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洗浄液の再利用とは？課題と対策・製品を解説
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レジスト剥離・洗浄における洗浄液の再利用とは？
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当社は、半導体チップ製造プロセス（ウェットエッチング・レジスト剝離・洗浄）装置の製造メーカーです。
スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」や
タンクシステムによるケミカル循環方式を採用した「BATCHSPRAY Solvent Autoload」
など様々な製品を取り扱っております。
ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。
【Siconnex(サイコネックス)が選ばれる理由】
■BATCHSPRAY技術に100％フォーカス
■水・排気・化学品を大幅に削減
■コスト効率が高く、環境保全に対応したプロセス
■充実したサポート体制(サービス、パーツ、プロセス)
■無償の年次装置点検、トレーニング、電話サポート、及び初年度定期
メンテナンス等のパートナーシップアプローチ
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
Siconnex(サイコネックス) 会社案内
『PURMS＋Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、
剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。
液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。
また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。
【特長】
■リンス排水は生化学処理が可能
■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い
■下地の金属にダメージを与えない など
※詳しくはPDFをダ ウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
レジスト剥離液『PURMS＋Y』
～高性能はいいな。でも、手が届かないと思っている方へ～
ＭＴＫのＷｅｔ処理装置は、わずかな隙間でも設置できるコンパクト設計でありながら、わずかな薬液・純水で洗浄できる高性能な洗浄装置です。
【特徴】
・パーティクル数が極めて少ない（ウエハ表面上）
・純水・薬液の使用量が少ない
※純水…0.5 リッタ（１枚当り）、薬液…20 リ ッタ（１日当り）
・コンパクトな装置サイズ
〈処理本体〉
幅1100mm/ 奥行800mm/ 高さ1900mm
〈薬液供給本体〉
幅500mm/ 奥行800mm/ 高さ1800mm
・驚きの低価格
～詳細はカタログダウンロードもしくはお問い合わせください～
低価格Ｗｅｔ処理装置
『FILSTAR』は消耗品フィルターを使わず、水の流れだけで高精度ろ過が出来るフィルターです。
【このようなご要望をお持ちですか？】
■メッキ剥離物の目詰まり削減
→FILSTARは目詰まりしないフィルターのため、面倒なフィルター交換作業がなくなります
■研磨時の排水処理における環境負荷低減
→FILSTARは10μｍの微粒子は98％以上回収・除去する高精度フィルターのため、
排水をろ過して、処理に環境負荷・産業廃棄物コストのかかる状態を改善します
■産業廃棄物の削減
→消耗品となる産業用フィルターは、使い終わると産業廃棄物となります。
FILSTARは一度導入すると長く使用可能な製品のため、
【導入メリット】
■メッキ剥離槽中の剥離物を回収し、有価物として売却
■定期的な消耗品フィルターの購入費ゼロ、交換費ゼロ、廃棄費がゼロ
■高精度ろ過で廃水量を減らし、節水対策
半導体業界に多数導入！研磨剤、ガラス粉、液中メッキ物回収フィルタ
当社では、1500件を超える多くの実績と長年にわたるアフターサービスの
中で数多くの経験を積んできました『薬液供給システム』を得意としております。
これまでの経験はノウハウとして蓄積し、常にシステム開発、
アフターサービスにフィードバックされ、薬液の特性に合わせた信頼性の
高いシステムを提供しています。
【取扱品目】
■薬液自動供給システム
■CMPスラリー供給設備
■CMPスラリー希釈・調合設備
■現像液希釈設備
■フッ酸希釈設備 など
※詳細についてはお問合せください。
『薬液供給システム』のご紹介
液晶パネルの洗浄で、エレメントレス・フィルター「FILSTAR」を
導入した事例をご紹介いたします。
液晶パネル洗浄時のガラス粉混入排水を未処理のまま
全排出・廃棄(環境負荷・産廃コスト大)。
当製品にて、ガラス粉を分離・分級後に排水することでの
環境負荷を低減・産廃コストを低減できます。
【事例概要】
■課題
・一般的フィルター使用では、エレメントの購入・交換・廃棄による
ランニングコストが発生
■結果
・当製品にはエレメントが存在しないため、低コストにて環境対策を達成
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【エレメントレスフィルター導入事例】液晶パネルの洗浄
『SJ-A-E 型』は、カチオン樹脂とアニオン樹脂を1つの塔に充填した
混床式の純水装置です。
薬注速度や薬注濃度の最適化により、従来比で再生排水量が約 2割低減、
再生時間が約半分。
純水の採水(原水中のイオン除去)を続けていくと、イオン交換樹脂が
飽和し交換能力が低下しますので一定時間採水を行った後は、薬品により
イオン交換樹脂を再生する必要があります。本装置は、この再生操作を
自動で行うことができます。
【特長】
■カチオン樹脂とアニオン樹脂を1つの塔に充填した混床式
■高い純度の純水を得られる
■再生排水量を大幅低減、短時間再生
■オプション品が豊富
■現地工事が容易で短時間で据付完了
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薬品再生式純水装置『SJ-A-E 型』
当社では、薬液不使用の為、一般的な規模の排水処理設備が不要な
『スピン洗浄装置』を取り扱っております。
化学火傷などの皮膚刺激が無い為、作業環境が改善。
また、洗浄性・すすぎ性が高い為、純水使用量を低減可能です。
【特長】
■排水処理負荷低減
■作業環境改善
■純水使用量低減
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
スピン洗浄装置
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レジスト剥離・洗浄における洗浄液の再利用
レジスト剥離・洗浄における洗浄液の再利用とは？
半導体製造プロセスにおいて、ウェハー上の不要なレジスト膜を除去し、清浄な状態にするための洗浄液を、処理後に回収・精製し、再び洗浄工程で利用すること。これにより、洗浄液の使用量削減、廃棄物量の低減、製造コストの抑制を目指す。
課題
洗浄液の汚染度上昇
使用済み洗浄液には、剥離されたレジスト残渣やパーティクル、金属イオンなどが混入し、再利用時の洗浄性能低下やウェハー汚染のリスクがある。
精製技術の複雑化とコスト
高純度な洗浄液を再利用するためには、高度な分離・精製技術が必要となり、設備投資や運用コストが増大する可能性がある。
品質管理の困難さ
再利用する洗浄液の成分や濃度を常に一定に保つことが難しく、製造プロセス全体の品質安定性に影響を与える懸念がある。
法規制・安全性の課題
使用済み洗浄液の取り扱いや再利用プロセスにおける化学物質管理、作業者の安全確保に関する法規制やガイドラインへの適合が求められる。
対策
高度なろ過・分離技術の導入
微細なパーティクルや溶解成分を効率的に除去する精密ろ過膜や、特定の成分を選択的に分離する膜分離技術を適用する。
化学的・物理的精製プロセスの組み合わせ
吸着、蒸留、イオン交換などの複数の精製手法を組み合わせ、洗浄液中の不純物を効果的に除去し、純度を高める。
リアルタイムモニタリングと自動制御
洗浄液の成分や汚染度をリアルタイムで計測し、そのデータに基づいて精製プロセスを自動で最適化・制御するシステムを構築する。
専用の回収・精製プラントの設置
洗浄液の回収から精製、再供給までを一貫して行う専門的な設備を導入し、効率的かつ安全な再利用体制を確立する。
対策に役立つ製品例
精密分離膜モジュール
微細な汚染物質や不要な成分を効率的に除去し、洗浄液の純度を回復させることで、再利用を可能にする。
連続式吸着精製装置
特定の不純物を吸着材で選択的に除去し、洗浄液の品質を安定化させることで、繰り返し利用を支援する。
オンライン分析・制御システム
洗浄液の状態を常に監視し、精製プロセスを最適化することで、再利用液の品質を一定に保ち、安定した洗浄効果を実現する。
統合型洗浄液リサイクルシステム
洗浄液の回収、前処理、精密精製、品質管理、再供給までを自動化し、トータルでのコスト削減と環境負荷低減に貢献する。
