プラズマエッチングの均一性とは？課題と対策・製品を解説

自動露光機と､手動露光機を取りそろえています。

WETプロセス装置 LCD枚葉エッチング装置は、LCD用基板を水平搬送にて、エッチング・シャワー洗浄、乾燥処理を行います。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○ディップ、スプレー及び揺動機能方式エッチングにより 　均一なプロセスを実現 ○エッチング/シャワー洗浄/乾燥等のプロセスを並列処理 ○基板傾斜水洗機能による自然落下効果及び置換の高効率化 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減

『CVD-SiC』は、CVD法（気相成長法）で製造したバルクSiCです。 高純度、耐食性に優れ、半導体製造装置部品として高い性能を発揮。 長寿命で、SiCコート品におけるピンホール、剥離の問題が発生しません。 また、プロセスによって適したグレードを選択できます。 【特長】 ■高純度・優れた耐食性 ■長寿命 ■低抵抗、高抵抗グレード ■プロセスによって好適なグレードを選択可能 ■SiCコート品におけるピンホール、剥離の問題が発生しない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93％削減 ■冷却水使用量を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

内外2層構造のダイヤモンドコンディショナを市場展開し、大幅なコスト削減に貢献しています。

【対応可能光源】 ■超高圧水銀灯（g/h/i-line）対応ARコート ■超高圧水銀灯（g/h/ｉ-line）対応AL増反射ミラー ■365nmHR ■無偏光ビームスプリッター（ハイブリッドタイプ） ■780nmPBS ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

※詳細は添付PDFの参照、及びお気軽に弊社宛に直接お問い合わせ下さい。 047-369-3389

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ご不明な点がございましたら、お気軽にお問合せ下さい。

真空中でロール搬送による各種処理が行えます。 主に2次電池の電極の乾燥に適しており、タクト短縮や処理品質の向上に効果があります。もちろん、2次電池以外の高機能フィルムやフレキ材の各種処理にも対応致します。 真空環境で連続均熱乾燥他各種の処理をおこない、搬送速度は最速1000mm／secです。排出ガスをリアルタイムで測定でき、水分量の測定も可能です。

・エッチング、洗浄装置などの装置に合せて設置が可能です。 ・酸・アルカリなどのガスを適切に処理します。 ・スクラバーで適切に処理することで後工程のダクト、装置への影響がありません。また、室外へ排気された場合でも周辺環境や人体への心配もありません。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

多結晶シリコンの細部まで短時間で完全乾燥

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減

不活性ガス(窒素・アルゴン・ヘリウム・ネオン・キセノン・クリプトン)中の 各種不純物（O2,CO2,H2O,CO）を1ppb以下へ純化します。流量範囲は〜300NL/minです。 0.003µmパーティクルフィルタ標準装備。再生することにより繰り返し使用可能です。

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。