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パワーデバイス&パワーモジュール

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薄膜均一性の確保とは?課題と対策・製品を解説

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ウェーハプロセスにおける薄膜均一性の確保とは?

パワーデバイス&パワーモジュール業界において、ウェーハ上に形成される薄膜の厚みや組成がウェーハ全体で均一であることを指します。これは、デバイスの性能、信頼性、歩留まりに直結するため、極めて重要なプロセス管理項目です。

各社の製品

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パワーデバイス向け薄膜材料(ターゲット・蒸着材)

 パワーデバイス向け薄膜材料(ターゲット・蒸着材)
既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現 弊社は米国の薄膜材料業界で、30年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP:https://www.vem-co.com <製品例> Ni系 Ti系 【特徴】 ・純度99.9%から99.9999% ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属

小型ガス精製器用ジャケットヒーター

小型ガス精製器用ジャケットヒーター
(株)ピュアロンジャパン製 ジャケットヒーターです。

ROLL to ROLL式 真空加熱乾燥機 【テスト乾燥実施中】

ROLL to ROLL式 真空加熱乾燥機 【テスト乾燥実施中】
「ROLL to ROLL式 真空加熱乾燥機」は非接触温度センサーとハロゲンランプによる高精度な温度管理により、熱膨張のダメージを最小限に抑えた極板・フィルム向けの真空乾燥装置です。また、Roll to Roll方式を採用していますのでロール全長に渡り、均一かつ高速で乾燥が可能です。 【特長】 ■熱膨張による物理ダメージの最小化 ■100mm~1000mmまでの幅広いワークも乾燥可能! ■非接触温度センサーとハロゲンランプによる高精度な温度管理 ※テスト乾燥ご希望の方は、お問い合わせ内容に「テスト乾燥希望」とご記載下さい。 ※製品の詳細はダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

スプレーコーティング用ノズル(純水リンススプレー)

スプレーコーティング用ノズル(純水リンススプレー)
塗布する液の粒子の大きさを選択できます。 FPD各種薄膜コーティング~FPDガラス純水リンスの省力化等、多種に渡り対応可能です。 【特徴】 ○塗布する液の粒子の大きさを選択できる ○平均粒子径5μm~1mm ○FPD各種薄膜コーティング~FPDガラス純水リンスの省力化等、  多種に渡り対応可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

プリンタブルエレクトロニクス向け高精細インクジェット塗布装置

プリンタブルエレクトロニクス向け高精細インクジェット塗布装置
〈量産向け高精細 塗布モデル発売開始〉 【特徴】 ■材料のコストダウン(液使用効率:~99%) ■工程削減によるスループット向上。 ■高精細パターニング~部分コーティングまで幅広くコーティング対応。 ■コーティングサイズ:Max 300x300mm or Φ300mm ■FPD、電子部品、半導体パッケージ分野向けに適しています。 ■IJ塗布~乾燥まで1台で。 ■レジストインク、導電性インク、絶縁インク対応、粒子含有インク対応。 ■2液対応可能 ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。

連続式熱処理炉

連続式熱処理炉
大村技研の『連続式熱処理炉』は、均一な温度による電子部品の 連続熱処理に用いることが出来る装置です。 あらゆる電子部品の熱処理に対応可能で、多品種・小ロットの電子部品の 熱処理に適しています。 高精度な温度コントロールにより歩留まり向上に貢献します。 【特長】 ■均一な温度による電子部品の連続熱処理に ■多品種・小ロットの電子部品に対応 ■高精度な温度コントロール ■要求仕様により設計製作が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

MEMSファンドリーサービス (ウエハ受託加工サービス)

MEMSファンドリーサービス (ウエハ受託加工サービス)
MEMSの部分工程請負、全体開発試作から量産ファンダリまで幅広く対応します。 2インチや異型の基板から12インチ(300mm)のMEMSラインのネットワークによりあらゆるご要望に対応。 1枚からの露光、エッチング受託加工、成膜サービス等もお気軽にご相談ください。 本格的なMEMS専用ラインでのファンドリーサービスです。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス  スパッタ法で4,5,6,8インチに対応 ・Siディープエッチングサービス  2~12インチに対応します ・100℃以下の低温CVD膜付けサービス  2~6インチに対応します。 ・8インチ, 12インチMEMSファンドリーサービス  大型チップ向けMEMS製造が可能 ※詳細はPDFをダウンロード下さい。

アップグレード-2

アップグレード-2
※詳細は添付PDFの参照、及びお気軽に弊社宛に直接お問い合わせ下さい。 047-369-3389

成膜・熱処理装置ラインナップ

成膜・熱処理装置ラインナップ
SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。

LED製造関連機器 撹拌・脱泡機シリーズ

LED製造関連機器 撹拌・脱泡機シリーズ
株式会社マルコムの『撹拌・脱泡機シリーズ』は、2つの撹拌方式とシリンジ・カップ対応で、あらゆる材料の撹拌・脱泡が可能です。「シリンジ専用撹拌機シリーズ」は、20年前にソルダペースト用に開発した独自の自転角可変方式を採用、自転公転を組み合わせた歳差運動により、他方式では不可能な強い撹拌効果が得られます。シリンジのまま蛍光体・分散剤・封止剤を均一に撹拌・脱泡可能で、工程の短縮実現と材料の無駄を排除することでコストダウンに貢献します。「カップ用撹拌機シリーズ」は、自転・公転により、強力に攪拌・脱泡を行います。使いやすさを追求した独自の機能が満載です。撹拌と同時にサブミクロンの気泡を取り除く真空タイプと、自転公転で均一撹拌と脱気を行う大気タイプをご用意しております。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

超小型有機材料用蒸発源『ESC-100』

超小型有機材料用蒸発源『ESC-100』
『ESC-100』は、長年の有機材料用蒸発源の開発に従事した経験と Know-Howを結集して完成した超小型有機材料用蒸発源です。 降温速度は蒸着温度350℃から200℃まで約12分が可能。 材料の蒸着停止が高速でできます。 大容量20ccタイプもご用意しておりますので ご要望の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ■ALQで連続使用5時間確認 ■超小型コンパクト ■実験装置には9式搭載可能 ■坩堝材質は蒸着材料により選択可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

減圧・常圧プロセス用高効率気化器 VU-450 series

減圧・常圧プロセス用高効率気化器 VU-450 series
液体マスフローメータLM-3000L seriesとの組合せにより各種液体を精密流量制御し、効率よく気化供給する気化器です(US PAT.5372754)。 【特長】 ○液体マスフローメータLM-3000L seriesとの組合せにより、   各種液体を精密流量制御し、効率よく気化(US PAT.5372754) ○常圧条件下で水の気化供給が可能 ○最高200℃の加熱が可能 ○コンパクトなボディサイズ ○キャリアガスの流量に応じた豊富なバリエーション   (1SLM〜100SLM) ○RoHS対応 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

チビコーター CL-15301-C

チビコーター CL-15301-C
■装置概要 本機は、ダイレクトコートにて簡易に金属箔に電池材料等の塗液の塗布が可能な装置です。塗工厚みは条件にもよりますが通常のリチウムイオン電池正極及び負極の材料試験用塗布に広く使用されております。 ■装置寸法 W1090xD993xH1800(乾燥炉長300mmの場合)と非常にコンパクトなので、設置場所を選ばない省スペースとなっております。

軽接触式気化器 VU-900 series

軽接触式気化器 VU-900 series
High-kや各種メタルなど、熱分解しやすい液体気化に適した気化器です 【特長】 ○液体を気化器の器壁(金属製)に接触する機会が少なく、   (軽接触)効率よく気化 ○アトマイザによる液滴化とブローガスによる微細化による   高効率気化 ○液体マスフローメータLM-3000L seriesとの組合せにより、   液体材料を精密流量制御し、効率良く気化(US PAT.5372754) ○熱分解し易い液体を低温にて気化する方式の気化器 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

WETプロセス装置 LCD枚葉エッチング装置

WETプロセス装置 LCD枚葉エッチング装置
WETプロセス装置 LCD枚葉エッチング装置は、LCD用基板を水平搬送にて、エッチング・シャワー洗浄、乾燥処理を行います。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○ディップ、スプレー及び揺動機能方式エッチングにより  均一なプロセスを実現 ○エッチング/シャワー洗浄/乾燥等のプロセスを並列処理 ○基板傾斜水洗機能による自然落下効果及び置換の高効率化 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

シリコンコアテクノロジーグループ会社概要

シリコンコアテクノロジーグループ会社概要
シリコンコアテクノロジーグループは、1997年に米国・シリコンバレーに設立したテクノロジー企業です。

リチウムイオン電池のセパレーター用 独立アーム式スリッター

リチウムイオン電池のセパレーター用 独立アーム式スリッター
不二鉄工所の『WRS-35x10-IB』は、高精度の巻き取りが可能なLIBセパレーター用の独立アーム式スリッターです。「独立アーム個別制御方式」で張力・接圧設定が行え異幅混合巻取ができるほか、接触巻取、ギャップ巻取の選択ができます。 【特長】 ■独立アーム個別制御方式 ・各独立アーム毎に、個別の張力・接圧設定が可能 ・異幅混合巻取可能 ・接触巻取、ギャップ巻取の選択が可能 ■独立アーム水平制御方式 ・接圧制御において製品自重の影響なし ・巻取製品の端面が良好 ■スリット刃上下振動方式 ・シェアカッターの上刃・下刃の振動で切れ味抜群 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

株式会社ナノ新素材 製品カタログ

株式会社ナノ新素材 製品カタログ
当カタログは、株式会社ナノ新素材が取り扱う製品をご紹介しています。 当社は、独自の先端技術を用いて金属及び金属酸化物の超微粒子の粉末、 ゾル、ペーストのナノスケール製品商業化に成功いたしました。 原材料の調達から最終検査まで一貫体制のもとで製造された製品は 世界中のエレクトロニクス、ディスプレイ、半導体、特殊フィルム等 多様な産業分野に適用されています。 【掲載内容】 ■理念 ■ANPについて ■沿革 ■TCOターゲット ■銀ナノインク・ペースト ■半導体用CMPナノスラリー ■機能性素材 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

減圧・常圧プロセス用高効率気化器 VU-430A series

減圧・常圧プロセス用高効率気化器 VU-430A series
液体マスフローメータLM-3000Lシリーズとの組合せにより各種液体を精密流量制御し、効率よく気化供給する気化器です(US PAT.5372754)。 【特長】 ○液体マスフローメータLM-3000L seriesとの組合せにより、   各種液体を流量制御し、効率よく気化(US PAT.5372754) ○減圧プロセスから常圧プロセスまで可能 ○最高200℃の高温加熱が可能 ○コンパクトなボディサイズ ○キャリアガスの流量に応じた豊富なバリエーション(50CCM-4SLM) ○RoHS対応 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

熱源 「加熱用ハロゲンランプ」

熱源 「加熱用ハロゲンランプ」
赤外線ハロゲンランプは近赤外線域にピーク波長を持つ、極めて高効率な熱源です。 半導体製造の他、各種成膜工程の熱源として使用されます。 半導体製造工程での使用に適した制御性の良いクリーンな熱源です。 【特徴】 ○高効率・省エネ ○素早いレスポンス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

独立発泡ウレタンパッド

独立発泡ウレタンパッド
当社では、デバイスCMPにおける業界標準のウレタンパッドを 取り扱っております。 特殊ポリウレタン材料をベースに、高均一な微小発泡を持つユニークな 構造はスラリーをうまく保持しながら、被加工物へ均等に行き渡らせ、 優れた加工均一性を発揮します。 また、高い段差緩和性能と低スクラッチ性能も実現します。 【ラインアップ】 ■各種基板の高平坦化に好適  ・IC1000(TM)単層パッド ■酸化膜CMPやメタルCMPに好適  ・IC1000(TM) SUBA(TM)積層パッド  ・IC1400(TM)積層パッド ■VISIONPAD(TM) IC1000(TM)の次世代品  ・VISIONPAD(TM) 6000N積層パッド ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

誘電体材料『パルセラム BT』

誘電体材料『パルセラム BT』
『パルセラム BT』は、蓚酸塩法で合成されたチタン酸バリウム (BaTiO3)です。 古くからコンデンサの材料として使用され、特に積層セラミックス コンデンサ(MLCC;Multi Layer Ceramics Capacitor)の誘電体原料として 長年使用されています。 当社では微粒化タイプの他、粒子径が2.0μm以上の大粒子タイプも 取り揃えておりますので、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■高い誘電率 ■組成比(Ba/Ti 比)の安定したチタン酸バリウムが得られる ■高純度品の合成が可能 ■粒度のそろった粒子が得られる ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

特殊光ファイバ『シングルモードファイバ』

特殊光ファイバ『シングルモードファイバ』
当社の『シングルモードファイバ』は、Geドープシリカコア、 ピュアシリカクラッドの構造をもった光ファイバです。 汎用サイズであるクラッド径125μmからクラッド径30μmまで細径なファイバの 作製が可能です。 また、任意のカットオフ波長を選択することも可能です。 お客様のご要望に応じた光ファイバの設計、製造、評価まで一貫した製品作りを 行っておりますので、オリジナルファイバの製作が可能です。 【特長】 ■長距離伝送用 ■高ビーム品質 ■高い集光性 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

スプレイ塗布による薄膜形成が可能なスプレーノズル

スプレイ塗布による薄膜形成が可能なスプレーノズル
■【半導体製造分野:精密コーティング用途でも活躍!】 少量の液を精密に微粒化噴霧できるため、 半導体や電子部品製造工程における「スプレイ塗布による薄膜形成」が可能。 スプレイコーティングは制御が簡単で、機器構成が他の塗布システムに比較してシンプル。 厚塗り~薄膜まで、ひとつのノズルで条件範囲の幅が広いところが特徴です。 ■『アトマックスノズル』が選ばれるポイント ・【独自技術・シンプルな構造】:高粘度・スラリーでも目詰まりがありません。 ・【高性能・高機能】     :超微粒子(5μm)の噴射が可能です。 ・【小型・軽量】       :取り付け場所や用途を選びません。 ・【優れたメンテナンス性】  :構成部品は2点のみ。フィルターなし。 ・【優れた省エネ性能】    :噴射気体の消費量を大幅に削減します。 ※製品の特長は、下記「PDFダウンロード」よりカタログをご覧ください。

シリンダヒーター

シリンダヒーター
液晶パネル製造などに使用する現像液、剥離液・溶剤の加熱に特化したヒーター 【特徴】 ○表面温度の均一性と安全対策に充分対処 ○表面温度のばらつきが少なく、温度劣化を起こす薬液の管理が容易になる ○安全を確保するため、アルミ鋳込みヒーターを採用し接液部に万一不具合が  発生しても、発熱体に影響が及ばない構造 ○温度劣化をおこす薬液には、安全な表面温度になるように設計 ○端子函は安全増し防爆構造に準拠 ●薬液槽との取り合いは、サニタリーフェルールを標準としていますが  ご要望に合わせ、JISフランジ、特殊フランジに対応可能です  お気軽にお問い合わせ下さい

研究・試作用 半自動巻取装置「BHWシリーズ」

研究・試作用 半自動巻取装置「BHWシリーズ」
研究・試作用 半自動巻取装置「BHWシリーズ」は、リチウムイオンバッテリーやキャパシタの開発と試作用に開発した巻取装置です。 短冊からエンドレスの極板を巻取れる様、それぞれの仕様に合わせたシリーズがあります。 【特徴】 ○短冊やロール供給の電極巻取りに対応 ○極板巾と長さの組合せに応じて4タイプの標準機種をご用意 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

新熱工業のシーズヒーターを活かした『半導体・液晶装置用ヒーター』

新熱工業のシーズヒーターを活かした『半導体・液晶装置用ヒーター』
新熱工業では、一貫したシーズヒーター製造販売の技術を活かし、『半導体、液晶装置用ヒーター』を取扱っています。 ヒーターの専門メーカーだからこそ実現できる多種多様なヒーターを組込んだ製品をご提案いたします。 プレート材質、加工方法、使用温度、容量などから最適なヒーター仕様を選定いたします。 各種ヒーターは電気的に絶縁されており、直接加熱が可能。 振動、衝撃に優れ、発熱線が酸化されにくいために長寿命です。 【特長】 ■プレート材質、加工方法、使用温度、容量などから最適なヒーター仕様を選定。 ■各種ヒーターは電気的に絶縁されており、直接加熱が可能。 ■表面処理を行うことでガスによる耐腐食性に優れている。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高純度石英インラインヒーター ACCUHEAT(R)

高純度石英インラインヒーター ACCUHEAT(R)
UL認証・CEマーク取得済 SEMI・S2/S3適合 高純度石英インラインヒーター 【特徴】 ○インコネルヒーターを使用したインラインヒーター ○外装はテフロン(PTFE)を使用 ○高温にならないので、窒素パージ、CDA冷却装置などは不要 ○耐圧性に優れる。(4.2Kg/cm2) ○コンパクトサイズ ○縦置き/横置き共に設置可能 ○3kw〜18kwと多彩なラインナップ ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

康井精機 リチウム二次電池用コーター

康井精機 リチウム二次電池用コーター
リチウムイオン二次電池の電極生産用スロットダイ・コーター。パターン塗工と表裏の見当合わせ塗工が可能。塗工巾300mmの狭巾用生産機もあります。 【特徴】 ○塗工方式:スロットダイ・パターン塗工 ○ライン速度:1~8m/min ○塗工巾:300~600mm ○駆動方式:ACサーボモーターセクショナルドライブ方式 ○乾燥方式:ロール支持アーチ型、熱風温度 200℃ Max

高純度シリコン化合物から合成したシリカ粒子『ハイプレシカ』

高純度シリコン化合物から合成したシリカ粒子『ハイプレシカ』
ハイプレシカは、高純度シリコン化合物から合成した微粒子です。 硬く、耐荷重に優れたシリカ粒子や、軟らかく、デリケートな被着物に傷をつけない有機無機ハイブリッド粒子があります。ハイプレシカの特長は粒径が非常に良くそろっていること(単分散)、真球形状であること、きわめて高純度であることです。 それらの特長を生かし、液晶ディスプレイ(LCD)のスペーサー(液晶材料の入るセルの厚みを均一にするギャップ保持材)として使用され、LCDを高精細化するのに不可欠な部材となっているほか、接着層厚み調整用スペーサー、高機能樹脂充填材(半導体封止材料用、他)、高機能フィルムコーティング用粒子等、多様な分野で使用されております。 ※詳しくはカタログをダウンロードして下さい。

ロールtoロール方式 真空乾燥装置

ロールtoロール方式 真空乾燥装置
真空中でロール搬送による各種処理が行えます。 主に2次電池の電極の乾燥に適しており、タクト短縮や処理品質の向上に効果があります。もちろん、2次電池以外の高機能フィルムやフレキ材の各種処理にも対応致します。 真空環境で連続均熱乾燥他各種の処理をおこない、搬送速度は最速1000mm/secです。排出ガスをリアルタイムで測定でき、水分量の測定も可能です。

『見えない熱の見える化』で電子部品の製造工程を改善!

『見えない熱の見える化』で電子部品の製造工程を改善!
九州日昌では加熱装置やヒーターブロック、各種ヒーターなどを扱っております。 インラインの加熱設備や加熱ユニット及び加熱用ヒーターなど加熱のことなら、何でもご相談ください。 半導体やセンサーに使用される電子部品の製造工程で欠かせない加熱装置ですが、熱は目に見えないため、ワークに対して加熱のムラや無駄が発生してしまいます。 弊社では、熱の専門会社としての実績による均熱技術により、お客様の製造工程の歩留まり改善や省スペース化、また省エネを実現いたします。 詳しくは製品カタログをご確認いただけますと幸いです。 また、「熱解析の便利さ」をはじめ「流体解析で分かること」や、「解析を利用した問題解決」「解析事例」などを掲載しております。 ご興味をお持ちの方はぜひPDFをダウンロード、またはお問い合わせください。

真空蒸着用製品『スペシャルボート(一例)』

真空蒸着用製品『スペシャルボート(一例)』
イムテック株式会社では、抵抗加熱法で行う真空蒸着用ボートを取り扱っております。 真空蒸着用ボートには、スタンダードとスペシャルタイプのボートがあります。 スペシャルタイプはBEシリーズで、モリブデンとタングステン材がありますが、タンタルも製作できます。 その他、ご希望の形状に応じて製作いたしますので、ご相談ください。 【スペシャルボート(一例)】 ○製品名:BE-1、BE-2、BE-3、BE-4、BE-7、BE-8 ○深さ:3、5.5 ○高さ:5、10,12 ○板厚:0.2、0.3 ○この他にBE-10~20などもあります 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

Epistar社製LEDチップ

Epistar社製LEDチップ
当社では、世界最大クラスのLEDチップメーカーEpistar社製の 『LEDチップ』を取り扱っております。 植物育成用をターゲットとした660nm、730nmの波長帯、 ハイパワー赤外チップとして850nm、940nmの波長帯など、 青色LEDの短波から、1000nmを超える赤外まで、幅広くラインアップ。 LEDベアチップから評価をご希望されるお客様はEpistar製品を ぜひ一度ご検討ください。 【主要ラインラップ(Epi Wafer/Bare Chip)】 ■AlInGaP(四元素)LED ■InGaN LED ■AlGaAs High Power LED ■その他:UV関連、VCSEL、化合物太陽電池、Mini/Micro LED など ※詳しくは、お問い合わせください。

中空ポリマー粒子 低屈折・低誘電・軽量・断熱

中空ポリマー粒子 低屈折・低誘電・軽量・断熱
内部に空気層を有したポリマー微粒子です。 材料に添加することで、空気の特性である低屈折(低反射)や低誘電特性を付与することができます。 また、樹脂に添加した場合、中空構造により応力緩和効果も期待できます。 粒子径(サイズ)はナノ〜マイクロサイズでご要望に合わせてご提供可能です。 ※SEM写真や特長、誘電性データは下記「PDFダウンロード」よりカタログをご覧下さい。

電池用材料向けマルチスリッター『スリッター DA300』

電池用材料向けマルチスリッター『スリッター DA300』
『スリッター DA300』は、リチウム電池電極材等の金属基材複合材を高精度・ 高品質に切断する電池材専用スリッターです。 コンパクトなボディにミクロン単位の刃組みが可能なカッタースタンドを 搭載しています。 運用条件を数値設定することによるイージーオペレーションを実現します。 ギャング刃でもゲーベル刃でも素材の特性に応じてお選びいただけます。 【特長】 ■5ミクロンの精度を実現したカッタースタンド ■数値設定によるイージーオペレーション ■切断方式は素材に応じて選択可能 ■インターロック付きクリーンブースを装備 ■油圧拡縮カッター軸搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

有機材 アルカリ金属ディスペンサー「AlkaMax」

有機材 アルカリ金属ディスペンサー「AlkaMax」
「AlkaMax」は、有機 EL 素子の量産の需要に対応するために十分なアルカリ金属を放出するように設計されました。 サエス・ゲッターズ革新開発研究所で開発されていた「AlkaMax」モデルは、独自な性質のおかげで、安全な取り扱いが保証されています。 これにより「AlkaMax」は、環境規制に完全に適合しています。 【特徴】 ○トップエミッション有機 EL技術のための  新しいアルカリ金属ディスペンサーモデル ○有機ELディスプレイの大量生産を容易にし、  駆動電圧や輝度の向上を実現 ○電子注入効率の増加による消費電力の低減を促進 ○いかなる有機ELディスプレイの要求にも合致するよう、  カスタマイズ可能 ○研究室試験から試験生産、大量生産まで  蒸着工程における非常に簡単な操作、制御 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【量産承ります!】ナノインプリントファウンドリ 量産受託サービス

【量産承ります!】ナノインプリントファウンドリ 量産受託サービス
ナノインプリント技術のみでは、量産を実現することは出来ません。当社では、実用化に必要となる周辺技術との融合を進め、 独自の超微細加工ファウンドリプラットフォームを構築しました。本ファウンドリサービスをご活用いただくことにより新製品 の開発期間を大幅に短縮することが可能になります。
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ウェーハプロセスにおける薄膜均一性の確保

ウェーハプロセスにおける薄膜均一性の確保とは?

パワーデバイス&パワーモジュール業界において、ウェーハ上に形成される薄膜の厚みや組成がウェーハ全体で均一であることを指します。これは、デバイスの性能、信頼性、歩留まりに直結するため、極めて重要なプロセス管理項目です。

​課題

成膜装置のばらつき

成膜装置内のガス流量、温度、圧力などの制御が不十分な場合、ウェーハ上の成膜速度や組成に地域差が生じます。

ウェーハ搬送時の影響

ウェーハの搬送中に発生する振動や温度変化が、成膜プロセスに影響を与え、均一性を損なう可能性があります。

プロセス条件の最適化不足

成膜プロセスにおける温度、時間、ガス種などの条件が最適化されていないと、意図しない膜厚分布が生じます。

計測・評価の精度限界

微細な膜厚のばらつきを正確に捉えるための計測技術や評価手法が不十分な場合、問題の早期発見が困難になります。

​対策

成膜装置の精密制御

ガス供給システム、温度制御システム、プラズマ制御システムなどを高精度化し、装置内の均一性を徹底的に管理します。

ウェーハ搬送環境の最適化

搬送中の振動を抑制する機構の導入や、温度・湿度管理を徹底し、プロセスへの影響を最小限に抑えます。

プロセスシミュレーションと最適化

高度なシミュレーション技術を用いてプロセス条件を最適化し、理論的に均一な膜形成を実現します。

高精度膜厚計測システムの導入

ウェーハ上の広範囲を高速かつ高精度に計測できるシステムを導入し、リアルタイムでの均一性モニタリングを行います。

​対策に役立つ製品例

高精度ガス流量制御ユニット

成膜プロセスに必要なガスを極めて正確に制御し、成膜速度の均一性を向上させます。

ウェーハ搬送用ダンピング機構

ウェーハ搬送時の微細な振動を吸収し、成膜プロセスへの悪影響を低減します。

プロセス最適化支援ソフトウェア

過去の成膜データや物理モデルに基づき、最適なプロセス条件を提案し、均一な膜形成を支援します。

広帯域エリプソメトリ計測装置

ウェーハ上の複数箇所を短時間で高精度に計測し、膜厚分布のばらつきを詳細に把握することを可能にします。

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