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半導体製造装置・材料

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現像液の効率利用とは?課題と対策・製品を解説

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露光・現像における現像液の効率利用とは?

半導体製造プロセスにおける露光工程後、フォトレジストを溶解・除去する現像工程で使用される現像液を、無駄なく最大限に活用すること。これにより、製造コストの削減、環境負荷の低減、および生産性の向上が期待される。

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【電子機器向け】クラウド型生産管理システム『GEN』

【電子機器向け】クラウド型生産管理システム『GEN』
電子機器業界の部品管理では、正確な在庫数の把握と、適切なタイミングでの部品補充が重要です。過剰な在庫は保管コストを増大させ、不足は生産の遅延を招く可能性があります。クラウド型生産管理システム『GEN』は、在庫管理機能を備え、リアルタイムな在庫状況の可視化を実現します。これにより、適切な部品管理が可能となり、コスト削減と生産効率の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・電子機器製造業における部品管理の効率化 ・リアルタイムな部品在庫状況の把握 ・過剰在庫・在庫不足の防止 【導入の効果】 ・部品管理コストの削減 ・生産効率の向上 ・正確な部品管理による機会損失の防止

有機溶剤系スピン現像装置 WSD-200T

有機溶剤系スピン現像装置 WSD-200T
基板をマニュアルでチャックにセットし、パドル現像、リンス、スピン乾燥します。 本体側面にキャニスター缶を収納可能。

小型現像装置

小型現像装置
ご予算、用途に応じてご用意しています。。 カスタム品もご相談に応じます。

有機溶剤系スプレー現像装置 WSD-150

有機溶剤系スプレー現像装置 WSD-150
基板をマニュアルでチャックにセットし、スプレー現像、リンス、スピン乾燥します。

ネオ現像液『D-701』

ネオ現像液『D-701』
『D-701』は、液状フォトレジスト及び、ドライフィルム等のアルカリ 可溶型フォトレジストに対して適切な現像液です。 高解像度のため、パターン不良減少。(レジスト低膨性) スカムなどの残渣除去が非常に強いです。 【特長】 ■レジストの溶解量が多い(液寿命の増加) ■現像機の洗浄が非常に楽にできる ■溶液タイプの為、建浴が容易にできる ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

現像装置『GX-40D』

現像装置『GX-40D』
『GX-40D』は、それぞれ個別に圧力調節が行える上下8本の ノズルパイプを採用した現像装置です。 主に、ドライフィルムレジスト現像や液状レジスト現像の研究開発などの 用途に適しています。 【特長】 ■それぞれ個別に圧力調節可能な上下8本のノズルパイプ ■水平方向のノズルパイプオシレーション ■カラー液晶のタッチパネルで操作が簡単 ■薬液処理時間を入力すれば、コンベアスピードを自動調節 ■薬液の出し入れがしやすい、サイドタンクとドレン口の高さ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

現像機洗浄剤『クリンケム5』

現像機洗浄剤『クリンケム5』
『クリンケム5』は、原液を投入し機械を回すだけでスラッジを除去する 現像機洗浄剤です。 複数回使用可能なことにより、その都度廃液する必要がなく廃液処理代を 抑えることが可能。また、薬品のランニングコストも抑えられます。 除去方法は剥離ではなく、溶解、分解。従って、洗浄後のスラッジ脱落が 起こり難くく、洗浄時にノズルを取り外す必要もないため、そのまま配管と 同時に洗浄することができます。 【特長】 ■1液簡単作業 ■短時間処理 ■溶解洗浄により洗浄直後のスラッジ脱落がない ■以前の薬剤、方法と比較して洗浄力数段UP ■複数回使用できることによるコストメリット ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

【現像装置】均一な処理と搬送安定性を実現する高信頼モデル

【現像装置】均一な処理と搬送安定性を実現する高信頼モデル
『現像装置』は、露光処理後のパターニング現像を行う装置です。 当社独自のスプレー配列により、基材全体を均一に処理可能。 さらに、基材の蛇行やスリップによるレジスト損傷を防ぎ、常に安定した現像品質を確保します。 また、現像チャンバーの蓋を大きく開口できる設計とし、メンテナンス性に優れた構造を実現しました。 【特長】 ■ 均一な現像処理を実現 ■ スリップレス搬送で安定処理 ■ 蛇行によるレジスト損傷を軽減 ■ 優れたメンテナンス性 ※詳細は下記よりお問い合わせください https://toagrp.co.jp/contact

【Sonaer】ソニア社製超音波スプレーノズル

【Sonaer】ソニア社製超音波スプレーノズル
ピエゾセラミックの振動による超音波がスプレーノズル(アトマイザー)に伝わり、そこで液体膜を振動させて極め細かい粒子を形成させて噴霧します。 加圧なしで液体が供給されて微細な粒子を噴霧させる事が出来ます。 流量は型式により異なりますが、最小流量10ml/min~最大100ml/min分の液体まで幅広く対応しています。 液体に圧力を加えない為、飛散や液体の跳ね返りが非常に少なく塗布液の無駄がなくなります。 また大掛りな塗装ブースも不要です。 設備投資とランニングコストの削減を実現します。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用アクセサリーです。

スピン現像装置

スピン現像装置
ガラス基板を回転させながら基板上に塗布されたレジスト膜の 現像から純水によるリンスまで自動で処理を行います。 【特長】 ●現像液パージ機構を設けており、現像液の品種替えが、容易に行えます。 ●ノズル左右移動にロボットを採用。0〜400?oの広範囲に対して  ノズルの移動が任意に設定可能。 ●ノズル上下位置が0〜500?oの広範囲に任意に設定可能。 ※詳細は【資料請求】まで

薬液供給装置(システム)

薬液供給装置(システム)
当社では、薬液供給装置(システム)・半導体洗浄装置の 製造・販売を手がけており、お客様への丁寧なヒアリングにもとづき、 その要望を満たす仕様のご提案をいたします。 当社製品の特長といたしまして、供給元となるキャニスタータンク、 ポリタンク等は、ご使用中のものに合わせられます。 また、酸系、アルカリ系、有機系など使用液による選択が可能です。 【選ばれる理由】 ■ご要望に合わせたフルオーダーメイド製作 ■セミオーダーメイドにも対応 ■既存機の改造にも対応可能 ■修理やメンテナンスも可能 ※詳細については、お気軽にお問い合わせください。
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露光・現像における現像液の効率利用

露光・現像における現像液の効率利用とは?

半導体製造プロセスにおける露光工程後、フォトレジストを溶解・除去する現像工程で使用される現像液を、無駄なく最大限に活用すること。これにより、製造コストの削減、環境負荷の低減、および生産性の向上が期待される。

​課題

現像液の過剰使用によるコスト増

現像液の供給量が多すぎたり、均一な塗布が困難な場合、必要以上に現像液が消費され、製造コストが増大する。

現像液の劣化と再利用の困難さ

現像液は使用に伴い不純物を取り込んだり、成分が変化したりするため、品質が低下し、容易に再利用できない場合がある。

廃液処理コストと環境負荷

使用済み現像液の処理にはコストがかかり、環境への影響も懸念されるため、使用量を削減することが求められる。

現像液の均一な供給と管理の難しさ

ウェハー全体に均一な現像液を供給し、その使用量を正確に管理することは技術的に難しく、ばらつきが生じやすい。

​対策

精密な現像液供給システムの導入

ウェハーのサイズや形状、現像パターンに合わせて、必要な量の現像液をピンポイントで供給するシステムを導入する。

現像液の再生・リサイクル技術の活用

使用済み現像液から不純物を除去し、成分を調整して再利用可能にする技術を導入し、循環型プロセスを構築する。

現像液使用量の最適化アルゴリズム

AIなどを活用し、過去のデータやリアルタイムの状況に基づいて、現像液の使用量を自動で最適化するアルゴリズムを開発・適用する。

高効率な現像液回収・再利用装置

現像工程で発生する現像液ミストや飛散液を効率的に回収し、精製して再利用する装置を導入する。

​対策に役立つ製品例

インテリジェント流体制御ユニット

センサーと連携し、ウェハーの状態に合わせて現像液の供給量をリアルタイムで最適化することで、無駄な消費を削減する。

オンサイト現像液再生システム

製造ライン内で使用済み現像液を精製し、品質を回復させて再利用することで、廃液処理コストと新規購入コストを低減する。

AI駆動型プロセス最適化ソフトウェア

現像液の使用量、現像時間、温度などのパラメータを学習し、最適な条件を自動で設定することで、現像液の効率利用を最大化する。

高回収率ミストセパレーター

現像工程で発生する現像液ミストを高い効率で回収し、再利用可能な状態に戻すことで、液体の損失を最小限に抑える。

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