浄中にオーバーフローをした液は常時フィルタリング。
・洗浄槽への給液には全量フィルターを通した液を供給。
・真空洗浄中の上下揺動で洗浄効果UP。
・最大4周波（40，80，120，170kHz）の超音波を各工程でレシピ選択可能

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。

■表裏側面を同時に洗浄可能
■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等
■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談
■透明ウエハにも対応

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

洗浄に不可欠なヒーターやタイマーはもとより、スイープ発振やディガス機能に加え、新開発ブースト機能を付属した卓上型超音波洗浄ユニット。
卓上タイプながら、大きな洗浄物にも対応可能なモデル！

〜特徴〜
●スイープ発振で、ムラの無い洗浄が可能
●ディガス機能で槽内脱気を行い、超音波のロスを防ぎ、
　均一で効率的な洗浄
●ブースト機能で強力洗浄を実現し、パワーの強い超音波発振を実現
●ヒーター、タイマー機能搭載により、残り時間が分かります
●用途に合わせて選べる豊富なラインナップと、充実したアクセサリ
●材質はステンレス（ＳＵＳ３０４）


※詳細はカタログを『ダウンロード』して下さい。
※価格やその他ご質問は、下記資料請求フォームより
　お問合せ下さい。

『ファインソニック』は、均一な音圧を実現できる洗浄ユニットです。

1W刻みの安定した出力調整が可能。各種ウエハー基板洗浄や
各種フォトマスク、磁気ディスクなどに適しております。

また、最大出力アップで洗浄エリアの拡大に貢献します。
ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■均一な音圧を実現
■多彩な周波数を選択可能[750kHz/(1000kHz)/(1500kHz)/2000kHz]
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能
■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大
■通信機能：発振器状態の監視、外部設定(PT-150MV)
■各種規格対応(FCC,CE,RoHS)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

■卓上型で大出力(600W/1200W)
■大型器具、機械部品などに対応した洗浄が可能となりました。
■操作部に光電式センサ及び音声ガイドを採用。
■濡れた手や汚れた手でスイッチに接触せずに音声ガイドにより確認しながら操作できます。
■発振周波数及び設定した出力にて自動追尾
■安定した洗浄力が得られます。また、発振異常時用のアラーム表示付です。
■排水ドレインコック以外にもオーバーフロー用ドレイン取付穴を設置
■循環システムへの拡張が容易になりました。

『洗浄用カセット』は、基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能な
耐薬液及び耐摩耗性に優れたPTFE製カセットです。

ご要望の基板サイズ・形状・スロット数で製作が可能なほか、着脱可能な
ハンドルも製作いたします。
また、PTFE製または石英製「洗浄用ビーカー」もご用意しております。

当社では、耐薬品性、耐摩耗性に優れた特注品の設計・製作を承ります。
さまざまな設計のご要望にお応えします。詳細はお問合せください。

【特長】
■材質：PTFE
■各種基板サイズに対応
■ご要望のサイズ、形状、スロット数で設計・製作
■1個から製作可能
■基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能

※詳しくは弊社ウェブサイトまたはPDF資料をご覧いただき、お気軽にお問い合わせ下さい。

シリコンウエハやフォトマスク、ＦＰＤ用ガラス基板等で使用実績のあるPVAスポンジ「BE-Fine」と、
吸水・吸液・洗浄などに使用されるPVAスポンジ「ベルイーターＤシリーズ」の2種類をラインアップ！

【ビーファインの特長】
■気孔生成剤フリーの新製法により清浄度を向上
■引張強度、引裂き強度など物理的強度にも優れた素材
■高い気孔率を実現し、ソフトな風合いを可能に！

【ベルイーターDシリーズの特長】
■ウエット状態(含水状態)では、柔軟性、弾力性を持ち、吸水性にも優れる
■気孔径のバリエーションが広く、目的に応じた品番選択が可能
■加工性にも優れている材料のため、様々な用途、分野で使用実績有

※詳細は、カタログをダウンロードしてご覧いただくか、
　お気軽にお問い合わせください。

日本エクセル株式会社では『ケミカルヒータ』を取り扱っております。

当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる各種薬液の
高温加熱用として、短時間に精度よく温度制御する抵抗ヒータを用いて
います。

さらに、接液部にはフッ素樹脂と高純度ガラス状炭素のみを用いているため
不純物汚染の恐れが無く、酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への
対応が可能です。

【特長】
■加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用
■溶出金属イオンによる汚染の心配がない
■表面保護膜不要のため、剥離による能力低下がない
■酸性薬液・アルカリ性薬液、及び有機溶剤への対応が可能
■薬液の漏れを検知する漏液センサ、異常温度を検知する温度スイッチを内蔵

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社では、国内はもとより、海外の大手、半導体メーカーに輸出している
半導体洗浄装置の開発、製造、販売をおこなっています。

当社の半導体洗浄装置は、お客様のニーズに合わせたカスタマイズも
可能であり、柔軟な対応力が当社の強みです。

また、アフターサービスの充実やトラブルシューティングの迅速な
対応など、お客様との信頼関係を大切にしており、長期的なパートナー
シップを築き、お客様のビジネス成功に貢献しております。

【特長】
■確かな技術と自由な発想で提案
■お客様のニーズに合った製品の提供し品質向上、信頼性を確保
■お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能
■アフターサービスが充実
■トラブルシューティングを迅速に対応

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

シリンダーキャビネット、BSGS、VMP/VMB、排ガス処理機などの設計製造を行なっております。ぜひともカタログを御覧下さい。

『CS-900』は、半導体製造工程における厳しい薬液濃度管理に
対応するため安定した測定精度、作業の安全性を考慮した独自の
配管保持構造、コンパクトデザインなど現場ニーズに好適な
高機能化を果たしている非接触型薬液濃度モニタです。

PFA配管へダイレクトに外付けする独自のセンサ構造により
コンタミリスクが"ゼロ"に。また、センサ取り付け時における配管施工等が
不要になり、薬液漏れなどの事故のリスク削除をもたらします。

【特長】
■光ファイバーを使用しない光学設計とアンプ・センサの小型化により
　設置レイアウトの自由度が向上
■完全非接触かつ高安定性を実現
■薬液（20℃～80℃）のダイレクト・安定測定を実現
■簡単取り付け、取り外しが可能

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

『ピュアエース R-PA-W型』は、KCDIを搭載しているため、薬品再生が不要で
再生用薬品、再生用水槽、中和設備が不要な連続再生式純水装置です。

常に電気的にイオン交換樹脂が再生されているため連続採水が可能。
二段RO膜(逆浸透膜)とKCDIの組合わせのため安定して高純度の純水を
供給することができます。

給水中の残留塩素除去のために、前段に自動活性炭ろ過器「KA-A型」を
組合わせることが可能です。

【特長】
■連続して高純度の純水が採水可能
■ボタンひとつで全自動運転
■コンパクト、現地工事が簡単
■環境負荷を低減
■別製品との組合わせで多様なニーズに対応可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

■解決したかったお悩み、実現したかったこと
半導体装置に使用される薄肉のアルミ部品へ帯電防止コーティングをしたいとご相談をいただきました。
従来のフッ素系帯電防止コーティングは高い加工温度での焼成が必要であったため、
アルミ部品のひずみを気にされていました。
帯電防止性能を付与でき、薄肉のアルミ部品でもひずみにくいコーティングを探していました。

■採用されたコーティング
セーフロンLF+

■実現できた効果
帯電防止性能に優れたセーフロンシリーズのうち、セーフロンLF+は最低焼成温度が100℃以下と低く、
焼成によるひずみの軽減が期待できるため、ご提案しました。
テスト、実機での試作にて帯電防止性能の付与、ひずみ問題の解決が確認できたため、
製品のコーティングにご採用いただきました。

新開発のセーフロンLF+は、お客様のさまざまな環境や用途に対応できる帯電防止フッ素樹脂コーティングです。
詳細な情報やその他の製品についてのご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

『CFL7300』は、有機合成で製造される電子フッ素化液です。

電子洗浄剤、絶縁冷却材。電子部品、精密光学機器、半導体装置などの
精密洗浄、冷熱衝撃実験液、熱交換冷媒、伝熱、潤滑材などに好適。

応用分野は、フッ素系クーラント液、電子洗浄剤、油取りです。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【規格指標(一部)】
■Name：3-Methoxyperfluoro(2-methylpentane)
■Code：CFL7300
■Benchmarking：3M Novec 7300
■CAS：132182-92-4
■Vapor Pressure：4.5kPa(20℃)
■Thermal Conductivity：0.062W・m-1・k-1(25℃)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

株式会社プリスは、工業用精密洗浄プロセスにおいて、高い洗浄精度と環境保全を両立させた洗浄システムを提供します。
プリスの「水系・準水系洗浄システム」は、水溶性フラックスの除去洗浄から脱脂洗浄、微細パーティクル除去、精密加工品や半導体部品の精密洗浄など、幅広い実績を誇ります。

【特長】
○シャワー洗浄や超音波洗浄をはじめとして、あらゆる技術に対応
→減圧超音波、噴流、揺動およびそれらの複合型にいたるまで対応
○ユーザーの要望に合致したカスタムメイドのシステム設計
→搬送方式や制御・自動化水準、導入後のランニングコストも踏まえて実施

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

中村科学器械工業株式会社にて取り扱う「電子フッ素化液」について、
ご紹介いたします。

日常洗浄、洗浄後のすすぎ、乾燥剤などや、オイル、グリース、ワックス、
フラックスなどの除塵洗浄、シリコン材料などの高精度な塗布用途に好適。

応用分野は、フッ素系クーラント液、電子洗浄剤、油取りなどです。
ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。

【規格指標(一部)】
■Name：Perfluoroisobutyl methylether＋Trans-1,2-dichloroethylene＋Ethanol
■Code：CFL71DA
■Benchmarking：3M Novec 71DA
■CAS：163702-08-7/156-60-5/64-17-5
■Vapor Pressure：50.8kPa(25℃)
■Appearance：Colorless

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

急速水切　乾燥　冷却　バイブローノズル

横浜油脂工業の『Semi Clean』は、フラットパネルディスプレイから光学部品、
金属部品まで、サブミクロンオーダーの精密洗浄をサポートする精密洗浄剤です。

弊社独自設計の生産ラインによって、高品質・低コストを確立。
常に安定した高品質の製品を供給すべく、
専門技術者による徹底した分析を行い、ISO9001を取得しています。

弊社では、この『Semi Clean』を使った様々な精密洗浄製品を取り扱っています。


【特長】
■エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂に効果大
■銅、真鍮の変色抑制能が高い
■非塩素系、非危険物の環境配慮型
■臭いの弱い低臭タイプ
■接着剤、塗膜、保護膜剥離・インク洗浄・酸洗い、製品リペアに好適

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体や液晶パネルなどの製造工程において、回路に付着している余分な
化学物質を除去するために、不純物を極限まで除去した超純水で洗浄を行う
必要があります。

そこで、クリタグループでは超純水の供給サービスを新たに開始。

薬品・食品工場等で必要となる純水製造設備のメンテナンスをサポートし、
お客様の負担を軽減します。

【特長】
＜運転管理・メンテナンス＞
■クリタグループ内協業のもと、半導体・液晶工場における
　超純水製造プラントへ、高度な運転管理・メンテナンスサービスを提供

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【特徴】

○フッ素樹脂PTFE製のチップ用洗浄ホルダー
○角型チップ用の規格（厚み=1mm以下）
○特注サイズも制作可能

●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

『スピン洗浄装置』は、島田テクノロジー株式会社が取り扱っている製品です。

「水とエア」を中心とした環境配慮型洗浄を採用。全周型排気カップ構造による
高効率排気も実現しています。

また、多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現。さらに、ウェーハ型・角型基板に
対応したハンドリング、幅広いサイズに対応したユニットラインアップを
ご用意しています。

【特長】
■高性能化で省エネに貢献
■多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現
■多彩なサイズ・基板にもマッチ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

極低圧の 0.002 MPaから 0.01 MPa (最大許容圧力 0.1 MPa)まで切れ目のないラミナー状の噴射が可能なノズルです。
スリット幅：100～3000mm、スリット厚：0.15～0.3mmまで用途、製品幅に応じ幅広く対応が可能です。

★デモ機貸出サービス実施中★
ウォーターナイフのデモ機貸出サービスを実施中です。
導入前の性能確認・仕様決定のご参考としてご利用ください。
詳しくは下記フォームよりお問い合わせください！

「2槽式フッ素系洗浄装置」は、フッ素系溶剤を用いて、パーティクル除去を行う溶剤系洗浄システムです。
第1槽で浸漬洗浄、第2槽でベーパー洗浄を行うことにより、高い洗浄精度と乾燥性を実現します。
また、大型設備へのスケールアップを行うことも可能です。

【特長】
○多孔板を用いた洗浄槽内の濾過システム
→洗浄槽に多孔板を設置し、洗浄剤を吐出あるいは回収、槽内の清浄度を高める
→パーティクルの比重や水流に左右されずに、効率よく浄化をする事が可能
→排出されるバランスは、調整バルブA～Cにより調節する事が可能

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『DACC-061-3L』は、4インチ（61mmx124mm）から7インチ
（140mmｘ200mm）のパターン付き小判ガラス両面の各種汚れを
洗浄除去する装置です。

洗浄液は一般の洗剤やクリーナーに含まれる界面活性剤や化学合成物質
BOD/CODなどの環境汚染物質の含有量がゼロの機能水を生成する装置を搭載。

成分の99.9%が純水でありながら合成洗剤と同等、
またはそれ以上の洗浄効果を発揮します。

【特長】
■ガラス基板にローラー痕ゼロ
■多品種生産対応可能
■優れた洗浄力
■機能水＋超音波洗浄

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

奥田貿易株式会社の取り扱う『半導体・FPD市場製品』についてご紹介します。

工程の合理化、作業環境の改善に貢献する「シグナスローラー」をはじめ、
微小な異物も効率よく除去する「ブラシローラー、ブラシシート」や、
「O-RING」などを各種ご用意。

ご要望に合わせてお選びいただけます。

【ラインアップ】
■PVAスポンジブラシ
■ナイロンブラシ
■O-RING
■セラミック精密部品加工
■包装緩衝材

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。