次世代露光技術への対応とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右します。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。N-331 PICMAWalkは、最大50 Nの高推力とサブナノメートル分解能を両立した組込み型リニアアクチュエータです。最大12 mm/sの高速動作に対応し、検査装置のタクトタイム短縮にも貢献します。 摩擦駆動方式により電源オフ時でも位置保持が可能。さらに真空対応仕様により、半導体検査装置やクリーン環境下での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め ・マスクアライナーにおける位置決め ・検査装置における高精度位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決めを実現 ・製造プロセスの品質向上と歩留まり向上に貢献 ・真空環境下での使用が可能 推力特性、その他仕様、真空対応オプションなどの詳細はカタログをご確認ください。

半導体分野の試作・評価では、試験機用メタルマスクを傷つけず、版違いや条件違いを整理しながら管理できることが重要です。 一方で、320×320×15mmクラスのメタルマスクは一般的な保管棚では合いにくく、現場ごとの仮置きや簡易的な管理に頼りやすいサイズでもあります。 本製品は、そうしたニッチな保管課題に対応する320角t=15mm専用のメタルマスク収納棚です。 1枚ずつ仕切って管理しやすい構造と、スライド式圧縮収納により、必要なマスクを取り出しやすくしながら省スペース保管を実現します。 保管設備を一から工夫する手間を抑え、試作評価や条件確認といった本来業務に集中しやすい環境づくりに貢献します。

半導体製造では、クリーンルーム内の限られたスペースで、開発や試作の進行に合わせて メタルマスクを整理・保管する必要があります。連結式なら、保管量の増減に応じて段階的に拡張できます。

基板をマニュアルでチャックにセットし、パドル現像、リンス、スピン乾燥します。 本体側面にキャニスター缶を収納可能。

液晶ディスプレイ（LCD）で世界をリードする韓国より、高性能かつ低価格な精密洗浄剤、信頼のBEX社製「GCシリーズ」をご提案いたします。

トップ精工では、使用条件に適した特性を持つベストな素材をご提案しています。 お客様が新製品の開発・立ち上げをされるケースに加え、 製品の性能、寿命、生産性、歩留り等の改善のため、素材の材質を 変更されてお客様が成功された事例が多数ございます。 【 事例１】 I社（電機メーカー） ■従来ご使用の材質／用途 　・アルミナ／熱処理工程 ■問題点 　・高温でアルミナ治具がワレるトラブルが多い ■当社のご提案 　・タングステン ■改善後の評価 　・生産性が向上した ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

・低発熱で人体にも優しい省電力ブラッランプ採用 ・ランプ、N２のOn/Ｏｆｆはタイマーと連動 ・冷却ファン（温度連動可変式）内蔵で過熱の心配なし ・インターロック機構、上蓋ヒンジダンパーで安心運用 ・ランプ交換がとても簡単 ・ランプの寿命長時間化を実現（4、000ｈをクリア） ・液晶画面付きで簡単、確実操作が可能 ・マイコン制御式、外部連携端子（ピン、USB）を設置

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