製造時間の短縮とは？課題と対策・製品を解説

半導体製造業界では、製造プロセスの高速化が常に求められています。特に、ウエハの搬送や位置決めといった工程では、高い精度と速度が生産効率を大きく左右します。従来のサーボドライバーでは、速度応答性や位置決め精度に限界があり、高速化のボトルネックとなることがありました。E2シリーズは、3.2kHzの速度応答とナノ位置決め精度を実現するGTモデルをラインナップし、半導体製造における高速化と高精度な動作を両立します。 【活用シーン】 ・ウエハ搬送 ・高速位置決め ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・歩留まりの改善 ・装置の高性能化

半導体業界の精密加工においては、高い精度と信頼性が求められます。微細な部品加工や組み立てには、高品質な工業製品が不可欠です。不適切な部品選定は、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。三益精密 Japan by Itsuwaは、中国最大級の工業系BtoBプラットフォーム「3G-ES」に掲載されている豊富な製品を日本で調達可能にし、半導体製造装置における精密部品を供給します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の精密部品 ・自動化設備の精密部品 ・設備メンテナンス、保守パーツ 【導入の効果】 ・高品質な部品の安定供給 ・製造工程の効率化 ・製品の信頼性向上

TQ　Heaterの最大の特徴は当社の独自設計により間接加熱であっても 限りなく直接加熱に近く、内容積も小さい事で実現した高い熱効率です。 希望温度にすばやく達するのでユーザー様の生産率の向上につながり 又、それにより無駄な電力使用しない＋使用する液が少ない（内容積が小さい） 為、コスト削減になります。

『インフラレッド CH型』の対応用途についてご紹介します。 電子工業においては、液晶ガラスの印刷後の加熱・乾燥、洗浄後の乾燥 をはじめ、太陽電池の製造工程の加熱・乾燥。情報産業用の製品の加熱では半導体などの電子デバイス、磁気テープの加熱に対応します。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えできるようにしております。 特に、当社独自の厚膜熱酸化膜形成技術は光通信を支える光デバイスに欠かす事のできない材料となっており、当社の製品･技術が世界の通信機器メーカーや光部品メーカーに採用されています。

『MCV-530/530L/2200/2500』は、半導体シリコンウェハーの電気特性や MOSデバイスの酸化膜等の特性評価を可能にする装置です。 従来ではウェハーにゲート電極としてPoly-SiやAl等を蒸着し、MOS構造・ ショットキー構造形成後にCV/IV特性評価を行っておりました。 当製品は、装置自身がゲート電極を持つため、メタルゲート作成なしに 酸化膜やウェハーの電気特性を得ることが可能。プロセスモニタリングによる 素早いフィードバックやR&Dにおける開発時間の短縮、Lowコスト化を 提供します。 【特長】 ■水銀プローブにより電極の形成が不要 ■抜群の再現性 ・ショットキー：0.3％(1σ）／MOS：0.1％(1σ） ■ウェハー面内のマッピング可 ■新開発水銀交換機構により安全かつ容易な水銀交換が可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『プロセスバス』は、SC-1、SC-2、剝離槽などに適した汎用バスです。 ハイスペックなヒーターを用い、短時間での昇温を実現。 また、装置内への追加インストールなども「プロセスバス・コントローラー ユニット」の導入により可能です。 【特長】 ■短時間での昇温を実現 ■ご希望のサイズ・仕様にて設計・製作 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。