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半導体製造装置・材料

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スループットの向上とは?課題と対策・製品を解説

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イオン注入におけるスループットの向上とは?

半導体製造プロセスにおいて、イオン注入は半導体の電気的特性を制御するために不可欠な工程です。スループットの向上とは、単位時間あたりに処理できるウェハー枚数を増加させることを指し、製造コスト削減や生産性向上に直結します。

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『ベローズ式コンパクト直線導入機(ILC)』は、高性能の溶接ベローズを内蔵し、
長ストロークを可能にした直線方向に駆動するタイプの導入機です。

基板用ステージの昇降やウェハーの搬送などにご使用いただけます。
また、非常にコンパクトなILCの他にも通常サイズもご用意しているので、
お客様のニーズに合わせてお選びいただけます。

【特長】
■入江工研の溶接ベローズを内蔵し、ストローク10mm、15mm、20mmまで規格化
■当社ベローズ式直線導入機(ILDシリーズ)に比べ、非常にコンパクトな作り

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

導入機『ベローズ式コンパクト直進導入機(ILC)』

■ハイスピードモデルのウエハ搬送ロボット
450WPHの高速搬送で装置のスループット向上に貢献します。

半導体用クリーンロボット「ACTRANSシリーズ」は、技術に裏打ちされた
高い性能とグローバルネットワークによる優れたサポートでお客様の
半導体製造における様々なソリューションを提供して参ります。

大気環境用ウエハ搬送ロボット『UTW-REH5500』

ウェーブテクノロジーのフラッシュプラグラミングシステムは、基本アルゴリズム、ソケットボードを共通化し、各メーカーのマイコンやフラッシュメモリなど幅広いデバイスに対応。べリファイサイクル400ns、従来比4倍の処理速度を実現し、プログラム・ベリファイの高速処理が可能になりました。また、全自動プログラミングシステムを使うことで生産工程の自動化・大量生産ができ、最大64個の同時処理で書き込みがとてもスピーディーです。開発から量産までのサイクルの短縮、低コスト化に役立つフラッシュプラグラミングシステムの総合カタログを無料プレゼント。ご希望の方はダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

フラッシュプラグラミングシステム 総合カタログ

『イオン注入装置 ディスク再生サービス』は、バリアン、SEN、AMATすべての
バッチ式インプラディスクのフル再生、ヒートシンク再生ディスク修理、
Finger、Restraint等の部品販売も承るCore Systems社のサービスです。

ハイカレント・高エネルギーイオン注入装置バッチ式エンドステーション
ディスクは、長時間にわたるイオン照射によりウェハへのパーティクル付着、
元素レベルの汚染、エラストマーの経時変化による冷却能力低下やウェハ脱着の
不具合といった、管理上見過ごすことの出来ない問題が発生します。

部品洗浄やエラストマー交換を始めとするディスク再生を定期的に実施し、
これらの問題を未然に防ぐ必要があります。
高品質なディスク再生を低価格にてご提供いたします。

【特長】
■各メーカーのイオン注入装置に対応
■OEM仕様同等以上のウェハインターフェースをご提供
■新品パーツ購入よりも、格段に低価格でご提供

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

イオン注入装置 ディスク再生サービス

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イオン注入におけるスループットの向上

イオン注入におけるスループットの向上とは?

半導体製造プロセスにおいて、イオン注入は半導体の電気的特性を制御するために不可欠な工程です。スループットの向上とは、単位時間あたりに処理できるウェハー枚数を増加させることを指し、製造コスト削減や生産性向上に直結します。

課題

ビーム電流の限界

高エネルギー・高密度のイオンビームを安定して生成・維持することには技術的な限界があり、これが処理速度の上限を規定しています。

ウェハー搬送時間

ウェハーのセットアップ、アライメント、排出といった搬送プロセスに要する時間が、全体の処理時間を長くする要因となっています。

装置のダウンタイム

定期的なメンテナンスや予期せぬ故障による装置停止時間が、生産効率を著しく低下させています。

プロセス条件の最適化不足

個々のウェハーや製造ロットごとに最適なイオン注入条件を迅速に見つけ出すことが難しく、試行錯誤に時間がかかっています。

​対策

高密度イオン源の開発

より多くのイオンを効率的に生成できる新しいタイプのイオン源を開発し、ビーム電流密度を向上させます。

自動搬送システムの高度化

ウェハーの搬送時間を最小限に抑えるため、高速かつ高精度な自動搬送システムを導入・改良します。

予知保全とモジュール化

装置の稼働状況をリアルタイムで監視し、故障を未然に防ぐ予知保全技術や、交換容易なモジュール設計を採用します。

AIによるプロセス最適化

人工知能を活用し、過去のデータから最適な注入条件をリアルタイムで算出し、プロセス時間を短縮します。

​対策に役立つ製品例

次世代イオン源モジュール

従来のイオン源よりも高いイオン生成効率と安定性を実現し、ビーム電流密度を大幅に向上させることで、注入時間を短縮します。

高速ウェハーローダー

ウェハーのロード・アンロード時間を劇的に短縮する、高精度かつ高速な自動搬送機構です。装置間の移動もスムーズに行えます。

統合型装置監視・診断システム

装置の稼働状況を常時モニタリングし、異常の兆候を早期に検知してメンテナンス計画を最適化します。予期せぬダウンタイムを削減します。

インテリジェントプロセス制御ソフトウェア

機械学習アルゴリズムを用いて、ウェハーごとの特性や製造履歴に基づき、最適なイオン注入条件を自動で設定・調整します。試行錯誤の時間を削減します。

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