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スループットの向上とは?課題と対策・製品を解説

イオン注入におけるスループットの向上とは?
半導体製造プロセスにおいて、イオン注入は半導体の電気的特性を制御するために不可欠な工程です。スループットの向上とは、単位時間あたりに処理できるウェハー枚数を増加させることを指し、製造コスト削減や生産性向上に直結します。
各社の製品
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フラッシュプラグラミングシステム 総合カタログ
大気環境用ウエハ搬送ロボット『UTW-REH5500』
イオン注入装置 ディスク再生サービス
『イオン注入装置 ディスク再生サービス』は、バリアン、SEN、AMATすべての
バッチ式インプラディスクのフル再生、ヒートシンク再生ディスク修理、
Finger、Restraint等の部品販売も承るCore Systems社のサービスです。
ハイカレント・高エネルギーイオン注入装置バッチ式エンドステーション
ディスクは、長時間にわたるイオン照射によりウェハへのパーティクル付着、
元素レベルの汚染、エラストマーの経時変化による冷却能力低下やウェハ脱着の
不具合といった、管理上見過ごすことの出来ない問題が発生します。
部品洗浄やエラストマー交換を始めとするディスク再生を定期的に実施し、
これらの問題を未然に防ぐ必要があります。
高品質なディスク再生を低価格にてご提供いたします。
【特長】
■各メーカーのイオン注入装置に対応
■OEM仕様同等以上のウェハインターフェースをご提供
■新品パーツ購入よりも、格段に低価格でご提供
※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。


