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表面平坦度の均一化とは？課題と対策・製品を解説

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ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

半導体製造プロセスにおいて、ウェーハ表面をナノメートルオーダーで平坦に仕上げる技術です。集積回路の微細化・高密度化に伴い、層間絶縁膜や配線層の形成精度を高めるために不可欠な工程であり、デバイス性能や歩留まりに直結します。

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【半導体向け】ナノ・グレインズ

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、微細化技術の進展に伴い、材料の加工精度がますます重要になっています。特に、高密度化が進む中で、材料の微細な欠陥や歪みが製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。ナノ・グレインズの超微細粒鋼は、2002年から小松精機工作所と独立行政法人物質・材料研究機構と研究をしてきた「超微細粒鋼の加工特性」の研究をもとに、2014年9月から正式に活動を開始しました。微細加工技術の向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における微細加工・高精度な金型製作・微細構造部品の製造【導入の効果】・加工精度の向上・製品の品質向上・歩留まりの改善

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【半導体製造向け】シナノケンシ株式会社

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体製造業界における搬送工程では、ウェーハや基板の正確な位置決めとスムーズな移動が、生産効率と品質を左右する重要な要素です。微細な位置ずれや振動は、製品の不良や歩留まりの低下につながる可能性があります。シナノケンシ株式会社のモータやモジュールは、これらの課題に対し、高精度な制御と安定した動作を提供することで、搬送工程の最適化に貢献します。【活用シーン】・ウェーハ搬送・基板搬送・部品供給【導入の効果】・搬送精度向上・生産性向上・歩留まり向上

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【半導体製造向け】幾何公差真直度の測り方

株式会社松井製作所

半導体製造業界においては、高い精度が求められます。半導体関連部品の平面性や形状精度は、デバイスの性能を左右する重要な要素です。真直度のわずかなズレが、製造プロセス全体に影響を及ぼし、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一つである真直度の測定方法を解説し、加工精度を向上させるための基礎知識を提供します。【活用シーン】・半導体関連部品の加工工程・半導体関連部品のパターン形成工程・半導体関連部品の検査工程【導入の効果】・加工精度の向上・歩留まりの改善・製品品質の安定化

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【電子部品向け】KFDシリーズテープ研磨ユニット

株式会社コバックス

電子部品業界において、薄膜化は製品の小型化、高性能化に不可欠です。薄膜の精密な研磨は、製品の品質と信頼性を左右する重要な工程であり、面粗度管理が課題となります。KFDシリーズは、PLC制御による精密な研磨を実現し、薄膜化における面粗度管理を容易にします。【活用シーン】・電子部品の薄膜研磨・精密フィルムの研磨・自動車関連部品の研磨【導入の効果】・面粗度管理の容易化・製品品質の向上・研磨工程の効率化

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【半導体向け】サンゴバン株式会社

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、高品質な製品を製造するために、研磨工程における高い精度と耐久性が求められます。研磨材の選定は、製品の仕上がりを左右する重要な要素です。サンゴバン株式会社の製品は、研磨工程におけるお客様の厳しい要求に応えるべく、最適なソリューションを提供します。【活用シーン】・半導体ウェーハの研磨・研磨後の表面処理・精密部品の研磨【導入の効果】・高品質な研磨を実現・製品の歩留まり向上・高い耐久性によるコスト削減

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【電子機器向け】平面度の計算原理

株式会社松井製作所

電子機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の正確な製造が不可欠です。特に、基板や筐体などの平面度は、製品の性能や耐久性に大きく影響します。平面度の計算方法を理解することは、設計段階での品質管理や製造工程での問題発見に役立ち、製品の信頼性向上につながります。本動画は、平面度の計算原理を解説し、電子機器の信頼性向上に貢献します。【活用シーン】・電子機器の設計・製造における品質管理・基板や筐体の平面度測定・製品の信頼性評価【導入の効果】・製品の品質向上・不良品の削減・顧客満足度の向上

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【半導体製造向け】高圧スムーズフローポンプHPL

株式会社タクミナ

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、薬液の正確な塗布が求められます。特に、微細化が進む中で、薬液の均一な供給と精密な塗布が、歩留まりを左右する重要な要素となります。脈動のある送液は、塗布のムラや液質の変化を引き起こし、製品の品質を損なう可能性があります。高圧スムーズフローポンプHPLは、最高50MPaの高圧送液を可能にし、無脈動送液を実現することで、半導体製造における薬液塗布の課題を解決します。【活用シーン】・フォトレジスト塗布・現像液塗布・CMPスラリー供給【導入の効果】・塗布の均一性向上・歩留まり向上・液質の安定化・TCO削減

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【ディスプレイ向け】KFDシリーズテープ研磨ユニット

株式会社コバックス

ディスプレイ業界では、高精度の表面処理が求められます。特に、表示品質を左右するフィルム研磨においては、均一な面粗度と高い精度が不可欠です。不適切な研磨は、表示ムラや輝度低下を引き起こす可能性があります。KFDシリーズは、ワーク材質に応じたコンタクトローラー硬度・研磨テープ番手の選定により、高精度な面粗度管理を実現します。【活用シーン】・ディスプレイフィルムの研磨・高精度な表面処理が必要な部品の研磨・自動車関連部品、OA機器関連部品、精密シャフト等の研磨【導入の効果】・面粗度管理の容易化・乾式・湿式研磨の対応・研磨テープの交換容易性

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【半導体向け】超精密特殊鏡面研磨加工

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、微細な部品の製造において、表面の清浄度と精密な形状が求められます。特に、クリーンな環境下での製造においては、研磨加工による微細なバリや異物の除去が重要です。これらの不具合は、製品の性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社の超精密特殊鏡面研磨技術は、形状に沿って粗い面を鏡面に仕上げ、エッジを損なうことなく微細なバリを取り除くことが可能です。【活用シーン】・クリーンルーム内での半導体部品の研磨・微細加工部品のバリ取り・試作部品の鏡面仕上げ【導入の効果】・製品の品質向上・歩留まりの改善・異物混入のリスク低減

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【半導体向け】平面度解説動画

株式会社松井製作所

半導体業界の微細加工においては、高い精度が求められます。特に、ウェーハや基板の平面度は、製造プロセス全体の品質を左右する重要な要素です。平面度のわずかなずれが、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平面度」の基本を解説しています。平面度の定義、使用例、図面上での使われ方、使用する際の注意点について解説します。平面度に関する理解を深めることで、微細加工における品質向上に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における品質管理・微細加工プロセスの改善・設計段階での平面度指示【導入の効果】・平面度に関する知識の習得・加工精度の向上・不良率の低減

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【半導体製造向け】多軸位置決めステージ【MD-ZT】

ハイウィン株式会社

半導体製造業界の微細加工においては、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウエハの反りや表面の微細な凹凸による焦点誤差は、加工精度を大きく左右し、歩留まりの低下や不良品の発生につながります。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度により、これらの課題に対応します。高さ90mmのコンパクトな設計で、既存の装置への組み込みも容易です。【活用シーン】・半導体製造における微細加工・ウエハの反り補正・高精度な位置決めが必要な工程【導入の効果】・焦点誤差の解消による加工精度の向上・歩留まりの向上・装置全体の小型化・高速かつ高精度な位置決めによる生産性の向上

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【電池材料向け】TMS型エアセパレータ

株式会社増野製作所

電池材料業界では、製品の性能を最大限に引き出すために、材料の均一性が重要です。特に、電極材料の粒度分布の均一性は、電池の充放電効率や寿命に大きく影響します。不均一な粒度分布は、電池の性能低下や早期劣化を引き起こす可能性があります。当社のTMS型エアセパレータは、遠心力と循環旋回気流を利用して、電池材料の分級を行い、粒度分布の均一化を実現します。【活用シーン】・リチウムイオン電池正極材の分級・リチウムイオン電池負極材の分級・全固体電池材料の分級【導入の効果】・電池材料の均一化による電池性能の向上・電池の長寿命化・製造工程における歩留まりの向上

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【半導体製造向け】平行度の基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、製造プロセスの各段階における精密な寸法管理が求められます。特に、ウェーハや基板の加工においては、平行度の精度が製品の性能に大きく影響します。平行度が適切に管理されていない場合、製造プロセスにおける不良品の発生や、製品の性能劣化につながる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「平行度」の基本を解説し、半導体製造における品質管理に貢献します。【活用シーン】・半導体製造における品質管理・ウェーハや基板の加工プロセス・平行度に関する基礎知識の習得【導入の効果】・平行度の理解を深め、製造プロセスの改善に役立ちます。・不良品の発生を抑制し、歩留まりを向上させます。・製品の品質向上に貢献します。

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【半導体プロセス最適化向け】多点式センサー

株式会社京都電熱

半導体業界では、製造プロセスの品質と歩留まりを向上させるために、精密な温度管理が不可欠です。特に、ウェーハ製造やアニール工程など、微妙な温度変化が製品の性能に大きく影響する場面では、正確な温度測定が求められます。温度分布の不均一さは、製品の不良や性能劣化を引き起こす可能性があります。多点式センサーは、1本の保護管で最大20箇所の温度を測定できるため、プロセス全体の温度分布を効率的に把握し、最適な条件を見つけ出すのに役立ちます。【活用シーン】・ウェーハ製造工程の温度管理・アニール工程の温度均一性評価・CVD/PVD装置内の温度モニタリング・その他、温度管理が重要な半導体製造プロセス【導入の効果】・プロセスの最適化による歩留まり向上・製品品質の安定化・温度管理の効率化・不良品の削減

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搬送装置向けシールブラシ（特注対応）

株式会社共伸技研

搬送装置では、ワーク搬送中に発生する粉塵や異物の侵入を防ぎつつ、可動部や開口部のすきまを確実に塞ぐ必要があります。共伸技研のシールブラシは、毛丈・密度・幅を最適化できるチャンネルブラシ構造により、すきまからの異物侵入を抑制し、装置内部の汚れやトラブルを防止します。ブラシは柔軟性が高く、ワークや治具が通過する箇所でも干渉を抑えながらシール性を確保できます。共伸技研は、毛丈・線径・密度・幅だけでなく、取り付け金具の形状まで含めた完全特注対応が可能です。既存装置の後付けや特殊開口部にもフィットするブラシを1本から製作できます。また、工期に合わせた柔軟な納期管理により、ライン立ち上げや改造工事などスケジュールが厳しい案件にも対応できます。さらに、金具支給でのブラシ組み込み製作、金具込みの一体製作（溶接対応）にも対応しており、装置メーカーごとの取り付け仕様に合わせた柔軟な製作が可能です。

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【半導体製造向け】幾何公差真直度とは？

株式会社松井製作所

半導体製造業界においては、高い精度が求められます。関連部品の平面性や形状精度は、半導体デバイスの性能に直結するため、真直度の理解は重要です。真直度の定義や図面での使われ方を知ることで、製造プロセスにおける品質管理に役立ちます。この動画では、真直度の基本を解説し、半導体製造における課題解決をサポートします。【活用シーン】・半導体製造装置の部品精度管理・品質管理担当者の教育【導入の効果】・真直度の理解を深め、品質管理能力を向上・図面解読力の向上・不良品発生率の低減

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【電子機器向け】各種素材矯正試作サービス

生田産機工業株式会社

電子機器業界では、製品の性能を維持するために、放熱性能が重要です。特に、高密度実装が進む中で、熱による部品の劣化や誤作動を防ぐために、放熱部品の平坦度が求められます。平坦度の低い放熱部品は、接触不良を起こし、放熱効率を低下させる可能性があります。IKUTAの矯正試作サービスは、鉄鋼、SUS、銅、アルミなど、様々な素材の平坦度を改善し、放熱性能の向上に貢献します。【活用シーン】・電子機器の筐体・ヒートシンク・放熱板・その他、平坦度が求められる電子部品【導入の効果】・放熱効率の向上・製品の信頼性向上・部品の寿命延長・不良率の低減

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【半導体製造向け】ジェットクーラ

日本精器株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、精密な冷却が求められる工程においては、温度ムラや急激な温度変化が、製品の性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。ジェットクーラは、可動部分がなく、冷媒や電気を使用しないため、安定した冷風供給を実現し、精密冷却のニーズに応えます。【活用シーン】・半導体製造装置の局所冷却・電子部品の冷却・検査工程での温度管理【導入の効果】・スポット冷却による温度管理精度の向上・電気代削減によるコストダウン・長寿命設計によるメンテナンス頻度の低減

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【半導体ウェーハ向け】研削加工技術

株式会社トムラス

半導体業界では、ウェーハの平坦性、寸法精度、表面粗さが製品の性能を左右する重要な要素となります。特に、微細化が進む中で、ウェーハ表面のわずかな凹凸や寸法の誤差が、デバイスの歩留まりや信頼性に大きな影響を与える可能性があります。当社の研削加工技術は、ミクロン単位での精密な加工を実現し、ウェーハの高品質化に貢献します。【活用シーン】・ウェーハの平面研磨・ウェーハの精密研削・ウェーハの表面粗さ調整【導入の効果】・ウェーハの平坦性向上・寸法精度の向上・表面粗さの改善・デバイスの歩留まり向上・製品の信頼性向上

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【半導体製造向け】高精度セラミックス部品

シチズンファインデバイス株式会社

半導体製造業界では、製品の小型化・高性能化に伴い、微細加工技術へのニーズが高まっています。特に、高精度な部品は、製品の品質と信頼性を左右する重要な要素です。寸法精度や表面精度が求められる中、セラミックス部品は、その特性から注目されています。当社のセラミックス部品は、原材料配合から加工まで一貫生産しており、お客様の課題解決に貢献します。【活用シーン】・半導体製造装置・微細加工用治具・精密測定機器【導入の効果】・高精度な加工を実現・製品の品質向上・装置の長寿命化

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【半導体製造向け】真円度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、ウェーハの製造において、高い精度が求められます。真円度は、ウェーハの品質を左右する重要な要素の一つです。真円度の定義や図面での使われ方を理解することは、ウェーハの製造プロセスにおいて不可欠です。この動画では、真円度の基本を解説し、ウェーハ製造における品質管理に役立つ情報を提供します。【活用シーン】・ウェーハ製造における真円度の理解・図面上の真円度指示の解釈・真円度測定の基礎知識【導入の効果】・ウェーハ製造における品質向上・不良品の削減・製造プロセスの効率化

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【半導体製造向け】幾何公差円周振れ・全振れ解説動画

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まり向上が常に求められます。特に、微細加工技術が重要となる分野では、部品の寸法精度が製品の性能を大きく左右します。幾何公差の理解不足は、不良品の発生や性能の低下につながり、歩留まりを悪化させる可能性があります。この動画では、幾何公差の一種である「円周振れ・全振れ」の基本を解説し、図面解読能力の向上をサポートします。この動画を視聴することで、半導体製造における品質管理の基礎知識を深め、歩留まり改善に貢献できる可能性があります。【活用シーン】・半導体製造における部品設計・品質管理部門での教育・製造現場での図面解読【導入の効果】・幾何公差の理解を深め、図面解読能力が向上する・不良品の発生を抑制し、歩留まりが改善する可能性・品質管理の知識向上による、製品品質の安定化

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【半導体向け】超精密電子部品・検査装置の量産

NPO諏訪圏ものづくり推進機構

半導体業界では、デバイスの小型化・高性能化に伴い、超精密な加工技術が不可欠です。微細な部品の正確な製造は、製品の信頼性や性能を左右します。ミクナスファインエンジニアリングは、時計部品で培った微細加工技術を活かし、超精密な電子部品や半導体検査装置の量産を実現します。創業以来70年間培ってきた幅広い経験と、生産合理化技術の向上により、お客様のニーズに応えます。【活用シーン】・半導体製造プロセスにおける精密部品の製造・半導体検査装置の製造・電子部品の製造【導入の効果】・高品質な電子部品の安定供給・半導体デバイスの性能向上・生産効率の改善

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【放熱フィラー向け】ICA製アルミナ

共立マテリアル株式会社

現地であるインドネシアに赴きPT Indonesia Chemical Alumina (ICA)社から直接調達したアルミナを扱っており、これまで年間3,000ton以上供給して参りました。〇原料のボーキサイトはインドネシア原産　製造過程で排出される赤土は鉱山へ埋め戻すため、海洋投棄を行わず地球環境に配慮した持続可能な原料という特徴があります。 ■用途　・バイオマス燃焼のクリンカー抑制　・耐火物　(　耐火煉瓦、フィラー　) 　・強化ガラス　・耐火物　・抵抗器（アルミナ材料）　・セッター　・放熱フィラー　・セラミックスフィルター　・アルミナセラミックボール　・研磨材 ■当社強み　・当社はメーカー機能兼ね備えた販売店　　メーカー分析値のみならず、当社での組成分析（XRF,ICP), 物性測定(粒度測定,比表面積測定）, EDS-SEMによる粒子観察が可能。　・ご相談に合わせて、ニーズに合わせて粉砕、分級などのご提案も承ります。 ■取扱製品　・仮焼アルミナ　焼成品　約50μｍの凝集体　・仮焼アルミナ　粉砕品　約4μｍの粉末

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【スマートフォン向け】リアルナノ３次元測定機

アイ・ティー・エス・ジャパン株式会社

スマートフォンディスプレイ業界では、高品質な表示性能を追求するため、表面の微細な形状や粗さの精密な評価が求められます。特に、ディスプレイの視認性や耐久性に影響を与える表面のわずかな凹凸や傷は、製品の品質を左右する重要な要素です。リアルナノ3次元測定機は、ナノレベルでの表面形状測定により、ディスプレイの品質管理と性能向上に貢献します。【活用シーン】・ディスプレイ表面の粗さ測定・タッチパネルの表面形状評価・保護フィルムの品質評価【導入の効果】・ディスプレイの品質向上・不良品の削減・製品開発の効率化

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【半導体製造向け】極低温サーモクーラー

日本ブロアー株式会社

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や特殊な材料を使用する工程においては、温度のわずかな変動が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。冷却能力が不足している場合、熱による歪みや変質が発生し、不良品の増加につながるリスクがあります。サーモクーラー VLシリーズは、-50℃までの極低温環境を精密に制御し、半導体製造における冷却ニーズに応えます。【活用シーン】 * 半導体ウェーハの冷却 * 電子部品の冷却 * 精密機器の温度管理【導入の効果】 * 製品の品質向上 * 歩留まりの改善 * 製造プロセスの安定化

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【電池材料向け】SAS型エアセパレータ

株式会社増野製作所

電池材料業界では、製品の性能を左右する粒度調整が重要です。電極材料の均一な粒子径は、電池の容量や充放電速度に影響を与えます。不適切な粒度調整は、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。SAS型エアセパレータは、循環旋回気流と遠心力で効率的に分級を行い、電池材料の粒度調整に貢献します。【活用シーン】・リチウムイオン電池正極材の分級・リチウムイオン電池負極材の分級・その他電池材料の粒度調整【導入の効果】・均一な粒子径の実現・電池性能の向上・歩留まりの改善

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【電子機器向け】研削加工技術

株式会社トムラス

電子機器業界において、コネクタは製品の性能を左右する重要な部品です。コネクタの寸法精度や表面粗さは、接続の信頼性や電気的特性に大きく影響します。特に、小型化が進む電子機器においては、コネクタの精密な加工が不可欠です。研削加工技術は、ミクロン単位での精密な加工を可能にし、コネクタの品質向上に貢献します。当社研削加工技術は、平面研磨、円筒研磨、内面研磨と幅広い設備を保有しており、お客様のニーズに合わせた最適な加工を提供します。【活用シーン】・コネクタの端子部分の研磨・コネクタハウジングの精密加工・電子機器筐体との接合部分の研磨【導入の効果】・コネクタの接続信頼性の向上・電気的特性の安定化・製品の品質向上

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【半導体製造向け】精密部品加工サービス

イワタグループ

半導体製造業界では、製品の高性能化に伴い、精密部品の品質が重要視されています。特に、微細加工技術や高度な表面処理が求められ、部品の精度が製品の性能を左右します。イワタグループは、大物から精密部品まで、幅広い加工に対応し、お客様のニーズに応じた最適なソリューションを提供します。【活用シーン】・半導体製造装置の精密部品・検査装置の部品・その他、半導体製造に関わる精密部品【導入の効果】・高品質な精密部品の安定供給・製品の性能向上・製造プロセスの効率化

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【半導体製造向け】シリコンラバーヒーター

オーエムヒーター株式会社

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、ウェーハや基板の均熱は、製造プロセスにおける歩留まりや製品性能に大きく影響します。温度ムラは、製品の品質低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社のシリコンラバーヒーターは、均熱性に優れ、精密な温度管理を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。【活用シーン】・ウェーハの均熱・基板の均熱・半導体製造装置の温度管理【導入の効果】・温度分布の均一化による品質向上・歩留まりの改善・製品の信頼性向上

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【半導体製造向け】円筒度とは？基本を解説！

株式会社松井製作所

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、高い精度が求められます。円筒度は、ウェーハの製造プロセスにおいて、その品質を左右する重要な要素の一つです。円筒度の理解は、ウェーハの形状精度を確保し、歩留まり向上に貢献します。この動画では、円筒度の定義、使用例、図面上での使われ方、測定方法、注意点について解説します。【活用シーン】・ウェーハ製造における形状精度管理・半導体製造プロセスの品質向上・円筒度に関する基礎知識の習得【導入の効果】・ウェーハ製造における品質問題の理解促進・円筒度に関する知識習得による業務効率化・半導体製造技術者のスキルアップ

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【半導体製造向け】電気ヒーターユニット

株式会社京都電熱

半導体製造業界では、製造プロセスにおける温度管理が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの製造や各種コーティング工程においては、温度の均一性と精密な制御が求められます。温度管理が不十分な場合、ウェーハの反りやクラックの発生、コーティングの均一性の低下など、様々な問題が生じる可能性があります。当社の電気ヒーターユニットは、シーズヒーターを応用し、これらの課題に対応します。【活用シーン】・ウェーハ製造工程・各種コーティング工程・クリーンルーム内の温度管理【導入の効果】・精密な温度制御による製品品質の向上・温度ムラを抑制し歩留まりを改善・多様な形状設計により、設置場所への柔軟な対応

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【電子部品向け】鏡面仕上研磨加工

日鉄ステンレス加工株式会社

電子部品業界において、基板の品質は製品全体の信頼性を左右する重要な要素です。基板の板厚が不均一であると、部品の実装精度に影響し、最終製品の性能低下や故障の原因となる可能性があります。当社の鏡面仕上研磨加工は、ミクロンオーダーでの板厚均一化を実現し、基板の品質向上に貢献します。これにより、精密機器の組み付け精度を高め、最終製品の品質保証を可能にします。【活用シーン】 * 基板製造における板厚調整 * 精密機器の組み立て工程 * 品質管理における板厚精度の向上【導入の効果】 * 基板の品質向上 * 製品の信頼性向上 * 組立工数の削減

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【半導体製造向け】幾何公差同心度・同軸度基本解説動画

株式会社松井製作所

半導体製造業界では、製品の品質と歩留まり向上が常に求められます。特に、微細加工技術が重要となる分野においては、部品の精度が製品の性能を大きく左右します。同心度や同軸度の不正確さは、製品の不良や性能低下につながり、歩留まりを悪化させる要因となります。この動画では、幾何公差の一種である「同心度・同軸度」の基本を解説し、半導体製造における品質管理の基礎知識を提供します。この動画を参考に、同心度・同軸度に関する理解を深め、歩留まり改善にお役立てください。【活用シーン】・半導体製造における部品の設計・製造・品質管理部門での教育・製造現場での技術指導【導入の効果】・幾何公差の理解を深め、設計・製造段階でのミスを削減・品質管理能力の向上、不良品の発生率を低減・歩留まりの改善、コスト削減に貢献

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【半導体製造向け】精密・コンパクトな装置組込用ポンプよる薬液滴下

テカンジャパン株式会社

微細なパターン形成や高度なプロセス制御が求められる半導体製造においては、薬液の正確な吐出が不可欠です。テカンのCavroポンプシリーズは、1μl以下～50mlの範囲で精密な液送を実現し、お客様の装置への組み込みを容易にするため、最適なソリューションを提供します。シリンジポンプ：Centris、Xcalibur、XLP6000 マルチチャネルシリンジポンプ：XMP6000 ピストンポンプ：Pullsar PBC 【活用シーン】・ウェーハへのフォトレジストの精密滴下・化学機械研磨（CMP）におけるスラリー添加・洗浄・エッチング工程での薬液調合・メッキ工程（電解・無電解）の添加剤管理・パッケージング工程など【Cavroシリーズが選ばれる技術的理由】・高い分解能: ステッピングモーターによる細かいステップ制御で、極微量の吐出が可能・メンテナンス性: 装置への組込み（OEM）を前提とした設計で、クリーンルーム内でのダウンタイムを最小限に・多様なシリンジ材質: 腐食性の強い半導体用薬液に対しても、適切な材質（PTFE、セラミックなど）を選択することで対応可能

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【半導体製造向け】超硬合金製高精度小径ピンゲージ

三和クリエーション株式会社

半導体製造業界では、製品の品質を保証するために、微細孔の正確な測定が不可欠です。特に、ウェーハやマスクなどの製造工程においては、微細孔の寸法精度が製品の性能を大きく左右します。寸法のわずかな誤差が、製品の歩留まりを低下させ、不良品の発生につながる可能性があります。当社の超硬合金製高精度小径ピンゲージは、ミクロンオーダーでの正確な内径測定を可能にし、半導体製造における品質管理を強力にサポートします。【活用シーン】・ウェーハの微細孔径測定・マスクの孔径測定・半導体部品の内径測定【導入の効果】・高精度な測定による品質向上・不良品の削減・歩留まりの改善・測定時間の短縮

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メゾテクダイヤ株式会社　事業紹介

メゾテクダイヤ株式会社

メゾテクダイヤ株式会社は、鏡面加工に関する技術、ノウハウおよび長年の経験を活かして、精密研磨材メーカーとして平成１８年に設立しました。設立に際して、「ミクロ（Micro）」技術と「ナノ（Nano）」技術の架け橋、および「現在」の生産方式と「未来」の生産方式の架け橋になることを、会社の基本方針と掲げ、「ミクロ」と「ナノ」、「現在」と「未来」の『中間』を意味する“メゾ（Meso）”に、テクノロジー（Technology）を融合させ、更に、ダイアモンドを基幹材料とする製品展開を図りますので『メゾテクダイヤ』を社名と致しました。メゾテクダイヤ株式会社は、鏡面加工技術を駆使した製品とＣＭＰコンディショナを製造販売していますが、高度な精密加工製品のユニークなサプライアーとして、高い評価を受けています。【事業内容】 ○ダイヤモンド研磨工具の製造販売詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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受託加工「SiC＆サファイア」

六甲電子株式会社

六甲電子株式会社の受託加工は、独自の手法によりSiCウエハの研削→研磨→RCA洗浄を一貫して行えます。既存のシリコン加工機で、研削→研磨→RCA洗浄を実現。現状の専用機での加工に比べ高速・低ソリ・高面粗度・大口径対応が可能となり、一貫加工にて対応いたします。半導体の特性や性能に影響するシリコンウエハの研削・研磨技術。高度な精密度を有する技術を開発・改良・更新し、製造しています。【特徴】 ○グラインド研削で加工時間、コスト低減 ○高速・超平滑を得るCMP ○RCA洗浄による高品質実現 ○エピ再生加工詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』

山口精研工業株式会社

当社の『CHEMISTER CL-シリーズ』は、酸化物系基板用に開発した、高い研磨Rateと研磨面品質を実現する研磨剤です。 SAWデバイス用基板に利用されるタンタル酸リチウム(LiTaO3)をはじめ、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、サファイア、酸化亜鉛、ガーネットなどを対象としています。【特長】 ■コロイダルシリカを砥粒としたポリシング用鏡面研磨剤である ■難加工性材料である、タンタル酸リチウム(LiTaO3)、サファイア等に　対して、高い研磨Rate、研磨面品質を実現 ■お客様のニーズ･ご要望にお答えしカスタマイズした研磨剤を提供 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

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半導体関連装置『Fine Surfaceシリーズ』

株式会社BBS金明

株式会社BBS金明では、半導体関連装置である『Fine Surfaceシリーズ』を取り扱っております。数多くの実績に基づいたシリコンウェーハエッジ研磨のベストセラー機「E-150/200/300」をはじめ、お客様のプロセスに高い信頼性を与え、貢献する「E-300」や「E-300UCS」をご用意。用途に合わせてお選びいただけます。【ラインアップ】 ■E-150/200/300 ■E-300 ■E-300UCS ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ガラス基板加工　技術資料無料進呈中！

株式会社倉元製作所

当資料では、倉元製作所のコア技術「切る」「磨く」「成膜」についてご紹介しています。液晶ディスプレイ用ガラス基板は液晶パネルの基本部材であり、その良否はパネル性能、後工程の歩留りに大きな影響を与えます。当社加工品は、信頼のブランドとして各パネルメーカーより高い評価をいただいています。【掲載内容】 ■切る ■磨く ■成膜 ■成膜の生産設備 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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キャリア『シリコンキャリア』

Carrier Integration株式会社

『シリコンキャリア』は、半導体製造装置を改造せずに、小口径ウエハや異形ウエハ等を搭載して搬送、そのまま大気中、または真空中でのプロセスを可能とする高精度キャリアです。２～１２インチシリコンウェハを、お客様の基板が搭載可能な様に加工（研削・研磨）、組み立てを致します。また、シリコン以外に石英・金属・セラミック等各種材料にも対応可能です。ご要望の際は、お気軽にご相談下さい。【特長】 ■高精度研削（深さ 30μm ～、 φ200mm の座グリ穴加工など) ■高平坦度 ■高位置精度 ■各種装置に合わせた固定方法 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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マルチレイアウトラッピングシステム『Trinity-Y』

日本エンギス株式会社

マルチレイアウト型多機能ラッピングシステム「Trinity‐Y」は、ワイドギャップ半導体等の次世代の材料に対応するために開発された装置で、各種新素材に最適な機構を自由に選択することができ、その機能を1台に集約することで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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CMP装置　LP50精密ラッピング＆ポリッシングマシン

ハイソル株式会社

あらゆる材料のアプリケーションに対応でき、そのラッピング/ポリッシングプロセスにおいて最高の利便性を発揮いたします。【特徴】 ○１～３台のWorkstation を稼動 ○CMPのための耐薬品モデル ○多様なlapping & polishing プレートとクロスを供給 ○スラリーの供給が不足すると自動的に運転を止めるInfra-red 機能（オプション） ●詳しくはお問い合せ、またはカタログをダウンロードしてください。

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ラップマスターCMPマシーン『LGP-612』

ラップジャパン株式会社

『LGP-612』は、φ4"～φ8"ウェーハ対応の2ポリッシングヘッドを備えた高精度技術の開発を支援する製品です。ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用。ポリッシングヘッドはワンタッチで交換可能な機構となっており、低摩擦シリンダーを採用したことにより、加圧の追従性を高めました。【特長】 ■偏荷重にも耐えうる剛性を高めた設計のスピンドルにより高精度研磨を実現 ■ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用 ■高精度、高剛性LMガイドを採用し、加工中の不確定要素となる振動の低減を実現 ■両軸(ヘッド)に対し「加圧力」「回転数」を単体入力可能 ■複雑な研磨レシピに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【技術紹介】Si特殊加工

日本エクシード株式会社

日本エクシードは、薄化加工技術や高清浄化技術などを用いた Si特殊加工を行っております。 Siウェーハをはじめ、SOIウェーハ、その他単結晶・多結晶シリコン部品材料(ドライエッチング装置用電極、フォーカスリングなど)も対応可能。当社は、さまざまな加工素材の研磨ニーズにお応えいたします。【Si特殊加工】 ■薄化加工技術 ■小口径高精度加工技術 ■高清浄化技術 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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秩父電子株式会社　事業紹介

秩父電子株式会社

秩父電子株式会社は、半導体フォトマスク基板用合成石英ガラス、 GaP・GaAs等の化合物半導体、MEMS、SiC（シリコンカーバイド）サファイア、GaN(窒化ガリウム）、Siウェハーの研磨加工を軸にエピ成長、金属膜蒸着等半導体材料の加工を幅広く行っている技術集団です。屈指の研磨技術で高硬度素材・高精度加工などの高い技術を必要とする研磨加工を承ります。【製品ラインアップ】 ■フォトマスク研磨 ■化合物半導体研磨 ■シリコンウェハー裏面加工 ■MEMSウェハー研磨加工 ■ワイドギャップ半導体加工　他 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【エアロフィックス導入事例】A社様

株式会社ナノテム

A社様は、レーザーアニールでワークに光をあてるためピント合わせが難しく、ワークを浮かせたままレーザーをあてたいが、従来チャックではしっかり固定できず困っていました。そこで『エアロフィックス』を導入。精密、安定した浮上が可能になりピント合わせがラクになりました。また、細かい気孔による部分吸着が威力を発揮し、作業効率が大きく向上しました。【事例概要】 ■導入先：A社様 ■用途：浮上 ■活用：中小型ディスプレイのエキシマレーザーアニール装置の浮上台として ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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CMP装置 POLI-400

AMTEC株式会社

研削、研磨、切断、各分野のお客様より高い評価をいただき、フアイングラインヂング、ラッピング・ポリッシング関連装置、半導体関連、ダイシングマシンと裏面研削機なとをの技術開発を行い、確かな信頼のもとで製品を提供してまいりました。

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両面ポリッシングシステム『EJD-6BY』

日本エンギス株式会社

“Trinity-Y”　シリーズから6Bサイズのコンパクトで多機能なCMP対応両面ポリッシング装置が誕生しました。　フルステンレス防塵カバーと細部に渡り徹底的に耐腐食性材料を使用し製作しているため、あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。また他のTrinity-Yと組み合わせることで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。

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ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

課題

研磨ムラによる局所的な凹凸発生

ウェーハ全体で均一な研磨圧や研磨液の供給が難しく、特定の領域で過剰または不足な研磨が生じ、微細な凹凸が形成される。

ウェーハ端部と中央部の研磨レート差

ウェーハの外周部と中央部では、回転数や遠心力の影響により研磨レートに差が生じやすく、平坦度を損なう原因となる。

研磨パッドの摩耗による性能低下

研磨パッドは使用に伴い摩耗し、表面の平坦性や研磨能力が低下するため、定期的な交換やメンテナンスが必要となる。

微細な異物混入による表面損傷

研磨工程中に微細な異物が混入すると、ウェーハ表面に傷をつけ、平坦度を損なうだけでなく、デバイスの不良を引き起こす可能性がある。

対策

研磨条件の最適化と精密制御

研磨圧、研磨液流量、研磨時間、ウェーハ回転数などのパラメータを精密に制御し、ウェーハ全体で均一な研磨レートを実現する。

研磨パッドの設計・材料改良

ウェーハ形状や研磨対象に応じた最適な硬度、表面構造を持つ研磨パッドを選定・開発し、均一な研磨性能を維持する。

インライン計測によるリアルタイムモニタリング

研磨中にウェーハ表面の平坦度をリアルタイムで計測し、異常を早期に検知して研磨条件を自動調整するシステムを導入する。

クリーンルーム環境の徹底管理

研磨工程で使用する研磨液、パッド、装置、作業環境の清浄度を徹底的に管理し、異物混入のリスクを最小限に抑える。

対策に役立つ製品例

高精度研磨装置

ウェーハ全体に均一な研磨圧と研磨液を供給する機構を備え、精密な研磨条件制御により高い平坦度を実現する。

特殊研磨パッド

ウェーハの端部まで均一な研磨レートが得られるように設計された、耐久性と研磨性能に優れた素材で作られたパッド。

表面形状計測システム

研磨中のウェーハ表面の凹凸や平坦度をナノメートルレベルで高精度に測定し、フィードバック制御を可能にする。

超純水供給・ろ過システム

研磨工程で使用する水や研磨液の清浄度を極限まで高め、異物混入による表面損傷を防ぐ。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

表面平坦度の均一化とは？課題と対策・製品を解説

回路・パターン設計

フォトマスク作成

シリコンインゴット切断

ウェーハの研磨

ウェーハ表面の酸化

薄膜形成

フォトレジスト塗布

露光・現像

エッチング

レジスト剥離・洗浄

イオン注入

平坦化

電極形成

ウェーハ検査

ダイシング

ワイヤーボンディング

モールディング

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

各社の製品

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化

ウェーハの研磨における表面平坦度の均一化とは？

​課題

研磨ムラによる局所的な凹凸発生

ウェーハ端部と中央部の研磨レート差

研磨パッドの摩耗による性能低下

微細な異物混入による表面損傷

​対策

研磨条件の最適化と精密制御

研磨パッドの設計・材料改良

インライン計測によるリアルタイムモニタリング

クリーンルーム環境の徹底管理

​対策に役立つ製品例

高精度研磨装置

特殊研磨パッド

表面形状計測システム

超純水供給・ろ過システム

課題

対策

対策に役立つ製品例