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研磨後の表面欠陥の抑制とは？課題と対策・製品を解説

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨は、表面を平坦化し、微細な回路パターン形成を可能にする重要な工程です。しかし、研磨後には微細な傷や異物付着などの表面欠陥が発生する可能性があり、これが半導体デバイスの性能低下や歩留まり悪化に繋がります。本テーマでは、これらの研磨後の表面欠陥をいかに抑制し、高品質なウェーハを安定的に製造するかについて解説します。

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【半導体製造向け】EL補助潤滑モジュール

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、クリーンな環境が不可欠です。特に、リニアガイドウェイからの潤滑油の飛散は、製品への汚染を引き起こし、歩留まりを低下させる可能性があります。EL補助潤滑モジュールは、リニアガイドウェイが稼働中でも持続的に適量の潤滑油を供給し、油の落下による汚染を回避することで、クリーンな環境を維持します。これにより、半導体製造装置の信頼性向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置・クリーンルーム環境・リニアガイドウェイの潤滑【導入の効果】・クリーン環境の維持・製品への汚染リスク低減・メンテナンス周期の延長

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【半導体製造向け】静音リニアガイドウェイ

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハの搬送や検査工程においては、微細な位置ずれが製品の品質に大きく影響します。従来のガイドウェイでは、振動や騒音が発生しやすく、これが高精度な作業の妨げになることがあります。当社の静音リニアガイドウェイは、シンクモーションテクノロジーにより、低騒音かつ高精度な動作を実現し、半導体製造における品質向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・検査装置・精密位置決めが必要な製造工程【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・低騒音化による作業環境改善・高速化による生産性向上

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【半導体向け】MAXナノバブル

千代田交易株式会社

半導体業界では、製造工程における微細な異物や汚れの除去が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、高密度化が進む中で、コンタミネーションは深刻な問題となっています。MAXナノバブルは、0.01mm未満の超微細泡で、従来の洗浄方法では落としきれない微細な汚れを浮き上がらせ、除去します。電気分解や薬品を使用しないため、環境負荷を低減しつつ、洗浄コストの削減にも貢献します。【活用シーン】・半導体ウェーハの精密洗浄・製造装置部品の洗浄・クリーンルーム内の清掃【導入の効果】・洗浄力の向上による歩留まり改善・洗浄コストの削減・環境負荷の低減

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【半導体製造向け】ミニチュア型リニアガイドウェイ【MGシリーズ】

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウエハや基板の搬送、検査工程においては、ミクロン単位の正確な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右します。不適切なガイドウェイは、位置決め精度の低下や振動による不良品の発生につながる可能性があります。ミニチュア型リニアガイドウェイ【MGシリーズ】は、コンパクトかつ軽量でありながら、全方向での高い剛性と精度を実現し、半導体製造装置の性能向上に貢献します。【活用シーン】・ウエハ搬送工程・検査装置・精密位置決めユニット【導入の効果】・位置決め精度の向上・装置の安定性向上・歩留まりの向上

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【半導体向け】COT処理による絶縁性向上

千代田交易株式会社

半導体業界では、製品の信頼性を高めるために、絶縁性の確保が重要です。特に、微細化が進む中で、異物混入による絶縁不良は、歩留まりを大きく低下させる要因となります。COT処理は、基材表面を改質することで、皮膜剥落による異物混入リスクを低減し、絶縁性を向上させます。これにより、半導体製品の品質向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置部品・絶縁性を求められる部材・コンタミ対策が必要な箇所【導入の効果】・異物混入リスクの低減・絶縁性の向上・歩留まりの改善

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【半導体向け】φ0.01ミリ極小径ピンゲージ

三和クリエーション株式会社

半導体業界の微細加工においては、高精度な穴径測定が製品の品質を左右します。特に、ウェーハやチップの製造工程では、微細な穴の寸法管理が重要であり、わずかな誤差が製品の不良につながる可能性があります。当社のφ0.01ミリ極小径ピンゲージは、高精度な内径測定を可能にし、歩留まり向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハの穴径測定・半導体チップの微細穴測定・測定器の校正【導入の効果】・高精度な測定による品質向上・不良品の削減・歩留まりの向上

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【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO

株式会社トップウォーターシステムズ

半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。微細な異物や不純物が混入した水は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。TW-020-SROはRO膜による高い浄水能力で、90～99％の分子レベルでの除去性能により、高品質な純水を供給し、半導体製造における洗浄工程をサポートします。【活用シーン】・半導体ウェーハの洗浄・各種部品の洗浄・製造設備の洗浄【導入の効果】・洗浄品質の向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体製造向け】ボールねじ補助潤滑モジュール【EL】

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、高度なクリーン環境が求められ、微細な塵や油分が製品の品質に大きな影響を与えます。特に、ボールねじの潤滑油は、その落下による汚染源となり、歩留まりの低下や装置の故障につながる可能性があります。EL補助潤滑モジュールは、ボールねじが稼働中でも持続的に適量の潤滑油を供給し、油の落下による汚染を回避することで、クリーン環境を維持します。【活用シーン】・半導体製造装置・クリーンルーム内での使用・ボールねじの潤滑が必要な箇所【導入の効果】・クリーン環境の維持・製品品質の向上・メンテナンスサイクルの延長

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【半導体向け】セラミック溶射、各種表面処理

日本セラテック株式会社

半導体製造業界では、ウェーハや基板の搬送において、微細な傷や異物の付着を防ぎ、高い精度を維持することが求められます。特に、パスラインローラーの摩耗や異物混入は、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社セラミック溶射パスラインローラーは、高耐久性と平滑性を両立し、半導体製造における搬送工程の課題解決に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・基板搬送・クリーンルーム内での搬送【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・メンテナンスコストの削減

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【電子部品向け】KFDシリーズテープ研磨ユニット

株式会社コバックス

電子部品業界において、薄膜化は製品の小型化、高性能化に不可欠です。薄膜の精密な研磨は、製品の品質と信頼性を左右する重要な工程であり、面粗度管理が課題となります。KFDシリーズは、PLC制御による精密な研磨を実現し、薄膜化における面粗度管理を容易にします。【活用シーン】・電子部品の薄膜研磨・精密フィルムの研磨・自動車関連部品の研磨【導入の効果】・面粗度管理の容易化・製品品質の向上・研磨工程の効率化

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【半導体向け】静電防止剤『DS-880』

大道産業株式会社

半導体業界では、微細なパターン形成において、ホコリやゴミの付着が歩留まりを大きく左右します。静電気は、これらの異物を引き寄せ、製品の品質を低下させる大きな要因となります。静電防止剤『DS-880』は、水洗工程で水洗水に添加することで、静電気の発生を抑制し、ホコリやゴミの付着を防ぎます。これにより、歩留まりの向上に貢献します。【活用シーン】・パターン形成工程・レジスト硬化工程【導入の効果】・ホコリ・ゴミ付着による不良品の削減・歩留まりの向上・製品品質の安定化

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【電子部品製造向け】PT-VM02 超音波音圧センサー

株式会社プレテック　静岡製作所

電子部品製造業界の品質管理において、洗浄工程は製品の信頼性を左右する重要な要素です。洗浄槽内のキャビテーション強度の変化や経年劣化は、洗浄効果の低下や製品への悪影響を引き起こす可能性があります。これらの問題を未然に防ぎ、安定した品質を維持するためには、洗浄槽の状態を正確に把握し、適切な管理を行うことが不可欠です。PT-VM02は、洗浄槽の状態を数値化することで、品質管理における課題解決をサポートします。【活用シーン】・洗浄槽の日常管理・経年劣化管理・洗浄装置の性能比較・キャビテーション強度の評価【導入の効果】・洗浄槽の状態を可視化し、異常を早期発見・洗浄工程の最適化による品質向上・装置の安定稼働と製品の歩留まり向上・メンテナンスコストの削減

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【半導体製造向け】耐摩耗性に優れる硬質アルマイト

富商

微細な粒子や異物の混入を防ぐために、耐摩耗性に優れた表面処理、硬質アルマイトを試してみませんか？　摩耗によって発生する粉塵は、製品の品質を低下させる可能性があります。　当社の耐摩耗性に優れる硬質アルマイトは、クリーンな環境での使用に適しており、製品の長寿命化に貢献します。【活用シーン】・クリーンルーム内の搬送部品・半導体製造装置の部品・精密機器の筐体【導入の効果】・耐摩耗性の向上による製品寿命の延長・異物混入リスクの低減・メンテナンスコストの削減

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【電子部品向け】低メタル・低パーティクル化ソリューション

福井キヤノンマテリアル株式会社

電子部品業界では、製品の高機能化に伴い、半導体材料の品質が重要になっています。特に、金属不純物やパーティクルの混入は、製品の性能劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。当社製品は、半導体材料製造における吸着剤およびフィルター技術により、これらの課題を解決します。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおける金属不純物除去・半導体材料のパーティクル低減【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・信頼性の高い製品の提供

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【半導体製造向け】ACS-13.5-5

藤倉コンポジット株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハの搬送や検査工程においては、微細な位置調整が製品の品質を左右します。従来のシリンダでは、摩擦抵抗やサイズの制約から、精密な動きを実現することが難しい場合がありました。ACS-13.5-5は、摩擦抵抗ゼロのエアベアリング構造により、高精度な位置決めを実現します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・検査装置・精密部品の組み立て【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・装置の小型化・省スペース化・製造プロセスの効率化

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【半導体向け】TEKHNEPort40-LDPTによる清浄度管理

株式会社テクネ計測

半導体業界では、製造プロセスにおける清浄度の維持が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細な水分は製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。TEKHNEPort 40-LDPTは、高精度な露点測定により、製造環境の水分量を正確に把握し、清浄度管理を支援します。持ち運び可能で、現場での測定に最適です。【活用シーン】・クリーンルーム内の露点測定・製造プロセスにおける配管内の露点測定・品質管理部門での測定【導入の効果】・製品の品質向上・不良品の削減・製造プロセスの最適化

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【ディスプレイ向け】KFDシリーズテープ研磨ユニット

株式会社コバックス

ディスプレイ業界では、高精度の表面処理が求められます。特に、表示品質を左右するフィルム研磨においては、均一な面粗度と高い精度が不可欠です。不適切な研磨は、表示ムラや輝度低下を引き起こす可能性があります。KFDシリーズは、ワーク材質に応じたコンタクトローラー硬度・研磨テープ番手の選定により、高精度な面粗度管理を実現します。【活用シーン】・ディスプレイフィルムの研磨・高精度な表面処理が必要な部品の研磨・自動車関連部品、OA機器関連部品、精密シャフト等の研磨【導入の効果】・面粗度管理の容易化・乾式・湿式研磨の対応・研磨テープの交換容易性

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【半導体製造向け】真円度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、ウェーハの製造において、高い精度が求められます。真円度は、ウェーハの品質を左右する重要な要素の一つです。真円度の定義や図面での使われ方を理解することは、ウェーハの製造プロセスにおいて不可欠です。この動画では、真円度の基本を解説し、ウェーハ製造における品質管理に役立つ情報を提供します。【活用シーン】・ウェーハ製造における真円度の理解・図面上の真円度指示の解釈・真円度測定の基礎知識【導入の効果】・ウェーハ製造における品質向上・不良品の削減・製造プロセスの効率化

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【半導体向け】圧縮空気微生物汚染物質含有量の試験

株式会社分析センター

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まり向上が最重要課題です。クリーンルーム環境下での製造プロセスにおいて、圧縮空気中の微生物汚染は、製品の不良や性能低下を引き起こす可能性があります。特に、微細な回路を扱う半導体製造においては、わずかな汚染物質も大きな影響を与え、歩留まりを悪化させる要因となります。当社の圧縮空気微生物汚染物質含有量の試験は、この課題に対し、VWR社のSAサンプラーを用いて圧縮空気やガスに含まれる微生物を評価することで、品質管理をサポートします。【活用シーン】 * クリーンルーム内の圧縮空気供給ライン * 半導体製造装置への圧縮空気供給箇所 * 定期的な微生物汚染評価 * 汚染原因調査【導入の効果】 * 製品の歩留まり向上 * 品質管理体制の強化 * 製造プロセスの安定化 * 不良品の削減

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【電子機器向け】各種素材矯正試作サービス

生田産機工業株式会社

電子機器業界では、製品の性能を維持するために、放熱性能が重要です。特に、高密度実装が進む中で、熱による部品の劣化や誤作動を防ぐために、放熱部品の平坦度が求められます。平坦度の低い放熱部品は、接触不良を起こし、放熱効率を低下させる可能性があります。IKUTAの矯正試作サービスは、鉄鋼、SUS、銅、アルミなど、様々な素材の平坦度を改善し、放熱性能の向上に貢献します。【活用シーン】・電子機器の筐体・ヒートシンク・放熱板・その他、平坦度が求められる電子部品【導入の効果】・放熱効率の向上・製品の信頼性向上・部品の寿命延長・不良率の低減

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【半導体製造向け】防爆ハンディ露点計 SDHmini-EX

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製造プロセスのクリーン度を維持するために、空気中の水分量を厳密に管理することが重要です。微量の水分が製品の品質や歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があるため、高精度な水分測定が求められます。SDHmini-EXは、高応答速のドライチャンバーと防爆性能を備え、クリーンルーム環境下での水分測定を容易にします。【活用シーン】・クリーンルーム内の露点測定・工業ガス、圧縮空気の水分チェック・製造ラインの品質管理【導入の効果】・正確な水分管理による製品品質の向上・製造プロセスの安定化・迅速な測定による異常の早期発見

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【半導体向け】平面度解説動画

株式会社松井製作所

半導体業界の微細加工においては、高い精度が求められます。特に、ウェーハや基板の平面度は、製造プロセス全体の品質を左右する重要な要素です。平面度のわずかなずれが、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平面度」の基本を解説しています。平面度の定義、使用例、図面上での使われ方、使用する際の注意点について解説します。平面度に関する理解を深めることで、微細加工における品質向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における品質管理・微細加工プロセスの改善・設計段階での平面度指示【導入の効果】・平面度に関する知識の習得・加工精度の向上・不良率の低減

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【半導体ウェーハ向け】超耐熱シリコンゴムシート

会津ゴム工業株式会社

半導体業界では、ウェーハ製造における高温環境下での耐久性が求められます。特に、熱処理工程や研磨工程においては、高い耐熱性と安定した性能が重要です。不適切な材料の使用は、ウェーハの品質低下や製造効率の悪化につながる可能性があります。当社の超耐熱シリコンゴムシートは、300℃の耐熱性を持ち、ウェーハ製造工程をサポートします。【活用シーン】・ウェーハ搬送用治具・高温環境下での緩衝材・研磨工程での保護材【導入の効果】・300℃の耐熱性により、高温環境下での使用が可能・RoHS対応品で、環境負荷を低減・カット対応により、用途に合わせた形状で提供可能

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【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、微細な部品の製造において、表面の清浄度と精密な形状が求められます。特に、クリーンな環境下での製造においては、研磨加工による微細なバリや異物の除去が重要です。これらの不具合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の超精密特殊鏡面研磨技術は、形状に沿って粗い面を鏡面に仕上げ、エッジを損なうことなく微細なバリを取り除くことが可能です。【活用シーン】・クリーンルーム内での半導体部品の研磨・微細加工部品のバリ取り・試作部品の鏡面仕上げ【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・異物混入のリスク低減

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【CMP工程向け】超音波メガソニック洗浄装置

ティックコーポレーション株式会社

CMP工程では、ウェーハ表面のスラリー除去が、製品の品質に影響を与える重要なプロセスです。ウェーハ表面に残存したスラリーは、後工程での欠陥や歩留まりの低下につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、高い洗浄力と均一な洗浄を実現し、CMP工程における品質向上に貢献します。【活用シーン】・CMP工程におけるスラリー除去・ウェーハ製造工程における異物除去・薬液洗浄後のリンス工程【導入の効果】・洗浄時間の短縮・洗浄品質の向上・歩留まりの改善

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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

ティックコーポレーション株式会社

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程における洗浄・微細な異物や有機物の除去・高品質な半導体製品の製造【導入の効果】・洗浄品質の向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体製造装置向け】ガラス精密加工　NC加工・開孔加工

株式会社ブル精密

半導体製造装置の露光マスクにおいては、微細なパターン形成と高い寸法精度が求められます。特に、露光マスクに使用されるガラス基板には、欠陥の少なさ、平坦性、そして正確な位置への開孔加工が不可欠です。これらの要素が満たされない場合、半導体の歩留まり低下や性能に影響を及ぼす可能性があります。当社は、長年の経験と高度なNC加工技術により、お客様の要求仕様を満たすガラス加工を実現します。【活用シーン】・露光マスク基板の精密な開孔加工・指定形状への面取り加工・長方形、円、正方形など多様な形状への対応【導入の効果】・高精度な露光マスクの製造に貢献・歩留まり向上と品質安定化をサポート・複雑な形状加工への対応力

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【半導体向け】露点温度計測サービス

株式会社分析センター

半導体業界の品質管理において、圧縮空気中の水分量は製品の品質を左右する重要な要素です。微細な回路や精密な部品は、わずかな水分によっても腐食や性能劣化を引き起こし、歩留まりを低下させる可能性があります。露点温度計測サービスは、圧縮空気中の水分濃度を正確に測定し、品質管理における課題解決を支援します。【活用シーン】・半導体製造工程におけるクリーンルーム内の圧縮空気管理・製造装置への供給エアの品質管理・品質管理部門での定期的な測定【導入の効果】・圧縮空気の品質維持による製品歩留まりの向上・設備トラブルの未然防止によるコスト削減・品質管理体制の強化

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【半導体製造向け】ゼロバックラッシュ減速機　Galaxie

ヴィッテンシュタイン株式会社

半導体製造業界では、ウェーハや基板の精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、高い位置決め精度と安定性が求められます。バックラッシュが大きい減速機を使用した場合、位置決め精度が低下し、不良品の発生につながる可能性があります。Galaxie ゼロバックラッシュ減速機は、高いトルク密度と剛性により、優れた伝達精度と位置決め精度を実現します。【活用シーン】・ウェーハ搬送装置・露光装置・検査装置・精密研磨装置【導入の効果】・位置決め精度の向上・歩留まりの改善・装置の高性能化・生産性の向上

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【半導体製造装置向け】硬質アルマイト

富商

弊社の硬質アルマイトを試しませんか？耐摩耗性。耐食性に優れた皮膜を形成し、製造装置の信頼性向上に貢献します！【活用シーン】・ウェーハ搬送機構・チャンバー・摺動部品　　　など【導入の効果】・部品の長寿命化・装置の稼働率向上・メンテナンスコスト削減

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【半導体製造向け】ウエハー・ポリマーのコーティング試験考察

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

半導体製造業界では、歩留まりの向上が重要な課題です。ウエハーの金属コーティングの品質は、製品の信頼性と歩留まりに大きく影響します。コーティングの接着強度や基材との相性が悪いと、様々なトラブルの原因となり、歩留まりを低下させる可能性があります。ナノビア社のインデンターなどの試験機を活用することで、これらの問題を早期に発見し、対策を講じることが可能になります。【活用シーン】・ウエハーの金属コートの機械強度検証・ポリマーコーティングの接着破壊、凝集破壊、臨界負荷の評価・多層薄膜のスクラッチ耐性試験・自己洗浄ガラスコートの摩擦評価・高温環境下でのスクラッチ試験【導入の効果】・コーティングの品質評価による歩留まり向上・製品の信頼性向上・不良品の削減・研究開発の効率化

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【電子部品向け】鏡面仕上研磨加工

日鉄ステンレス加工株式会社

電子部品業界において、基板の品質は製品全体の信頼性を左右する重要な要素です。基板の板厚が不均一であると、部品の実装精度に影響し、最終製品の性能低下や故障の原因となる可能性があります。当社の鏡面仕上研磨加工は、ミクロンオーダーでの板厚均一化を実現し、基板の品質向上に貢献します。これにより、精密機器の組み付け精度を高め、最終製品の品質保証を可能にします。【活用シーン】 * 基板製造における板厚調整 * 精密機器の組み立て工程 * 品質管理における板厚精度の向上【導入の効果】 * 基板の品質向上 * 製品の信頼性向上 * 組立工数の削減

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【半導体製造向け】諏訪圏ものづくりの強み

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体製造業界では、高精度な微細加工技術が製品の性能を左右します。特に、微細化が進む半導体デバイスにおいては、ミクロン単位の加工精度が求められます。不適切な加工は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。諏訪圏の強みである微細加工技術は、ミクロン単位の高精度加工を実現し、半導体製造における課題解決に貢献します。【活用シーン】・半導体ウェーハの加工・半導体製造装置部品の製造・電子部品の微細加工【導入の効果】・高精度な加工による製品品質の向上・歩留まりの改善・製品開発期間の短縮

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【半導体製造向け】HIWIN単軸リニアモーターステージ

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、ウェーハの搬送や検査工程においては、ミクロン単位の正確な位置決めが求められます。位置決めの精度が低いと、製造不良や検査エラーが発生し、コスト増につながる可能性があります。HIWINの単軸リニアモーターステージは、高速・高精度な位置決めを実現し、半導体製造におけるこれらの課題を解決します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・検査装置・組み立て工程【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・生産性の向上・コスト削減

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【高機能カメラ向け】高精度プレス加工

株式会社ニチベイパーツ

高機能カメラ業界では、小型化と高性能化の両立が求められ、精密な部品加工が不可欠です。特に、レンズやセンサーなどの精密部品においては、高い加工精度が製品の性能を左右します。不適切な加工は、画質の低下や製品の故障につながる可能性があります。当社高精度プレス加工は、お客様のニーズを細部まで伺い、作業工程内での作業性向上や歩留まり改善、コスト低減にも繋がる素材や構成、形状を提案いたします。【活用シーン】・レンズモジュール・イメージセンサー・小型筐体【導入の効果】・高精度加工による製品性能の向上・歩留まり改善によるコスト削減・小型化・軽量化への貢献

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【半導体工場向け】配管式掃除装置・集塵機

日本精密株式会社

半導体工場では、製造工程における微粒子の混入が、製品の品質を大きく左右します。特に、クリーンルーム内では、徹底した清掃と高いクリーン度維持が不可欠です。従来の掃除方法では、清掃時のホコリの再飛散や、清掃範囲の限界といった課題がありました。当社の配管式掃除装置・集塵機は、これらの課題を解決し、クリーンな環境を維持します。【活用シーン】・クリーンルーム内・製造ライン周辺・検査室・その他、微粒子混入を避けたいエリア【導入の効果】・微粒子による製品不良の削減・クリーンルームの清浄度向上・清掃時間の短縮と効率化・作業者の負担軽減

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【電子機器向け】リアルタイム生産最適化スケジューラー

株式会社ネクストオプト

電子機器業界では、歩留まりの向上と生産効率の向上が求められています。不良品の発生は、コスト増につながり、競争力を低下させる要因となります。リアルタイム生産最適化スケジューラーは、工程進捗や突発的な変更に1クリックで対応し、計画を自動的に立案します。これにより、生産計画の最適化、歩留まりの改善に貢献します。【活用シーン】・部品供給の遅延発生時・生産ラインの急な変更時・作業者の欠勤発生時【導入の効果】・リードタイム短縮・納期遵守率向上・計画変更工数の削減

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【電子機器向け】モールドベース製造・精密ガンドリル加工受託

ケー・エム・エス株式会社

電子機器業界では、製品の小型化と高性能化に伴い、効果的な放熱対策が不可欠です。特に、高密度実装された電子部品は、熱による性能劣化や故障のリスクが高まります。モールドベースの冷却穴やヒーター穴の加工は、放熱性能を左右する重要な要素です。当社のモールドベース製造・精密ガンドリル加工受託サービスは、これらの課題に対し、高精度な深穴加工と短納期で対応します。【活用シーン】・電子機器の筐体・ヒートシンク・冷却プレート【導入の効果】・放熱効率の向上・製品の信頼性向上・設計の自由度向上

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【電子精密機器向け】デミスター

株式会社テクネ計測

電子精密機器業界では、製造プロセスにおけるガスサンプルの清浄度が製品の品質と信頼性を大きく左右します。特に、微細な部品や高度な技術が用いられる分野では、ガスサンプル中の微小な異物が測定結果に影響を与え、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。Neutronics社のデミスターは、ガスサンプルからミストや浮遊液滴を効果的に除去し、精密な測定を可能にします。【活用シーン】 * 半導体製造プロセス * 精密機器の品質管理 * クリーンルーム環境【導入の効果】 * 測定精度の向上 * 製品品質の安定化 * 歩留まりの向上

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【半導体向け】表面検査技術資料一覧

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、製造プロセスにおける異物混入の徹底的な管理が求められます。特に、微細化が進む半導体デバイスにおいては、微小な異物が製品の性能を著しく低下させる可能性があります。ナノビア社の表面検査技術資料は、異物検出の課題解決に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ表面の異物検査・マスクやレチクルの異物検査・製造工程における異物発生源の特定【導入の効果】・異物による不良品の削減・歩留まりの向上・品質管理の効率化

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【半導体品質管理向け】表面凹凸可視化ユニット

スミックス株式会社

半導体業界の品質管理において、ウエハ表面の微細な欠陥の検出は、製品の信頼性を左右する重要な要素です。目視や顕微鏡検査では見逃しがちなナノレベルの凹凸やキズは、歩留まりの低下や製品不良の原因となります。本ユニットは、オフアキシス光学系とエッジ反射光検出により、これらの微細な欠陥を広域で捉え、検査工程の効率化と品質管理の精度向上に貢献します。【活用シーン】・ウエハ表面の品質検査・製造工程における異常の早期発見・品質管理部門での検査業務【導入の効果】・検査時間の短縮・不良品の削減・品質管理コストの削減

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【半導体関連部材向け】高純度シリカ SiO2

共立マテリアル株式会社

光学・電子・ガラス材料分野などでお使いいただける『高純度シリカ』を取り扱っております。品位や粒度の異なる各種グレードを取り揃えております。鉄やチタン、重金属等の含有量を抑えた商品がございますので、用途やご要望に応じた最適な材料提案が可能です。 ■強み弊社はメーカー機能兼ね備えた販売店です。サプライヤーの分析値のみならず、原料メーカーという強みを活かしEC測定・誘電率・化学分析・粒度測定が可能です。各ご要望に応じて適切に対応させていただいております！ ■ 取扱製品　産地：豪州・インド・中国　・珪石　・珪砂　・高純度シリカ ■用途　・液晶パネル用ガラス（テレビ、スマホ、タブレット）　・強化ガラス　・半導体封止材　・半導体関連部材（サポートガラス、石英つるぼ etc.）　・電子部材　・光学レンズ

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【半導体ウェーハ向け】研削加工技術

株式会社トムラス

半導体業界では、ウェーハの平坦性、寸法精度、表面粗さが製品の性能を左右する重要な要素となります。特に、微細化が進む中で、ウェーハ表面のわずかな凹凸や寸法の誤差が、デバイスの歩留まりや信頼性に大きな影響を与える可能性があります。当社の研削加工技術は、ミクロン単位での精密な加工を実現し、ウェーハの高品質化に貢献します。【活用シーン】・ウェーハの平面研磨・ウェーハの精密研削・ウェーハの表面粗さ調整【導入の効果】・ウェーハの平坦性向上・寸法精度の向上・表面粗さの改善・デバイスの歩留まり向上・製品の信頼性向上

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半導体クリーンルームの作業ルールを動画に

株式会社LinkStudio

クリーンルームでの作業ルールを、入る前の研修で具体的に説明したい。手順書や現場の教育資料を、動画のもとにできます。 LinkStudioでは、説明したい作業と注意点を伺い、どの場面で何を確認するのかをアニメーションで表します。新人・外国人スタッフ向けに、言葉の選び方や字幕の言語も一緒に整理します。ご相談は無料です。工場固有の管理基準を担当者に確認いただき、現場の実技指導に添える教材として制作します。

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【半導体製造向け】SAIWシートメタル洗浄機

株式会社Eプラン

半導体製造業界では、製品の品質を左右するパーティクルの除去が重要です。微細なパーティクルは、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、金属板に付着したパーティクルや油汚れを効果的に除去します。これにより、次工程の品質向上に貢献し、歩留まりの改善に繋がります。【活用シーン】・半導体製造工程における金属部品の洗浄・パーティクルや油汚れの除去が必要な工程・品質管理を徹底したい工程【導入の効果】・パーティクル除去による品質向上・歩留まりの改善・洗浄剤コストの削減

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【家電向け】ウエハー・ポリマーのコーティング試験考察

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

家電業界では、製品の小型化と高性能化が常に求められています。半導体デバイスの信頼性は、製品の品質を左右する重要な要素です。特に、ウエハーのコーティングは、デバイスの性能と耐久性に大きく影響します。コーティングの接着強度や耐摩耗性の問題は、製品の故障や性能劣化につながる可能性があります。ナノビア社のインデンターを用いた試験は、これらの課題を解決し、信頼性の高い半導体デバイスの開発を支援します。【活用シーン】・小型家電製品の半導体デバイス開発・ウエハーコーティングの品質管理・ポリマーコーティングの耐久性評価【導入の効果】・半導体デバイスの信頼性向上・製品の小型化と高性能化の実現・開発期間の短縮とコスト削減

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【半導体製造向け】カスタマー開発支援サービス

株式会社長浜製作所

半導体製造業界では、製品の歩留まり向上が重要な課題です。製造プロセスにおける振動は、製品の品質低下や不良品の発生につながり、歩留まりを悪化させる可能性があります。当社のカスタマー開発支援サービスは、スピンテスト/バランシング/回転機械振動の評価技術を駆使し、お客様の製品における振動問題を解決し、歩留まり改善に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置のローター・高速回転する部品の振動対策・製品の信頼性向上【導入の効果】・振動による不良品の発生を抑制・製品の品質向上・歩留まりの改善

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【半導体向け】低メタル・低パーティクル化ソリューション

福井キヤノンマテリアル株式会社

半導体業界では、製品の歩留まり向上が重要な課題です。製造プロセスにおける金属不純物やパーティクルの混入は、製品の品質劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。当社製品は、これらの課題に対し、吸着剤やフィルター技術を用いて、金属濃度をppbレベル、粒径100nm程度までのパーティクル数を管理することで、歩留まり向上に貢献します。【活用シーン】・半導体材料の精製・洗浄液のパーティクル除去・フォトレジスト等の材料管理【導入の効果】・歩留まりの向上・製品品質の安定化・不良率の低減

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【半導体検査向け】50N高推力・真空仕様有りのアクチュエータ

PIジャパン株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右します。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。N-331 PICMAWalkは、最大50 Nの高推力とサブナノメートル分解能を両立した組込み型リニアアクチュエータです。最大12 mm/sの高速動作に対応し、検査装置のタクトタイム短縮にも貢献します。摩擦駆動方式により電源オフ時でも位置保持が可能。さらに真空対応仕様により、半導体検査装置やクリーン環境下での使用にも適しています。【活用シーン】・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め・マスクアライナーにおける位置決め・検査装置における高精度位置決め【導入の効果】・ナノメートルレベルでの高精度な位置決めを実現・製造プロセスの品質向上と歩留まり向上に貢献・真空環境下での使用が可能推力特性、その他仕様、真空対応オプションなどの詳細はカタログをご確認ください。

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【電子材料向け】ニューウルトラセパレータ

株式会社増野製作所

電子材料業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、不純物の除去と粒度分布の精密な制御が求められます。特に、電子部品の製造においては、材料中の微粉や異物が製品の性能を低下させる可能性があります。ニューウルトラセパレータは、5〜10μmから45μm99％通過程度の微粉生産が可能で、分級効率が高いため、製品の回収率向上に貢献します。【活用シーン】・電子材料の精密分級・異物除去による品質向上・超微粉の製造【導入の効果】・製品の歩留まり向上・品質の安定化・生産性の向上

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ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

課題

微細な傷の発生

研磨スラリー中の硬質粒子や、研磨パッドとの接触により、ウェーハ表面にナノメートルオーダーの微細な傷が発生し、デバイス性能に影響を与える。

異物付着の残留

研磨工程で発生したパーティクルや、スラリー中の不純物がウェーハ表面に付着し、回路形成時の欠陥原因となる。

表面平坦性のばらつき

研磨条件のばらつきや、ウェーハ材質の不均一性により、表面の平坦度にばらつきが生じ、後工程での歩留まりに影響する。

化学的残留物の影響

研磨スラリーに含まれる化学薬品や、洗浄工程で用いる薬品がウェーハ表面に残留し、後工程での反応を阻害したり、欠陥を誘発したりする。

対策

研磨スラリーの最適化

粒子径分布の均一化、硬度の調整、添加剤の最適化により、傷の発生を抑制し、異物付着を低減するスラリーを開発・使用する。

研磨パッドの改良

材料、構造、表面加工を最適化し、ウェーハ表面への均一な圧力をかけ、傷の発生を抑制しつつ、異物の巻き込みを防ぐパッドを選定・使用する。

精密な洗浄技術の導入

超純水を用いた多段階洗浄、特殊な洗浄液の使用、非接触洗浄技術などを組み合わせ、研磨後の異物や化学的残留物を効果的に除去する。

プロセスモニタリングとフィードバック

リアルタイムで研磨状態や表面欠陥を検知・分析し、得られたデータを基に研磨条件や洗浄条件を自動調整することで、欠陥発生を未然に防ぐ。

対策に役立つ製品例

高機能研磨スラリー

微細な粒子設計と均一な分散技術により、ウェーハ表面へのダメージを最小限に抑え、異物混入リスクを低減する。これにより、研磨後の傷や異物付着といった欠陥を効果的に抑制する。

低ダメージ研磨パッド

特殊なポリマー構造と表面加工により、ウェーハ表面との接触圧を均一化し、研磨時の微細な傷の発生を抑制する。また、異物の巻き込みを低減し、清浄度を向上させる。

超高純度洗浄システム

多段階の精密ろ過と特殊な洗浄液を組み合わせ、ウェーハ表面に付着した微細な異物や化学的残留物を徹底的に除去する。これにより、後工程での欠陥発生リスクを大幅に低減する。

インライン欠陥検査装置

研磨・洗浄工程直後にウェーハ表面の欠陥をリアルタイムで検出し、そのデータを研磨装置や洗浄装置にフィードバックする。これにより、プロセスパラメータの自動最適化が可能となり、欠陥の発生を未然に防ぐ。

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検査・測定装置

材料

自動化・ITソリューション

製造装置

研磨後の表面欠陥の抑制とは？課題と対策・製品を解説

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

各社の製品

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

​課題

微細な傷の発生

異物付着の残留

表面平坦性のばらつき

化学的残留物の影響

​対策

研磨スラリーの最適化

研磨パッドの改良

精密な洗浄技術の導入

プロセスモニタリングとフィードバック

​対策に役立つ製品例

高機能研磨スラリー

低ダメージ研磨パッド

超高純度洗浄システム

インライン欠陥検査装置

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

課題

対策

対策に役立つ製品例