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表面平坦度の均一化とは？課題と対策・製品を解説

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ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

半導体製造プロセスにおいて、ウェーハ表面をナノメートルオーダーで平坦に仕上げる技術です。集積回路の微細化・高密度化に伴い、層間絶縁膜や配線層の形成精度を高めるために不可欠な工程であり、デバイス性能や歩留まりに直結します。

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【電子部品向け】KFDシリーズテープ研磨ユニット

株式会社コバックス

電子部品業界において、薄膜化は製品の小型化、高性能化に不可欠です。薄膜の精密な研磨は、製品の品質と信頼性を左右する重要な工程であり、面粗度管理が課題となります。KFDシリーズは、PLC制御による精密な研磨を実現し、薄膜化における面粗度管理を容易にします。【活用シーン】・電子部品の薄膜研磨・精密フィルムの研磨・自動車関連部品の研磨【導入の効果】・面粗度管理の容易化・製品品質の向上・研磨工程の効率化

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【電池材料向け】SAS型エアセパレータ

株式会社増野製作所

電池材料業界では、製品の性能を左右する粒度調整が重要です。電極材料の均一な粒子径は、電池の容量や充放電速度に影響を与えます。不適切な粒度調整は、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。SAS型エアセパレータは、循環旋回気流と遠心力で効率的に分級を行い、電池材料の粒度調整に貢献します。【活用シーン】・リチウムイオン電池正極材の分級・リチウムイオン電池負極材の分級・その他電池材料の粒度調整【導入の効果】・均一な粒子径の実現・電池性能の向上・歩留まりの改善

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【半導体製造向け】精密・コンパクトな装置組込用ポンプよる薬液滴下

テカンジャパン株式会社

微細なパターン形成や高度なプロセス制御が求められる半導体製造においては、薬液の正確な吐出が不可欠です。テカンのCavroポンプシリーズは、1μl以下～50mlの範囲で精密な液送を実現し、お客様の装置への組み込みを容易にするため、最適なソリューションを提供します。シリンジポンプ：Centris、Xcalibur、XLP6000 マルチチャネルシリンジポンプ：XMP6000 ピストンポンプ：Pullsar PBC 【活用シーン】・ウェーハへのフォトレジストの精密滴下・化学機械研磨（CMP）におけるスラリー添加・洗浄・エッチング工程での薬液調合・メッキ工程（電解・無電解）の添加剤管理・パッケージング工程など【Cavroシリーズが選ばれる技術的理由】・高い分解能: ステッピングモーターによる細かいステップ制御で、極微量の吐出が可能・メンテナンス性: 装置への組込み（OEM）を前提とした設計で、クリーンルーム内でのダウンタイムを最小限に・多様なシリンジ材質: 腐食性の強い半導体用薬液に対しても、適切な材質（PTFE、セラミックなど）を選択することで対応可能

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【半導体製造向け】ジェットクーラ

日本精器株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、精密な冷却が求められる工程においては、温度ムラや急激な温度変化が、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。ジェットクーラは、可動部分がなく、冷媒や電気を使用しないため、安定した冷風供給を実現し、精密冷却のニーズに応えます。【活用シーン】・半導体製造装置の局所冷却・電子部品の冷却・検査工程での温度管理【導入の効果】・スポット冷却による温度管理精度の向上・電気代削減によるコストダウン・長寿命設計によるメンテナンス頻度の低減

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【半導体製造向け】多軸位置決めステージ【MD-ZT】

ハイウィン株式会社

半導体製造業界の微細加工においては、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウエハの反りや表面の微細な凹凸による焦点誤差は、加工精度を大きく左右し、歩留まりの低下や不良品の発生につながります。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度により、これらの課題に対応します。高さ90mmのコンパクトな設計で、既存の装置への組み込みも容易です。【活用シーン】・半導体製造における微細加工・ウエハの反り補正・高精度な位置決めが必要な工程【導入の効果】・焦点誤差の解消による加工精度の向上・歩留まりの向上・装置全体の小型化・高速かつ高精度な位置決めによる生産性の向上

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【半導体製造向け】円筒度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、高い精度が求められます。円筒度は、ウェーハの製造プロセスにおいて、その品質を左右する重要な要素の一つです。円筒度の理解は、ウェーハの形状精度を確保し、歩留まり向上に貢献します。この動画では、円筒度の定義、使用例、図面上での使われ方、測定方法、注意点について解説します。【活用シーン】・ウェーハ製造における形状精度管理・半導体製造プロセスの品質向上・円筒度に関する基礎知識の習得【導入の効果】・ウェーハ製造における品質問題の理解促進・円筒度に関する知識習得による業務効率化・半導体製造技術者のスキルアップ

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【半導体製造向け】幾何公差同心度・同軸度基本解説動画

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まり向上が常に求められます。特に、微細加工技術が重要となる分野においては、部品の精度が製品の性能を大きく左右します。同心度や同軸度の不正確さは、製品の不良や性能低下につながり、歩留まりを悪化させる要因となります。この動画では、幾何公差の一種である「同心度・同軸度」の基本を解説し、半導体製造における品質管理の基礎知識を提供します。この動画を参考に、同心度・同軸度に関する理解を深め、歩留まり改善にお役立てください。【活用シーン】・半導体製造における部品の設計・製造・品質管理部門での教育・製造現場での技術指導【導入の効果】・幾何公差の理解を深め、設計・製造段階でのミスを削減・品質管理能力の向上、不良品の発生率を低減・歩留まりの改善、コスト削減に貢献

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【半導体向け】平面度解説動画

株式会社松井製作所

半導体業界の微細加工においては、高い精度が求められます。特に、ウェーハや基板の平面度は、製造プロセス全体の品質を左右する重要な要素です。平面度のわずかなずれが、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平面度」の基本を解説しています。平面度の定義、使用例、図面上での使われ方、使用する際の注意点について解説します。平面度に関する理解を深めることで、微細加工における品質向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における品質管理・微細加工プロセスの改善・設計段階での平面度指示【導入の効果】・平面度に関する知識の習得・加工精度の向上・不良率の低減

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【半導体製造向け】幾何公差真直度の測り方

株式会社松井製作所

半導体製造業界においては、高い精度が求められます。半導体関連部品の平面性や形状精度は、デバイスの性能を左右する重要な要素です。真直度のわずかなズレが、製造プロセス全体に影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一つである真直度の測定方法を解説し、加工精度を向上させるための基礎知識を提供します。【活用シーン】・半導体関連部品の加工工程・半導体関連部品のパターン形成工程・半導体関連部品の検査工程【導入の効果】・加工精度の向上・歩留まりの改善・製品品質の安定化

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【半導体向け】超精密電子部品・検査装置の量産

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、デバイスの小型化・高性能化に伴い、超精密な加工技術が不可欠です。微細な部品の正確な製造は、製品の信頼性や性能を左右します。ミクナスファインエンジニアリングは、時計部品で培った微細加工技術を活かし、超精密な電子部品や半導体検査装置の量産を実現します。創業以来70年間培ってきた幅広い経験と、生産合理化技術の向上により、お客様のニーズに応えます。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおける精密部品の製造・半導体検査装置の製造・電子部品の製造【導入の効果】・高品質な電子部品の安定供給・半導体デバイスの性能向上・生産効率の改善

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【半導体製造向け】極低温サーモクーラー

日本ブロアー株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や特殊な材料を使用する工程においては、温度のわずかな変動が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。冷却能力が不足している場合、熱による歪みや変質が発生し、不良品の増加につながるリスクがあります。サーモクーラー VLシリーズは、-50℃までの極低温環境を精密に制御し、半導体製造における冷却ニーズに応えます。【活用シーン】 * 半導体ウェーハの冷却 * 電子部品の冷却 * 精密機器の温度管理【導入の効果】 * 製品の品質向上 * 歩留まりの改善 * 製造プロセスの安定化

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【電池材料向け】TMS型エアセパレータ

株式会社増野製作所

電池材料業界では、製品の性能を最大限に引き出すために、材料の均一性が重要です。特に、電極材料の粒度分布の均一性は、電池の充放電効率や寿命に大きく影響します。不均一な粒度分布は、電池の性能低下や早期劣化を引き起こす可能性があります。当社のTMS型エアセパレータは、遠心力と循環旋回気流を利用して、電池材料の分級を行い、粒度分布の均一化を実現します。【活用シーン】・リチウムイオン電池正極材の分級・リチウムイオン電池負極材の分級・全固体電池材料の分級【導入の効果】・電池材料の均一化による電池性能の向上・電池の長寿命化・製造工程における歩留まりの向上

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【半導体製造向け】シリコンラバーヒーター

オーエムヒーター株式会社

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、ウェーハや基板の均熱は、製造プロセスにおける歩留まりや製品性能に大きく影響します。温度ムラは、製品の品質低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社のシリコンラバーヒーターは、均熱性に優れ、精密な温度管理を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。【活用シーン】・ウェーハの均熱・基板の均熱・半導体製造装置の温度管理【導入の効果】・温度分布の均一化による品質向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体製造装置業界向け】隙間シール用ワイパーブラシ

株式会社共伸技研

半導体業界における研磨工程では、ウェーハ表面の精密な加工が求められます。微細な傷や異物の付着は、製品の品質を大きく損なう原因となります。高密度チャンネル直線ブラシは、ナイロン毛材を高密度に植毛することで、均一な研磨と高い清浄度を実現します。これにより、歩留まりの向上と製品の高品質化に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置内の搬送装置周辺の隙間シール・ロードポート・ロードボード部の開口部シール・ウエハ搬送部のパーティクル侵入防止・可動部・スライド部のワイパー用途【導入の効果】・パーティクル侵入リスクの低減・装置内部の清浄度維持・歩留まり・品質の安定化・可動部でも安定したシール性能を確保・装置設計自由度の向上（完全密閉不要）

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【半導体製造向け】電気ヒーターユニット

株式会社京都電熱

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの製造や各種コーティング工程においては、温度の均一性と精密な制御が求められます。温度管理が不十分な場合、ウェーハの反りやクラックの発生、コーティングの均一性の低下など、様々な問題が生じる可能性があります。当社の電気ヒーターユニットは、シーズヒーターを応用し、これらの課題に対応します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程・各種コーティング工程・クリーンルーム内の温度管理【導入の効果】・精密な温度制御による製品品質の向上・温度ムラを抑制し歩留まりを改善・多様な形状設計により、設置場所への柔軟な対応

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【半導体製造向け】幾何公差真直度とは？

株式会社松井製作所

半導体製造業界においては、高い精度が求められます。関連部品の平面性や形状精度は、半導体デバイスの性能に直結するため、真直度の理解は重要です。真直度の定義や図面での使われ方を知ることで、製造プロセスにおける品質管理に役立ちます。この動画では、真直度の基本を解説し、半導体製造における課題解決をサポートします。【活用シーン】・半導体製造装置の部品精度管理・品質管理担当者の教育【導入の効果】・真直度の理解を深め、品質管理能力を向上・図面解読力の向上・不良品発生率の低減

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【放熱フィラー向け】ICA製アルミナ

共立マテリアル株式会社

現地であるインドネシアに赴きPT Indonesia Chemical Alumina (ICA)社から直接調達したアルミナを扱っており、これまで年間3,000ton以上供給して参りました。〇原料のボーキサイトはインドネシア原産　製造過程で排出される赤土は鉱山へ埋め戻すため、海洋投棄を行わず地球環境に配慮した持続可能な原料という特徴があります。 ■用途　・バイオマス燃焼のクリンカー抑制　・耐火物　(　耐火煉瓦、フィラー　) 　・強化ガラス　・耐火物　・抵抗器（アルミナ材料）　・セッター　・放熱フィラー　・セラミックスフィルター　・アルミナセラミックボール　・研磨材 ■当社強み　・当社はメーカー機能兼ね備えた販売店　　メーカー分析値のみならず、当社での組成分析（XRF,ICP), 物性測定(粒度測定,比表面積測定）, EDS-SEMによる粒子観察が可能。　・ご相談に合わせて、ニーズに合わせて粉砕、分級などのご提案も承ります。 ■取扱製品　・仮焼アルミナ　焼成品　約50μｍの凝集体　・仮焼アルミナ　粉砕品　約4μｍの粉末

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【半導体向け】ナノ・グレインズ

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、微細化技術の進展に伴い、材料の加工精度がますます重要になっています。特に、高密度化が進む中で、材料の微細な欠陥や歪みが製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。ナノ・グレインズの超微細粒鋼は、2002年から小松精機工作所と独立行政法人物質・材料研究機構と研究をしてきた「超微細粒鋼の加工特性」の研究をもとに、2014年9月から正式に活動を開始しました。微細加工技術の向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における微細加工・高精度な金型製作・微細構造部品の製造【導入の効果】・加工精度の向上・製品の品質向上・歩留まりの改善

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【電子部品向け】鏡面仕上研磨加工

日鉄ステンレス加工株式会社

電子部品業界において、基板の品質は製品全体の信頼性を左右する重要な要素です。基板の板厚が不均一であると、部品の実装精度に影響し、最終製品の性能低下や故障の原因となる可能性があります。当社の鏡面仕上研磨加工は、ミクロンオーダーでの板厚均一化を実現し、基板の品質向上に貢献します。これにより、精密機器の組み付け精度を高め、最終製品の品質保証を可能にします。【活用シーン】 * 基板製造における板厚調整 * 精密機器の組み立て工程 * 品質管理における板厚精度の向上【導入の効果】 * 基板の品質向上 * 製品の信頼性向上 * 組立工数の削減

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【半導体製造向け】シナノケンシ株式会社

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体製造業界における搬送工程では、ウェーハや基板の正確な位置決めとスムーズな移動が、生産効率と品質を左右する重要な要素です。微細な位置ずれや振動は、製品の不良や歩留まりの低下につながる可能性があります。シナノケンシ株式会社のモータやモジュールは、これらの課題に対し、高精度な制御と安定した動作を提供することで、搬送工程の最適化に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・基板搬送・部品供給【導入の効果】・搬送精度向上・生産性向上・歩留まり向上

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【半導体製造向け】幾何公差円周振れ・全振れ解説動画

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まり向上が常に求められます。特に、微細加工技術が重要となる分野では、部品の寸法精度が製品の性能を大きく左右します。幾何公差の理解不足は、不良品の発生や性能の低下につながり、歩留まりを悪化させる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「円周振れ・全振れ」の基本を解説し、図面解読能力の向上をサポートします。この動画を視聴することで、半導体製造における品質管理の基礎知識を深め、歩留まり改善に貢献できる可能性があります。【活用シーン】・半導体製造における部品設計・品質管理部門での教育・製造現場での図面解読【導入の効果】・幾何公差の理解を深め、図面解読能力が向上する・不良品の発生を抑制し、歩留まりが改善する可能性・品質管理の知識向上による、製品品質の安定化

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【半導体製造向け】真円度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、ウェーハの製造において、高い精度が求められます。真円度は、ウェーハの品質を左右する重要な要素の一つです。真円度の定義や図面での使われ方を理解することは、ウェーハの製造プロセスにおいて不可欠です。この動画では、真円度の基本を解説し、ウェーハ製造における品質管理に役立つ情報を提供します。【活用シーン】・ウェーハ製造における真円度の理解・図面上の真円度指示の解釈・真円度測定の基礎知識【導入の効果】・ウェーハ製造における品質向上・不良品の削減・製造プロセスの効率化

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【半導体製造向け】高圧スムーズフローポンプHPL

株式会社タクミナ

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、薬液の正確な塗布が求められます。特に、微細化が進む中で、薬液の均一な供給と精密な塗布が、歩留まりを左右する重要な要素となります。脈動のある送液は、塗布のムラや液質の変化を引き起こし、製品の品質を損なう可能性があります。高圧スムーズフローポンプHPLは、最高50MPaの高圧送液を可能にし、無脈動送液を実現することで、半導体製造における薬液塗布の課題を解決します。【活用シーン】・フォトレジスト塗布・現像液塗布・CMPスラリー供給【導入の効果】・塗布の均一性向上・歩留まり向上・液質の安定化・TCO削減

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【半導体製造向け】高精度セラミックス部品

シチズンファインデバイス株式会社

半導体製造業界では、製品の小型化・高性能化に伴い、微細加工技術へのニーズが高まっています。特に、高精度な部品は、製品の品質と信頼性を左右する重要な要素です。寸法精度や表面精度が求められる中、セラミックス部品は、その特性から注目されています。当社のセラミックス部品は、原材料配合から加工まで一貫生産しており、お客様の課題解決に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置・微細加工用治具・精密測定機器【導入の効果】・高精度な加工を実現・製品の品質向上・装置の長寿命化

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【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、微細な部品の製造において、表面の清浄度と精密な形状が求められます。特に、クリーンな環境下での製造においては、研磨加工による微細なバリや異物の除去が重要です。これらの不具合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の超精密特殊鏡面研磨技術は、形状に沿って粗い面を鏡面に仕上げ、エッジを損なうことなく微細なバリを取り除くことが可能です。【活用シーン】・クリーンルーム内での半導体部品の研磨・微細加工部品のバリ取り・試作部品の鏡面仕上げ【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・異物混入のリスク低減

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【半導体向け】サンゴバン株式会社

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、高品質な製品を製造するために、研磨工程における高い精度と耐久性が求められます。研磨材の選定は、製品の仕上がりを左右する重要な要素です。サンゴバン株式会社の製品は、研磨工程におけるお客様の厳しい要求に応えるべく、最適なソリューションを提供します。【活用シーン】・半導体ウェーハの研磨・研磨後の表面処理・精密部品の研磨【導入の効果】・高品質な研磨を実現・製品の歩留まり向上・高い耐久性によるコスト削減

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【半導体製造向け】平行度の基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、製造プロセスの各段階における精密な寸法管理が求められます。特に、ウェーハや基板の加工においては、平行度の精度が製品の性能に大きく影響します。平行度が適切に管理されていない場合、製造プロセスにおける不良品の発生や、製品の性能劣化につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平行度」の基本を解説し、半導体製造における品質管理に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における品質管理・ウェーハや基板の加工プロセス・平行度に関する基礎知識の習得【導入の効果】・平行度の理解を深め、製造プロセスの改善に役立ちます。・不良品の発生を抑制し、歩留まりを向上させます。・製品の品質向上に貢献します。

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【スマートフォン向け】リアルナノ３次元測定機

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

スマートフォンディスプレイ業界では、高品質な表示性能を追求するため、表面の微細な形状や粗さの精密な評価が求められます。特に、ディスプレイの視認性や耐久性に影響を与える表面のわずかな凹凸や傷は、製品の品質を左右する重要な要素です。リアルナノ3次元測定機は、ナノレベルでの表面形状測定により、ディスプレイの品質管理と性能向上に貢献します。【活用シーン】・ディスプレイ表面の粗さ測定・タッチパネルの表面形状評価・保護フィルムの品質評価【導入の効果】・ディスプレイの品質向上・不良品の削減・製品開発の効率化

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【電子機器向け】平面度の計算原理

株式会社松井製作所

電子機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の正確な製造が不可欠です。特に、基板や筐体などの平面度は、製品の性能や耐久性に大きく影響します。平面度の計算方法を理解することは、設計段階での品質管理や製造工程での問題発見に役立ち、製品の信頼性向上につながります。本動画は、平面度の計算原理を解説し、電子機器の信頼性向上に貢献します。【活用シーン】・電子機器の設計・製造における品質管理・基板や筐体の平面度測定・製品の信頼性評価【導入の効果】・製品の品質向上・不良品の削減・顧客満足度の向上

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【半導体プロセス最適化向け】多点式センサー

株式会社京都電熱

半導体業界では、製造プロセスの品質と歩留まりを向上させるために、精密な温度管理が不可欠です。特に、ウェーハ製造やアニール工程など、微妙な温度変化が製品の性能に大きく影響する場面では、正確な温度測定が求められます。温度分布の不均一さは、製品の不良や性能劣化を引き起こす可能性があります。多点式センサーは、1本の保護管で最大20箇所の温度を測定できるため、プロセス全体の温度分布を効率的に把握し、最適な条件を見つけ出すのに役立ちます。【活用シーン】・ウェーハ製造工程の温度管理・アニール工程の温度均一性評価・CVD/PVD装置内の温度モニタリング・その他、温度管理が重要な半導体製造プロセス【導入の効果】・プロセスの最適化による歩留まり向上・製品品質の安定化・温度管理の効率化・不良品の削減

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【電子機器向け】各種素材矯正試作サービス

生田産機工業株式会社

電子機器業界では、製品の性能を維持するために、放熱性能が重要です。特に、高密度実装が進む中で、熱による部品の劣化や誤作動を防ぐために、放熱部品の平坦度が求められます。平坦度の低い放熱部品は、接触不良を起こし、放熱効率を低下させる可能性があります。IKUTAの矯正試作サービスは、鉄鋼、SUS、銅、アルミなど、様々な素材の平坦度を改善し、放熱性能の向上に貢献します。【活用シーン】・電子機器の筐体・ヒートシンク・放熱板・その他、平坦度が求められる電子部品【導入の効果】・放熱効率の向上・製品の信頼性向上・部品の寿命延長・不良率の低減

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【半導体製造向け】精密部品加工サービス

イワタグループ

半導体製造業界では、製品の高性能化に伴い、精密部品の品質が重要視されています。特に、微細加工技術や高度な表面処理が求められ、部品の精度が製品の性能を左右します。イワタグループは、大物から精密部品まで、幅広い加工に対応し、お客様のニーズに応じた最適なソリューションを提供します。【活用シーン】・半導体製造装置の精密部品・検査装置の部品・その他、半導体製造に関わる精密部品【導入の効果】・高品質な精密部品の安定供給・製品の性能向上・製造プロセスの効率化

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【半導体製造向け】超硬合金製高精度小径ピンゲージ

三和クリエーション株式会社

半導体製造業界では、製品の品質を保証するために、微細孔の正確な測定が不可欠です。特に、ウェーハやマスクなどの製造工程においては、微細孔の寸法精度が製品の性能を大きく左右します。寸法のわずかな誤差が、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。当社の超硬合金製高精度小径ピンゲージは、ミクロンオーダーでの正確な内径測定を可能にし、半導体製造における品質管理を強力にサポートします。【活用シーン】・ウェーハの微細孔径測定・マスクの孔径測定・半導体部品の内径測定【導入の効果】・高精度な測定による品質向上・不良品の削減・歩留まりの改善・測定時間の短縮

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【ディスプレイ向け】KFDシリーズテープ研磨ユニット

株式会社コバックス

ディスプレイ業界では、高精度の表面処理が求められます。特に、表示品質を左右するフィルム研磨においては、均一な面粗度と高い精度が不可欠です。不適切な研磨は、表示ムラや輝度低下を引き起こす可能性があります。KFDシリーズは、ワーク材質に応じたコンタクトローラー硬度・研磨テープ番手の選定により、高精度な面粗度管理を実現します。【活用シーン】・ディスプレイフィルムの研磨・高精度な表面処理が必要な部品の研磨・自動車関連部品、OA機器関連部品、精密シャフト等の研磨【導入の効果】・面粗度管理の容易化・乾式・湿式研磨の対応・研磨テープの交換容易性

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ラップマスターCMPマシーン『LGP-612』

ラップジャパン株式会社

『LGP-612』は、φ4"～φ8"ウェーハ対応の2ポリッシングヘッドを備えた高精度技術の開発を支援する製品です。ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用。ポリッシングヘッドはワンタッチで交換可能な機構となっており、低摩擦シリンダーを採用したことにより、加圧の追従性を高めました。【特長】 ■偏荷重にも耐えうる剛性を高めた設計のスピンドルにより高精度研磨を実現 ■ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用 ■高精度、高剛性LMガイドを採用し、加工中の不確定要素となる振動の低減を実現 ■両軸(ヘッド)に対し「加圧力」「回転数」を単体入力可能 ■複雑な研磨レシピに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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シリコンウェーハ　研磨加工サービス

株式会社松崎製作所

当社では、プライムウェーハ、ダミー／モニターウェーハの加工販売、および再生加工を行っております。　入手困難になりつつある1インチ～3インチSiウェーハも提供可能。小口径Siウェーハも、お客様のご要望に応じた仕様をご提案いたします。特殊な厚さや抵抗率なども、お気軽にご相談ください。【業務内容】 ■シリコンウェーハの再生加工　・半導体メーカー様より支給された評価使用済みウェーハを再加工して納入　・酸化膜や金属膜付きウェーハの再処理も実施 ■シリコンウェーハの製造販売（1インチ～8インチ）　・インゴット切断から鏡面研磨加工までの一貫加工ラインで、　　研究開発用の少量生産から量産まで対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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単結晶サファイアクリスタルについてのご案内

エムジェー株式会社

サファイアはその優れた機械的、光学的、構造的特性によって、オプティクス、エレクトロニクス、半導体、精密部品やレーザー用等の最適な材料としてあらゆる環境で幅広くご利用されており、エレクトロニクス産業をささえる部品材料として、ますます重要度を増してきます。エムジェー株式会社では、グローバルネットワークをベースに結晶性を重視した結晶製法加工（キュロプロス製法）を施し、サファイアの半製品、完成品共々に輸入及び販売をしております。また、最終表面処理を国内研磨技術にて加工し、世界最高品質のサファイア研磨製品を提供しております。【取扱製品】 ○EPI研磨サファイアウェファー ○各種サファイアウィンドウ ○多用途サファイア製品詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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超精密表面加工「コアテクノロジー」とは？

株式会社倉元製作所

株式会社倉元製作所は、時代の変化に対応し、産業や社会、暮らしの新しいニーズに応える価値あるものづくり企業であり続けるために、自ら蓄積してきた「独創」にさらに磨きをかけ、いままでの常識やテクノロジーの限界に全力を挙げてチャレンジします。【事業内容】 ■フラットパネルディスプレイ(FPD)用ガラス基板の開発、製造ならびに販売 ■薄膜デバイスの開発、製造ならびに販売 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【テストウエハの基礎知識】テストウェハとは何か？

アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

テストウェハとは、次世代半導体プロセス開発に必要な装置・材料の評価用ウェハです。半導体製造メーカーは日夜、新しいプロセス技術の開発を行い、人々の生活が豊かになるよう奮闘をしています。それを支えるのは材料メーカーや半導体装置メーカーであり、次世代の技術の開発を行うために日々実験や研究を行っています。そこでは、ウェハ上のプロセスの均一性を向上させるために、実際のウェハを使用したデータ収集が必須です。弊社では、次世代半導体開発の為のテストウェハをお客様の希望に沿う『カスタムメイド』という形で製造し、販売いたしております。テスト用ウェハの中でも特に、成膜、CMP、洗浄、エッチング、TSVの研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【エアロフィックス導入事例】C社様

株式会社ナノテム

C社様は、従来の真空チャック製品では吸着面のエアー抜きの穴にフィルム素材が引き込まれ、たわみが生じるため品質上の問題となっていました。そこで『エアロフィックス』を導入。 “たわみのない部分吸着”“大面積対応可能”“発塵がない”“静電気が発生しない” “コストパフォーマンスが高い”すべての項目で高評価でした。【事例概要】 ■導入先：C社様 ■用途：吸着 ■活用：ディスプレイ（OLED）のフィルム固定台として ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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精密片面ラッピングポリッシング装置　TR15S

テクノライズ株式会社

磁気ヘッド、YAG、レーザー等の高精度加工を必要とする超精密研磨に最適です。プレート面の振れや摺動抵抗等の精度を追求することにより、加工対象物に無理な力をかけずに安定した加工レートを得られ、且つ加工中のスクラッチ発生を除去しています。また、フェーシング機構・循環式水冷機構の採用により、プレートの平坦度を常に管理・維持ができます。加えて、オシレーション機構・強制ドライブ機構の採用によりさまざまな高精度を要求する分野に対応したラッピング装置です。

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技術紹介「ウェーハ精密加工プロセスのご提案」

スピードファム株式会社

スピードファムは、独創的な技術とノウハウでハードとソフト両面から「装置」と「消耗副資材」を開発してお客様の様々なニーズにお応えし、最適な加工プロセスを提案してまいります。ウェーハエッジとノッチの鏡面加工を行うエッジポリッシングは、半導体製造工程に不可欠な加工技術です。エッジとノッチ部の鏡面研磨はパーティクルの発生を防ぎ、デバイス工程での表面清浄度を大きく向上させます。【技術紹介】 ○研磨加工技術 ○平面研磨技術 ○エッジポリッシング(端面研磨)　他詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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秩父電子株式会社　事業紹介

秩父電子株式会社

秩父電子株式会社は、半導体フォトマスク基板用合成石英ガラス、 GaP・GaAs等の化合物半導体、MEMS、SiC（シリコンカーバイド）サファイア、GaN(窒化ガリウム）、Siウェハーの研磨加工を軸にエピ成長、金属膜蒸着等半導体材料の加工を幅広く行っている技術集団です。屈指の研磨技術で高硬度素材・高精度加工などの高い技術を必要とする研磨加工を承ります。【製品ラインアップ】 ■フォトマスク研磨 ■化合物半導体研磨 ■シリコンウェハー裏面加工 ■MEMSウェハー研磨加工 ■ワイドギャップ半導体加工　他 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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噴流式ガラス基板温調システム『クリスタルジェット』

株式会社朝日工業社

『クリスタルジェット』は、液晶パネル生産を支えるキーデバイスとして広く世界中で採用されている噴流式ガラス基板温調システムです。新たな空調システム“高効率顕熱空調機”を採用し、冷却のみでの精密温度制御を実現。レイアウトに合わせたカスタマイズが可能なほか、全面層流タイプや小風量タイプなど、様々なオプションもご用意しています。【特長】 ■大型基板への対応 ■温度管理の高精度化 ■処理時間の短縮 ■省エネ・省スペース化 ■ガラス基板温度収束時間25秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ミクロ技研株式会社　事業紹介

ミクロ技研株式会社

ミクロ技研株式会社は、シリコンウェーハ、 FPD パネル、フィルム等といった各種電子材料や自動検査装置の開発、製造並びに販売を行っております。洗浄技術、研削・研磨技術、RtoR技術、コーティング技術、化学処理技術、印刷技術をコア技術とし、幅広い製品構成により顧客企業の課題解決をサポート。今後は、外観検査技術、FA技術、そしてウルトラファインバブルに代表される環境関連技術などを新たなコア技術と定め、技術力の更なる向上と製品化を進めています。【事業目的】 ■各種電子材料（シリコンウェーハ、 FPD パネル、フィルム等）　製造装置の開発、製造並びに販売 ■自動検査装置の開発、製造並びに販売 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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電子部品の断面観察におすすめ研磨アイテム4選!!

ITWジャパンビューラー株式会社

電子部品の断面観察をするために試料作製(切断、埋込、研磨)は有効な手段の一つです。しかし実際に作業をしてみると、小さな部品中に硬さ・脆さの異なるたくさんの材料が混在しており、難しく感じている方もいらっしゃるのではないでしょうか。弊社での実績をもとに、電子部品の研磨におすすめな試料作製アイテムをご紹介します!! また弊社ラボでは試料をお預かりしての試料作製や硬さ試験、ご来社いただいて実際に装置をご使用いただくデモに対応しております。これから試料作製を始めたい、困っていることを相談したい等お気軽にご連絡ください。

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12インチ対応ウェハーワックス貼付装置『TEC-1001MB』

株式会社くまさんメディクス

『TEC-1001MB』は、高品質な研削・研磨工程を実現するウェハーワックス貼り付け専用の装置です。ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能で、デバイスへのダメージも抑制できます。加熱・冷却機構の適正化と高剛性な機構設計により、均一な温度分布や安定した荷重分布を実現し、精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぎます。【特長】 ■ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能 ■デバイスへのダメージも抑制できる ■均一な温度分布や安定した荷重分布を実現 ■精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぐ ■12インチウェハー対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【プレスケール活用事例】CMP研磨ヘッド

富士フイルム株式会社

プレスケールをCMP研磨ヘッドのあたり均一性確認を目的として活用した事例をご紹介。研磨不良の原因が不明確なまま生産を継続するため、精度が不十分であったり不良品が頻繁に発生するなどの問題がありました。導入後は、研磨の均一性、研磨速度の調整に有用な知見を得ることで、時間短縮と品質向上を実現しました。【事例概要】 ■課題・精度が不十分・不良品が頻繁に発生 ■結果・あたりの均一性が設計時に調整でき、設計効率が大幅に向上・CMP装置間のばらつきを抑えることができるようになった ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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酸化物単結晶

株式会社山寿セラミックス

当社は、長年にわたって培ってまいりました酸化物単結晶製造技術を基盤に、お客様より信頼と満足を得られる高品質な製品を提供いたします。結晶の大型化と高品質化が求められる中で早くから5インチφ（125mmφ）、 6インチφ（150mmφ）の単結晶開発に着手。単結晶育成条件の高精度化を追求し、1998年に6インチφニオブ酸リチウム単結晶の量産化に成功、 2001年に5インチφ、6インチφタンタル酸リチウム単結晶の量産化に成功しました。 ※詳細については、お気軽にお問い合わせください。

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ダミー・モニター用シリコンウエーハ

株式会社セミテック

当社では、ダミー・モニター用シリコンウエーハを取り扱っています。研磨された製品は、さまざまなレベルで実施されるチェツク工程をへて、高精度を保証されます。先進の技術を駆使した測定機器やクリーンルームなど、環境管理にも万全の設備を完備することが、品質アップにつながるのです。信頼性の高い品質保証体制の提供により、はじめて高平坦度、清浄度を極限まで向上させ、安定供給を実現することができます。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【ダミー、モニターの区別】 ■ダミーウエーハ　・口径、厚さ以外のスペックは不問、又、ダスト不問か、　　ダストフリーはご指定ください。(ウエーハ特性は納品時に表示します) ■モニターウエーハ　・別紙仕様明細書にてご指定ください。　　ただし、比抵抗と厚さの範囲の拡大を極力お願いいたします。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

課題

研磨ムラによる局所的な凹凸発生

ウェーハ全体で均一な研磨圧や研磨液の供給が難しく、特定の領域で過剰または不足な研磨が生じ、微細な凹凸が形成される。

ウェーハ端部と中央部の研磨レート差

ウェーハの外周部と中央部では、回転数や遠心力の影響により研磨レートに差が生じやすく、平坦度を損なう原因となる。

研磨パッドの摩耗による性能低下

研磨パッドは使用に伴い摩耗し、表面の平坦性や研磨能力が低下するため、定期的な交換やメンテナンスが必要となる。

微細な異物混入による表面損傷

研磨工程中に微細な異物が混入すると、ウェーハ表面に傷をつけ、平坦度を損なうだけでなく、デバイスの不良を引き起こす可能性がある。

対策

研磨条件の最適化と精密制御

研磨圧、研磨液流量、研磨時間、ウェーハ回転数などのパラメータを精密に制御し、ウェーハ全体で均一な研磨レートを実現する。

研磨パッドの設計・材料改良

ウェーハ形状や研磨対象に応じた最適な硬度、表面構造を持つ研磨パッドを選定・開発し、均一な研磨性能を維持する。

インライン計測によるリアルタイムモニタリング

研磨中にウェーハ表面の平坦度をリアルタイムで計測し、異常を早期に検知して研磨条件を自動調整するシステムを導入する。

クリーンルーム環境の徹底管理

研磨工程で使用する研磨液、パッド、装置、作業環境の清浄度を徹底的に管理し、異物混入のリスクを最小限に抑える。

対策に役立つ製品例

高精度研磨装置

ウェーハ全体に均一な研磨圧と研磨液を供給する機構を備え、精密な研磨条件制御により高い平坦度を実現する。

特殊研磨パッド

ウェーハの端部まで均一な研磨レートが得られるように設計された、耐久性と研磨性能に優れた素材で作られたパッド。

表面形状計測システム

研磨中のウェーハ表面の凹凸や平坦度をナノメートルレベルで高精度に測定し、フィードバック制御を可能にする。

超純水供給・ろ過システム

研磨工程で使用する水や研磨液の清浄度を極限まで高め、異物混入による表面損傷を防ぐ。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

表面平坦度の均一化とは？課題と対策・製品を解説

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

各社の製品

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

​課題

研磨ムラによる局所的な凹凸発生

ウェーハ端部と中央部の研磨レート差

研磨パッドの摩耗による性能低下

微細な異物混入による表面損傷

​対策

研磨条件の最適化と精密制御

研磨パッドの設計・材料改良

インライン計測によるリアルタイムモニタリング

クリーンルーム環境の徹底管理

​対策に役立つ製品例

高精度研磨装置

特殊研磨パッド

表面形状計測システム

超純水供給・ろ過システム

課題

対策

対策に役立つ製品例