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半導体製造装置・材料

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パターンの高精度転写とは？課題と対策・製品を解説

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フォトマスク作成におけるパターンの高精度転写とは？

半導体製造において、微細な回路パターンをシリコンウェハー上に正確に焼き付けるために不可欠な技術です。フォトマスクは、その回路パターンの原版となるものであり、このマスク上のパターンをいかに忠実にウェハー上に転写するかが、半導体の性能や集積度を決定づける鍵となります。

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【半導体製造向け】DLC-UM・W

【半導体製造向け】DLC-UM・W
千代田交易株式会社
半導体製造業界では、高精度な加工が求められ、金型や切削工具の摩耗や凝着は、製品の品質低下や生産効率の悪化につながります。特に、微細加工や高密度実装が進む中で、金型の耐久性は重要な課題です。DLC-UM・Wは、高硬度と低摩擦係数により、金型の長寿命化と安定した加工精度を両立させます。 【活用シーン】 ・電子部品製造における精密金型 ・リードフレーム製造時の金型 ・アルミニウム・銅加工 【導入の効果】 ・金型の長寿命化 ・メンテナンス頻度の削減 ・加工精度の向上
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【半導体製造向け】メタルマスク用収納棚650×550×30mm用

【半導体製造向け】メタルマスク用収納棚650×550×30mm用
株式会社ヨシカワ
半導体製造業界では、精密なメタルマスクの保管が品質管理において重要です。特に、クリーンルーム内での使用を考慮すると、サビや異物の混入を防ぎ、限られたスペースを有効活用できる収納ソリューションが求められます。当社のメタルマスク用収納棚は、スライドする仕切りを採用し、メタルマスクの出し入れを容易にすると共に、省スペースでの保管を実現します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内でのメタルマスク保管 ・製造ライン近傍でのメタルマスク保管 ・メタルマスクの整理整頓 【導入の効果】 ・メタルマスクの破損リスクを低減 ・保管スペースの有効活用 ・作業効率の向上
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【半導体向け】ピエゾナノ位置決めアクチュエータ N-216

【半導体向け】ピエゾナノ位置決めアクチュエータ N-216
PIジャパン株式会社
半導体製造では、ウェハ検査やナノリソグラフィなどの工程において、ナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。わずかな位置決め誤差でも、製品品質の低下や歩留まり悪化につながる可能性があります。 N-216は、PI独自のNEXLINE(R) PiezoWalk(R)ウォーキングドライブ技術を採用した高推力リニアアクチュエータです。 0.03nm（オープンループ）／5nm（クローズドループ）の高分解能と最大800Nの保持力により、半導体製造装置における高精度かつ安定したナノ位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェハ検査装置 ・ナノリソグラフィ装置 ・半導体製造装置 ・ナノ計測装置 ・精密位置決め用途 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの高精度位置決めによる歩留まり向上 ・高推力駆動による安定した位置決め性能 ・製造プロセスの効率化 ・高品質な半導体製品の安定生産に貢献
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【半導体マスク向け】多角形鏡面仕上げワイヤーカット加工

【半導体マスク向け】多角形鏡面仕上げワイヤーカット加工
株式会社萬代
半導体業界では、マスクの微細加工において、高い精度と表面品質が求められます。 特に、多角形などの複雑な形状を持つマスクでは、研磨加工では対応が難しい場合があります。 不適切な加工は、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。 当社ワイヤーカット加工は、多角形の外周面だけでなく内面まで鏡面仕上げを実現し、高い精度で加工します。 長年の経験とノウハウにより、研磨工程を追加することなく美しい加工面を実現し、工程削減やコストメリットにもつながります。 【活用シーン】 ・半導体マスクの製造 ・複雑形状の精密部品加工 【導入の効果】 ・高精度な鏡面仕上げによる製品品質の向上 ・工程削減によるコストメリット ・複雑形状への対応力向上
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【半導体マスク向け】フォトエッチング加工によるスペーサー

【半導体マスク向け】フォトエッチング加工によるスペーサー
株式会社ピーワン
半導体業界において、マスクは微細加工の精度を左右する重要な要素です。マスクの品質は、半導体デバイスの性能に直結するため、高い精度と信頼性が求められます。スペーサーの精度が低いと、マスクの配置ずれや歪みが生じ、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社では、フォトエッチング加工技術を用いて、バリのない精密なスペーサーを提供し、マスク製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体マスク製造 ・微細加工プロセス ・高精度スペーサーが必要な場面 【導入の効果】 ・マスクの品質向上 ・歩留まりの改善 ・製造コストの削減
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【半導体マスク向け】エッチング加工

【半導体マスク向け】エッチング加工
株式会社ピーワン
半導体業界では、高性能なデバイス製造のため、高精度なマスクが不可欠です。微細なパターンを正確に転写するためには、バリやカエリのない、精密な加工が求められます。試作段階でのコスト削減、短納期での部品調達も重要な課題です。当社エッチング加工は、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるマスク製作 ・試作段階でのマスク部品 ・多品種少量生産 【導入の効果】 ・高精度なマスク部品の提供 ・コスト削減 ・短納期対応
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【半導体製造向け】大型鋳物部品、金型への硬質クロムめっき処理

【半導体製造向け】大型鋳物部品、金型への硬質クロムめっき処理
株式会社テイクロ
半導体製造業界の精密加工においては、高い寸法精度と表面品質が求められます。特に、製造プロセスの安定性と製品の品質を左右する金型や部品の耐久性は重要です。これらの部品は、摩耗や腐食に強く、長期間にわたって安定した性能を発揮する必要があります。テイクロの大型鋳物部品、金型への硬質クロムめっき処理は、これらの課題に応えるために開発されました。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の金型 ・精密加工部品 ・高精度が求められる部品 【導入の効果】 ・耐摩耗性の向上 ・寸法精度の維持 ・製品寿命の延長
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【半導体向け】必要機能に絞ったシンプルなメタルマスク用収納棚

【半導体向け】必要機能に絞ったシンプルなメタルマスク用収納棚
株式会社ヨシカワ
半導体製造の現場では、メタルマスクをクリーンに保管し、必要な時にスムーズに取り出せることが重要です。 とはいえ、保管量によっては大型棚までは不要で、まずは整理しやすい収納設備を導入したい場合もあります。 当社のメタルマスク用収納棚は、650×550×30mmの枠付きメタルマスクを30枚/台収納可能。 スライド式の仕切りにより、手袋着用時でも出し入れしやすく、省スペースでの保管をサポートします。 【別タイプもご用意しています】 ・多枚数を保管したい場合：52枚収納タイプ 　棚1台の価格だけでなく、1枚あたりの保管コストを抑えたい場合に適しています。 ・必要な分から段階的に導入したい場合：連結式タイプ 　初期投資を抑えながら、保管枚数の増加に合わせて増設できます。
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【半導体向け】精密位置決め・半導体技術・ウェハ検査に N-111

【半導体向け】精密位置決め・半導体技術・ウェハ検査に N-111
PIジャパン株式会社
半導体製造装置や検査装置では、ナノメートルレベルの高精度位置決めが製品品質や歩留まりに大きく影響します。特に、微細加工、ウェハ検査、計測工程では、わずかな位置決め誤差がデバイス性能の低下や不良の原因となる可能性があります。 N-111は、PI独自のNEXLINE(R) PiezoWalk(R) ウォーキングドライブ技術を採用したリニアアクチュエータです。長ストロークでありながらナノレベルの高分解能を実現し、半導体製造装置や精密検査装置における高精度位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェハ検査装置 ・ナノ計測装置 ・微細加工装置 ・精密位置決め用途 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上
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【半導体製造向け】クロダ精機

【半導体製造向け】クロダ精機
NPO諏訪圏ものづくり推進機構
半導体製造業界では、微細化技術の進展に伴い、精密な部品の試作が不可欠です。特に、高い精度と品質が求められるため、試作段階での課題解決が重要になります。クロダ精機は、精密プレス部品の試作に特化し、1mm～A4サイズ位までの部品を1個から受注することで、お客様の試作ニーズに応えます。機能・特性を持たせた難しい仕事にも挑戦し、半導体製造における微細化技術をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置部品の試作 ・微細加工技術を要する部品の試作 ・精密プレス部品の試作 【導入の効果】 ・高品質な試作品の迅速な提供 ・試作段階での課題解決支援 ・微細化技術における部品開発の加速
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【蓄電向け】フォトエッチング加工スペーサー

【蓄電向け】フォトエッチング加工スペーサー
株式会社ピーワン
蓄電業界では、デバイスの小型化と高性能化が進んでおり、内部の空間管理が重要です。特に、電極間の距離を正確に保つスペーサーは、蓄電デバイスの効率と安全性を左右します。バリやブリッジのない精密なスペーサーが求められており、材料選定やコストも重要な課題です。当社のフォトエッチング加工は、これらの課題に対応し、蓄電デバイスの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・リチウムイオン電池 ・キャパシタ ・燃料電池 【導入の効果】 ・デバイスの性能向上 ・製品の信頼性向上 ・コスト削減
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【半導体製造向け】メタルマスク用保管棚

【半導体製造向け】メタルマ��スク用保管棚
株式会社ヨシカワ
半導体製造の現場では、メタルマスクをクリーンな環境で適切に保管し、必要な時にスムーズに取り出せることが重要です。特にクリーンルーム内では、手袋を着用した状態での扱いやすさや、限られたスペースでの保管効率、異物混入に配慮した設備が求められます。当社のメタルマスク用保管棚は、スライド式の仕切りにより、取り出しやすさと省スペース性を両立。ステンレス製でクリーンな環境にも配慮し、メタルマスクの保管・管理をしやすくします。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内でのメタルマスク保管 ・製造ライン近傍での保管、管理 ・手袋着用時のメタルマスクの出し入れ ・限られたスペースでの整理整頓 【導入の効果】 ・メタルマスクの破損リスク低減 ・省スペースでの保管効率向上 ・出し入れ作業のしやすさ向上 ・クリーンな保管環境づくりに貢献
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【ロボティクス向け】メタルマスク管理のお困りごとを解決！

【ロボティクス向け】メタルマスク管理のお困りごとを解決！
株式会社ヨシカワ
ロボティクス業界では、製品の品質と信頼性を高めるために、高精度な部品の製造が求められます。特に、メタルマスクは、微細なパターンを正確に転写するために不可欠であり、その管理が重要です。メタルマスクの取り扱いが不適切だと、製造プロセスに悪影響を及ぼし、製品の品質低下につながる可能性があります。当社のメタルマスク専用仕切り棚は、静電防止手袋での作業を容易にし、収納スペースを効率化することで、高精度なロボティクス製品の製造をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーンルームでのメタルマスク保管 ・静電対策が必要な環境での作業 ・製造ラインのレイアウト変更 【導入の効果】 ・静電防止手袋着用時の作業効率向上 ・収納スペースの有効活用 ・異物混入リスクの低減 ・レイアウト変更への柔軟な対応
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【半導体リソグラフィ向け】石英基板

【半導体リソグラフィ向け】石英基板
株式会社ブル精密
半導体リソグラフィ業界では、高精度なパターン転写が求められます。特に、露光プロセスにおいては、石英基板の品質がデバイスの性能を左右します。基板の歪みや表面の不均一性は、パターンの精度を低下させ、歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社石英基板は、ノッチ加工やオリフラ加工に対応し、端面研磨・斜面研磨等ラウンドポリッシュも可能です。これにより、高精度なリソグラフィプロセスを支援します。 【活用シーン】 ・リソグラフィ工程におけるマスク基板 ・ウェーハ製造工程 ・各種光学部品 【導入の効果】 ・高精度なパターン転写の実現 ・歩留まり向上への貢献 ・多様な加工への対応
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【5G通信向け】株式会社東陽

【5G通信向け】株式会社東陽
NPO諏訪圏ものづくり推進機構
5G通信業界では、高速・大容量のデータ通信を支えるために、高精度な光学部品や精密部品が求められます。特に、電波の送受信や信号処理を行う部品においては、高い精度と信頼性が不可欠です。部品の品質が低いと、通信速度の低下や接続不良を引き起こす可能性があります。株式会社東陽は、精密機械加工技術を活かし、5G通信に必要な光学部品、精密部品を提供します。 【活用シーン】 ・基地局 ・スマートフォン ・通信機器 【導入の効果】 ・高品質な部品による通信性能の向上 ・製品の信頼性向上 ・安定した通信環境の実現
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スピンタイプ洗浄装置『WULFシリーズ』

スピンタイプ洗浄装置『WULFシリーズ』
株式会社天谷製作所
『WULFシリーズ』は、高精細フォトマスクに対応したスピンタイプの 洗浄装置です。 機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備、ワーク回転の遠心力とオゾン水、 アンモニア添加水素水吐出により、検出限界レベルまで有機物・金属イオン・ 異物を除去可能なユニット。 また、各洗浄液を切り換えて洗浄することにより、ワーク上の不純堆積物を 高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツールです。 【特長】 ■ハイクリーン化と歩留向上に寄与 ■検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異物を除去可能 ■ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツール ■RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用 ■機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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YEJガラス株式会社 取扱い製品 総合カタログ

YEJガラス株式会社 取扱い製品 総合カタログ
YEJガラス株式会社
YEJガラス株式会社 取扱い製品 総合カタログでは、YEJガラス独自のガラス成形技術を用いてMEMS用ガラスウェハーの超精密ガラスを制作する「超精密ガラス成形」や、ガラスの透明度を維持したままカバーガラスに立体的な曲面デザインを演出する「曲面カバーガラス」、ヤマト電子独自の精密加工技術を用いてLED用ガラスパッケージを多面取り形状にて作製する「LED用ガラスパッケージ・封止材」等、多数紹介しています。 【掲載製品】 ○ガラス特殊成形 WINDOW GLASS ○特殊成形ガラスパーツ ○表示素子用ガラス部品 ○蛍光表示管(VFD)用ガラスパッケージ ○イメージセンサー用カバーガラス　他 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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フォトマスク基板検査装置『Torin G8／G10』

フォトマスク基板検査装置『Torin G8／G10』
土井精密ラップ株式会社
『Torin G8／G10』は、フォトマスク基板にストレスをかけずに垂直に立てて 基板の厚み、平面度を対向する2基の半導体レーザが高精度に計測する フォトマスク基板検査装置です。 測定範囲は最大2100×2000mmまで可能。 主定盤、コラム、スライド部はすべてインド産黒ミカゲ石を使用し、計測に 重要な計測軸にはエアーベアリングが採用されています。 【特長】 ■2基の半導体レーザが高精度に計測 ■計測に重要な計測軸にはエアーベアリングを採用 ■1基の光学プローブは鏡面基板のみに使用され絶対厚みと両平面度を得られる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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株式会社ナノテック　『会社案内』

株式会社ナノテック　『会社案内』
株式会社ナノテック
株式会社ナノテックは、半導体製造装置（マスクアライナー、スピンナー、デベロッパー、洗浄機）、MEMS（マイクロマシン）の研究開発、各種ツールの開発・製造などをおこなっております。専門分野は、光学関連精密機械（開発設計、機械加工、組立製作、販売）、産業分野は半導体製造装置、精密機械、光学器械MEMS装置、医療器械になります。研究開発支援装置の開発製造承ります。会社案内カタログでは、「精密技術のイノベーション95年史（測英舎(株)前進）」や、「製品開発の歴史」、「会社概要」や「会社沿革」など掲載しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。
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電子線描画装置『CABL-UH』

電子線描画装置『CABL-UH』
株式会社クレステック
『CABL-UH』は、高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の 前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。 130kVの加速電圧は1段加速で生成し、従来の多段加速による電子銃よりも 短い構造となっています。この1段加速の設計により、低収差で クーロンぼけの少ない電子光学系が実現しました。 また、お客様の用途、予算に応じて110kV、90kVのラインアップも 揃えています。是非お問い合わせください。 【特長】 ■高加速電圧を採用 ■レジスト内の電子線の前方散乱が少ない ■より微細な加工が可能 ■大電流で高解像度の描画が可能 ※英語カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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板ガラス加工サービス

板ガラス加工サービス
株式会社プレミアムグラス
当社では、FPD関連ガラス加工、特殊用途ガラス加工、プラスチック樹脂加工、 各種ラミネート加工などの板ガラス加工を承っております。 2003年からの有機EL用封止ガラス、2011年からのスマートフォン用タッチパネル 外形加工の技術を基に、電子部品・ディスプレイ・医療等様々な分野に耐久性、 信頼性、安全性にすぐれたガラス部品の提供が可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【各種ガラス加工】 ■有機ELキャップガラス加工 ■カバーガラス加工 ■AG加工 ■特殊形状ガラス加工（異形ガラス） ■スリミング加工　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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ティーイーアイ ソリューションズの技術開発

ティーイーアイ ソリューションズの技術開発
ティーイーアイ ソリューションズ株式会社
ティーイーアイ ソリューションズの『技術開発』についてご紹介します。 半導体デバイス・メモリー開発のほか、MEMS・Bioセンサー、 太陽光発電など様々な技術開発が可能。製品化のサポートも致します。 また、半導体に限らず、エネルギー、バイオ・メディカルセンサーなど 各種新興技術にも対応いたします。情報は完全に保護され、開発した技術は お客様に帰属しますので、安心して開発いただけます。 【開発技術の例】 ■新規トランジスタ ■新規メモリ ■太陽電池 ■MEMS/Bio-MEMS ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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エンジニアリング技術・非鉄金属加工【事例進呈中！】

エンジニアリング技術・非鉄金属加工【事例進呈中！】
三井金属エンジニアリング株式会社
HLシリーズが液晶ガラス基板やハードディスクガラス基板、フォトマスク、光学ガラスやレンズ用など幅広い用途で高い評価を得ている「MIREK」。 液晶TVの大型化などを背景に大幅に需要が増加しています。 生産体制増強に向けたラインをMESCOが納入しました。 【MIREKとは】 酸化セリウムを主成分とした研摩材であり、電子工業や光学工業といった先端の分野で使用されております。 主に液晶ガラス基板やハードディスクガラス基板、フォトマスク、光学ガラスの研摩向けに一次研摩用から最終仕上げ用まで、各種用途に適した製品を取り揃えています。 ※詳しくはPDFのダウンロード、またはお問い合わせください。
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【技術資料】光ディスクスタンパーのトラブルシューティング

【技術資料】光ディスクスタンパーのトラブルシューティング
GDLAB合同会社
『光ディスクスタンパーのトラブルシューティング』は、 光ディスクスタンパーにおける「突起」の解消と生産性の両立を 目指して行った、突起削減試験を紹介しています。 光ディスクを裏面研磨する際、成形不良や信号面凸発生、ショット数減 などの原因として「突起」があげられます。 仕上げ電鋳、フィルターの見直し、ピット防止剤の選定など、 さまざまな工程を経て、最終条件による6ヶ月のロングラン試験では、 「突起」の発生率が激減し、粗研磨で対応可能となる結果を得ました。 【掲載内容】 ■ニッケル電鋳によるスタンパー ■スタンパーの製造行程 ■裏面突起不良 ■突起削減試験 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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東英産業株式会社　事業紹介

東英産業株式会社　事業紹介
東英産業株式会社
東英産業株式会社は、電子写真用ブラシの開発・製造における リーディングカンパニーです。 複写機のクリーニング用ブラシに、ウサギの毛から化学繊維の クリーニングブラシを開発。 また、電子写真に留まらず環境・エネルギーなど様々な用途に 応用できる高機能デバイスの実現に挑戦しています。 【事業内容】 ■電子写真装置用ブラシ及び関連部品の開発・製造・販売 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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フォトマスク　製造サービス

フォトマスク　製造サービス
株式会社進映社
当社では、レーザー描画装置を使用し、スペック（仕様）に応じた フォトマスクの製造を行っています。 エマルジョンマスク・クロムマスクをご用意しており、2100mm×1300mmと、 2メートルを超える世界最大級のフォトマスクの製造ができます。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【編集・設計】 ■各種データ・フォーマット・図面からのデータ作成 ■データ形式：CAD/CAM・GBR・DXF・DWG・GDS II等 ※マスク図面作成・各種補正・レイアウト等の編集から各種図面製作のみも可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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株式会社SCREEN SPE クォーツ　事業紹介

株式会社SCREEN SPE クォーツ　事業紹介
株式会社SCREEN SPE クォーツ
株式会社SCREEN SPE クォーツは、主に石英ガラス製品の加工事業及びスライス 事業を行なっている会社です。 当社は、半導体製造における課題を高次元でクリアすることで、常に 高い顧客満足を実現してきました。 また、製品を迅速に提供するために、サービスステーションを全国に 配置するなど、万全の体制を構築しています。 その他、時代のニーズを満たす新しい製造ラインの充実を図るなど、 幅広い生産対応でお客さまのご要望にお応えします。 【事業内容】 ■石英ガラス製品の加工事業 　・半導体洗浄装置向け石英槽および関連部品の製作加工 　・半導体製造装置向け石英製品の製作加工 ■スライス事業 　・液晶用大型マスクブランクス材料の切断加工 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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半導体集積回路『ハードマスクブランクス』

半導体集積回路『ハードマスクブランクス』
アルバック成膜株式会社
『ハードマスクブランクス』は、主に石英やソーダライムと言ったガラス 基板上に、クロムやモリブデンシリサイドを母材とした薄膜を形成し、 感光性材料(電子線用、レーザー用レジストなど)を塗布した製品です。 低反射クロムマスクブランクスとハーフトーン型位相シフトマスク ブランクスがあり、リソグラフィー用原版として、LSIの製造に 用いられるマスクに使用されます。 【特長】 ■クロムやモリブデンシリサイドを母材とした薄膜を形成 ■感光性材料を塗布した ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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光導波路・ウェハ加工ファンドリーサービス

光導波路・ウェハ加工ファンドリーサービス
NTTデバイスオプテック株式会社
NTTグループが保有する世界トップクラスの石英系光導波路製造技術をフル活用し、光導波路ウェハ受託製造及び各種ウェハ受託加工サービスを提供致します。 6インチ(150mm)ラインを用い、ガラス成膜、微細エッチング加工、メタル成膜・加工など、工程ごとの個別受託も対応致します。 試作品から量産品まで、お客様のご要望に応じて幅広く対応いたします。 【サービス紹介】 ■お客様の回路設計情報に基づくフォトマスク作製 ■ガラス成膜 ■ガラス・Si微細エッチング加工 ■メタル膜形成・加工 ■ウェハ加工、特性評価 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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石英ガラスとは？特長や用途について

石英ガラスとは？特長や用途について
株式会社安中特殊硝子製作所
半導体不足の話題が長く続いていますが、半導体の装置には石英ガラスという ガラスが使われています。 当記事では、石英ガラスが一体どういったガラスなのかご紹介しています。 主な種類や特長、用途など詳しく解説しておりますので、ぜひご一読下さい。 【掲載内容（一部）】 ■石英ガラスとは ■石英ガラスの種類 　・溶融石英 　・合成石英 ※記事の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 　詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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フォトマスク用CD-SEM『Zシリーズ』

フォトマスク用CD-SEM『Zシリーズ』
株式会社ホロン
『Zシリーズ』は、フォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術、 チャージ対策技術をさらに進化させてsub-10 nm先端デバイス用 マスク向けに開発したフォトマスク用CD-SEMです。 EUVマスク、NIL用Qzモールド、PETフィルムモールド、DSAフィルムなど 様々なサンプルに対応しております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■収差補正技術をさらに改良し、高SNRイメージを取得 ■低真空技術によるチャージフリーSEM画像を取得、高精度計測が可能 ■多彩なアプリケーション （多点計測・輪郭抽出・2D測定・欠陥レビュー・3D表示） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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フォトマスク作成におけるパターンの高精度転写

フォトマスク作成におけるパターンの高精度転写とは？

半導体製造において、微細な回路パターンをシリコンウェハー上に正確に焼き付けるために不可欠な技術です。フォトマスクは、その回路パターンの原版となるものであり、このマスク上のパターンをいかに忠実にウェハー上に転写するかが、半導体の性能や集積度を決定づける鍵となります。

​課題

微細化に伴うパターン寸法のばらつき

半導体の微細化が進むにつれて、フォトマスク上のパターン寸法も極めて小さくなり、製造プロセスにおけるわずかな変動が転写精度に大きな影響を与え、寸法のばらつきが生じやすくなっています。

欠陥の発生と転写

フォトマスク上に微細な傷や異物などの欠陥が発生すると、それがそのままウェハー上に転写され、半導体デバイスの不良を引き起こす原因となります。

光の回折・干渉による解像度限界

露光プロセスにおいて、光の回折や干渉現象により、理論的な解像度限界を超えた微細なパターンの転写が困難になる場合があります。

マスクとウェハー間の位置ずれ

露光時にフォトマスクとウェハーの位置がわずかにずれると、パターンが正確に重ね合わされず、回路の機能不全や性能低下を招く可能性があります。

​対策

パターン補正技術の導入

フォトマスク上のパターン設計段階で、露光時の光学的な影響を考慮した補正を加えることで、ウェハー上での理想的なパターン形成を目指します。

高精度検査・クリーニング技術

フォトマスク上の微細な欠陥を早期に発見し、除去する高度な検査装置やクリーニング技術を導入し、欠陥転写のリスクを低減します。

先進露光技術の活用

より短い波長の光源を使用したり、特殊な光学系を採用したりする先進的な露光技術を用いることで、解像度限界を引き上げ、微細パターンの高精度転写を実現します。

精密アライメントシステムの採用

露光装置に搭載される高精度なアライメントシステムにより、フォトマスクとウェハーの相対位置を極めて正確に制御し、位置ずれを最小限に抑えます。

​対策に役立つ製品例

パターン補正ソフトウェア

回路設計データに基づき、露光プロセスでの光学効果をシミュレーションし、フォトマスク上のパターン形状を最適化するソフトウェアです。これにより、ウェハー上での忠実なパターン再現性を高めます。

欠陥検出・修正装置

フォトマスク上の微細な異物や傷をレーザーや電子線を用いて高解像度で検出し、必要に応じて除去または修正する装置です。欠陥の転写を防ぎ、歩留まり向上に貢献します。

極端紫外線（EUV）露光装置

非常に短い波長のEUV光を用いることで、従来の露光技術では困難だった超微細パターンの高解像度転写を可能にする露光装置です。次世代半導体製造に不可欠です。

自動アライメントシステム

露光プロセス中に、フォトマスクとウェハーの位置関係をリアルタイムで高精度に測定・補正するシステムです。微細なパターンでも正確な重ね合わせを実現します。

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回路・パターン設計

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

フォトマスク作成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

シリコンインゴット切断

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

ウェーハの研磨

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

ウェーハ表面の酸化

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

薄膜形成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

フォトレジスト塗布

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

露光・現像

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

エッチング

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

レジスト剥離・洗浄

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

イオン注入

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

平坦化

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

電極形成

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

ウェーハ検査

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

ダイシング

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

ワイヤーボンディング

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

モールディング

製造コストの削減
欠陥の早期検出
パターンの高精度転写
描画時間の短縮
マスク寿命の延伸
異物混入の防止
欠陥修正技術の高度化
新素材への対応

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材料
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