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洗浄効率の最適化とは？課題と対策・製品を解説
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？
半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。
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【半導体向け】酸性液対応 TSPポンプ ACモデル
半導体業界では、製造プロセスにおける薬液の正確な供給が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薬液の正確な定量注入が求められます。不適切な薬液供給は、製品の不良や製造効率の低下につながる可能性があります。当社酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた材質を採用し、少量の薬液を正確に送るソレノイド駆動方式を採用しています。これにより、半導体製造プロセスにおける薬液供給の課題解決に貢献します。
【活用シーン】
・フォトリソグラフィー工程における現像液供給
・エッチング工程における薬液供給
・洗浄工程における薬液供給
【導入の効果】
・薬液供給の精度向上
・製品の品質向上
・歩留まりの改善
【電子機器向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
【電子業界向け】バブルスクラバー
【半導体微細化向け】レジスト剥離・リフトオフ装置
【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。
当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。
【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）
【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上
【半導体製造向け】スイベルジョイント
半導体製造業界では、製造プロセスの品質を維持するために、温度管理が非常に重要です。特に、精密な温度制御が求められる工程においては、冷却水や温水の適切な供給が不可欠です。配管のねじれや損傷は、温度管理の精度を低下させ、製品の歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があります。TBグローバルテクノロジーズのスイベルジョイントは、360度回転することで、配管のねじれや損傷を解消し、安定した流体供給を実現します。これにより、温度管理の精度を向上させ、半導体製造における品質向上に貢献します。
【活用シーン】
・クリーンルーム内の冷却水配管
・高温環境下での冷却配管
・精密機器への温水供給
【導入の効果】
・配管の取 り回しが容易になり、メンテナンス性が向上
・ホースの破損リスクを低減
・温度管理の安定化による歩留まり向上
【半導体向 け】ケミカルポンプ修理
【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。
【活用シーン】
・半導体製造工程における異物除去
・洗浄工程の最適化による歩留まり改善
・洗浄剤選定による コスト削減
【導入の効果】
・洗浄品質の向上による歩留まり改善
・不良率の低減
・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上
【半導体製造向け】シャッ トオフノズル FT1Rシリーズ
【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】
半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。
特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。
従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。
当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。
これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。
【活用シーン】
・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程
・クリーンルーム内での使用（クラス100対応）
【導入の効果】
・乾燥工程の削減によるコスト削減
・生産ラインの効率化
・不良品の削減による歩留まり向上
【電子部品洗浄向け】スチームトラップ PHV-Rシリーズ
【電子部品向け】回転式エアーナイフによる基板乾燥
【電子機器向け】MAGPICKERによる精密洗浄の配管詰まり対策
【半導体洗浄向け】WRS モーター駆動ポンプ『MG シリーズ』
KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプ
【電子部品製造向け】PT-VM02 超音波音圧センサー
電子部品製造業界の品質管理において、洗浄工程は製品の信頼性を左右する重要な要素です。洗浄槽内のキャビテーション強度の変化や経年劣化は、洗浄効果の低下や製品への悪影響を引き起こす可能性があります。これらの問題を未然に防ぎ、安定した品質を維持するためには、洗浄槽の状態を正確に把握し、適切な管理を行うことが不可欠です。PT-VM02は、洗浄槽の状態を数値化することで、品質管理における課題解決をサポートします。
【 活用シーン】
・洗浄槽の日常管理
・経年劣化管理
・洗浄装置の性能比較
・キャビテーション強度の評価
【導入の効果】
・洗浄槽の状態を可視化し、異常を早期発見
・洗浄工程の最適化による品質向上
・装置の安定稼働と製品の歩留まり向上
・メンテナンスコストの削減
【半導体洗浄向け】カートリッジ純水器／イオン交換樹脂の再生
半導体業界の洗浄工程では、製品の品質を左右する純水の水質管理が重要です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる要因となります。当社製品は、15MΩ・cm以上の純水を生成し、高品質な洗浄をサポートします。カートリッジ純水器の再生サービスに より、ランニングコストの低減にも貢献します。
再生したイオン交換樹脂はクリーンルームで保管・充填・検査を実施
異業種様の混合を避けるため、お客様の用途・業種・原水でイオン交換樹脂を管理しております。
既設の純水器からの切り替えは不安もあるかと思いますのでお試しで純水器を貸し出す事も可能です。
（再生成績証明書の発行可能）
ランニングコスト低減のお役に立ちます。
【活用シーン】
・半導体製造工場の洗浄工程
・精密部品の洗浄
・研究開発における純水利用
【導入の効果】
・高品質な純水による製品品質の向上
・ランニングコストの削減
・安定した純水供給による生産効率の向上
【電子機器向け】洗浄剤総合カタログ
【半導体向け】ナノバブル発生装置 YJノズル
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、精密洗浄においては、微細な隙間や複雑な形状への洗浄液の浸透性と、異物の確実な除去が求められます。従来の洗浄方法では、目詰まりや洗浄力の不足が問題となることがあります。YJノズルは、完全ストレート構造により目詰まりを抑制し、マイクロ・ナノバブルの力で洗浄力を向上させます。これにより、半導体製造における精密洗浄の課題解決に貢献します。
【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・電子部品の洗浄
・製造装置の洗浄
【導入の効果】
・目詰まりによるメンテナンス頻度の削減
・洗浄力の向上による品質向上
・ランニングコストの削減
【電子機器向け】洗浄ユニット『ファインジェット』
【電子部品製造向け】スーパーアルカリイオン水生成装置
電子部品製造業界では、製品の品 質と信頼性を確保するために、精密な洗浄が不可欠です。特に、微細な部品や複雑な構造を持つ電子部品においては、異物や油分を完全に除去することが重要です。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障の原因となり、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スーパーアルカリイオン水生成装置『UF-30-L-RO』は、pH12.5のアルカリイオン水を生成し、水だけで高い洗浄力を実現します。これにより、電子部品を傷つけることなく、効果的に汚れを除去し、製品の品質向上に貢献します。
【活用シーン】
・電子部品の製造工程における精密洗浄
・基板や半導体部品の洗浄
・製造後の最終クリーニング
【導入の効果】
・高い洗浄力で、電子部品の品質向上
・水のみを使用するため、環境負荷を低減
・塩素ガスの発生がなく、安全な作業環境を実現
・タッチパネル操作で、容易な運転操作が可能
【電子機器向け】ブラストロボット洗浄ロボットシステム
電子フッ素化液『CFL7200』
中村科学器械工業株式会社で取り扱う、電子フッ素化液『CFL7200』を
ご紹介いたします。
電子洗浄剤、絶縁冷却材。電子部品、精密光学機器、半導体装置などの
精密洗浄、冷熱衝撃実験液、熱交換冷媒、伝熱、潤滑材などに使用可能。
ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。
【規格指標(抜粋)】
■Name：Perfluoroisobutyl Ethyl ether
■Code：CFL7200
■Benchmarking：3M Novec 7200
■CAS：163702-06-5
■Vapor Pressure：14.5kPa(25℃)
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
洗浄ユニット『ファインスコール』
『ファインスコール』は、FPD用基板洗浄 や各種ウエハー基板洗浄などに
適した洗浄ユニットです。
洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ。
きめ細やかなサイズバリエーションをご用意しております。
また、最大出力アップで、洗浄エリアの拡大及びコストダウンに貢献します。
ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。
【特長】
■きめ細やかなサイズバリエーション
■洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ
■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-150MV)
■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大及びコストダウン
■通信機能：発振器状態の監視、外部設定
■各種規格対応(FCC,CE,RoHS)
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
低価格Ｗｅｔ処理装置
両面スクラブ洗浄装置
当社で取り扱っている「両面スクラブ洗浄装置」について
ご紹介いたします。
研磨後のワークに対し、表裏面を洗剤と純水によってスクラブ洗浄。
その後、二流体洗浄、酸・アルカリ薬液洗浄、メガソニックシャワー
洗浄などの複合洗浄プロセスを行い、最終工程としてスピン乾燥を
実施します。
ワークサイズはΦ2"～12"ウェハ、100～320□mmに対応しており、
サイズ変更による段取り替え不要。横型両面スクラブ洗浄と
縦型との選択が可能です。
【装置構成】
■ローダー：水中槽(Dry-in対応可能)
■スクラブ洗浄：PVA or ナイロンブラシによる表裏面スクラブ洗浄(洗剤・純水洗浄)
■スピン洗浄：二流体洗浄、DHF/SC-1/SPM洗浄(選択)
■リンス：MSシャワー、O3洗浄
■バックリンス：DIW洗浄
■乾燥：N2スピン乾燥
■アンローダー：1～2カセット or FOUP
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
『枚葉式洗浄装置-2』
『枚葉式洗浄装置』は、1.5インチから10世代まで対応可能な大型セル対応の洗浄装置です。
大型化に伴い、新たな問題点(ギャップ部の洗浄・乾燥)を重点課題に、洗浄ユニット
(ブラシ、HPMJ、2流体など)を組み合わせ、乾燥でもエアーナイフ、スポットナイフ、
IRなどを組み合わせることにより、より優れた洗浄と乾燥を実現しています。
また、メンテナンス性、コストパフォーマンスにおいても優れた装置になっています。
PC・テレビ等の液晶パネル、自動車ガラス、ソーラーパネル等に適しています。
【主な洗浄方式】
■接触式：ロールブラシ、ディスクブラシ
■非接触式：中圧シャワー、高圧シャワー、2流体シャワー、
US（低周波・中周波）、MS(高周波）
■ドライ：紫外線照射（エキシマ・低圧水銀）、プラズマ照射、超音波
詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
卓上型超音波洗浄機 WTC-600-40/WTC-1200-40
株式会社ワイ・エムテクノロジー 事業紹介
株式会社ワイ・エムテクノロジーは、主に各種半導体製造工程用自動洗浄機の
製造および販売を行っている会社です。
当社は洗浄装置のコーディネーターであり、装置開発の心臓部にあたる
技術部門と設計部門には特に力を入れております。
お客様のご要望におこたえする、多種多様の洗浄機を取扱っています。
その他にも、エアー弁やポンプなどの部品や樹脂全般加工なども扱っています。
【事業内容】
■各種半導体製造工程用洗浄機
■石英管洗浄装置、カセット洗浄機
■半導体製造後工程用各冶具洗浄装置
■各種ドラフトチャンバー
■薬品配管、洗浄機の改善、改造及びメンテナンス施工
※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
半導体製造プロセスとは？半導体製造を支える表面処理まで紹介
半導体製造プロセスとは、
設計から半導体デバイスを作り出し出荷するための一連の工程のことです。
半導体デバイスは、コンピュータ、スマートフォン、車載電子機器、LEDなど、
現代の様々な電子機器に利用される不可欠な部品です。
半導体製造プロセスは、高純度な精密性の高い技術を要するため、
多くの場合自動化されたクリーンルームで行われます。
1．設計→フォトマスクの製作
論理回路設計・ レイアウト設計・フォトマスク製作
2．前工程（ウエハー加工）
シリコンウェハーの調達→洗浄→成膜→フォトリングラフィー→イオン注入→配線→検査
3．後工程（組み立て）
ダイシング→ダイボンディング→ワイヤボンディング→封入→ハンダボール搭載→分離→捺印→検査→梱包・出荷
半導体製造プロセスにおいて、
特に前工程ではナノレベルの精密性を必要とするため
高い純粋性や精密性が求められます。
フッ素樹脂コーティングを始めてとする表面処理は、
半導体製造を支え、日本が得意とする半導体製造装置の
一翼を担っています。
以下では半導体製造で欠かせない表面処理についてご紹介します。
多槽式超音波洗浄装置
枚葉式スピン洗浄装置
当社で取り扱っている「枚葉式スピン洗浄装置」について
ご紹介いたします。
ワークサイズはΦ2"～12"ウェハ、または角基板
(最大600mm□まで対応可能)。
サイズ変更による段取り替 えは不要です。
自動タイプでは、カセットをローダーにセットすると、
クリーンロボットがワークを搬送し、薬液処理・リンス・
スピン乾燥を自動で行います。手動タイプでは、ワークを
手動でチャックにセットし、同様の工程を実施できます。
【仕様(一部)】
■ワーク材質
・Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LT/LN、セラミック、水晶、樹脂、ガラス、SUS板等
■薬液タンク：本体両側面に薬液供給タンクおよび廃液タンク内蔵可能
■PVAディスクブラシ搭載可能
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
研究開発向け枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置/産業機械
通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発向けメタルリフトオフ処理装置。
コンパクトなTWPmから、搬送ユニットを省いてさらに小型化とコストメリットを追求したモデル。
レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用するこ とも可能で、ランニングコストの削減にも寄与致します。
※レジスト剥離・リフトオフだけでなく、有機洗浄装置としても転用が可能です。
【特長】
■省フットプリント 60%削減（当社比TWPmと比較）
■1チャンバー完結
■薬液の裏面廻り込み防止（特許）
■液・ミストの飛散、再付着防止
※詳しくはお問合せいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
半導体・FPD製造部品 精密洗浄サービス
電気抵抗率測定モジュール Sensingeye741
半導体洗浄装置用ラインヒーター
【無償サンプルあり】グリコールエーテル
この製品群は、当社は世界でも類をみないほど多くの品種を生産しております。さらに独自の精製技術により、低臭気・低金属のグリコールエーテルを生産しております。
グリコールエーテルは、主に塗料、インク、洗剤、電子材料の溶剤に使用されております。
グリコールエーテルの中でもジアルキルグリコールエーテルは樹脂を溶解させるだけでなく金属を分散させるので、電子材料の溶剤、医薬品の合成に使用されております。
また、芳香族系、脂肪族系、エステル系のグリコールエーテルは、主にアクリル、ポリエステルなど樹脂原料に使用されております。
＜用途/実績例＞
可塑剤、希釈剤、成膜助剤、ハンダ、医薬・有機合成の反応溶剤、ブレーキ液、洗浄剤、半導体・電子材料用、その他
※詳しくはPDF資料をダウンロードし、ご確認をお願いし致します。
お問い合わせにより無償サンプルを進呈しております。
品番選定、SDS、法規制情報、委託生産、国内製造対応、BCP対策などお気軽にお問い合わせください。
超音波発振器『メガヘルツシリーズ』
量産向け枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置/産業機械
通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した量産向けレジスト剥離・メタルリフトオフ処理装置。
レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用することも可能で、ランニングコストの削減にも寄与致します。
※レジスト剥離・リフトオ フだけでなく、有機洗浄装置としても転用が可能です。
【特長】
■高い剥離性能をもつ独自のジェットリフトオフ機構
■多品種少量・生産量の変動への対応に向けた、フレキシビリテイの 向上とランニングコストの削減
■枚葉化による品質・歩留り向上( クロスコンタミの無い精密処理の実現と面内の均一性・制御性の向上)
※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
『スピン洗浄装置』
ＡＱヒーター
『半導体部品の精密洗浄』
ノースヒルズ溶接工業は、航空宇宙、エネルギー、半導体、検査機器、
防衛関連のコア部分の製品づくりを行っている会社です。
製造・ご注文の流れより、表面処理の中の精密洗浄について説明いたします。
当社では、ベーパー式超音波洗浄装置を使用した精密洗浄を行っております。
ベーパー式超音波洗浄装置を使用することにより、高品質な溶接が可能となり、
半導体の部品を綺麗な状態で提供することができます。
500×500×500（ｍｍ）までの部品を洗浄可能。
納期は、最短で即日出荷、単価は1500円より承っております。
【特長】
■ベーパー洗浄槽：専用液から出る蒸気で汚れを浮かせ洗浄
■超音波槽：超音波の振動により細部の汚れを浮かし取り除く
■リンス槽：最終的な汚れを取り除く
■ベーパー洗浄槽：蒸気で乾かしながら、細部の汚れを落とす
詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
溶剤系洗浄システム「2槽式フッ素系洗浄装置」
スピン洗浄装置
USLフッ素樹脂製 ウエハー洗浄ホルダー
圧搾空気稼働型パレット洗浄機『ワンエアーポット AP19』
『ワンエアーポット AP19』は、DIP用基板搬送パレットに付着した
フラックスを専用洗浄液により除去する事を目的としたパレット洗浄機です。
電気を使用せず一般圧搾空気(通常はコンプレッサーによる)で稼働。
その為、電気部品が組み込まれておらず機器のスパーク等による発火の
恐れがありません。
また、電気特有の電圧及び周波数を気にする事なく海外での使用にも有効です。
【特長】
■エアー1本でフル 稼働(0.5～0.7MPaのエアー使用)
■圧搾空気で稼働
■二方噴射方式を採用
■大流量コントロールタイマーを搭載
■電気を使用しないデメリットを解消
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
半導体装置部品のひずみを低減した帯電防止フッ素樹脂コーティング
■解決したかったお悩み、実現したかったこと
半導体装置に使用される薄肉のアルミ部品へ帯電防止コーティングをしたいとご相談をいただきました。
従来のフッ素系帯電防止コーティングは高い加工温度での焼成が必要であったため、
アルミ部品のひずみを気にされていました。
帯電防止性能を付与でき、薄肉のアルミ部品でもひずみにくいコーティングを探していました。
■採用されたコーティング
セーフロンLF+
■実現できた効果
帯電防止性能に優れたセーフロンシリーズのうち、セーフロンLF+は最低焼成温度が100℃以下と低く、
焼成によるひずみの軽減が期待できるため、ご提案しました。
テスト、実機での試作にて帯電防止性能の付与、ひずみ問題の解決が確認できたため、
製品のコーティングにご採用いただきました。
新開発のセーフロンLF+は、お客様のさまざまな環境や用途に対応できる帯電防止フッ素樹脂コーティングです。
詳細な情報やその他の製品についてのご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせください。
LCD超高圧洗浄装置
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化
レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは？
半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト膜を効率的かつ均一に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。微細化・高集積化が進む半導体デバイスの品質と歩留まり向上に不可欠な工程であり、生産性向上にも直結します。
課題
残留レジストによる歩留まり低下
剥離・洗浄が不十分な場合、残留レジストが後工程での欠陥原因となり、歩留まりを著しく低下させる。
洗浄液の過剰使用とコスト増
洗浄効率が低いと、洗浄時間を延長したり、洗浄液の使用量を増やしたりする必要があり、製造コストが増大する。
ウェハー表面へのダメージ
過度な洗浄や不適切な洗浄方法により、ウェハー表面や微細構造にダメージを与え、デバイス性能に影響を及ぼす可能性がある。
洗浄ムラによる性能ばらつき
洗浄効率のばらつきにより、ウェハー表面で洗浄ムラが発生し、デバイス性能のばらつきを引き起こす。
対策
洗浄液組成の最適化
レジストの種類やウェハー材質に適した洗浄液を開発・選定し、剥離性能とダメージ低減を両立させる。
洗浄プロセスの精密制御
温度、圧力、流量、時間などの洗浄条件を精密に制御し、均一で効率的な洗浄を実現する。
超音波・マイクロバブル技術の活用
物理的な洗浄力を高めるために、超音波やマイクロバブルを発生させる装置を導入し、微細な異物除去能力を向上させる。
インラインモニタリングとフィードバック
洗浄工程中に洗浄状態をリアルタイムで監視し、異常を検知した場合に自動で条件を調整するシステムを構築する。
対策に役立つ製品例
高性能剥離洗浄液
特定のレジストに対して高い剥離性能を持ちつつ、ウェハー表面へのダメージを最小限に抑えるように設計された洗浄液。
精密洗浄装置
温度、流量、圧力などを高精度に制御し、均一な洗浄を実現する機能を備えた半導体製造装置。
洗浄効果向上添加剤
既存の洗浄液に添加することで、レジスト剥離能力や異物除去能力を向上させる化学物質。
洗浄状態可視化システム
洗浄工程中のウェハー表面の状態をリアルタイムで画像解析し、洗浄ムラや残留物を検知・評価するシステム。
⭐今週のピックアップ
読み込み中
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