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研磨後の表面欠陥の抑制とは？課題と対策・製品を解説

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ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨は、表面を平坦化し、微細な回路パターン形成を可能にする重要な工程です。しかし、研磨後には微細な傷や異物付着などの表面欠陥が発生する可能性があり、これが半導体デバイスの性能低下や歩留まり悪化に繋がります。本テーマでは、これらの研磨後の表面欠陥をいかに抑制し、高品質なウェーハを安定的に製造するかについて解説します。

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【半導体製造向け】カスタマー開発支援サービス

株式会社長浜製作所

半導体製造業界では、製品の歩留まり向上が重要な課題です。製造プロセスにおける振動は、製品の品質低下や不良品の発生につながり、歩留まりを悪化させる可能性があります。当社のカスタマー開発支援サービスは、スピンテスト/バランシング/回転機械振動の評価技術を駆使し、お客様の製品における振動問題を解決し、歩留まり改善に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置のローター・高速回転する部品の振動対策・製品の信頼性向上【導入の効果】・振動による不良品の発生を抑制・製品の品質向上・歩留まりの改善

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【半導体製造向け】ゼロバックラッシュ減速機　Galaxie

ヴィッテンシュタイン株式会社

半導体製造業界では、ウェーハや基板の精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、高い位置決め精度と安定性が求められます。バックラッシュが大きい減速機を使用した場合、位置決め精度が低下し、不良品の発生につながる可能性があります。Galaxie ゼロバックラッシュ減速機は、高いトルク密度と剛性により、優れた伝達精度と位置決め精度を実現します。【活用シーン】・ウェーハ搬送装置・露光装置・検査装置・精密研磨装置【導入の効果】・位置決め精度の向上・歩留まりの改善・装置の高性能化・生産性の向上

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【半導体製造向け】ジェットクーラ

日本精器株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、精密な冷却が求められる工程においては、温度ムラや急激な温度変化が、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。ジェットクーラは、可動部分がなく、冷媒や電気を使用しないため、安定した冷風供給を実現し、精密冷却のニーズに応えます。【活用シーン】・半導体製造装置の局所冷却・電子部品の冷却・検査工程での温度管理【導入の効果】・スポット冷却による温度管理精度の向上・電気代削減によるコストダウン・長寿命設計によるメンテナンス頻度の低減

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【電子部品向け】鏡面仕上研磨加工

日鉄ステンレス加工株式会社

電子部品業界において、基板の品質は製品全体の信頼性を左右する重要な要素です。基板の板厚が不均一であると、部品の実装精度に影響し、最終製品の性能低下や故障の原因となる可能性があります。当社の鏡面仕上研磨加工は、ミクロンオーダーでの板厚均一化を実現し、基板の品質向上に貢献します。これにより、精密機器の組み付け精度を高め、最終製品の品質保証を可能にします。【活用シーン】 * 基板製造における板厚調整 * 精密機器の組み立て工程 * 品質管理における板厚精度の向上【導入の効果】 * 基板の品質向上 * 製品の信頼性向上 * 組立工数の削減

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【電子部品向け】KFDシリーズテープ研磨ユニット

株式会社コバックス

電子部品業界において、薄膜化は製品の小型化、高性能化に不可欠です。薄膜の精密な研磨は、製品の品質と信頼性を左右する重要な工程であり、面粗度管理が課題となります。KFDシリーズは、PLC制御による精密な研磨を実現し、薄膜化における面粗度管理を容易にします。【活用シーン】・電子部品の薄膜研磨・精密フィルムの研磨・自動車関連部品の研磨【導入の効果】・面粗度管理の容易化・製品品質の向上・研磨工程の効率化

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【電子部品向け】低メタル・低パーティクル化ソリューション

福井キヤノンマテリアル株式会社

電子部品業界では、製品の高機能化に伴い、半導体材料の品質が重要になっています。特に、金属不純物やパーティクルの混入は、製品の性能劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。当社製品は、半導体材料製造における吸着剤およびフィルター技術により、これらの課題を解決します。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおける金属不純物除去・半導体材料のパーティクル低減【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・信頼性の高い製品の提供

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【半導体製造向け】HIWIN単軸リニアモーターステージ

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、ウェーハの搬送や検査工程においては、ミクロン単位の正確な位置決めが求められます。位置決めの精度が低いと、製造不良や検査エラーが発生し、コスト増につながる可能性があります。HIWINの単軸リニアモーターステージは、高速・高精度な位置決めを実現し、半導体製造におけるこれらの課題を解決します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・検査装置・組み立て工程【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・生産性の向上・コスト削減

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【電子機器向け】リアルタイム生産最適化スケジューラー

NEXTOPT

電子機器業界では、歩留まりの向上と生産効率の向上が求められています。不良品の発生は、コスト増につながり、競争力を低下させる要因となります。リアルタイム生産最適化スケジューラーは、工程進捗や突発的な変更に1クリックで対応し、計画を自動的に立案します。これにより、生産計画の最適化、歩留まりの改善に貢献します。【活用シーン】・部品供給の遅延発生時・生産ラインの急な変更時・作業者の欠勤発生時【導入の効果】・リードタイム短縮・納期遵守率向上・計画変更工数の削減

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【高機能カメラ向け】高精度プレス加工

株式会社ニチベイパーツ

高機能カメラ業界では、小型化と高性能化の両立が求められ、精密な部品加工が不可欠です。特に、レンズやセンサーなどの精密部品においては、高い加工精度が製品の性能を左右します。不適切な加工は、画質の低下や製品の故障につながる可能性があります。当社高精度プレス加工は、お客様のニーズを細部まで伺い、作業工程内での作業性向上や歩留まり改善、コスト低減にも繋がる素材や構成、形状を提案いたします。【活用シーン】・レンズモジュール・イメージセンサー・小型筐体【導入の効果】・高精度加工による製品性能の向上・歩留まり改善によるコスト削減・小型化・軽量化への貢献

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【半導体製造向け】SSA単軸リニアモーターステージ

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハやマスクの位置決めは、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。従来のボールねじ方式では、速度や加速度に限界があり、生産性の向上を妨げる要因となっていました。SSA単軸リニアモーターステージは、高速・高精度な位置決めを実現し、半導体製造における生産性向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・マスクアライメント・検査装置・レーザー加工【導入の効果】・生産性の向上・品質の向上・コスト削減

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【電子材料向け】ニューウルトラセパレータ

株式会社増野製作所

電子材料業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、不純物の除去と粒度分布の精密な制御が求められます。特に、電子部品の製造においては、材料中の微粉や異物が製品の性能を低下させる可能性があります。ニューウルトラセパレータは、5〜10μmから45μm99％通過程度の微粉生産が可能で、分級効率が高いため、製品の回収率向上に貢献します。【活用シーン】・電子材料の精密分級・異物除去による品質向上・超微粉の製造【導入の効果】・製品の歩留まり向上・品質の安定化・生産性の向上

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【半導体向け】セラミック溶射、各種表面処理

日本セラテック株式会社

半導体製造業界では、ウェーハや基板の搬送において、微細な傷や異物の付着を防ぎ、高い精度を維持することが求められます。特に、パスラインローラーの摩耗や異物混入は、製品の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社セラミック溶射パスラインローラーは、高耐久性と平滑性を両立し、半導体製造における搬送工程の課題解決に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・基板搬送・クリーンルーム内での搬送【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・メンテナンスコストの削減

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【半導体製造向け】円筒度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、高い精度が求められます。円筒度は、ウェーハの製造プロセスにおいて、その品質を左右する重要な要素の一つです。円筒度の理解は、ウェーハの形状精度を確保し、歩留まり向上に貢献します。この動画では、円筒度の定義、使用例、図面上での使われ方、測定方法、注意点について解説します。【活用シーン】・ウェーハ製造における形状精度管理・半導体製造プロセスの品質向上・円筒度に関する基礎知識の習得【導入の効果】・ウェーハ製造における品質問題の理解促進・円筒度に関する知識習得による業務効率化・半導体製造技術者のスキルアップ

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【半導体向け】平面度解説動画

株式会社松井製作所

半導体業界の微細加工においては、高い精度が求められます。特に、ウェーハや基板の平面度は、製造プロセス全体の品質を左右する重要な要素です。平面度のわずかなずれが、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平面度」の基本を解説しています。平面度の定義、使用例、図面上での使われ方、使用する際の注意点について解説します。平面度に関する理解を深めることで、微細加工における品質向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における品質管理・微細加工プロセスの改善・設計段階での平面度指示【導入の効果】・平面度に関する知識の習得・加工精度の向上・不良率の低減

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【ディスプレイ向け】ウエハー・ポリマーのコーティング試験考察

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

ディスプレイ業界では、高画質化を実現するために、半導体ウエハーの品質が重要です。特に、ウエハーの金属コーティングの接着強度や耐久性は、ディスプレイの性能に大きく影響します。コーティングの不具合は、画質の低下や製品寿命の短縮につながる可能性があります。ナノビア社のインデンターを用いた試験は、ウエハーのコーティングの様々な試験結果を提供し、高画質化に貢献します。【活用シーン】 * ディスプレイ製造における半導体ウエハーの品質管理 * コーティング材料の研究開発 * ディスプレイの耐久性評価【導入の効果】 * ディスプレイの画質向上 * 製品の信頼性向上 * 製造プロセスの最適化

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【半導体向け】φ0.01ミリ極小径ピンゲージ

三和クリエーション株式会社

半導体業界の微細加工においては、高精度な穴径測定が製品の品質を左右します。特に、ウェーハやチップの製造工程では、微細な穴の寸法管理が重要であり、わずかな誤差が製品の不良につながる可能性があります。当社のφ0.01ミリ極小径ピンゲージは、高精度な内径測定を可能にし、歩留まり向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハの穴径測定・半導体チップの微細穴測定・測定器の校正【導入の効果】・高精度な測定による品質向上・不良品の削減・歩留まりの向上

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【半導体向け】不良品削減で在庫適正化！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、クリーン度を維持し、不良品を最小限に抑えることが重要です。不良品の発生は、歩留まりの低下、コスト増につながり、企業の競争力を損なう可能性があります。在庫管理においても、不良品の発生は余分な在庫を抱える原因となり、保管スペースの圧迫や廃棄コストの増加を招きます。この動画では、不良品削減に焦点を当て、在庫管理の改善策を提案します。【活用シーン】・半導体製造工場の在庫管理部門・品質管理部門・製造現場の改善担当者【導入の効果】・不良品の削減による在庫の適正化・コスト削減・品質向上

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【ディスプレイ向け】鉛筆硬度試験機 H501

エルコメーター株式会社

ディスプレイ業界では製品の品質を維持するために、表面の耐スクラッチ性が重要です。特に、日常的な使用や清掃によるキズは製品の見栄えを損ない、顧客満足度を低下させる可能性があります。鉛筆硬度試験機『H501』は塗膜表面の硬さを評価することで、ディスプレイのキズ付きやすさを評価し、製品の品質向上に貢献します。【活用シーン】・ディスプレイ製造における品質管理・製品開発段階での塗膜性能評価・受入検査でのスクラッチ耐性確認【導入の効果】・客観的なデータに基づいた品質評価・製品の信頼性向上・顧客満足度の向上

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【半導体製造向け】リニアモーター

ハイウィン株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と生産効率を左右します。特に、ウェーハやマスクの位置決めは、微細加工の精度を決定づける重要な要素です。従来の駆動方式では、バックラッシュや摩擦による位置ずれが発生し、歩留まりの低下や装置の寿命を縮める原因となっていました。HIWINのリニアモーターは、非接触駆動により、高精度な位置決めを実現し、半導体製造における品質向上と生産性の向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・マスクアライメント・検査装置・レーザー加工【導入の効果】・高精度な位置決めによる歩留まり向上・高速・高応答性による生産性向上・メンテナンス性の向上によるコスト削減

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【半導体製造装置業界向け】隙間シール用ワイパーブラシ

株式会社共伸技研

半導体業界における研磨工程では、ウェーハ表面の精密な加工が求められます。微細な傷や異物の付着は、製品の品質を大きく損なう原因となります。高密度チャンネル直線ブラシは、ナイロン毛材を高密度に植毛することで、均一な研磨と高い清浄度を実現します。これにより、歩留まりの向上と製品の高品質化に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置内の搬送装置周辺の隙間シール・ロードポート・ロードボード部の開口部シール・ウエハ搬送部のパーティクル侵入防止・可動部・スライド部のワイパー用途【導入の効果】・パーティクル侵入リスクの低減・装置内部の清浄度維持・歩留まり・品質の安定化・可動部でも安定したシール性能を確保・装置設計自由度の向上（完全密閉不要）

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【半導体向け】低メタル・低パーティクル化ソリューション

福井キヤノンマテリアル株式会社

半導体業界では、製品の歩留まり向上が重要な課題です。製造プロセスにおける金属不純物やパーティクルの混入は、製品の品質劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。当社製品は、これらの課題に対し、吸着剤やフィルター技術を用いて、金属濃度をppbレベル、粒径100nm程度までのパーティクル数を管理することで、歩留まり向上に貢献します。【活用シーン】・半導体材料の精製・洗浄液のパーティクル除去・フォトレジスト等の材料管理【導入の効果】・歩留まりの向上・製品品質の安定化・不良率の低減

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【半導体製造向け】シャットオフノズル FT1Rシリーズ

ユニコントロールズ株式会社

半導体製造業界の精密洗浄工程では、洗浄液の正確な吐出と液ダレ防止が、品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品や基板の洗浄においては、液ダレによる汚染や洗浄ムラは、製品不良の原因となります。シャットオフノズルFT1Rシリーズは、液ダレを抑制し、精密な吐出を可能にすることで、洗浄工程の品質向上に貢献します。【導入の効果】・液ダレによる製品不良の削減・洗浄液の使用量最適化・洗浄工程の効率化

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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

ティックコーポレーション株式会社

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程における洗浄・微細な異物や有機物の除去・高品質な半導体製品の製造【導入の効果】・洗浄品質の向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、微細な部品の製造において、表面の清浄度と精密な形状が求められます。特に、クリーンな環境下での製造においては、研磨加工による微細なバリや異物の除去が重要です。これらの不具合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の超精密特殊鏡面研磨技術は、形状に沿って粗い面を鏡面に仕上げ、エッジを損なうことなく微細なバリを取り除くことが可能です。【活用シーン】・クリーンルーム内での半導体部品の研磨・微細加工部品のバリ取り・試作部品の鏡面仕上げ【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・異物混入のリスク低減

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【半導体向け】洗浄ユニット『ファインジェット』

株式会社プレテック　静岡製作所

半導体業界における精密洗浄は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な工程です。特に、微細化が進む中で、ウェハーや基板に付着した微細な異物や残留物は、デバイスの性能低下や不良の原因となります。そのため、高い洗浄能力と、基板へのダメージを最小限に抑えることが求められます。ファインジェットは、低出力から高出力まで安定した発振により、様々な洗浄ニーズに対応し、半導体製造における課題解決に貢献します。【活用シーン】・ウェハー基板洗浄・磁気ディスク洗浄・CMP後ウェハー洗浄【導入の効果】・幅広い洗浄ニーズへの対応・高品質な洗浄による歩留まり向上・多様なノズルバリエーションによる最適な洗浄

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【半導体製造向け】幾何公差真直度とは？

株式会社松井製作所

半導体製造業界においては、高い精度が求められます。関連部品の平面性や形状精度は、半導体デバイスの性能に直結するため、真直度の理解は重要です。真直度の定義や図面での使われ方を知ることで、製造プロセスにおける品質管理に役立ちます。この動画では、真直度の基本を解説し、半導体製造における課題解決をサポートします。【活用シーン】・半導体製造装置の部品精度管理・品質管理担当者の教育【導入の効果】・真直度の理解を深め、品質管理能力を向上・図面解読力の向上・不良品発生率の低減

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【半導体製造向け】さびない水『プレスクーラント』

大道産業株式会社

半導体製造業界では、精密な部品の洗浄において、サビの発生が品質劣化や装置の故障につながる大きな課題となっています。特に、洗浄に使用する水に含まれる成分が金属部品を腐食させ、製品の信頼性を損なう可能性があります。さびない水『プレスクーラント』は、完全な防錆・防食性能により、洗浄工程における金属部品のサビ発生を抑制し、製品の品質維持に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置の冷却水循環系・金属部品の洗浄工程・水を使用する製造工程【導入の効果】・サビによる部品交換コストの削減・製品の品質向上・装置の稼働率向上

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【半導体工場向け】配管式掃除装置・集塵機

日本精密株式会社

半導体工場では、製造工程における微粒子の混入が、製品の品質を大きく左右します。特に、クリーンルーム内では、徹底した清掃と高いクリーン度維持が不可欠です。従来の掃除方法では、清掃時のホコリの再飛散や、清掃範囲の限界といった課題がありました。当社の配管式掃除装置・集塵機は、これらの課題を解決し、クリーンな環境を維持します。【活用シーン】・クリーンルーム内・製造ライン周辺・検査室・その他、微粒子混入を避けたいエリア【導入の効果】・微粒子による製品不良の削減・クリーンルームの清浄度向上・清掃時間の短縮と効率化・作業者の負担軽減

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【放熱フィラー向け】ICA製アルミナ

共立マテリアル株式会社

現地であるインドネシアに赴きPT Indonesia Chemical Alumina (ICA)社から直接調達したアルミナを扱っており、これまで年間3,000ton以上供給して参りました。〇原料のボーキサイトはインドネシア原産　製造過程で排出される赤土は鉱山へ埋め戻すため、海洋投棄を行わず地球環境に配慮した持続可能な原料という特徴があります。 ■用途　・バイオマス燃焼のクリンカー抑制　・耐火物　(　耐火煉瓦、フィラー　) 　・強化ガラス　・耐火物　・抵抗器（アルミナ材料）　・セッター　・放熱フィラー　・セラミックスフィルター　・アルミナセラミックボール　・研磨材 ■当社強み　・当社はメーカー機能兼ね備えた販売店　　メーカー分析値のみならず、当社での組成分析（XRF,ICP), 物性測定(粒度測定,比表面積測定）, EDS-SEMによる粒子観察が可能。　・ご相談に合わせて、ニーズに合わせて粉砕、分級などのご提案も承ります。 ■取扱製品　・仮焼アルミナ　焼成品　約50μｍの凝集体　・仮焼アルミナ　粉砕品　約4μｍの粉末

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【半導体製造向け】SAIWシートメタル洗浄機

株式会社Eプラン

半導体製造業界では、製品の品質を左右するパーティクルの除去が重要です。微細なパーティクルは、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。SAIWシートメタル洗浄機は、アルカリ電解水を使用し、金属板に付着したパーティクルや油汚れを効果的に除去します。これにより、次工程の品質向上に貢献し、歩留まりの改善に繋がります。【活用シーン】・半導体製造工程における金属部品の洗浄・パーティクルや油汚れの除去が必要な工程・品質管理を徹底したい工程【導入の効果】・パーティクル除去による品質向上・歩留まりの改善・洗浄剤コストの削減

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【半導体向け】アドロン(r)コーティングですべり性向上

株式会社フロロコート

半導体製造業界では、クリーンな環境が不可欠であり、部品の摩擦による微粒子の発生は、製品の品質を損なう大きな要因となります。特に、精密な動きが求められる装置においては、部品のすべり性が重要であり、摩擦を低減することで、微粒子の発生を抑制し、製品の歩留まり向上に貢献します。アドロン(r)コーティングは、このような課題に対し、すべり性を向上させることで、クリーンな環境を維持し、半導体製造の品質向上をサポートします。【活用シーン】・半導体製造装置の摺動部品・クリーンルーム内での搬送機構・精密機器の可動部分【導入の効果】・微粒子発生の抑制・製品の歩留まり向上・装置の長寿命化

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【半導体向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO

株式会社トップウォーターシステムズ

半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度の水が不可欠です。微細な異物や不純物が混入した水は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。TW-020-SROはRO膜による高い浄水能力で、90～99％の分子レベルでの除去性能により、高品質な純水を供給し、半導体製造における洗浄工程をサポートします。【活用シーン】・半導体ウェーハの洗浄・各種部品の洗浄・製造設備の洗浄【導入の効果】・洗浄品質の向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体向け】静電防止剤『DS-880』

大道産業株式会社

半導体業界では、微細なパターン形成において、ホコリやゴミの付着が歩留まりを大きく左右します。静電気は、これらの異物を引き寄せ、製品の品質を低下させる大きな要因となります。静電防止剤『DS-880』は、水洗工程で水洗水に添加することで、静電気の発生を抑制し、ホコリやゴミの付着を防ぎます。これにより、歩留まりの向上に貢献します。【活用シーン】・パターン形成工程・レジスト硬化工程【導入の効果】・ホコリ・ゴミ付着による不良品の削減・歩留まりの向上・製品品質の安定化

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【半導体向け】表面検査技術資料一覧

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、製造プロセスにおける異物混入の徹底的な管理が求められます。特に、微細化が進む半導体デバイスにおいては、微小な異物が製品の性能を著しく低下させる可能性があります。ナノビア社の表面検査技術資料は、異物検出の課題解決に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ表面の異物検査・マスクやレチクルの異物検査・製造工程における異物発生源の特定【導入の効果】・異物による不良品の削減・歩留まりの向上・品質管理の効率化

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【電子機器向け】モールドベース製造・精密ガンドリル加工受託

ケー・エム・エス株式会社

電子機器業界では、製品の小型化と高性能化に伴い、効果的な放熱対策が不可欠です。特に、高密度実装された電子部品は、熱による性能劣化や故障のリスクが高まります。モールドベースの冷却穴やヒーター穴の加工は、放熱性能を左右する重要な要素です。当社のモールドベース製造・精密ガンドリル加工受託サービスは、これらの課題に対し、高精度な深穴加工と短納期で対応します。【活用シーン】・電子機器の筐体・ヒートシンク・冷却プレート【導入の効果】・放熱効率の向上・製品の信頼性向上・設計の自由度向上

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【半導体向け】Pulse500 レーザークリーナー

オプティレーザーソリューションズ株式会社

半導体業界の微細加工においては、高品質な製品を製造するために、加工面の精密なクリーニングが不可欠です。特に、レーザー加工後の微細な異物や残留物は、製品の性能や信頼性を損なう可能性があります。Pulse500レーザークリーナーは、500Wの高出力と空冷式設計により、これらの課題に対応します。【活用シーン】・レーザー加工後の異物除去・微細部品のクリーニング・精密な表面処理【導入の効果】・加工品質の向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体向け】digiVIT 渦電流式変位センサ

三協インタナショナル株式会社

半導体製造業界では、ウェーハや基板の位置決めにおいて、高精度な測定が求められます。特に、微細加工や組み立て工程においては、ミリ単位以下の正確な位置制御が、製品の品質と歩留まりを左右します。不正確な位置決めは、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。digiVITは、高精度な測定と容易な操作性を両立し、半導体製造における位置決めニーズに応えます。【活用シーン】・ウェーハ搬送ロボットの位置検出・半導体製造装置の精密位置制御・基板実装機の位置調整【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・容易な操作による作業効率の改善・多様な出力オプションによる柔軟なシステム構築

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【半導体検査向け】50N高推力・真空仕様有りのアクチュエータ

ピーアイ・ジャパン株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右します。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。N-331 PICMAWalkは、最大50 Nの高推力とサブナノメートル分解能を両立した組込み型リニアアクチュエータです。最大12 mm/sの高速動作に対応し、検査装置のタクトタイム短縮にも貢献します。摩擦駆動方式により電源オフ時でも位置保持が可能。さらに真空対応仕様により、半導体検査装置やクリーン環境下での使用にも適しています。【活用シーン】・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め・マスクアライナーにおける位置決め・検査装置における高精度位置決め【導入の効果】・ナノメートルレベルでの高精度な位置決めを実現・製造プロセスの品質向上と歩留まり向上に貢献・真空環境下での使用が可能推力特性、その他仕様、真空対応オプションなどの詳細はカタログをご確認ください。

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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

ティックコーポレーション株式会社

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程における異物除去・精密部品の洗浄・薬液洗浄後のリンス工程【導入の効果】・洗浄時間の短縮・洗浄品質の向上・歩留まりの改善

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【半導体製造向け】長野ドライルーブ株式会社

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体製造業界では、クリーンな環境下での精密部品の品質維持が重要です。微細な埃や異物の付着は、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。長野ドライルーブ株式会社の機能性塗装は、これらの課題に対し、製品の付加価値を高め、品質向上に貢献します。【活用シーン】・クリーンルーム内での精密部品・半導体製造装置部品・異物混入を防ぎたい部品【導入の効果】・製品の信頼性向上・歩留まりの改善・コスト削減

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【半導体向け】高分子式露点計 TE-660TR

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製品の品質を左右する清浄度管理が非常に重要です。特に、製造プロセスにおける微量な水分は、製品の歩留まりを低下させる原因となります。高分子式露点計 TE-660TRは、-60 ℃dpまでの低露点範囲を測定し、高精度な水分管理を実現することで、半導体製造における品質向上に貢献します。【活用シーン】 * クリーンルーム内の露点管理 * 製造プロセスにおける乾燥空気の露点監視 * 半導体製造装置への組み込み【導入の効果】 * 製品の歩留まり向上 * 品質管理の効率化 * 製造コストの削減

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【半導体製造向け】ウエハー・ポリマーのコーティング試験考察

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

半導体製造業界では、歩留まりの向上が重要な課題です。ウエハーの金属コーティングの品質は、製品の信頼性と歩留まりに大きく影響します。コーティングの接着強度や基材との相性が悪いと、様々なトラブルの原因となり、歩留まりを低下させる可能性があります。ナノビア社のインデンターなどの試験機を活用することで、これらの問題を早期に発見し、対策を講じることが可能になります。【活用シーン】・ウエハーの金属コートの機械強度検証・ポリマーコーティングの接着破壊、凝集破壊、臨界負荷の評価・多層薄膜のスクラッチ耐性試験・自己洗浄ガラスコートの摩擦評価・高温環境下でのスクラッチ試験【導入の効果】・コーティングの品質評価による歩留まり向上・製品の信頼性向上・不良品の削減・研究開発の効率化

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【精密機器工場向け】蒸気式加湿器『SU』

ピーエス株式会社

精密機器工場では、製品の品質を維持するために、湿度管理が非常に重要です。湿度不足による静電気の発生は、不良品の発生につながり、生産効率を低下させる要因となります。蒸気式加湿器『SU』は、クリーンな蒸気で精密機器を最適な湿度環境に保ち、不良品の削減に貢献します。【活用シーン】・クリーンルーム・精密機器製造ライン・検査室【導入の効果】・不良品の削減・歩留まりの向上・製品品質の安定化

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【半導体製造向け】ACS-13.5-5

藤倉コンポジット株式会社

半導体製造業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハの搬送や検査工程においては、微細な位置調整が製品の品質を左右します。従来のシリンダでは、摩擦抵抗やサイズの制約から、精密な動きを実現することが難しい場合がありました。ACS-13.5-5は、摩擦抵抗ゼロのエアベアリング構造により、高精度な位置決めを実現します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・検査装置・精密部品の組み立て【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・装置の小型化・省スペース化・製造プロセスの効率化

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【半導体製造向け】強化アルミナ

千葉セラミック工業株式会社

半導体製造業界では、ウェーハやその他の部品の研磨において、高い精度と耐久性が求められます。研磨工程で使用される材料は、摩耗しやすく、頻繁な交換が必要となる場合があります。これにより、生産効率の低下やコスト増加につながる可能性があります。強化アルミナは、アルミナにジルコニアを添加し、緻密に焼結させることで、高い機械的強度と耐摩耗性を実現します。これにより、研磨工程における部品の長寿命化と、安定した研磨性能を提供します。【活用シーン】・ウェーハ研磨・研磨パッド・研磨工具【導入の効果】・耐摩耗性の向上・研磨精度の向上・コスト削減

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【半導体ウェーハ向け】超耐熱シリコンゴムシート

会津ゴム工業株式会社

半導体業界では、ウェーハ製造における高温環境下での耐久性が求められます。特に、熱処理工程や研磨工程においては、高い耐熱性と安定した性能が重要です。不適切な材料の使用は、ウェーハの品質低下や製造効率の悪化につながる可能性があります。当社の超耐熱シリコンゴムシートは、300℃の耐熱性を持ち、ウェーハ製造工程をサポートします。【活用シーン】・ウェーハ搬送用治具・高温環境下での緩衝材・研磨工程での保護材【導入の効果】・300℃の耐熱性により、高温環境下での使用が可能・RoHS対応品で、環境負荷を低減・カット対応により、用途に合わせた形状で提供可能

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【半導体製造向け】真円度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、ウェーハの製造において、高い精度が求められます。真円度は、ウェーハの品質を左右する重要な要素の一つです。真円度の定義や図面での使われ方を理解することは、ウェーハの製造プロセスにおいて不可欠です。この動画では、真円度の基本を解説し、ウェーハ製造における品質管理に役立つ情報を提供します。【活用シーン】・ウェーハ製造における真円度の理解・図面上の真円度指示の解釈・真円度測定の基礎知識【導入の効果】・ウェーハ製造における品質向上・不良品の削減・製造プロセスの効率化

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【半導体製造向け】高精度小型磁気スイッチ・センサー

株式会社マコメ研究所 (MACOME)

半導体製造業界、特にウェハ搬送においては、位置決めの高精度化が求められます。ウェハの正確な位置決めは、製造プロセスの品質と歩留まりを左右する重要な要素です。微細なズレが、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。当社の小型磁気スイッチ・センサーは、±0.05μmの繰り返し精度で、ウェハ搬送における高精度な位置決めを実現します。【活用シーン】・ウェハ搬送ロボットの位置検出・精密位置決めが必要な製造装置・クリーンルーム内での使用【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・歩留まりの改善・安定した製造プロセスの実現

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【半導体向け】TEKHNEPort40-LDPTによる清浄度管理

株式会社テクネ計測

半導体業界では、製造プロセスにおける清浄度の維持が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細な水分は製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。TEKHNEPort 40-LDPTは、高精度な露点測定により、製造環境の水分量を正確に把握し、清浄度管理を支援します。持ち運び可能で、現場での測定に最適です。【活用シーン】・クリーンルーム内の露点測定・製造プロセスにおける配管内の露点測定・品質管理部門での測定【導入の効果】・製品の品質向上・不良品の削減・製造プロセスの最適化

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【半導体製造向け】防爆ハンディ露点計 SDHmini-EX

株式会社テクネ計測

半導体製造業界では、製造プロセスのクリーン度を維持するために、空気中の水分量を厳密に管理することが重要です。微量の水分が製品の品質や歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があるため、高精度な水分測定が求められます。SDHmini-EXは、高応答速のドライチャンバーと防爆性能を備え、クリーンルーム環境下での水分測定を容易にします。【活用シーン】・クリーンルーム内の露点測定・工業ガス、圧縮空気の水分チェック・製造ラインの品質管理【導入の効果】・正確な水分管理による製品品質の向上・製造プロセスの安定化・迅速な測定による異常の早期発見

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ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

課題

微細な傷の発生

研磨スラリー中の硬質粒子や、研磨パッドとの接触により、ウェーハ表面にナノメートルオーダーの微細な傷が発生し、デバイス性能に影響を与える。

異物付着の残留

研磨工程で発生したパーティクルや、スラリー中の不純物がウェーハ表面に付着し、回路形成時の欠陥原因となる。

表面平坦性のばらつき

研磨条件のばらつきや、ウェーハ材質の不均一性により、表面の平坦度にばらつきが生じ、後工程での歩留まりに影響する。

化学的残留物の影響

研磨スラリーに含まれる化学薬品や、洗浄工程で用いる薬品がウェーハ表面に残留し、後工程での反応を阻害したり、欠陥を誘発したりする。

対策

研磨スラリーの最適化

粒子径分布の均一化、硬度の調整、添加剤の最適化により、傷の発生を抑制し、異物付着を低減するスラリーを開発・使用する。

研磨パッドの改良

材料、構造、表面加工を最適化し、ウェーハ表面への均一な圧力をかけ、傷の発生を抑制しつつ、異物の巻き込みを防ぐパッドを選定・使用する。

精密な洗浄技術の導入

超純水を用いた多段階洗浄、特殊な洗浄液の使用、非接触洗浄技術などを組み合わせ、研磨後の異物や化学的残留物を効果的に除去する。

プロセスモニタリングとフィードバック

リアルタイムで研磨状態や表面欠陥を検知・分析し、得られたデータを基に研磨条件や洗浄条件を自動調整することで、欠陥発生を未然に防ぐ。

対策に役立つ製品例

高機能研磨スラリー

微細な粒子設計と均一な分散技術により、ウェーハ表面へのダメージを最小限に抑え、異物混入リスクを低減する。これにより、研磨後の傷や異物付着といった欠陥を効果的に抑制する。

低ダメージ研磨パッド

特殊なポリマー構造と表面加工により、ウェーハ表面との接触圧を均一化し、研磨時の微細な傷の発生を抑制する。また、異物の巻き込みを低減し、清浄度を向上させる。

超高純度洗浄システム

多段階の精密ろ過と特殊な洗浄液を組み合わせ、ウェーハ表面に付着した微細な異物や化学的残留物を徹底的に除去する。これにより、後工程での欠陥発生リスクを大幅に低減する。

インライン欠陥検査装置

研磨・洗浄工程直後にウェーハ表面の欠陥をリアルタイムで検出し、そのデータを研磨装置や洗浄装置にフィードバックする。これにより、プロセスパラメータの自動最適化が可能となり、欠陥の発生を未然に防ぐ。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

研磨後の表面欠陥の抑制とは？課題と対策・製品を解説

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

各社の製品

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制

ウェーハの研磨における研磨後の表面欠陥の抑制とは？

​課題

微細な傷の発生

異物付着の残留

表面平坦性のばらつき

化学的残留物の影響

​対策

研磨スラリーの最適化

研磨パッドの改良

精密な洗浄技術の導入

プロセスモニタリングとフィードバック

​対策に役立つ製品例

高機能研磨スラリー

低ダメージ研磨パッド

超高純度洗浄システム

インライン欠陥検査装置

課題

対策

対策に役立つ製品例