洗浄効率の最適化とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、製造プロセスの品質を維持するために、温度管理が非常に重要です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、冷却水や温水の適切な供給が不可欠です。配管のねじれや損傷は、温度管理の精度を低下させ、製品の歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があります。TBグローバルテクノロジーズのスイベルジョイントは、360度回転することで、配管のねじれや損傷を解消し、安定した流体供給を実現します。これにより、温度管理の精度を向上させ、半導体製造における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・クリーンルーム内の冷却水配管
・高温環境下での冷却配管
・精密機器への温水供給

【導入の効果】
・配管の取り回しが容易になり、メンテナンス性が向上
・ホースの破損リスクを低減
・温度管理の安定化による歩留まり向上

半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薬液の正確な定量注入が求められます。不適切な薬液供給は、製品の不良や製造効率の低下につながる可能性があります。当社酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の薬液を正確に送るソレノイド駆動方式を採用しています。これにより、半導体製造プロセスにおける薬液供給の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・フォトリソグラフィー工程における現像液供給
・エッチング工程における薬液供給
・洗浄工程における薬液供給

【導入の効果】
・薬液供給の精度向上
・製品の品質向上
・歩留まりの改善

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。

【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上

半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・電子部品の洗浄
・製造装置の洗浄

【導入の効果】
・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減
・洗浄力の向上による品質向上
・ランニングコストの削減

半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。

【導入の効果】
・液ダレによる製品不良の削減
・洗浄液の使用量最適化
・洗浄工程の効率化

半導体業界の洗浄工程では、精密な部品の品質を維持するために、薬液の正確な供給が求められます。特に、異物混入や薬液の偏りは、製品の歩留まりを低下させる要因となります。WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』は、安定した運転と低騒音を実現し、精密な洗浄プロセスをサポートします。

【活用シーン】
* 半導体製造工程における薬液供給
* ウェーハ洗浄
* 基板洗浄

【導入の効果】
* 薬液供給の安定化による品質向上
* 低騒音化による作業環境の改善
* コンパクト設計による省スペース化

電子業界の洗浄工程では、高い清浄度が求められます。洗浄液やプロセスガスに含まれる酸性ガスや微粒子は、洗浄システムの性能を低下させ、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を効果的に除去し、洗浄システムの信頼性を高めます。

【活用シーン】
・半導体製造工程
・電子部品の洗浄工程
・基板製造工程

【導入の効果】
・洗浄液やガスの清浄度向上
・システムのダウンタイム削減
・製品の品質向上

【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。

当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。

【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）

【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上

電子機器業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密洗浄が不可欠です。特に、小型化・高密度化が進む電子部品においては、微細な汚れや異物が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。洗浄不良は、製品の誤作動や寿命低下につながるため、適切な洗浄方法の選定が重要です。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、お客様の課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・電子部品製造
・基板実装
・半導体製造

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・不良率の低減
・製品信頼性の向上

半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・半導体製造工程における異物除去
・洗浄工程の最適化による歩留まり改善
・洗浄剤選定によるコスト削減

【導入の効果】
・洗浄品質の向上による歩留まり改善
・不良率の低減
・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上

電子部品製造業界では、製品の品質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・電子部品の製造工程における精密洗浄
・基板や半導体部品の洗浄
・製造後の最終クリーニング

【導入の効果】
・高い洗浄力で、電子部品の品質向上
・水のみを使用するため、環境負荷を低減
・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現
・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能

電子機器業界の精密洗浄工程では、異物の混入が製品の品質を大きく左右します。特に、洗浄液中の微細な異物は、配管詰まりを引き起こし、洗浄効率の低下や製品不良の原因となります。MAGPICKERは、配管の上流でカスや端材に含まれる磁性体と非磁性体を同時に回収することで、配管詰まりのリスクを軽減し、安定した洗浄工程をサポートします。

【活用シーン】
・電子機器製造における精密洗浄工程
・ケミカル材料製造工程
・配管詰まりによる生産停止リスクの低減

【導入の効果】
・配管清掃費用、修繕費の軽減
・洗浄工程の安定化
・製品品質の向上

半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスにより、ランニングコストの低減にも貢献します。

再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施
異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。

既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。
（再生成績証明書の発行可能）
ランニングコスト低減のお役に立ちます。

【活用シーン】
・半導体製造工場の洗浄工程
・精密部品の洗浄
・研究開発における純水利用

【導入の効果】
・高品質な純水による製品品質の向上
・ランニングコストの削減
・安定した純水供給による生産効率の向上

電子部品の洗浄工程では、安定した蒸気供給が品質と効率を左右します。蒸気配管のドレン（水分）は、洗浄プロセスの妨げとなり、製品の品質低下やエネルギー効率の悪化を招く可能性があります。PHV-Rシリーズは、ドレンを連続して排出することで、安定した蒸気供給を実現し、洗浄品質の向上に貢献します。可動部がないため、故障のリスクを低減し、メンテナンスコストを削減します。

【活用シーン】
・電子部品の洗浄工程における蒸気配管
・洗浄後の乾燥工程
・蒸気を使用するあらゆる工程

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・エネルギー効率の改善
・メンテナンスコストの削減
・安定した蒸気供給による生産性の向上

半導体製造業界では、製造プロセスにおける排気ガスの効率的な処理が求められます。特に、真空環境下でのガス排出は、製品の品質と製造効率に大きく影響します。不適切な排気は、製品の不良や製造時間の増加につながる可能性があります。KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプは、高い真空度と圧力性能により、半導体製造における排気プロセスを最適化します。

【活用シーン】
・半導体製造装置の排気
・真空チャンバーからのガス排出
・分析装置におけるガス排出

【導入の効果】
・高い真空度と圧力性能による効率的な排気
・製品品質の向上
・製造プロセスの最適化

電子部品製造業界の品質管理において、洗浄工程は製品の信頼性を左右する重要な要素です。洗浄槽内のキャビテーション強度の変化や経年劣化は、洗浄効果の低下や製品への悪影響を引き起こす可能性があります。これらの問題を未然に防ぎ、安定した品質を維持するためには、洗浄槽の状態を正確に把握し、適切な管理を行うことが不可欠です。PT-VM02は、洗浄槽の状態を数値化することで、品質管理における課題解決をサポートします。

【活用シーン】
・洗浄槽の日常管理
・経年劣化管理
・洗浄装置の性能比較
・キャビテーション強度の評価

【導入の効果】
・洗浄槽の状態を可視化し、異常を早期発見
・洗浄工程の最適化による品質向上
・装置の安定稼働と製品の歩留まり向上
・メンテナンスコストの削減

極低圧の 0.002 MPaから 0.01 MPa (最大許容圧力 0.1 MPa)まで切れ目のないラミナー状の噴射が可能なノズルです。
スリット幅：100～3000mm、スリット厚：0.15～0.3mmまで用途、製品幅に応じ幅広く対応が可能です。

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ウォーターナイフのデモ機貸出サービスを実施中です。
導入前の性能確認・仕様決定のご参考としてご利用ください。
詳しくは下記フォームよりお問い合わせください！

ノースヒルズ溶接工業は、航空宇宙、エネルギー、半導体、検査機器、
防衛関連のコア部分の製品づくりを行っている会社です。
製造・ご注文の流れより、表面処理の中の精密洗浄について説明いたします。

当社では、ベーパー式超音波洗浄装置を使用した精密洗浄を行っております。
ベーパー式超音波洗浄装置を使用することにより、高品質な溶接が可能となり、
半導体の部品を綺麗な状態で提供することができます。

500×500×500（ｍｍ）までの部品を洗浄可能。
納期は、最短で即日出荷、単価は1500円より承っております。

【特長】
■ベーパー洗浄槽：専用液から出る蒸気で汚れを浮かせ洗浄
■超音波槽：超音波の振動により細部の汚れを浮かし取り除く
■リンス槽：最終的な汚れを取り除く
■ベーパー洗浄槽：蒸気で乾かしながら、細部の汚れを落とす

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

■卓上型で大出力(600W/1200W)
■大型器具、機械部品などに対応した洗浄が可能となりました。
■操作部に光電式センサ及び音声ガイドを採用。
■濡れた手や汚れた手でスイッチに接触せずに音声ガイドにより確認しながら操作できます。
■発振周波数及び設定した出力にて自動追尾
■安定した洗浄力が得られます。また、発振異常時用のアラーム表示付です。
■排水ドレインコック以外にもオーバーフロー用ドレイン取付穴を設置
■循環システムへの拡張が容易になりました。

『ASM401N』は、高出力・長寿命型低圧水銀ランプを採用した
UVオゾン洗浄表面改質装置です。

スピーディな処理が可能で、熱処理と違い、ワークへの熱弊害を軽減します。
また、コンパクトな箱型設計で、設置エリアも少なく、設置も簡易です。

オゾン漏れや紫外線漏れの心配がなく、扉開時にはランプが消灯
する安全設計です。

【特長】
■コンパクト
■ローコスト
■安全設計
■取扱いと設置が簡単
■スピーディな処理

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー（研磨材）の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。

当社が行った、スラリーアームの洗浄前と洗浄後をご紹介しています。

今なら資料を無料進呈中！

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

PTMポンプミキサーは、お客様に用意いただいたタンク内部のミキシング(攪拌)とタンクから別の場所への移送を一台のコンポーネントでおこなう、革新的なシステムです。
攪拌はポンプの吐出噴流を用います。ポンプは、弊社の磁気浮上型ベアリングレスポンプシステムをベースにしており摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的な非接触ポンプ兼ミキサーです。
磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。
インペラとケーシングは、共に耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石と共にポンプヘッドを構成しています。

『CFL7300』は、有機合成で製造される電子フッ素化液です。

電子洗浄剤、絶縁冷却材。電子部品、精密光学機器、半導体装置などの
精密洗浄、冷熱衝撃実験液、熱交換冷媒、伝熱、潤滑材などに好適。

応用分野は、フッ素系クーラント液、電子洗浄剤、油取りです。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【規格指標(一部)】
■Name：3-Methoxyperfluoro(2-methylpentane)
■Code：CFL7300
■Benchmarking：3M Novec 7300
■CAS：132182-92-4
■Vapor Pressure：4.5kPa(20℃)
■Thermal Conductivity：0.062W・m-1・k-1(25℃)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

部品等の精密洗浄用途に好適なオゾン水生成装置です。
小型でありながら大流量かつ安定的にオゾン水が使用できます。

【特長】
■循環方式採用：溜まり水・捨て水が極めて少ない
　　　　　　　　濃度の立ち上がりが早い（1分でオゾン水を生成）
　　　　　　　　洗浄プロセスでのオゾン水濃度・流量が安定
■メタルフリーオゾン水：独自技術により半導体洗浄に適したオゾン水を生成
■小型・軽量・冷却水不要：外寸611Ｗ×590Ｄ×1317Ｈ、重量約87ｋｇ
　　　　　　　　　　　　　冷却用ラジエータを搭載

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

『Halocarbon HFE』は、地球温暖化係数(GWP)が低く、
オゾン層破壊係数(ODP)がゼロのフッ素系溶剤です。

不燃性、環境への影響の改善、および材料への適合性を有し、
電子機器の洗浄、蒸気脱脂、および関連する精密洗浄用途での
洗浄性能を向上させる溶剤として使用。

一般的な洗浄溶剤に代わる安全で環境に配慮した代替品です。

【特長】
■低毒性・不燃性
■国内法規対応済み(化審法、労安法)
■すでに継続的な商業生産を行っている
■北米における安定した原料調達

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、お客様のご要望にお応えするため各種お役立ちツール
『真空関連機器およびオリジナル関連機材の販売　洗浄ジグなど』
を設計・製造・販売しております。

【特徴】
[洗浄ジグ]
○お客様のご希望に合わせたガラス基板対応
[有機物用蒸着ボート]
○米国マチス社製
○お客様のニーズにあった種類のボードをご提供
[キャリアボックス]
○グローブボックス内で成膜された基板を、大気に触れないように別の場所に搬送
[計測チャンバー]
○真空環境下で有機ELデバイスの光学特性を測定

MHD放電を用いて高酸素ラジカルを生成。
工程速度(200mm/sec以上)の高速により、
既存のN2プラズマ4台以上に相当する生産効果があります。
生産量を画期的に向上させることで工程費用削減につながり、CO2 削減することでSDGsに貢献できます。
また、3D形状製品、面積の広い製品や表面活性化が難しい材料においても表面処理に対して好適です。
これまでのプラズマ洗浄機の問題点を解決しつつ、さらに性能をアップグレードさせた新しいプラズマ洗浄ソリューションです。
サンプル評価後、導入検討大歓迎です。

日本エクセル株式会社では『ケミカルサーキュレータ』を取り扱っております。

当製品は、RCA洗浄やウェットエッチングで用いられる薬液の温度を高精度に
コントロール可能。ゴムOリングが直接液に触れないシール構造のため
酸性液、アルカリ性液など薬液毎のシール材質の選定が不要です。

また、冷却加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用しており
溶出金属イオンによる汚染の心配がなく、表面保護膜も不要のため
剥離による能力低下もありません。

【特長】
■薬液の温度を高精度にコントロール
■電子冷熱方式のため、室温付近の温度コントロールに適し且つ高精度
■国際保護規格IP31に適合
■漏液センサ、温度スイッチを内蔵
■高メガピット化に伴うクリーン度アップのご要求にお応え

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ファインソニック』は、均一な音圧を実現できる洗浄ユニットです。

1W刻みの安定した出力調整が可能。各種ウエハー基板洗浄や
各種フォトマスク、磁気ディスクなどに適しております。

また、最大出力アップで洗浄エリアの拡大に貢献します。
ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■均一な音圧を実現
■多彩な周波数を選択可能[750kHz/(1000kHz)/(1500kHz)/2000kHz]
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能
■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大
■通信機能：発振器状態の監視、外部設定(PT-150MV)
■各種規格対応(FCC,CE,RoHS)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『小型溶剤回収装置　CA-100シリーズ』は、
廃溶剤の排出量が月2ton以下の処理に適した溶剤回収装置です。
また、回収対象溶剤の沸点が凡そ250℃以下であれば「非防爆エリア」、「防爆エリア」問わず設置、溶剤回収が可能です。
本製品は有機溶剤を使用しているモノづくり企業で幅広く活用されております。

【特長】
・接液部は全てSUS304製
・複雑な操作は無くボタン一つで簡単に操作可能
・堅牢でメンテナンスも容易な為、長期にわたって使用が可能
・一斗缶ごと廃液を投入、処理が可能
・真空減圧タイプ、防爆タイプもラインアップ
・使用環境に応じたカスタムオーダーメイド可能

『APS-HQシリーズ』は、洗浄ワークを上下から洗浄することでムラのない
洗浄が可能な精密洗浄機です。

洗浄ワークは水中を貫通するため、汚れの再付着を防ぎます。

また、中高圧揺動シャワーでムラのない洗浄ができ、洗浄ワークに合った
ノズルを選定いたします。

【特長】
■上下対向超音波波振動子
■サインジェット
■吹き飛ばし乾燥

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

『基板洗浄装置』は、島田テクノロジー株式会社が取り扱っている製品です。

半導体・フラットパネル分野で培われた洗浄・乾燥技術を駆使し、高品質・
低ダメージなどさまざまな洗浄ニーズにお応えします。

また、被洗浄物に合わせた装置設計により、省スペース・省ユーティリティーを
実現し、環境負荷低減に貢献する各種精密洗浄装置群を提供します。

【特長】
■培われた洗浄技術
■環境負荷低減を実現
■さまざまな洗浄ニーズにお応え
■小型洗浄から自動洗浄まで幅広く対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

純水系洗浄装置は、真空洗浄、QDRシステム、超音波洗浄、温純水低速引き上げ、真空乾燥システムなど優れたテクノロジーを組合せた洗浄システムです。あらゆる純水系洗浄システムに対応しておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問い合わせ下さい。

【ラインアップ】
■自動純水器
■純水再生ユニット
■自動BGA、CSP半導体洗浄装置
■6槽式純水洗浄装置
■自動NMP剥離装置など

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

『ファインスコール』は、FPD用基板洗浄や各種ウエハー基板洗浄などに
適した洗浄ユニットです。

洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ。
きめ細やかなサイズバリエーションをご用意しております。

また、最大出力アップで、洗浄エリアの拡大及びコストダウンに貢献します。
ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■きめ細やかなサイズバリエーション
■洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-150MV)
■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大及びコストダウン
■通信機能：発振器状態の監視、外部設定
■各種規格対応(FCC,CE,RoHS)

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

奥田貿易株式会社の取り扱う『半導体・FPD市場製品』についてご紹介します。

工程の合理化、作業環境の改善に貢献する「シグナスローラー」をはじめ、
微小な異物も効率よく除去する「ブラシローラー、ブラシシート」や、
「O-RING」などを各種ご用意。

ご要望に合わせてお選びいただけます。

【ラインアップ】
■PVAスポンジブラシ
■ナイロンブラシ
■O-RING
■セラミック精密部品加工
■包装緩衝材

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『洗浄用カセット』は、基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能な
耐薬液及び耐摩耗性に優れたPTFE製カセットです。

ご要望の基板サイズ・形状・スロット数で製作が可能なほか、着脱可能な
ハンドルも製作いたします。
また、PTFE製または石英製「洗浄用ビーカー」もご用意しております。

当社では、耐薬品性、耐摩耗性に優れた特注品の設計・製作を承ります。
さまざまな設計のご要望にお応えします。詳細はお問合せください。

【特長】
■材質：PTFE
■各種基板サイズに対応
■ご要望のサイズ、形状、スロット数で設計・製作
■1個から製作可能
■基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能

※詳しくは弊社ウェブサイトまたはPDF資料をご覧いただき、お気軽にお問い合わせ下さい。

『PURMS＋Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、
剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。

液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。
また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。

【特長】
■リンス排水は生化学処理が可能
■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い
■下地の金属にダメージを与えない　など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

本装置は、シリコンウェハー，液晶ガラス基板，ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。

【特徴】
○純水加熱容器は石英ガラスを使用
○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用
○純水加熱に好適なカーボンヒーターを使用
○加熱効率が９６％以上
○PID制御による±1℃の安定した温度制御
○起動から使用温度まで120秒以内の昇温
○幅広い使用流量・温度に対応
○流量変化に対応した温度調整が可能

※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。
※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

精密な基盤にレジスト液を塗布する装置部品への表面処理の事例をご紹介します。

■ご相談
フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、
吸着治具にレジスト液が精密な基盤にレジスト液を塗布する工程でのご相談でした。

■お悩み
フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、
吸着治具にレジスト液が付着して、次に搬送される基板に治具のレジスト液がくっついてしまう問題が発生。
基板へのレジスト液の付着は製品不良になるため、
搬送治具の清掃頻度を増やさざるを得ず、生産性も上がりませんでした。

■ご要望
問題を解決するため当初はテフロンTMコーティングで試作しましたが、
コーティングのわずかな表面の凹凸が薄い基板に模様として転写し、
製品不良となってしまいました。
問題解決には精密性とレジスト液の付着防止を両立させる表面処理が
必要でした。

【解決課題】
・レジスト液の付着
・清掃時間
・コーティングの厚みムラ

■採用コーティング
『ナノプロセス(R)　TC-10』

※詳しい解決の内容はPDFをダウンロードしてご覧頂くかお問い合わせください。　

洗浄再生事業部では、お預かりから納入まで厳密な工程管理体制のもと、
たしかな技術で様々な部品を地球に配慮し洗浄・再生します。

市場が高まるLED・パワーデバイス製造装置に使用している構成パーツを、
母材を傷めることのない「ドライ洗浄サービス」などを展開。

MOCVD装置の構成部品をドライ洗浄することで、再利用することが可能になり、
お客様のコスト削減に大きく貢献しています。

【ドライ洗浄サービス 特長】
■市場が高まるLED・パワーデバイス製造装置に使用している構成パーツを
　母材を傷めることがない
■MOCVD装置の構成部品をドライ洗浄することで、再利用することが
　可能になり、お客様のコスト削減に大きく貢献

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体製造プロセスとは、
設計から半導体デバイスを作り出し出荷するための一連の工程のことです。
半導体デバイスは、コンピュータ、スマートフォン、車載電子機器、LEDなど、
現代の様々な電子機器に利用される不可欠な部品です。

半導体製造プロセスは、高純度な精密性の高い技術を要するため、
多くの場合自動化されたクリーンルームで行われます。

1．設計→フォトマスクの製作
　論理回路設計・レイアウト設計・フォトマスク製作
2．前工程（ウエハー加工）
　シリコンウェハーの調達→洗浄→成膜→フォトリングラフィー→イオン注入→配線→検査
3．後工程（組み立て）
　ダイシング→ダイボンディング→ワイヤボンディング→封入→ハンダボール搭載→分離→捺印→検査→梱包・出荷

半導体製造プロセスにおいて、
特に前工程ではナノレベルの精密性を必要とするため
高い純粋性や精密性が求められます。

フッ素樹脂コーティングを始めてとする表面処理は、
半導体製造を支え、日本が得意とする半導体製造装置の
一翼を担っています。

以下では半導体製造で欠かせない表面処理についてご紹介します。

TBグローバルテクノロジーズのスイベルジョイントは、データセンターの液冷・水冷配管や食品・医薬・化学工場の流体移送配管に適した回転継手です。
ホースの可動時やカップリングの着脱時に発生する負荷やねじれを解消できるためホースの取り回しがやメンテナンス性が向上します。

スイベルジョイントは1950年代から食品・飲料、化学、医薬、半導体、石油、製鉄など幅広い産業で採用されてきました。

その中でもサニタリースイベルジョイントは、回転部をノングリース設計とし、コンタミネーションリスクを低減しています。
液だまりが発生しにくい形状を採用しているため、洗浄性・衛生面で特に優れており、食品・医薬・データセンター分野のサニタリー配管に適しています。

洗浄王Fシリーズはパーティクル（微粒子）を除去するコンパクト洗浄機です。
フッ素系溶剤を使用するため熱をかけずに乾燥することが可能で、コスト削減につながります。
弊社では各種メーカーの溶剤を取り揃えており、お客様のニーズに合った溶剤を提案いたします。
センサーや液晶の洗浄に最適です。
テストルームのご用意もございます。

詳細はお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

ヴァリアス社製の「自動洗浄装置、レジスト剥離装置」は、
多種の洗浄物に対応した洗浄レシピを搭載。
処理能力に対応した自動搬送型で、剥離液にはリークの無い配管を使用。
ポンプもシールレス採用しています。

【特徴】
○溶剤により防爆仕様対応
○超音波は各メーカー、周波数に対応
○装置内はFFU搭載も可能

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

ＡＱヒーターは、半導体製造プロセスの洗浄用・各種薬液の加熱を
低温で加熱できるヒーターです。

接液部は全て高純度の透明石英ガラスで、又当社独自の赤外線加熱の為、
不純物（ガラスの溶出）の汚染を最小限に抑え、且つ安全にご使用頂ける
ヒーターです。


・加熱方式が当社独自の赤外線加熱方式の為、流体のピーク　波長が近いので透過率を最小限に抑え、また昇温時間が極　めて早い。
・流体のピーク波長に近い為、ヒーター表面温度を低くし、
　不純物（ガラスの溶出）の汚染を最小限に抑えます。
・コンパクト設計の為、小スペースで取り付けが出来ます。

「2槽式フッ素系洗浄装置」は、フッ素系溶剤を用いて、パーティクル除去を行う溶剤系洗浄システムです。
第1槽で浸漬洗浄、第2槽でベーパー洗浄を行うことにより、高い洗浄精度と乾燥性を実現します。
また、大型設備へのスケールアップを行うことも可能です。

【特長】
○多孔板を用いた洗浄槽内の濾過システム
→洗浄槽に多孔板を設置し、洗浄剤を吐出あるいは回収、槽内の清浄度を高める
→パーティクルの比重や水流に左右されずに、効率よく浄化をする事が可能
→排出されるバランスは、調整バルブA～Cにより調節する事が可能

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『N9000シリーズ』は、サブミクロンのパーティクルを除去する
超精密洗浄のための次世代高周波超音波洗浄機です。

約10万G（1MHz/730kHzの場合）の加速度で水分子を振動させ、
その力でパーティクルを被洗浄物から剥離します。

接続する超音波振動子は、
洗浄槽のサイズや仕様に応じて個別に設計・製作いたします。

【特長】
■高ワット密度
■容易で多彩な出力設定で生産性向上
■容易なセッティングと作業効率性の向上
■ユーザビリティに優れたインターフェイス
■グローバル対応が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、ガスケミカル『スルフォラン』を取り扱っています。

「一般品規格」の純度は97.0～98.0％、水分は2.0～3.0％。
「電子材料用特別規格」の純度は99.9％以上となっております。

BTX抽出溶媒をはじめ、反応溶媒、半導体用洗浄剤、コンデンサや
二次電池の電解液などにご活用いただけます。

ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■テトラヒドロチオフェン－1，1－ジオキシド
■CAS No.126-33-0

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『大型溶剤回収装置　CA-800シリーズ』は、
廃溶剤の排出量が月1ton以上の処理に適した溶剤回収装置です。
また、回収対象溶剤の沸点が凡そ250℃以下であれば「非防爆エリア」、「防爆エリア」問わず設置、溶剤回収が可能です。
本製品は有機溶剤を使用しているモノづくり企業で幅広く活用されております。

【特長】
・接液部は全てSUS304製
・加熱源はヒートパイプ又は、スチームで選択可能
・複雑な操作は無くボタン一つで簡単に操作可能
・堅牢でメンテナンスも容易な為、長期にわたって使用が可能
・ドラム缶又は、貯蔵タンクから自動で給排液が可能
・使用環境に応じたカスタムオーダーメイド可能
・運転状況の遠隔監視可能　※オプション

※詳しくはPDFをご覧いただくかお問い合わせください。

樹脂チャンネルロールブラシ(オールナイロンブラシ)は、FPD精密洗浄に使用されて来た従来のステンレスチャンネルと異なり、洗浄品質の向上(金属イオンの汚染)、精度向上(軽量化)を可能とした洗浄ブラシです。微細な612 ナイロン100・70μを高密度で溶着加工しています。●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問合わせ下さい。