top of page
半導体製造装置・材料

半導体製造装置・材料に関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。

ホーム

>

半導体製造装置・材料

>

洗浄時間の短縮とは？課題と対策・製品を解説

mushimegane.png

レジスト剥離・洗浄における洗浄時間の短縮とは？

半導体製造プロセスにおいて、露光・現像後に不要となった感光材（レジスト）を除去し、ウェハー表面を清浄に保つ工程は不可欠です。このレジスト剥離・洗浄工程の時間を短縮することは、生産効率の向上、コスト削減、そしてスループット向上に直結するため、業界全体の重要な課題となっています。

各社の製品

​▼チェックした製品のカタログをダウンロード

絞り込み条件：

​一度にダウンロードできるカタログは20件までです。

​▼チェックした製品のカタログをダウンロード

【精密機器向け】クリンベストZEROによる品質向上

【精密機器向け】クリンベストZEROによる品質向上
タイセイクリンケミカル株式会社
精密機器業界では、製品の信頼性を確保するために、部品の徹底的な洗浄が不可欠です。微細な異物の混入は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。クリンベストZEROは、フッ素系洗浄剤に対応し、微細部品まで均一に洗浄することで、高品質な製品製造をサポートします。乾燥時間の短縮も実現し、生産効率の向上にも貢献します。 【活用シーン】 * 精密機器製造における部品洗浄 * 高精度な製造ラインでの異物除去 * 品質管理部門での検査工程 【導入の効果】 * 洗浄性の向上による品質向上 * 乾燥時間短縮による生産効率アップ * 環境負荷低減による企業イメージ向上
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
ピュアトラスト株式会社
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方

【半導体向け】洗浄の基礎知識が分かる！洗浄機の選び方
河新株式会社
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、高度な洗浄技術が求められます。特に、微細な異物や残留物が製品の性能に大きな影響を与えるため、適切な洗浄が不可欠です。不適切な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。河新の『洗浄の基礎知識が分かる！もう失敗しない洗浄機の選び方』は、洗浄の基礎から洗浄剤の種類、洗浄方法、トラブル例と解決策を解説し、半導体製造における洗浄の課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における異物除去 ・洗浄工程の最適化による歩留まり改善 ・洗浄剤選定によるコスト削減 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上による歩留まり改善 ・不良率の低減 ・洗浄に関する知識習得による問題解決能力向上
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

【電子機器向け】Pulse300 基板洗浄ソリューション

【電子機器向け】Pulse300 基板洗浄ソリューション
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性と性能を維持するために、基板の精密な洗浄が不可欠です。フラックスや異物の付着は、電気的接続不良や短絡を引き起こし、製品の故障につながる可能性があります。Pulse300は、光の衝撃を利用してこれらの問題を解決し、基板を傷つけずに迅速かつ効果的にクリーニングします。 【活用シーン】 ・電子基板製造工程 ・修理・メンテナンス ・研究開発 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・品質向上 ・作業効率の改善
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー

【半導体向け】CW2000 レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
半導体業界では、製造プロセスにおける微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高精度なデバイス製造においては、コンタミネーションが製品の性能低下や不良品の発生につながるため、徹底したクリーン化が求められます。CW2000レーザークリーナーは、光のエネルギーを利用して表面付着物を除去し、半導体製造における精密洗浄の課題に応えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄 ・製造ラインにおける異物除去 ・微細な付着物の除去 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善 ・洗浄時間の短縮
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル

【半導体関連業界向け】100％水切りできるエアーノズル
株式会社バリューイノベーションジャパン
【エアーブローで瞬時に完全水切り！その場で完全乾燥】 半導体業界では、超精密なワークの品質が製品の性能を大きく左右します。 特に、洗浄後の水滴の残留は、不良品の発生や歩留まりの低下につながるため、完全な水切りと乾燥が不可欠です。 従来のエアーノズルでは、水滴が残りやすく、別途乾燥工程が必要でした。 当製品『エアースクリューノズル』は、独自の特許技術により、エアーブローだけで瞬時にワークを100％完全に水切り。 これにより、乾燥工程にかかる時間、コスト、人員を削減し、生産効率を向上させます。 【活用シーン】 ・ウェーハ洗浄後の水切り・乾燥工程 ・クリーンルーム内での使用（クラス100対応） 【導入の効果】 ・乾燥工程の削減によるコスト削減 ・生産ラインの効率化 ・不良品の削減による歩留まり向上
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー

【電子機器向け】Pulse500（空冷式）レーザークリーナー
オプティレーザーソリューションズ株式会社
電子機器業界では、製品の信頼性を高めるために、接合面の適切な処理が求められます。特に、電子部品の小型化が進む中で、接合面のわずかな汚れや異物が、接合不良や製品の性能劣化につながる可能性があります。Pulse500（空冷式）レーザークリーナーは、500Wの高出力により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・電子基板の接合前処理 ・コネクタ端子のクリーニング ・半田付け前の表面処理 【導入の効果】 ・接合不良の低減 ・製品の信頼性向上 ・作業効率の向上
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

半導体洗浄装置用ラインヒーター

半導体洗浄装置用ラインヒーター
株式会社ダステム
本製品、PRH（Protect　High　Temp）ヒーターは、NaOH加熱時の 腐食減肉速度の上昇に伴うヒーター断線・タンクからの漏れなど、 様々な問題点の一つ一つに着目して開発されたものです。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

【無償サンプルあり】グリコールエーテル

【無償サンプルあり】グリコールエーテル
日本乳化剤株式会社
この製品群は、当社は世界でも類をみないほど多くの品種を生産しております。さらに独自の精製技術により、低臭気・低金属のグリコールエーテルを生産しております。 グリコールエーテルは、主に塗料、インク、洗剤、電子材料の溶剤に使用されております。 グリコールエーテルの中でもジアルキルグリコールエーテルは樹脂を溶解させるだけでなく金属を分散させるので、電子材料の溶剤、医薬品の合成に使用されております。 また、芳香族系、脂肪族系、エステル系のグリコールエーテルは、主にアクリル、ポリエステルなど樹脂原料に使用されております。　 ＜用途/実績例＞ 可塑剤、希釈剤、成膜助剤、ハンダ、医薬・有機合成の反応溶剤、ブレーキ液、洗浄剤、半導体・電子材料用、その他 ※詳しくはPDF資料をダウンロードし、ご確認をお願いし致します。 お問い合わせにより無償サンプルを進呈しております。 品番選定、SDS、法規制情報、委託生産、国内製造対応、BCP対策などお気軽にお問い合わせください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

小物基板対応『両面同時スクラブ洗浄装置』

小物基板対応『両面同時スクラブ洗浄装置』
スピードファムクリーンシステム株式会社
小物基板に対応！両面スクラブ洗浄装置 ■□■特徴■□■ ■ワークの形状を問わない ■ただ置くだけで簡単に両面スクラブができる ■座って作業ができる ■便利なワーク保管水槽装備 ■メンテナンスしやすい透明テーブル ■厚み0.05〜1mmなら段取り換えなし ■ソフトで強力な20μ極細ブラシ搭載 ■事務所机ほどのコンパクトなサイズ ■移動が簡単なキャスタ付き ■スクラブ下に超音波付き 　 ブラッシングと超音波の強力コンビネーション洗浄が実現 ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード 　 もしくはお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

エアー駆動ベローズポンプ FS-100HT2 『高温大流量移送』

エアー駆動ベローズポンプ FS-100HT2 『高温大流量移送』
株式会社イワキ
イワキエアー駆動ベローズポンプ FS-100HT2は、Max180℃、最大流量100L/minでの移送が可能となり、CARO（SPM）やH3PO4などの高温移送が必要な薬液に対して、当社従来製品と比較して約1.8倍の循環流量の向上が見込めます。 【特長】 ●Max. 180℃、最大流量100L/minでの移送が可能。 ●循環流量の向上により、洗浄時間の増加を抑えることが可能です。 ●接液部には全てフッ素樹脂を採用し、ポンプ外周部もフッ素樹脂コーティングを施しています。 ●リークセンサを標準装備。 ●専用コントローラに接続することにより吐出量の制御・管理が容易に行えます。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

『ロールtoロール製造装置-2』

『ロールtoロール製造装置-2』
ＩＣＭ株式会社
当社では、巻出し・巻取り機構および各種ウェット処理工程を行う 『ロールtoロール製造装置』を一貫で開発製造しております。 タッチパネルをはじめ、液晶ディスプレイ、携帯電話などのフレキシブル基板の 製造工程に使用されます。最終製品例として、銅めっき製品、TABテープ、 COFテープ携帯電話のカメラモジュール用基板などがございます。 また、デモ機による搬送テスト等が可能です。 【製品例】 ■フレキシブル基板用二層材料 ■携帯電話のカメラモジュール用基盤 ■TABテープ ■COFテープ ■LCDパネル（PC,携帯電話のモニタ）　など 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

エアー駆動低脈動ベローズポンプ FLP 『ダンパー不要で低脈動』

エアー駆動低脈動ベローズポンプ FLP 『ダンパー不要で低脈動』
株式会社イワキ
イワキエアー駆動低脈動ベローズポンプ FLPシリーズは、独自の駆動メカニズムで低脈動移送を実現したエアー駆動ベローズポンプ。従来品よりもエアー消費量を最大３０％も削減します。 また、ダンパーの組み込みが不要で省スペース。配管作業もカンタンで高価な配管材を減らせるため、トータルコスト削減も可能にします。 【特長】 ●脈動を打ち消す独特の駆動メカニズム。 ●枚葉式洗浄プロセスに適した優れた負荷追従性。 ●ダンパーが不要なので、装置の小型・軽量化に貢献します。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

気泡発生ユニット『バブリングシート』

気泡発生ユニット『バブリングシート』
中興化成工業株式会社
『バブリングシート』は、ふっ素樹脂PTFE製の気泡発生ユニットです。 多孔質状のPTFEシートに空気を送ることで、泡を発生させることができます。 耐薬品性に優れ、微細な気泡により薬液の攪拌、洗浄が効果的に行えます。 半導体製造工程におけるウエハーの洗浄や炭酸ガス・塩素ガス等の 吸収反応工程、薬液の撹拌などの用途に適しています。 【特長】 ■耐薬品性に優れる ■溶出による汚染の心配がない ■微細な気泡により薬液の攪拌、洗浄が効果的に行える ■受注生産品 ■最高使用温度：＋100℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

洗浄機『炭酸ガス　ドライステーション』

洗浄機『炭酸ガス　ドライステーション』
株式会社フェムテック
『炭酸ガス　ドライステーション』は、洗浄目的・基板材質に合わせて、 ノズル番手選択する事による最適なパフォーマンスを提供する洗浄機です。 ノズル番手を変更することにより、CO2粒径の可変やCO2密度の可変、 CO2噴出速度の可変を実現。 また、N2パージノズルを採用することにより、加工可能時間まで1/6以下に 短縮が可能です。 【特長】 ■スラリー同時噴射で加工パワーの大幅アップ ■各液体不活性GASの同時噴射にて静電気破壊を防止 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

エアー駆動ベローズポンプ FS-H 『ダンパー不要で低脈動』

エアー駆動ベローズポンプ FS-H 『ダンパー不要で低脈動』
株式会社イワキ
イワキエアー駆動ベローズポンプ FS-Hシリーズは、Max. 240spmの高速ストロークで、小型・軽量・ローコスト化を実現しました。 【特長】 ●接液部には全てフッ素樹脂を採用し、ポンプ外周部もフッ素樹脂コーティングを施しています。 ●ポンプヘッドとベローズは溶接一体構造、液漏れの心配がありません。 ●独自に開発したシャフトシールの採用で、パーティクルの発生が一段と少なくなっています。 ●リークセンサを標準装備。 ●専用コントローラに接続することにより吐出量の制御・管理が容易に行えます。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

エアー駆動ベローズポンプ FS-N 『薬液供給に最適な大流量』

エアー駆動ベローズポンプ FS-N 『薬液供給に最適な大流量』
株式会社イワキ
イワキエアー駆動ベローズポンプ FS-Nシリーズは、高圧（0.6MPa以上）・大流量吐出が必要な薬液供給に最適な半導体プロセスポンプです。 【特長】 ●Max. 100L/minの大流量吐出。 ●接液部には全てフッ素樹脂を採用し、ポンプ外周部もフッ素樹脂コーティングを施しています。 ●ポンプヘッドとベローズは溶接一体構造、液漏れの心配がありません。 ●独自に開発したシャフトシールの採用で、パーティクルの発生が一段と少なくなっています。 ●リークセンサを標準装備。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

洗浄装置用　ハイブローノズル　ALシリーズ

洗浄装置用　ハイブローノズル　ALシリーズ
株式会社関西電熱
急速水切　乾燥　冷却　バイブローノズル
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

低ダメージ高洗浄の超音波洗浄機

低ダメージ高洗浄の超音波洗浄機
株式会社国際電気セミコンダクターサービス
化学的力・物理的力・温度の3要素をうまく組み合わせることにより、洗浄効果が最大に発揮でき【品質向上】【洗浄時間短縮】【生産効率向上】がはかれます。 ●高性能、高信頼性で長期安定稼働 ●微細かつ均一洗浄で生産性向上 ●環境配慮に省電力・コンパクト設計 ※詳しくはお問い合わせ、もしくはPDF資料をダウンロードしてご覧ください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

光で接着剤を瞬間剥離！　仮接合・剥離工程をクリーンで高速に

光で接着剤を瞬間剥離！　仮接合・剥離工程をクリーンで高速に
株式会社進和
半導体製造工程をはじめ、仮接合からの剥離プロセスを高速化するフォトニック・デボンディング装置をご紹介します。 光を熱に変換するこの装置は、独自技術によって高速・クリーンな剥離を実現。 デバイスに負荷を与えないため、薄型ウェーハのような繊細なデバイスも含め、様々な剥離ニーズにお応えします。 【主なメリット】 ▶広範囲を一度に照射・剥離可能。大型基板にも対応 ▶灰の発生なし、洗浄工程も簡易化 ▶デバイスへ伝わる熱は限定的、負荷ほぼ無し ▶キャリアを再利用可能 ▶簡単メンテナンス 使用イメージや実際のご活用例など、ご興味のある方はぜひ資料をご覧ください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

IPA 蒸気洗浄装置/産業機械

IPA 蒸気洗浄装置/産業機械
日精株式会社
【特徴】 ●材質や形状を問わず、高純度IPA を用いたクリーン乾燥が可能です。 ●実績が示す万全の安全対策 ●オールステンレスにより破損の危険性を排除 ●べーパーゾーン、ドライゾーンに分け持ち出しIPA を削減 ●お客様のワークに応じた仕様変更も可能 ※詳しくはPDFダウンロードまたはお問い合わせください
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

ウェットプロセス装置『BATCHSPRAY Acid』

ウェットプロセス装置『BATCHSPRAY Acid』
Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社
当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積2m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■sic/GaNでプロセス実行可能 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ■抽出可能なプロセスチャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

量産現場の実績多数　WET処理装置(洗浄・現像・エッチング剥離)

量産現場の実績多数　WET処理装置(洗浄・現像・エッチング剥離)
株式会社SCREENファインテックソリューションズ
●量産工場への納入実績多数 ●用途に合わせて、スプレー処理、ディップ処理、パドル処理など、 　好適なエッチング装置構成をご提案 ●独自開発したスプレーノズルによる均一性の向上 ●様々な薬液に対応可能な実績 ●基板サイズ：□100×100mm～□2,250×2,800mm 【特長】 ●薬液消費量の低減に効果を発揮 ●独自の搬送駆動機構によりパーティクルレスを実現 ●大量処理データの登録を可能にし、多品種化に対応 ●アラーム発生時の状態ログ機能によりダウンタイムを低減 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

超純水加熱装置

超純水加熱装置
株式会社テクノメイト
本装置は、シリコンウェハー，液晶ガラス基板，ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。 【特徴】 ○純水加熱容器は石英ガラスを使用 ○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用 ○純水加熱に好適なカーボンヒーターを使用 ○加熱効率が９６％以上 ○PID制御による±1℃の安定した温度制御 ○起動から使用温度まで120秒以内の昇温 ○幅広い使用流量・温度に対応 ○流量変化に対応した温度調整が可能 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置

シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置
PHT株式会社
当製品は、シンプルな処理構造で好適なプロセスを実現する シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置です。 メンテナンス性を考慮した部品配置。洗浄装置は各ユニットが モジュール化されています。 「ワイヤーソー後洗浄」「ラップ後洗浄」「アルカリエッチング洗浄」など 様々なプロセスに対応しています。 【特長】 ■高いプロセス性能 ■ハイスループット ■メンテナンス性の向上 ■装置設計 ■豊富な実績 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

汎用バス『プロセスバス』

汎用バス『プロセスバス』
有限会社クリーンワークス
『プロセスバス』は、SC-1、SC-2、剝離槽などに適した汎用バスです。 ハイスペックなヒーターを用い、短時間での昇温を実現。 また、装置内への追加インストールなども「プロセスバス・コントローラー ユニット」の導入により可能です。 【特長】 ■短時間での昇温を実現 ■ご希望のサイズ・仕様にて設計・製作 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

洗浄機　巻葉式連続洗浄機

洗浄機　巻葉式連続洗浄機
特機工業株式会社
第５世代と呼ばれる液晶生産システムに対応！ 【特徴】 ○ガラス厚みは液晶ガラス0.4tからPDPガラス2.8tまで対応 ○ガラス幅は『第５世代』と呼ばれる１４００ミリまで対応 ○ガラス搬送スピードは0.5～2m/min無断可変（インバーター）
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

自動リフトオフ装置（メタル・レジスト剥離）Lift-off

自動リフトオフ装置（メタル・レジスト剥離）Lift-off
株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
物理力と化学力のW（ダブル）効果リフトオフ！ W効果リフトオフとは？ ・当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェット（MAX20MPa）により、物理力による剥離 ・溶剤にNMPやDMSOなどの有機溶剤を使用し、化学的な力で剥離 また、枚葉による高速処理・高剥離力・高安定性を実現し、さらに薬液の使用量も削減できます。 この他にレジスト、ポリマー、 マスクの洗浄装置としても使用でき、熱処理後やドライエッチング後の頑固なレジストも剥離可能です。 また、DIP処理で問題となるバリやメタルの再付着がありません。 厚膜のメタル、酸化膜など、エッチングで困難な厚膜のパターニングに好適な高圧ジェットリフトオフ装置です。 【特長】 ■W（ダブル）効果リフトオフによる驚きの剥離能力！ ■枚葉式によるプロセス安定性 ■リフトオフ時のバリの除去 ■再付着なし ■温調薬液のリサイクルシステム （オプション） ※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

事例紹介（レジスト膜浸透）蒸気2流体洗浄ユニット　SSCシリーズ

事例紹介（レジスト膜浸透）蒸気2流体洗浄ユニット　SSCシリーズ
HUGパワー株式会社
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、水のレジストへの浸透を処理前と処理後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

USLフッ素樹脂製チップ洗浄ホルダー

USLフッ素樹脂製チップ洗浄ホルダー
株式会社ユニバーサル
【特徴】 ○フッ素樹脂PTFE製のチップ用洗浄ホルダー ○角型チップ用の規格（厚み=1mm以下） ○特注サイズも制作可能 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

バッチ式洗浄装置/産業機械

バッチ式洗浄装置/産業機械
日精株式会社
長年の経験に裏打ちされた、クリーン化技術・搬送／制御技術等を駆使し、 トータルエンジニアリング力で、お客様に最適な装置を設計・製作して参ります。 3D CADをはじめ、各種エンジニアリングツールにより、省スペースで 使い勝手の良い装置をお届いたします。 ※詳しくはPDFダウンロードまたはお問い合わせください
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ

半導体向け装置「自動洗浄装置、レジスト剥離装置」

半導体向け装置「自動洗浄装置、レジスト剥離装置」
ヴァリアス株式会社
ヴァリアス社製の「自動洗浄装置、レジスト剥離装置」は、 多種の洗浄物に対応した洗浄レシピを搭載。 処理能力に対応した自動搬送型で、剥離液にはリークの無い配管を使用。 ポンプもシールレス採用しています。 【特徴】 ○溶剤により防爆仕様対応 ○超音波は各メーカー、周波数に対応 ○装置内はFFU搭載も可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
製品を詳しく見るダウンロードお問い合わせ
nowloading.gif

​お探しの製品は見つかりませんでした。

1 / 1

レジスト剥離・洗浄における洗浄時間の短縮

レジスト剥離・洗浄における洗浄時間の短縮とは？

半導体製造プロセスにおいて、露光・現像後に不要となった感光材（レジスト）を除去し、ウェハー表面を清浄に保つ工程は不可欠です。このレジスト剥離・洗浄工程の時間を短縮することは、生産効率の向上、コスト削減、そしてスループット向上に直結するため、業界全体の重要な課題となっています。

​課題

処理時間の長期化による生産性低下

従来の剥離・洗浄方法では、レジストの密着性や残渣の除去に時間を要し、ウェハー1枚あたりの処理時間が長くなる傾向があります。これにより、全体の生産ラインのスループットが低下し、納期遅延やコスト増に繋がります。

洗浄液の大量使用と廃液処理負荷

洗浄時間を短縮するために、より強力な洗浄液や多量の洗浄液を使用すると、環境負荷の増大や廃液処理コストの増加を招きます。持続可能な製造プロセスのためには、洗浄液の使用量抑制と効率的な洗浄が求められます。

微細パターンへのダメージリスク増大

洗浄時間を短縮しようと、過度な洗浄条件（高温、高圧、高濃度洗浄液など）を採用すると、微細化が進む半導体デバイスのパターンにダメージを与えたり、欠陥を発生させたりするリスクが高まります。

装置の稼働率低下とメンテナンス負荷

洗浄時間が長いと、装置が長時間占有され、他の工程への影響や装置全体の稼働率低下を招きます。また、洗浄液の交換や装置の清掃頻度が増え、メンテナンスの負荷も増大します。

​対策

高効率剥離・洗浄液の開発

レジストへの浸透性や溶解性を高め、短時間で効率的に除去できる特殊な洗浄液を開発・採用することで、洗浄時間を大幅に短縮します。

超音波・マイクロバブル等の物理的洗浄技術の活用

洗浄液による化学的なアプローチに加え、超音波やマイクロバブルなどの物理的な力を利用して、レジスト残渣を効率的に剥離・除去する技術を導入します。

プロセス条件の最適化と自動化

洗浄温度、時間、流量、圧力などのプロセス条件を精密に制御・最適化し、AIなどを活用した自動化システムを導入することで、安定した短時間洗浄を実現します。

洗浄液リサイクル・回収システムの導入

使用済み洗浄液を効果的にリサイクル・回収するシステムを構築することで、洗浄液の使用量を削減しつつ、洗浄効果を維持・向上させ、環境負荷とコストを低減します。

​対策に役立つ製品例

高性能剥離剤

レジストの種類や膜厚に応じて最適な成分を配合し、短時間で高い剥離性能を発揮する特殊な化学薬品です。ウェハー表面へのダメージを最小限に抑えつつ、迅速なレジスト除去を実現します。

マイクロバブル洗浄装置

微細な泡を発生させ、その破裂時に生じる衝撃波でレジスト残渣を効率的に剥離・除去する装置です。低薬液量・低温でも高い洗浄効果を発揮し、洗浄時間を短縮します。

プロセス最適化ソフトウェア

過去の洗浄データやレジスト特性を学習し、AIが最適な洗浄条件（温度、時間、流量など）をリアルタイムで算出・提案するソフトウェアです。これにより、無駄のない効率的な洗浄プロセスを実現します。

洗浄液回収・精製ユニット

使用済みの洗浄液から不純物を除去し、再利用可能な状態に精製する装置です。洗浄液の補充頻度を減らし、コスト削減と環境負荷低減に貢献しながら、安定した洗浄効果を維持します。

目的・課題で絞り込む

回路・パターン設計

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

フォトマスク作成

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

シリコンインゴット切断

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ウェーハの研磨

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ウェーハ表面の酸化

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

薄膜形成

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

フォトレジスト塗布

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

露光・現像

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

エッチング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

レジスト剥離・洗浄

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

イオン注入

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

平坦化

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

電極形成

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ウェーハ検査

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ダイシング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

ワイヤーボンディング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

モールディング

レジスト剥離残渣の完全除去
洗浄時間の短縮
ウェーハ表面へのダメージ防止
洗浄液の再利用
不純物再付着の防止
洗浄プロセスの自動化
洗浄効率の最適化

​カテゴリで絞り込む

検査・測定装置
材料
自動化・ITソリューション
製造装置
関連技術
その他半導体製造装置・材料
nowloading.gif

⭐今週のピックアップ

noimage_l.gif

読み込み中

ikkatsu_maru_flat_shadow.png
bottom of page