プロセスガスの消費削減とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、薬液の正確な供給が製品の品質を左右する重要な要素です。特に、微細な回路形成においては、薬液の純度を保ちながら、正確な流量制御が求められます。不適切なパイプの使用は、薬液の汚染や流量の不安定さを引き起こし、歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のSUS304パイプは、耐薬品性に優れ、精密な薬液供給を可能にします。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・高純度薬液の輸送
・微細加工における薬液塗布

【導入の効果】
・薬液の純度を維持
・安定した流量供給
・歩留まり向上

通信業界の高周波用途では、デバイスの高密度化と高性能化に伴い、熱対策と異物対策が重要な課題となっています。特に、高周波信号の安定性と信頼性を確保するためには、部品の温度管理とパーティクルの発生抑制が不可欠です。当社の特殊セラミック部品は、高い熱伝導率と耐プラズマ性により、これらの課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・高周波回路基板
・無線通信機器
・アンテナ部品

【導入の効果】
・デバイスの長寿命化
・信号品質の向上
・信頼性の向上

半導体製造プロセスでは、安全性が非常に重要であり、可燃性ガスを使用する環境下では、防爆性能が不可欠です。ガスの漏洩や引火は、重大な事故につながる可能性があります。KNF N630Exシリーズ防爆型ガスポンプは、このようなリスクを低減するために設計されました。

【活用シーン】
・半導体製造工場
・ガス供給が必要な研究施設
・可燃性ガスを取り扱うプラント

【導入の効果】
・可燃性ガス環境下での安全なガス供給
・高い信頼性と耐久性
・リークタイト仕様によるガスの漏洩防止

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、薬液の正確な供給と管理が不可欠です。特に、腐食性のある薬液を使用する工程では、液漏れやポンプの故障が、製造ラインの停止や製品の品質低下につながる可能性があります。タカトテクニカの『AODD 樹脂(PP/PVDF)Series』は、これらの課題に対応し、安全で効率的な薬液供給を実現します。

【活用シーン】
・薬液供給ライン
・腐食性薬液の移送
・クリーンルーム内での薬液供給

【導入の効果】
・液漏れリスクの低減
・ポンプの長寿命化
・製造ラインの安定稼働

半導体製造業界では、製造プロセスにおける排気ガスの効率的な処理が求められます。特に、真空環境下でのガス排出は、製品の品質と製造効率に大きく影響します。不適切な排気は、製品の不良や製造時間の増加につながる可能性があります。KNF NPK012シリーズ 揺動ピストン型ガスポンプは、高い真空度と圧力性能により、半導体製造における排気プロセスを最適化します。

【活用シーン】
・半導体製造装置の排気
・真空チャンバーからのガス排出
・分析装置におけるガス排出

【導入の効果】
・高い真空度と圧力性能による効率的な排気
・製品品質の向上
・製造プロセスの最適化

半導体製造業界では、製造プロセスにおける真空搬送が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、デリケートな半導体ウェーハや部材を扱う際には、正確な圧力制御とリーク対策が不可欠です。不適切な真空環境は、製品の汚染や性能劣化を引き起こす可能性があります。KNF N96シリーズは、これらの課題に対応するために設計されました。

【活用シーン】
・真空搬送システム
・真空チャンバー
・ガス供給システム

【導入の効果】
・ウエットなガス、凝縮ガスの移送が可能
・大気開放することなく、減圧状態または陽圧状態からの再起動が可能
・リークタイト設計により、真空度の維持に貢献

電子基板業界のエッチング工程では、薬品の正確な供給が製品の品質を左右します。特に、均一なエッチング処理を行うためには、薬品の正確な流量制御が不可欠です。不適切な薬品供給は、基板の不良や歩留まりの低下につながる可能性があります。当社の酸性液対応 TSPポンプ ACモデルは、耐腐食性に優れた設計と、微量定量注入が可能なソレノイド駆動方式を採用しており、エッチング工程における課題解決に貢献します。

【活用シーン】
・電子基板製造工場のエッチング工程
・薬品供給が必要な研究開発

【導入の効果】
・薬品の無駄を削減
・エッチング品質の向上
・歩留まりの改善

大きなコンダクタンスが要求される高真空アプリケーションの排気およびベント用バルブ
-過酷な環境にも対応（腐食に対しての高い耐性）します。
-穴の開いたシリンダーが回転するため、フルコンダクタンスが可能です。
-O-リングがバルブボディに隠れる回転構造。腐食性ガスからO-リングを守り、長寿命を実現します！

半導体向け溶接ガス配管　

その他製品事例・・・
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半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造
特殊材料ガス配管工事、その他

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大型機もシリーズに追加しました。

シリンダーキャビネット、BSGS、VMP/VMB、排ガス処理機などの設計製造を行なっております。ぜひともカタログを御覧下さい。

系統図、使用ガスの流量を御指示いただければ、確かな物を安価で迅速に供給できます。

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●量産工場への納入実績多数
●用途に合わせて、スプレー処理、ディップ処理、パドル処理など、
　好適なエッチング装置構成をご提案
●独自開発したスプレーノズルによる均一性の向上
●様々な薬液に対応可能な実績
●基板サイズ：□100×100mm～□2,250×2,800mm

【特長】
●薬液消費量の低減に効果を発揮
●独自の搬送駆動機構によりパーティクルレスを実現
●大量処理データの登録を可能にし、多品種化に対応
●アラーム発生時の状態ログ機能によりダウンタイムを低減

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

スクリューロータ式の為、排気パスが短いドライスクリュー式真空ポンプです。
ブッシュのドライポンプは重負荷から軽負荷プロセスまで幅広く対応できるドライポンプです。
真空ポンプ・ドライポンプに関してはお問い合わせください。

スクリューロータ式の為、排気パスが短いドライスクリュー式真空ポンプ

【特徴】
○耐久性がありメンテ間隔が長くコスト低減を実現
○コンパクト設計の為移動に便利
○省スペースの真空ポンプ
○ポンプ内温度コントロールが可能

『TD/TCD（C-SEAL バルブ）』は、1.125" C-sealに対応する
コンパクト設計されたバルブです。

1.125" C-seal用のサーフェスマウント向けとして手動・自動弁を
揃えており、手動弁は、90°回転ハンドルで、誤作動防止の
LOTO機構付きもご用意。

ブロックとのシール部硬度はHv300に管理されており、繰返し着脱での
シール性能を高めています。

【特長】
■TD4シリーズのCv値は0.3
■1.125" C-seal用のサーフェスマウント向けとして手動・自動弁を揃えている
■手動弁は90°回転ハンドルとなっており、誤作動防止のLOTO機構付きもある
■接ガス部は、Chrome richプロセスを施し、Cr/Fe>2.0を達成（オプション）
■ブロックとのシール部硬度はHv300に管理され、繰返し着脱でのシール性能を高める

※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社は薬液供給・回収システムのトップメーカーとして、
国内外の幅広い業種のお客さまに向け2,000 件を超える
半導体関連工場の実績がございます。

ぜひ下記の関連リンクから、
当社の半導体・電池・デバイス ソリューションをご覧ください。

当社では、半導体製造装置各種消耗部品をご提供しております。

QUARTZ (溶融石英/合成石英）部品をはじめ、SILICON部品、SIC部品等、
CERAMIC HEATER&MCA HEATERまで取り扱いしております。

また、半導体製造装置関連各種部品の修理、メンテナンスも
行いますので、ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

超高速応答時間と高レベルな清浄度を備えた『GF125シリーズ』は、第二世代の多変量計測、PTI（圧力変動耐性）メタルシールマスフローコントローラです。圧力と温度の変動によるプロセスガス流量の変動を最小限に抑制します。標準のMultiFlo テクノロジーにより、ガスラインから切り離したり、精度を犠牲にすることなく、数千種類ものガスタイプとレンジの組み合わせをサポートします。

その結果、 収率と生産性を最大限に拡張する業界最高のPTI性能とともに、各ポイントの圧力レギュレータ、圧力トランスデューサ、関連するハードウェア設置の必要性を減らすことにより、ガスパネルのサイズとコストを縮小します。

【特長】
■長期的なゼロ点安定性：0.5％フルスケール/年以下
■セトリングタイム：300 ms - 700 ms以下
■フルスケール流量レート 最大300 slpm
■メタルシール流路：4µ インチ Raの表面仕上げ
■SEMI F20準拠接ガス･接液部材質
■耐腐食ハステロイ(R) 製T-Riseセンサ など

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

本装置は、エッチングプロセス用の湿式除害装置です。
Cl2、HBr、BCl3、HCl、HF、SiF4、etc対象ガスを、
従来の湿式除害では出来なかったTLV値以下まで除去することが可能です。

【特長】
・吸着筒を水で再生するため、カートリッジは長寿命です。
・水のみを使用するため、アルカリ汚染がありません。
・水の使用量が少ないため、ランニングコストが低減できます。
・気液接触部での詰まりが少ない構造です。
・吸着筒の自動交互運転により連続除害が可能です。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

当資料は、ベックが取り扱う、真空集中排気システム『VIE-system』の
ご紹介資料です。

現在の排気システムの問題点をはじめ、真空集中排気システムの紹介や
VIE-system導入の効果などを掲載しています。

是非、ダウンロードしてご覧ください。

【掲載内容】
■ロードロック室 現在の排気システム
■ロードロック室 現在の排気システム（例）
■ロードロック室 真空集中排気システム
■VIE-system 導入の効果

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、1500件を超える多くの実績と長年にわたるアフターサービスの
中で数多くの経験を積んできました『薬液供給システム』を得意としております。

これまでの経験はノウハウとして蓄積し、常にシステム開発、
アフターサービスにフィードバックされ、薬液の特性に合わせた信頼性の
高いシステムを提供しています。

【取扱品目】
■薬液自動供給システム
■CMPスラリー供給設備
■CMPスラリー希釈・調合設備
■現像液希釈設備
■フッ酸希釈設備　など

※詳細についてはお問合せください。

★SEMICON JAPAN 2023に出展します★
会期：　2023年12月13日（水）～15日（金）
会場：　東京ビッグサイト 東3ホール 小間番号 3736

【製品説明】
COBRA Semiconファミリーはスクリュー式ドライポンプです。半導体、ソーラーモジュール、フラットスクリーンの製造や、様々なコーティング用途など、要求が極めて厳しいプロセスで使用する際に特に優れた効率を発揮します。半導体業界の複雑な条件のアプリケーションに特適用可能な設計です。

【特長】
COBRA Semiconファミリーではいくつかのシリーズを展開しており、それぞれに特長があります。
■ DSシリーズ：業界標準、高気密、従来型ベアリング
■ BAシリーズ：フライングベアリングシステム、空冷
■ BCシリーズ：超低温真空ポンプ、フライングベアリング、水冷

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『GF100シリーズ』は、優れた応答速度および繰り返し性で、高清浄度
および超高清浄度のプロセスガス供給を実現したメタルシールマスフロー
コントローラ/メータです。

高い繰り返し性と安定性能を確保し、業界標準を超える信頼性をご提供。
業界最高レベルのガス清浄度を実現するとともに、プロセスの柔軟性と
効率性を向上し、収率と生産性を最大限に拡大することができます。

【特長】
■長期的なゼロ点安定性：0.5％フルスケール/年以下
■セトリングタイム：700 ms - 1秒以下
■フルスケール流量レート 最大300 slpm
■メタルシール流路：4µ または 10µ インチ Raの表面仕上げオプション
■耐腐食ハステロイ(R) 製T-Riseセンサにより、温度が上昇しても、
　測定の再現性を向上　など

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

パイプエンド式真空フレキシブルホース『NK-2300PT』は、
両端パイプエンド構造で、くい込み継手と接続できます。

配管誤差（変位吸収）が調整でき、
振動緩和やモーション対応が可能です。

世界最小クラスの直径3ｍｍフレキシブルホースで、
高品質・低価格・短納期で対応できます。
※長さ・数量によって納期が異なります。

【仕様】
適用チューブ：CLT(超柔軟)
口径：3.18〜12.7mm
長さ：100mm〜3M
※長さについてはご相談下さい。
適用流体：ガス・水・空気
※ステンレスを腐蝕させない流体に限る。
使用温度：-196〜300℃
使用圧力：FV〜0.1MPa
※許容リーク量1.33×10-10Pa ㎥/Sec以下