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欠陥の早期検出とは?課題と対策・製品を解説
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フォトマスク作成における欠陥の早期検出とは?
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■特徴
Gpixel社のCMOSセンサーGMAX3265を搭載、CXP-12×4Lane出力で最大71fpsの撮像が可能な65MPカメラです。
高解像度・高速性を兼ね備え、Ultra Low Power FPGAの搭載と優れた設計技術によって、業界最小クラスの筐体サイズを実現しました。
消費電力が低く放熱性にも優れているため、冷却ファンやヒートシンクなどの放熱アイテム無しでご使用いただけます。
汎用性に優れたCXP-6×4レーンモデルと、センサーの最速フレームレートを実現するCXP-12×4レーンモデルを用意しており、優れたパフォーマンスを発揮します。
フロント面・4側面に取り付け用タップを装備しており、コネクタ出し方向は背面(ストレートモデル)と上面(アングルモデル)から選択可能ですので、使用環境に合わせてご検討ください。
6500万画素CoaXPressエリアカメラ|GMAX3265
『Torin G8/G10』は、フォトマスク基板にストレスをかけずに垂直に立てて
基板の厚み、平面度を対向する2基の半導体レーザが高精度に計測する
フォトマスク基板検査装置です。
測定範囲は最大2100×2000mmまで可能。
主定盤、コラム、スライド部はすべてインド産黒ミカゲ石を使用し、計測に
重要な計測軸にはエアーベアリングが採用されています。
【特長】
■2基の半導体レーザが高精度に計測
■計測に重要な計測軸にはエアーベアリングを採用
■1基の光学プローブは鏡面基板のみに使用され絶対厚みと両平面度を得られる
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
フォトマスク基板検査装置『Torin G8/G10』
『光ディスクスタンパーのトラブルシューティング』は、
光ディスクスタンパーにおける「突起」の解消と生産性の両立を
目指して行った、突起削減試験を紹介しています。
光ディスクを裏面研磨する際、成形不良や信号面凸発生、ショット数減
などの原因として「突起」があげられます。
仕上げ電鋳、フィルターの見直し、ピット防止剤の選定など、
さまざまな工程を経て、最終条件による6ヶ月のロングラン試験では、
「突起」の発生率が激減し、粗研磨で対応可能となる結果を得ました。
【掲載内容】
■ニッケル電鋳によるスタンパー
■スタンパーの製造行程
■裏面突起不良
■突起削減試験
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【技術資料】光ディスクスタンパーのトラブルシューティング
当社では、FPD関連ガラス加工、特殊用途ガラス加工、プラスチック樹脂加工、
各種ラミネート加工などの板ガラス加工を承 っております。
2003年からの有機EL用封止ガラス、2011年からのスマートフォン用タッチパネル
外形加工の技術を基に、電子部品・ディスプレイ・医療等様々な分野に耐久性、
信頼性、安全性にすぐれたガラス部品の提供が可能です。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【各種ガラス加工】
■有機ELキャップガラス加工
■カバーガラス加工
■AG加工
■特殊形状ガラス加工(異形ガラス)
■スリミング加工 など
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
板ガラス加工サービス
東英産業株式会社は、電子写真用ブラシの開発・製造における
リーディングカンパニーです。
複写機のクリーニング用ブラシに、ウサギの毛から化学繊維の
クリーニングブラシを開発。
また、電子写真に留まらず環境・エネルギーなど様々な用途に
応用できる高機能デバイスの実現に挑戦しています。
【事業内容】
■電子写真装置用ブラシ及び関連部品の開発・製造・販売
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
東英産業株式会社 事業紹介
『Zシリーズ』は、フォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術、
チャージ対策技術をさらに進化させてsub-10 nm先端デバイス用
マスク向けに開発したフォトマスク用CD-SEMです。
EUVマスク、NIL用Qzモールド、PETフィルムモールド、DSAフィルムなど
様々なサンプルに対応しております。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【特長】
■収差補正技術をさらに改良し、高SNRイメージを取得
■低真空技術によるチャージフリーSEM画像を取得、高精度計測が可能
■多彩なアプリケーション
(多点計測・輪郭抽出・2D測定・欠陥レビュー・3D表示)
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
フォトマスク用CD-SEM『Zシリーズ』

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フォトマスク作成における欠陥の早期検出
フォトマスク作成における欠陥の早期検出とは?
半導体製造において、回路パターンをシリコンウェハに転写するための原版となるフォトマスク。その作成工程で発生する微細な欠陥を、後工程に影響が出る前に早期に発見・特定する技術およびプロセス全般を指します。これにより、不良品の発生抑制、歩留まり向上、製造コスト削減に貢献します。
課題
微細化に伴う欠陥検出の困難化
半導体回路の微細化が進むにつれて、フォトマスク上の欠陥も極めて小さくなり、従来の目視や簡易検査では検出が難しくなっています。
欠陥の種類と発生源の特定
異物付着、パターン欠け、寸法誤差など、欠陥の種類は多岐にわたり、その発生源を特定することが困難で、対策が遅れることがあります。
検査時間の増大と生産性低下
高精度な検査には時間がかかり、マスク製造全体のリードタイムを増加させる要因となります。迅速な検査体制の構築が求められています。
データ解析と判断の属人化
検査で得られた膨大なデータを解析し、欠陥の有無や重要度を判断するプロセスが、経験豊富なオペレーターのスキルに依存しがちで、標準化が難しい課題です。
対策
高解像度検査装置の導入
レーザーや電子線を用いた高解像度検査装置を導入し、微細な欠陥も高精度に検出します。
AI・機械学習による自動欠陥解析
AIや機械学習を活用し、検査データを自動で解析・分類することで、欠陥の種類や発生源の特定を迅速化します。
インライン検査プロセスの構築
製造工程の各段階でリアルタイムに検査を行うインライン検査を導入し、早期に異常を検知します。
デジタルツインによるシミュレーション
フォトマスク製造プロセスのデジタルツインを構築し、欠陥発生のメカニズムをシミュレーションすることで、予防策を講じます。
対策に役立つ製品例
高精度パターン検査システム
微細なパターン欠陥や異物を高解像度で検出し、欠陥の位置や種類を特定するシステムです。AIによる自動解析機能も備えています。
欠陥予測・原因分析ソフトウェア
過去の検査データや製造条件を学習し、欠陥の発生確率を予測したり、発生した欠陥の原因を分析したりするソフトウェアです。
インライン欠陥モニタリング装置
フォトマスク製造ラインに組み込まれ、製造中にリアルタイムで欠陥の有無や状態を監視する装置です。
データ統合・可視化システム
複数の検査装置や製造装置から得られるデータを統合し、欠陥情報を分かりやすく可視化することで、迅速な意思決定を支援するプラットフォームです。





