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半導体製造装置・材料に関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。
洗浄効率の最適化とは？課題と対策・製品を解説
レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？
半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。
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【半導体製造向け】マイクロバブル・ナノバブル発生装置 YJノズル
半導体製造業界の精密洗浄においては、微細な汚れの除去と、洗浄液の効率的な使用が求められます。特に、高度な清浄度が要求される工程では、洗浄ムラや洗浄液の残留が製品の品質に影響を与える可能性があります。また、洗浄工程における廃水処理の負荷軽減も重要な課題です。YJノズルは、マイクロ・ナノバブルの力で汚れを効果的に除去し、精密洗浄の効率化と廃水処理の負荷軽減に貢献し ます。オゾンマイクロバブル洗浄での活用が広まっています。
【活用シーン】オゾンマイクロナノバブル洗浄など
＊精密部品の洗浄
＊ウェハー洗浄
＊製造ラインの洗浄
【導入の効果】
* 精密洗浄における洗浄効果の向上
* 洗浄液の使用量削減の可能性
* 廃水処理負荷の軽減
【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブ ルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。
【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・電子部品の洗浄
・製造装置の洗浄
【導入の効果】
・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減
・洗浄力の向上による品質向上
・ランニングコストの削減
【半導体向け】ケミカルポンプ修理
【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。
再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施
異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。
既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますので お試しで純水器を貸し出す事も可能です。
（再生成績証明書の発行可能）
ランニングコスト低減のお役に立ちます。
【活用シーン】
・半導体製造工場の洗浄工程
・精密部品の洗浄
・研究開発における純水利用
【導入の効果】
・高品質な純水による製品品質の向上
・ランニングコストの削減
・安定した純水供給による生産効率の向上
【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。
当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。
【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）
【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上
【電子部品製造向け】PT-VM02 超音波音圧センサー
電子部品製造業界の品質管理において、洗浄工程は製品の信頼性を左右する重要な要素です。洗浄槽内のキャビテーション強度の変 化や経年劣化は、洗浄効果の低下や製品への悪影響を引き起こす可能性があります。これらの問題を未然に防ぎ、安定した品質を維持するためには、洗浄槽の状態を正確に把握し、適切な管理を行うことが不可欠です。PT-VM02は、洗浄槽の状態を数値化することで、品質管理における課題解決をサポートします。
【活用シーン】
・洗浄槽の日常管理
・経年劣化管理
・洗浄装置の性能比較
・キャビテーション強度の評価
【導入の効果】
・洗浄槽の状態を可視化し、異常を早期発見
・洗浄工程の最適化による品質向上
・装置の安定稼働と製品の歩留まり向上
・メンテナンスコストの削減
【電子業界向け】バブルスクラバー
【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があり ます。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。
【活用シーン】
・半導体製造工程における異物除去
・洗浄工程の最適化による歩留まり改善
・洗浄剤選定によるコスト削減
【導入の効果】
・洗浄品質の向上による歩留まり改善
・不良率の低減
・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上
【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
レヒラー社製エアーノズル『マルチチャンネルジェット』
電子部品業界では、精密な洗浄・乾燥工程において、異物除去能力の高さと、デリケートな部品への影響を最小限に抑えることが求められます。
また、生産ラインの効率化やコスト削減、作業環境の改善も重要な課題です。
当社のレヒラー社製エアーノズ ル『マルチチャンネルジェット』は、これらの課題に対し、強力な衝撃力を維持しながらも、空気消費量と騒音レベルを低減することで、効率的かつ環境に配慮したソリューションを提供します。
【活用シーン】
・電子部品の洗浄後の水切り
・精密機器の乾燥工程
・デリケートな部品の埃除去
・生産ラインでの異物除去
・作業エリアの清掃
【導入の効果】
・洗浄・乾燥時間の短縮による生産性向上
・空気消費量の削減によるランニングコスト低減
・騒音レベルの低減による作業環境改善
・強力なブローによる確実な異物除去
・オリフィスカバーによる無駄なエアブローの抑制
【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置
電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。
【活用シーン】
・電子部品の製造工程における精密洗浄
・基板や半導体部品の洗浄
・製造後の最終クリーニング
【導入の効果】
・高い洗浄力で、電子部品の品質向上
・水のみを使用するため、環境負荷を低減
・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現
・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能
【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』
【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ
【半導体製造向け】スイベルジョイント
半導体製造業界では、製造プロセスの品質を維持するため に、温度管理が非常に重要です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、冷却水や温水の適切な供給が不可欠です。配管のねじれや損傷は、温度管理の精度を低下させ、製品の歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があります。TBグローバルテクノロジーズのスイベルジョイントは、360度回転することで、配管のねじれや損傷を解消し、安定した流体供給を実現します。これにより、温度管理の精度を向上させ、半導体製造における品質向上に貢献します。
【活用シーン】
・クリーンルーム内の冷却水配管
・高温環境下での冷却配管
・精密機器への温水供給
【導入の効果】
・配管の取り回しが容易になり、メンテナンス性が向上
・ホースの破損リスクを低減
・温度管理の安定化による歩留まり向上
【電子部品洗浄向け】スチームトラップ PHV-Rシリーズ
KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプ
【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。
当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。
【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）
【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上
【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置/高田工業
【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ
【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策
【電子機器向け】ブラストロボット洗浄 ロボットシステム
【半導体向け】酸性液対応 TSPポンプ ACモデル
半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薬液の正確な定量注入が求められます。不適切な薬液供給は、製品の不良や製造効率の低下につながる可能性があります。当社酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の薬液を正確に送るソレノイド駆動方式を採用しています。これにより、半導体製造プロセスにおける薬液供給の課題解決に貢献します。
【活用シーン】
・フォトリソグラフィー工程における現像液供給
・エッチング工程における薬液供給
・洗浄工程における薬液供給
【導入の効果】
・薬液供給の精度向上
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
【半導体製造・温調機器向け】継手「ハイフローカプラ」フランジ固定
半導体製造業界では、製造プロセスの効率化と品質向上が常に求められています。
特に冷却システムにおける流量制御は、装置の安定稼働および製品品質に大きな影響を与えます。
一方で、冷却効率の低下や配管の接続・分離に時間を要することは、生産性低下の要因となります。
「ハイフローカプラ」フランジ固定型は、大流量設計により冷却効率を高めるとともに、
パネルへの設置性およびメンテナンス性を向上させ、これらの課題を解決に貢献します。
【活用シーン】
・半導体製造装置の冷却システム
・流量制御が必要な各種製造プロセス
・装置パネル内での配管接続
【導入の効果】
・冷却効率の向上による装置の安定稼働
・パネル取付作業時間の短縮
・メンテナンス性の向上によるダウンタイム削減
【半導体向け】各種薬品の配管に｜迅速流体継手「セミコンカプラ」
【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
【ウェット装置事業】先端材料対応の液処理装置メーカー
PVAスポンジ ※洗浄、吸水、吸液、塗布等２種類のPVAスポンジ
シリコンウエハやフォトマスク、ＦＰＤ用ガラス基板等で使用実績のあるPVAスポンジ「BE-Fine」と、
吸水・吸液・洗浄などに使用されるPVAスポンジ「ベルイーターＤシリーズ」の2種類をラインアップ！
【ビーファインの特長】
■気孔生成剤フリーの新製法により清浄度を向上
■引張強度、引裂き強度など物理的強度にも優れた素材
■高い気孔率を実現し、ソフトな風合いを可能に！
【ベルイーターDシリーズ の特長】
■ウエット状態(含水状態)では、柔軟性、弾力性を持ち、吸水性にも優れる
■気孔径のバリエーションが広く、目的に応じた品番選択が可能
■加工性にも優れている材料のため、様々な用途、分野で使用実績有
※詳細は、カタログをダウンロードしてご覧いただくか、
お気軽にお問い合わせください。
樹脂チャンネルロールブラシ オールナイロンブラシ
半導体・FPD製造部品 精密洗浄サービス
半導体洗浄装置用ラインヒーター
ケミカルサーキュレータ
日本エクセル株式会社では『ケミカルサーキュレータ』を取り扱っております。
当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる薬液の温度を高精度に
コントロール可能。ゴムOリングが直接液に触れないシール構造のため
酸性液、アルカリ性液など薬液毎のシール材質の選定が不要です。
また、冷却加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用しており
溶出金属イオンによる汚染の心配がなく、表面保護膜も不要のため
剥離による能力低下もありません。
【特長】
■薬液の温度を高精度にコントロール
■電子冷熱方式のため、室温付近の温度コントロールに適し且つ高精度
■国際保護規格IP31に適合
■漏液センサ、温度スイッチを内蔵
■高メガピット化に伴うクリーン度アップのご要求にお応え
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
電子フッ素化液『CFL7300』
『CFL7300』は、有機合成で製造される電子フッ素化液です。
電子洗浄剤、絶縁冷却材。電子部品、精密光学機器、半導体装置などの
精密洗浄、冷熱衝撃実験液、熱交換冷媒、伝熱、潤滑材などに好適。
応用分野は、フッ素系クーラント液、電子洗浄剤、油取りです。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【規格指標(一部)】
■Name：3-Methoxyperfluoro(2-methylpentane)
■Code：CFL7300
■Benchmarking：3M Novec 7300
■CAS：132182-92-4
■Vapor Pressure：4.5kPa(20℃)
■Thermal Conductivity：0.062W・m-1・k-1(25℃)
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
データセンター向け水冷・液冷配管に！スイベルジョイント
TBグローバルテクノロジーズのスイベルジョイントは、データセンターの液冷・水冷配管や食品・医薬・化学工場の流体移送配管に適した回転継手です。
ホースの可動時やカップリングの着脱時に発生する負荷やねじれを解消できるためホースの取り回しがやメンテナンス性が向上します。
スイベルジョイントは1950年代から食品・飲料、化学、医薬、半導体、石油、製鉄など幅広い産業で採用されてきました。
その中でもサニタリースイベルジョイントは、回転部をノングリース設計とし、コンタミネーションリスクを低減しています。
液だまりが発生しにくい形状を採用しているため、洗浄性・衛生面で特に優れており、食品・医薬・データセンター分野のサニタリー配管に適しています。
『R*evolution V』
『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、
高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。
当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや
様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。
またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作
パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに
情報提供することを可能としています。
当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータの
モニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートする
ための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。
【特長】
■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット
■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ
■最大6kWの出力
■高い出力再現性
■高精度出力コントロール＜1％
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
洗浄ユニット『ファインジェット』
『ファインジェット』は、多彩な周波数を選択可能な洗浄ユニットです。
低出力から高出力までの安定した発振で枚葉洗浄の幅広いニーズに対応。
各種ウエハー基板洗浄や磁気ディスク、ウエハーのCMP後洗浄などの
用途に適しております。
また、耐薬品、メタルコンタミネーションフリーといった多彩なノズル
バリエーションがございます。
【特長】
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-010J50)
■多彩な周波数を選択可能(400kHz/1500kHz/3000kHz)
■多彩なノズルバリエーション：耐薬品、メタルコンタミネーションフリー
■検出機能強化：振動子劣化を検出可能(PT-010J50)
■通信機能強化：発振器状態の監視、外部設定(PT-010J50)
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
【装置制作事例】洗浄装置
圧搾空気稼働型パレット洗浄機『ワンエアーポット AP19』
『ワンエアーポット AP19』は、DIP用基板搬送パレットに付着した
フラックスを専用洗浄液により除去する事を目的としたパレット洗浄機です。
電気を使用せず一般圧搾空気(通常はコンプレッサーによる)で稼働。
その為、電気部品が組み込まれておらず機器のスパーク等による発火の
恐れがありません。
また、電気特有の電圧及び周波数を気にする事なく海外での使用にも有効です。
【特長】
■エアー1本でフル稼働(0.5～0.7MPaのエアー使用)
■圧搾空気で稼働
■二方噴射方式を採用
■大流量コントロールタイマーを搭載
■電気を使用しないデメリットを解消
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
【半導体業界事例】レジス ト液の這い上がり防止技術『ナノプロセス』
精密な基盤にレジスト液を塗布する装置部品への表面処理の事例をご紹介します。
■ご相談
フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、
吸着治具にレジスト液が精密な基盤にレジスト液を塗布する工程でのご相談でした。
■お悩み
フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、
吸着治具にレジスト液が付着して、次に搬送される基板に治具のレジスト液がくっついてしま う問題が発生。
基板へのレジスト液の付着は製品不良になるため、
搬送治具の清掃頻度を増やさざるを得ず、生産性も上がりませんでした。
■ご要望
問題を解決するため当初はテフロンTMコーティングで試作しましたが、
コーティングのわずかな表面の凹凸が薄い基板に模様として転写し、
製品不良となってしまいました。
問題解決には精密性とレジスト液の付着防止を両立させる表面処理が
必要でした。
【解決課題】
・レジスト液の付着
・清掃時間
・コーティングの厚みムラ
■採用コーティング
『ナノプロセス(R) TC-10』
※詳しい解決の内容はPDFをダウンロードしてご覧頂くかお問い合わせください。
精密洗浄剤『Semi Clean』
横浜油脂工業の『Semi Clean』は、フラットパネルディスプレイから光学 部品、
金属部品まで、サブミクロンオーダーの精密洗浄をサポートする精密洗浄剤です。
弊社独自設計の生産ラインによって、高品質・低コストを確立。
常に安定した高品質の製品を供給すべく、
専門技術者による徹底した分析を行い、ISO9001を取得しています。
弊社では、この『Semi Clean』を使った様々な精密洗浄製品を取り扱っています。
【特長】
■エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂に効果大
■銅、真鍮の変色抑制能が高い
■非塩素系、非危険物の環境配慮型
■臭いの弱い低臭タイプ
■接着剤、塗膜、保護膜剥離・インク洗浄・酸洗い、製品リペアに好適
詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
Slurry Arm Fumed Silica
LCD超高圧洗浄装置
『枚葉式洗浄装置-2』
『枚葉式洗浄装置』は、1.5インチから10世代まで対応可能な大型セル対応の洗浄装置です。
大型化に伴い、新たな問題点(ギャップ部の洗浄・乾燥)を重点課題に、洗浄ユニット
(ブラシ、HPMJ、2流体など)を組み合わせ、乾燥でもエアーナイフ、スポットナイフ、
IRなどを組み合わせることにより、より優れた洗浄と乾燥を実現しています。
また、メンテナンス性、コストパフォーマンスにおいても優れた装置になっています。
PC・テレビ等の液晶パネル、自動車ガラス、ソーラーパネル等に適しています。
【主な洗浄方式】
■接触式：ロールブラシ、ディスクブラシ
■非接触式：中圧シャワー、高圧シャワー、2流体シャワー、
US（低周波・中周波）、MS(高周波）
■ドライ：紫外線照射（エキシマ・低圧水銀）、プラズマ照射、超音波
詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
超音波発振器『メガヘルツシリーズ』
スピン洗浄装置
連続再生式純水装置『ピュアエース R-PA-W型』
『ピュアエース R-PA-W型』は、KCDIを搭載しているため、薬品再生が不要で
再生用薬品、再生用水槽、中和設備が不要な連続再生式純水装置です。
常に電気的にイオン交換樹脂が再生されているため連続採水が可能。
二段RO膜(逆浸透膜)とKCDIの組合わせのため安定して高純度の純水を
供給することができます。
給水中の残留塩素除去のために、前段に自動活性炭ろ過器「KA-A型」を
組合わせることが可能です。
【特長 】
■連続して高純度の純水が採水可能
■ボタンひとつで全自動運転
■コンパクト、現地工事が簡単
■環境負荷を低減
■別製品との組合わせで多様なニーズに対応可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
枚葉式ス ピン現像装置
当社で取り扱っている「枚葉式スピン現像装置」について
ご紹介いたします。
カセットをローダーにセットするだけで、クリーンロボットが
ワークを自動搬送し、各工程を自動で処理。
大基板の現像については塗布工法をご提案します。
手動タイプでは、ワークを手動でチャックにセットし、
同様の現像・リンス・スピン乾燥工程を実施できます。
【仕様(一部)】
■ワーク材質
・Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LT/LN、セラミック、水晶、樹脂、ガラス等
■現像液：TMAH、Na2CO3、シクロペンタン(チャンバー独立)
■リンス液：DIW、PGMEAほか
■バックリンス：PGMEAほか
■塗布方法：シャワーまたはノズル
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基板・フォトマスク洗浄用治具『特注カセット・ビーカー』
『洗浄用カセット』は、基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能な
耐薬液及び耐摩耗性に優れたPTFE製カセットです。
ご要望の基板サイズ・形状・スロット数で製作が可能なほか、着脱可能な
ハンドルも製作いたします。
また、PTFE製または石英製「洗浄用ビーカー」もご用意しております。
当社では、耐薬品性、耐摩耗性に優れた特注品の設計・製作を承ります。
さまざまな設 計のご要望にお応えします。詳細はお問合せください。
【特長】
■材質：PTFE
■各種基板サイズに対応
■ご要望のサイズ、形状、スロット数で設計・製作
■1個から製作可能
■基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能
※詳しくは弊社ウェブサイトまたはPDF資料をご覧いただき、お気軽にお問い合わせ下さい。
【無償サンプルあり】グリコールエーテル
この製品群は、当社は世界でも類をみないほど多くの品種を生産しております。さらに独自の精製技術により、低臭気・低金属のグリコールエーテルを生産しております。
グリコールエーテルは、主に塗料、インク、洗剤、電子材料の溶剤に使用されております。
グリコールエーテルの中でもジアルキルグリコールエーテルは樹脂を溶解させるだけでなく 金属を分散させるので、電子材料の溶剤、医薬品の合成に使用されております。
また、芳香族系、脂肪族系、エステル系のグリコールエーテルは、主にアクリル、ポリエステルなど樹脂原料に使用されております。
＜用途/実績例＞
可塑剤、希釈剤、成膜助剤、ハンダ、医薬・有機合成の反応溶剤、ブレーキ液、洗浄剤、半導体・電子材料用、その他
※詳しくはPDF資料をダウンロードし、ご確認をお願いし致します。
お問い合わせにより無償サンプルを進呈しております。
品番選定、SDS、法規制情報、委託生産、国内製造対応、BCP対策などお気軽にお問い合わせください。
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化
レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？
半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。
課題
残留レジストによる歩留まり低下
剥離・洗浄が不十分な場合、残留レジストが後工程での欠陥原因となり、歩留まりを著しく低下させる。
洗浄液の過剰使用とコスト増
洗浄効率が低いと、洗浄時間を延長したり、洗浄液の使用量を増やしたりする必要があり、製造コストが増大する。
ウェハー表面へのダメージ
過度な洗浄や不適切な洗浄方法により、ウェハー表面や微細構造にダメージを与え、デバイス性能に影響を及ぼす可能性がある。
洗浄ムラによる性能ばらつき
洗浄効率のばらつきにより、ウェハー表面で洗浄ムラが発生し、デバイス性能のばらつきを引き起こす。
対策
洗浄液組成の最適化
レジストの種類やウェハー材質に適した洗浄液を開発・選定し、剥離性能とダメージ低減を両立させる。
洗浄プロセスの精密制御
温度、圧力、流量、時間などの洗浄条件を精密に制御し、均一で効率的な洗浄を実現する。
超音波・マイクロバブル技術の活用
物理的な洗浄力を高めるために、超音波やマイクロバブルを発生させる装置を導入し、微細な異物除去能力を向上させる。
インラインモニタリングとフィードバック
洗浄工程中に洗浄状態をリアルタイムで監視し、異常を検知した場合に自動で条件を調整するシステムを構築する。
対策に役立つ製品例
高性能剥離洗浄液
特定のレジストに対して高い剥離性能を持ちつつ、ウェハー表面へのダメージを最小限に抑えるように設計された洗浄液。
精密洗浄装置
温度、流量、圧力などを高精度に制御し、均一な洗浄を実現する機能を備えた半導体製造装置。
洗浄効果向上添加剤
既存の洗浄液に添加することで、レジスト剥離能力や異物除去能力を向上させる化学物質。
洗浄状態可視化システム
洗浄工程中のウェハー表面の状態をリアルタイムで画像解析し、洗浄ムラや残留物を検知・評価するシステム。
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