製造時間の短縮とは？課題と対策・製品を解説

インク業界では、顔料や添加剤の均一な分散が、インクの品質を左右する重要な要素です。 分散性が低いと、色ムラや目詰まりの原因となり、製品の性能を低下させる可能性があります。 また、インク製造における気泡の混入は、印刷不良や外観の劣化を引き起こすため、徹底的な除去が求められます。 ハイマージャ HM-2500WVは、インク材料を均一に分散させ、同時に気泡を除去することで、高品質なインク製造を可能にします。 【活用シーン】 ・顔料分散 ・添加剤混合 ・インク製造 ・印刷インク ・インクジェットインク 【導入の効果】 ・分散性の向上による色ムラの解消 ・気泡除去による印刷品質の向上 ・材料ロスとダメージの低減 ・幅広いインク材料への対応 【特長】 ・高速自転・公転による均一な分散 ・真空脱泡機能による気泡の除去 ・プロペラレス設計による材料へのダメージ低減 ・低粘度から高粘度まで幅広い材料に対応 ・最大5,000mlの大容量処理

半導体製造業界では、製造プロセスの高速化が常に求められています。特に、ウエハの搬送や位置決めといった工程では、高い精度と速度が生産効率を大きく左右します。従来のサーボドライバーでは、速度応答性や位置決め精度に限界があり、高速化のボトルネックとなることがありました。E2シリーズは、3.2kHzの速度応答とナノ位置決め精度を実現するGTモデルをラインナップし、半導体製造における高速化と高精度な動作を両立します。 【活用シーン】 ・ウエハ搬送 ・高速位置決め ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・歩留まりの改善 ・装置の高性能化

半導体業界の精密加工においては、高い精度と信頼性が求められます。微細な部品加工や組み立てには、高品質な工業製品が不可欠です。不適切な部品選定は、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。三益精密 Japan by Itsuwaは、中国最大級の工業系BtoBプラットフォーム「3G-ES」に掲載されている豊富な製品を日本で調達可能にし、半導体製造装置における精密部品を供給します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置の精密部品 ・自動化設備の精密部品 ・設備メンテナンス、保守パーツ 【導入の効果】 ・高品質な部品の安定供給 ・製造工程の効率化 ・製品の信頼性向上

電子部品業界では、製品の品質を維持するために、精密な乾燥工程が求められます。特に、部品の性能や信頼性に影響を与える水分や残留溶剤の除去は、製品の長寿命化に不可欠です。不十分な乾燥は、部品の劣化や故障の原因となる可能性があります。当社の2室型箱型乾燥機 SBD-100W型は、2つの部屋でそれぞれ異なる温度設定が可能であり、多様な電子部品の乾燥ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・電子部品の製造ラインにおける乾燥工程 ・試作品や少量生産品の乾燥 ・異なる温度条件での乾燥が必要な部品の処理 【導入の効果】 ・部品ごとの最適な乾燥条件設定による品質向上 ・生産効率の向上 ・多様な乾燥ニーズへの対応力強化

塗料、インク、顔料などの色材分野では、微粒子の均一な分散と気泡の除去が、製品の仕上がり、発色、性能を決定づけます。 当社の自転公転式撹拌脱泡機は、粉体（顔料）と液体（溶剤）を容器内で強力な対流で高速撹拌し、 短時間でダマのない、均一な分散状態を作り出します。 同時に、強力な遠心力で製品内部の空気や溶剤の揮発ガスに由来する微細な気泡を除去します。 【特長】 ◆防爆仕様対応: 揮発性溶剤を扱う環境向けに、防爆仕様のカスタム設計を提供可能です。 安全性を確保しつつ、自動化による生産効率向上を実現します。 ◆材料ロス低減: プロペラを使用しないため、材料の撹拌ロスや清掃の手間を大幅に削減し、 特に高価な機能性インクの製造コスト削減に貢献します。 ※詳細はPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えできるようにしております。 特に、当社独自の厚膜熱酸化膜形成技術は光通信を支える光デバイスに欠かす事のできない材料となっており、当社の製品･技術が世界の通信機器メーカーや光部品メーカーに採用されています。

『MCV-530/530L/2200/2500』は、半導体シリコンウェハーの電気特性や MOSデバイスの酸化膜等の特性評価を可能にする装置です。 従来ではウェハーにゲート電極としてPoly-SiやAl等を蒸着し、MOS構造・ ショットキー構造形成後にCV/IV特性評価を行っておりました。 当製品は、装置自身がゲート電極を持つため、メタルゲート作成なしに 酸化膜やウェハーの電気特性を得ることが可能。プロセスモニタリングによる 素早いフィードバックやR&Dにおける開発時間の短縮、Lowコスト化を 提供します。 【特長】 ■水銀プローブにより電極の形成が不要 ■抜群の再現性 ・ショットキー：0.3％(1σ）／MOS：0.1％(1σ） ■ウェハー面内のマッピング可 ■新開発水銀交換機構により安全かつ容易な水銀交換が可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『インフラレッド CH型』の対応用途についてご紹介します。 電子工業においては、液晶ガラスの印刷後の加熱・乾燥、洗浄後の乾燥 をはじめ、太陽電池の製造工程の加熱・乾燥。情報産業用の製品の加熱では半導体などの電子デバイス、磁気テープの加熱に対応します。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

TQ　Heaterの最大の特徴は当社の独自設計により間接加熱であっても 限りなく直接加熱に近く、内容積も小さい事で実現した高い熱効率です。 希望温度にすばやく達するのでユーザー様の生産率の向上につながり 又、それにより無駄な電力使用しない＋使用する液が少ない（内容積が小さい） 為、コスト削減になります。

『プロセスバス』は、SC-1、SC-2、剝離槽などに適した汎用バスです。 ハイスペックなヒーターを用い、短時間での昇温を実現。 また、装置内への追加インストールなども「プロセスバス・コントローラー ユニット」の導入により可能です。 【特長】 ■短時間での昇温を実現 ■ご希望のサイズ・仕様にて設計・製作 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。