パターンの高精度転写とは？課題と対策・製品を解説

半導体業界では、メタルマスクの保管環境が製品の品質に大きく影響します。特に、微細なパターンが施されたメタルマスクは、埃や傷から保護し、正確な位置管理が求められます。当社のメタルマスク用収納棚は、これらの課題に対応し、メタルマスクを安全に保管するためのソリューションです。

【活用シーン】
・クリーンルーム内での保管
・製造ラインへのスムーズな供給
・メタルマスクのサイズに合わせてカスタマイズ

【導入の効果】
・メタルマスクの破損リスクを低減
・作業効率の向上
・保管スペースの有効活用

5G通信業界では、高速・大容量のデータ通信を支えるために、高精度な光学部品や精密部品が求められます。特に、電波の送受信や信号処理を行う部品においては、高い精度と信頼性が不可欠です。部品の品質が低いと、通信速度の低下や接続不良を引き起こす可能性があります。株式会社東陽は、精密機械加工技術を活かし、5G通信に必要な光学部品、精密部品を提供します。

【活用シーン】
・基地局
・スマートフォン
・通信機器

【導入の効果】
・高品質な部品による通信性能の向上
・製品の信頼性向上
・安定した通信環境の実現

蓄電業界では、デバイスの小型化と高性能化が進んでおり、内部の空間管理が重要です。特に、電極間の距離を正確に保つスペーサーは、蓄電デバイスの効率と安全性を左右します。バリやブリッジのない精密なスペーサーが求められており、材料選定やコストも重要な課題です。当社のフォトエッチング加工は、これらの課題に対応し、蓄電デバイスの性能向上に貢献します。

【活用シーン】
・リチウムイオン電池
・キャパシタ
・燃料電池

【導入の効果】
・デバイスの性能向上
・製品の信頼性向上
・コスト削減

半導体業界では、高性能なデバイス製造のため、高精度なマスクが不可欠です。微細なパターンを正確に転写するためには、バリやカエリのない、精密な加工が求められます。試作段階でのコスト削減、短納期での部品調達も重要な課題です。当社エッチング加工は、これらの課題を解決します。

【活用シーン】
・半導体製造におけるマスク製作
・試作段階でのマスク部品
・多品種少量生産

【導入の効果】
・高精度なマスク部品の提供
・コスト削減
・短納期対応

大学の研究室や教育機関では、実験や研究に使用するメタルマスクの適切な管理が求められます。特に、限られたスペースの中で、多様なサイズのメタルマスクを効率的に保管し、必要な時にすぐに取り出せる環境が重要です。整理整頓されていない状態は、研究効率の低下や、マスクの損傷につながる可能性があります。当社のスライド式メタルマスク収納棚は、1段から導入でき、連結して増設も可能なため、研究室のスペースや予算に合わせて柔軟に対応できます。

【活用シーン】
・大学の研究室
・技術教育機関
・電子工学、材料工学などの分野
・メタルマスクの保管と管理

【導入の効果】
・省スペースでの効率的な保管
・必要な時にすぐにマスクを取り出し可能
・研究・教育活動の効率化
・メタルマスクの損傷リスクを軽減

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や生産効率の低下につながる可能性があります。A-143 高精度リニアエアベアリングステージは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、半導体製造における高精度な位置決めニーズに応えます。

【活用シーン】
・半導体製造装置
・検査装置
・計測機器

【導入の効果】
・高精度な位置決めによる品質向上
・非接触構造による長寿命化
・クリーンルーム対応による高い信頼性

半導体製造業界では、微細化技術の進展に伴い、精密な部品の試作が不可欠です。特に、高い精度と品質が求められるため、試作段階での課題解決が重要になります。クロダ精機は、精密プレス部品の試作に特化し、1mm～A4サイズ位までの部品を1個から受注することで、お客様の試作ニーズに応えます。機能・特性を持たせた難しい仕事にも挑戦し、半導体製造における微細化技術をサポートします。

【活用シーン】
・半導体製造装置部品の試作
・微細加工技術を要する部品の試作
・精密プレス部品の試作

【導入の効果】
・高品質な試作品の迅速な提供
・試作段階での課題解決支援
・微細化技術における部品開発の加速

精密機器製造業界では、製品の品質を維持するために、メタルマスクの適切な保管が重要です。保管環境が悪いと、マスクの破損や劣化を招き、製造工程に悪影響を及ぼす可能性があります。当社のメタルマスク用保管棚は、スライド式で省スペースながら最大52枚のマスクを収納し、手袋をしたままでもスムーズに取り出せる設計です。

【活用シーン】
・クリーンルーム内での保管
・製造ラインへのスムーズな供給
・マスクのサイズや枚数に合わせたカスタマイズ

【導入の効果】
・作業効率の向上
・マスクの破損リスクの低減
・保管スペースの有効活用

半導体製造業界では、高精度な位置決めが歩留まりと製品品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の回転ステージでは、摩擦による微小なブレや偏心が発生し、これが品質低下の原因となる可能性があります。PIglide A-62xシリーズは、摩擦のないエアベアリング技術により、これらの課題を解決します。

【活用シーン】
・ウェーハ検査
・露光装置
・精密測定

【導入の効果】
・高精度な位置決めによる歩留まり向上
・製品品質の安定化
・生産性の向上

半導体製造業界では、精密なメタルマスクの保管が品質管理において重要です。特に、クリーンルーム内での使用を考慮すると、サビや異物の混入を防ぎ、限られたスペースを有効活用できる収納ソリューションが求められます。当社のメタルマスク用収納棚は、スライドする仕切りを採用し、メタルマスクの出し入れを容易にすると共に、省スペースでの保管を実現します。

【活用シーン】
・クリーンルーム内でのメタルマスク保管
・製造ライン近傍でのメタルマスク保管
・メタルマスクの整理整頓

【導入の効果】
・メタルマスクの破損リスクを低減
・保管スペースの有効活用
・作業効率の向上

半導体製造業界の精密加工においては、高い寸法精度と表面品質が求められます。特に、製造プロセスの安定性と製品の品質を左右する金型や部品の耐久性は重要です。これらの部品は、摩耗や腐食に強く、長期間にわたって安定した性能を発揮する必要があります。テイクロの大型鋳物部品、金型への硬質クロムめっき処理は、これらの課題に応えるために開発されました。

【活用シーン】
・半導体製造装置の金型
・精密加工部品
・高精度が求められる部品

【導入の効果】
・耐摩耗性の向上
・寸法精度の維持
・製品寿命の延長

ロボティクス業界では、製品の品質と信頼性を高めるために、高精度な部品の製造が求められます。特に、メタルマスクは、微細なパターンを正確に転写するために不可欠であり、その管理が重要です。メタルマスクの取り扱いが不適切だと、製造プロセスに悪影響を及ぼし、製品の品質低下につながる可能性があります。当社のメタルマスク専用仕切り棚は、静電防止手袋での作業を容易にし、収納スペースを効率化することで、高精度なロボティクス製品の製造をサポートします。

【活用シーン】
・クリーンルームでのメタルマスク保管
・静電対策が必要な環境での作業
・製造ラインのレイアウト変更

【導入の効果】
・静電防止手袋着用時の作業効率向上
・収納スペースの有効活用
・異物混入リスクの低減
・レイアウト変更への柔軟な対応

半導体リソグラフィ業界では、高精度なパターン転写が求められます。特に、露光プロセスにおいては、石英基板の品質がデバイスの性能を左右します。基板の歪みや表面の不均一性は、パターンの精度を低下させ、歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社石英基板は、ノッチ加工やオリフラ加工に対応し、端面研磨・斜面研磨等ラウンドポリッシュも可能です。これにより、高精度なリソグラフィプロセスを支援します。

【活用シーン】
・リソグラフィ工程におけるマスク基板
・ウェーハ製造工程
・各種光学部品

【導入の効果】
・高精度なパターン転写の実現
・歩留まり向上への貢献
・多様な加工への対応

半導体製造業界では、高精度な加工が求められ、金型や切削工具の摩耗や凝着は、製品の品質低下や生産効率の悪化につながります。特に、微細加工や高密度実装が進む中で、金型の耐久性は重要な課題です。DLC-UM・Wは、高硬度と低摩擦係数により、金型の長寿命化と安定した加工精度を両立させます。

【活用シーン】
・電子部品製造における精密金型
・リードフレーム製造時の金型
・アルミニウム・銅加工

【導入の効果】
・金型の長寿命化
・メンテナンス頻度の削減
・加工精度の向上

半導体製造業界では、歩留まりの向上が重要な課題です。メタルマスクの取り扱いにおいては、マスクの破損や異物混入が歩留まりを低下させる要因となります。手袋をした状態での取り扱いやすさ、保管場所の清潔さ、そしてマスクの出し入れの効率化が求められます。当社のメタルマスク用保管棚は、これらの課題を解決し、歩留まり向上に貢献します。

【活用シーン】
・クリーンルーム内でのメタルマスク保管
・手袋をした状態でのマスクの出し入れ
・マスクのサイズに合わせた保管
・レイアウト変更への対応

【導入の効果】
・マスクの破損リスクを低減
・異物混入のリスクを低減
・作業効率の向上
・保管スペースの有効活用

半導体業界において、マスクは微細加工の精度を左右する重要な要素です。マスクの品質は、半導体デバイスの性能に直結するため、高い精度と信頼性が求められます。スペーサーの精度が低いと、マスクの配置ずれや歪みが生じ、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社では、フォトエッチング加工技術を用いて、バリのない精密なスペーサーを提供し、マスク製造における課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・半導体マスク製造
・微細加工プロセス
・高精度スペーサーが必要な場面

【導入の効果】
・マスクの品質向上
・歩留まりの改善
・製造コストの削減

『CABL-UH』は、高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の
前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。

130kVの加速電圧は1段加速で生成し、従来の多段加速による電子銃よりも
短い構造となっています。この1段加速の設計により、低収差で
クーロンぼけの少ない電子光学系が実現しました。

また、お客様の用途、予算に応じて110kV、90kVのラインアップも
揃えています。是非お問い合わせください。

【特長】
■高加速電圧を採用
■レジスト内の電子線の前方散乱が少ない
■より微細な加工が可能
■大電流で高解像度の描画が可能

※英語カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

株式会社SCREEN SPE クォーツは、主に石英ガラス製品の加工事業及びスライス
事業を行なっている会社です。

当社は、半導体製造における課題を高次元でクリアすることで、常に
高い顧客満足を実現してきました。
また、製品を迅速に提供するために、サービスステーションを全国に
配置するなど、万全の体制を構築しています。

その他、時代のニーズを満たす新しい製造ラインの充実を図るなど、
幅広い生産対応でお客さまのご要望にお応えします。

【事業内容】
■石英ガラス製品の加工事業
　・半導体洗浄装置向け石英槽および関連部品の製作加工
　・半導体製造装置向け石英製品の製作加工
■スライス事業
　・液晶用大型マスクブランクス材料の切断加工

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『Zシリーズ』は、フォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術、
チャージ対策技術をさらに進化させてsub-10 nm先端デバイス用
マスク向けに開発したフォトマスク用CD-SEMです。

EUVマスク、NIL用Qzモールド、PETフィルムモールド、DSAフィルムなど
様々なサンプルに対応しております。

ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■収差補正技術をさらに改良し、高SNRイメージを取得
■低真空技術によるチャージフリーSEM画像を取得、高精度計測が可能
■多彩なアプリケーション
（多点計測・輪郭抽出・2D測定・欠陥レビュー・3D表示）

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

『光ディスクスタンパーのトラブルシューティング』は、
光ディスクスタンパーにおける「突起」の解消と生産性の両立を
目指して行った、突起削減試験を紹介しています。

光ディスクを裏面研磨する際、成形不良や信号面凸発生、ショット数減
などの原因として「突起」があげられます。

仕上げ電鋳、フィルターの見直し、ピット防止剤の選定など、
さまざまな工程を経て、最終条件による6ヶ月のロングラン試験では、
「突起」の発生率が激減し、粗研磨で対応可能となる結果を得ました。

【掲載内容】
■ニッケル電鋳によるスタンパー
■スタンパーの製造行程
■裏面突起不良
■突起削減試験

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。

『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。

YEJガラス株式会社 取扱い製品 総合カタログでは、YEJガラス独自のガラス成形技術を用いてMEMS用ガラスウェハーの超精密ガラスを制作する「超精密ガラス成形」や、ガラスの透明度を維持したままカバーガラスに立体的な曲面デザインを演出する「曲面カバーガラス」、ヤマト電子独自の精密加工技術を用いてLED用ガラスパッケージを多面取り形状にて作製する「LED用ガラスパッケージ・封止材」等、多数紹介しています。

【掲載製品】
○ガラス特殊成形 WINDOW GLASS
○特殊成形ガラスパーツ
○表示素子用ガラス部品
○蛍光表示管(VFD)用ガラスパッケージ
○イメージセンサー用カバーガラス　他

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

当社では、FPD関連ガラス加工、特殊用途ガラス加工、プラスチック樹脂加工、
各種ラミネート加工などの板ガラス加工を承っております。

2003年からの有機EL用封止ガラス、2011年からのスマートフォン用タッチパネル
外形加工の技術を基に、電子部品・ディスプレイ・医療等様々な分野に耐久性、
信頼性、安全性にすぐれたガラス部品の提供が可能です。

ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【各種ガラス加工】
■有機ELキャップガラス加工
■カバーガラス加工
■AG加工
■特殊形状ガラス加工（異形ガラス）
■スリミング加工　など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

東英産業株式会社は、電子写真用ブラシの開発・製造における
リーディングカンパニーです。

複写機のクリーニング用ブラシに、ウサギの毛から化学繊維の
クリーニングブラシを開発。

また、電子写真に留まらず環境・エネルギーなど様々な用途に
応用できる高機能デバイスの実現に挑戦しています。

【事業内容】
■電子写真装置用ブラシ及び関連部品の開発・製造・販売

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

株式会社ナノテックは、半導体製造装置（マスクアライナー、スピンナー、デベロッパー、洗浄機）、MEMS（マイクロマシン）の研究開発、各種ツールの開発・製造などをおこなっております。専門分野は、光学関連精密機械（開発設計、機械加工、組立製作、販売）、産業分野は半導体製造装置、精密機械、光学器械MEMS装置、医療器械になります。研究開発支援装置の開発製造承ります。会社案内カタログでは、「精密技術のイノベーション95年史（測英舎(株)前進）」や、「製品開発の歴史」、「会社概要」や「会社沿革」など掲載しています。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

『Torin G8／G10』は、フォトマスク基板にストレスをかけずに垂直に立てて
基板の厚み、平面度を対向する2基の半導体レーザが高精度に計測する
フォトマスク基板検査装置です。

測定範囲は最大2100×2000mmまで可能。

主定盤、コラム、スライド部はすべてインド産黒ミカゲ石を使用し、計測に
重要な計測軸にはエアーベアリングが採用されています。

【特長】
■2基の半導体レーザが高精度に計測
■計測に重要な計測軸にはエアーベアリングを採用
■1基の光学プローブは鏡面基板のみに使用され絶対厚みと両平面度を得られる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ハードマスクブランクス』は、主に石英やソーダライムと言ったガラス
基板上に、クロムやモリブデンシリサイドを母材とした薄膜を形成し、
感光性材料(電子線用、レーザー用レジストなど)を塗布した製品です。

低反射クロムマスクブランクスとハーフトーン型位相シフトマスク
ブランクスがあり、リソグラフィー用原版として、LSIの製造に
用いられるマスクに使用されます。

【特長】
■クロムやモリブデンシリサイドを母材とした薄膜を形成
■感光性材料を塗布した

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

HLシリーズが液晶ガラス基板やハードディスクガラス基板、フォトマスク、光学ガラスやレンズ用など幅広い用途で高い評価を得ている「MIREK」。
液晶TVの大型化などを背景に大幅に需要が増加しています。
生産体制増強に向けたラインをMESCOが納入しました。

【MIREKとは】
酸化セリウムを主成分とした研摩材であり、電子工業や光学工業といった先端の分野で使用されております。
主に液晶ガラス基板やハードディスクガラス基板、フォトマスク、光学ガラスの研摩向けに一次研摩用から最終仕上げ用まで、各種用途に適した製品を取り揃えています。

※詳しくはPDFのダウンロード、またはお問い合わせください。

『WULFシリーズ』は、高精細フォトマスクに対応したスピンタイプの
洗浄装置です。

機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備、ワーク回転の遠心力とオゾン水、
アンモニア添加水素水吐出により、検出限界レベルまで有機物・金属イオン・
異物を除去可能なユニット。

また、各洗浄液を切り換えて洗浄することにより、ワーク上の不純堆積物を
高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツールです。

【特長】
■ハイクリーン化と歩留向上に寄与
■検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異物を除去可能
■ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツール
■RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用
■機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、レーザー描画装置を使用し、スペック（仕様）に応じた
フォトマスクの製造を行っています。

エマルジョンマスク・クロムマスクをご用意しており、2100mm×1300mmと、
2メートルを超える世界最大級のフォトマスクの製造ができます。

ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

【編集・設計】
■各種データ・フォーマット・図面からのデータ作成
■データ形式：CAD/CAM・GBR・DXF・DWG・GDS II等
※マスク図面作成・各種補正・レイアウト等の編集から各種図面製作のみも可能

※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

ティーイーアイ ソリューションズの『技術開発』についてご紹介します。

半導体デバイス・メモリー開発のほか、MEMS・Bioセンサー、
太陽光発電など様々な技術開発が可能。製品化のサポートも致します。

また、半導体に限らず、エネルギー、バイオ・メディカルセンサーなど
各種新興技術にも対応いたします。情報は完全に保護され、開発した技術は
お客様に帰属しますので、安心して開発いただけます。

【開発技術の例】
■新規トランジスタ
■新規メモリ
■太陽電池
■MEMS/Bio-MEMS

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『DNCC-320』は、ガラス基板を流体で浮上移動させながら、
洗浄からリンス、乾燥処理まで行う洗浄装置です。

本来洗浄媒体である純水等で浮上させ且つ洗浄し、
垂直端面だけで駆動制御させ、川幅方面のサイズ変更も可能です。

従来のローラー搬送の様なスリップ等によるキズがガラス面に付かず
ガラス全面に洗浄液が均一に接触流水しスプレー洗浄の様なムラがありません。

【特長】
■ガラス基板にローラー痕ゼロ
■表面、裏面同時洗浄乾燥が可能
■薄板軽量基板（0.5t以下）の搬送に好適
■機能水＋超音波洗浄

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

NTTグループが保有する世界トップクラスの石英系光導波路製造技術をフル活用し、光導波路ウェハ受託製造及び各種ウェハ受託加工サービスを提供致します。
6インチ(150mm)ラインを用い、ガラス成膜、微細エッチング加工、メタル成膜・加工など、工程ごとの個別受託も対応致します。
試作品から量産品まで、お客様のご要望に応じて幅広く対応いたします。

【サービス紹介】
■お客様の回路設計情報に基づくフォトマスク作製
■ガラス成膜
■ガラス・Si微細エッチング加工
■メタル膜形成・加工
■ウェハ加工、特性評価
など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

半導体不足の話題が長く続いていますが、半導体の装置には石英ガラスという
ガラスが使われています。

当記事では、石英ガラスが一体どういったガラスなのかご紹介しています。

主な種類や特長、用途など詳しく解説しておりますので、ぜひご一読下さい。

【掲載内容（一部）】
■石英ガラスとは
■石英ガラスの種類
　・溶融石英
　・合成石英

※記事の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
　詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。