露光位置精度の向上とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハや基板の位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や組み立て工程においては、わずかなズレが製品の品質や歩留まりに大きな影響を与える可能性があります。当社の高精度位置決め小型磁気センサーHA-120,スイッチHS-120は、±0.1μmの繰り返し精度を実現し、半導体製造における精密な位置制御を可能にします。

【活用シーン】
・ウェーハ搬送装置の位置検出
・露光装置におけるステージ位置制御
・ボンディング装置における位置決め
・検査装置における精密な位置合わせ

【導入の効果】
・高精度な位置決めによる歩留まり向上
・製品品質の安定化
・製造プロセスの効率化
・装置の性能向上

【主な特長】
・自社開発のミラー光学系ランプハウスを搭載、照射面内均一性、高照度を実現
・独自の同軸アライメント方式と高速画像処理技術を採用し、高精度なアライメントを実現。I R方式や裏面方式にも対応
・独自の光学式ギャップセンサにより、マスクと基板間のプロキシミティギャップを非接触で高速・高精度に設定
・マスクチェンジャを搭載。最大20枚のフォトマスクを自動交換
ロードポートを最大３基搭載可能

NanoFrazor Exploreは、多くの独自の機能を備えたスタンドアローン型ナノパターニングシステムです。 独自の高品質のナノパターンやデバイスを簡単に作成することができ、レーザーを搭載することでマイクロパターンハイブリッド高速描画を可能としております。

株式会社三明で取り扱っている『半自動マスクアライナー』をご紹介します。

当製品は、露光光源が照度分布±5％以内の多品種量産用半自動露光装置です。

自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬送の
流れで行うことができます。

詳細については、お気軽にご相談ください。

【仕様】
■φ4in φ6in φ8in 仕様
■Top-side アライメント
■Bottom-side アライメント

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

VME-bus、CPCIなどの規格に対応した19”パッケージング用フロントパネルです。

これらのパネルは加工精度・交差だけでなく、IEC（国際）規格、DIN（ドイツ）規格、IEEE（米国）規格の理解が必要です。
そこで、初めての方にもご安心できるよう、無償にて「資料のご提供」「設計・製図のお手伝い」を致します。

通信用半導体レーザーのDFB-LDの生産用に適したモデルです。微細加工性とレジスト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。

【特長】
■単結晶ZrO/Wを採用したＴＦＥ電子銃
■抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性
■加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現

※描画デモできます。詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。

■３本爪可動によるエッジグリップ方式で高精度なセンタリング

■オプションのバッファポートにより、アライメント中のロボット待ち時間を最小化

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

HPAシリーズは3軸制御のウエハアライナーで、 全てに当社製単軸ロボットモジュールを採用。
高速、高精度、高剛性、高効率、小型化を実現します。
オールインワン設計の内蔵型コントローラーにより、外部コントローラーや配線スペースが不要で、同等仕様で業界最小サイズです。
透明・半透明・不透明物体の輪郭検出が可能なスマート光透過型レーザーセンサーを搭載。
ウエハやガラスなど、 2～12インチまでのワークに対応可能です。

『裏面アライメントシステム(IRAS)』は、MPA、PLAに搭載する事により、
ウェハーの裏面をアライメントできるユニットです。

MPA、PLAを裏面露光装置として使用する為に製作。
新規で裏面露光装置のご購入を考えているユーザー様に適しています。
ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

【概要】
■主要追加部品
　・マスクアライメント用CCDカメラ
　・ウェハー裏面アライメント用近赤外線CCDカメラ
　・画像解析用モニター＆パソコン
　・裏面カメラユニットステージ
　・その他
■対応機種：MPA600Series、PLASeries
■設置期間：1.5週間
■近赤外線仕様もあります

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

今お使いのオリフラ合わせ機でお困りの点はありませんか？

・反りウェハやガラスウェハにも対応したい…
・導入を検討しているがコストが掛かり迷っている…

テックスイージーのオリフラ合わせ機「WAシリーズ」は反りウェハや透明なガラスウェハなどにも対応し、価格は他社同等機より最大半額でご提供致します。また、高速且つ高精度に位置合わせが可能です。

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◆無料デモ機貸出中！
　ウェハーのサンプルテストもお気軽にお申し付けください。

　この際に一度テストを行ってみませんか？

※詳細はお問い合わせください。

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※詳しくは、下記よりダウンロード又は、お問い合わせください。
※無料デモをご希望の方は、『デモ希望』と明記ください。
※カタログをご希望の方は下記「お問い合わせ」フォームよりご連絡ください。

明昌機工の『NM-0403』は、ナノメートル構造を精度良く転写でき、
6インチウエハーの一括転写が可能なサーボプレス機です。

熱インプリント、室温インプリント、光インプリントの3種類の
ナノインプリント機能を備えています。

オプションで、ウエハーの位置合わせを自動化するアライナー機能
を搭載できます。

【特長】
■フレキシブル条件設定
■アライナー機能
■3種類のナノインプリント機能
・熱インプリント
・室温インプリント
・光インプリント

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。