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露光解像度とは?課題と対策・製品を解説

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ウェーハプロセスにおける露光解像度とは?
ウェーハプロセスの露光解像度とは、半導体製造における微細な回路パターンをウェーハ上に転写する際の最小パターンサイズを指します。パワーデバイスやパワーモジュールでは、高効率化や小型化のために、より高精細な回路パターン形成が求められており、露光解像度の向上が不可欠です。
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パッシブ除振台
【パワーモジュール製造・組立工程向け】HIWINウエハアライナー
SiC・GaN などのパワーデバイスやパワーモジュールは、高耐圧・大電流・高温動作といった厳しい条件下で使用されるため、製造・検査・評価工程における位置決め精度と再現性が製品品質を大きく左右します。わずかな位置ズレや傾きでも、測定誤差や接触不良、特性評価のばらつきにつながります。HIWINウエハアライナーは、、ウエハや基板を高精度に位置決め・調整できる機構を備え、パワーデバイス/パワーモジュール工程において安定したアライメント精度と繰返し性能を実現します。
【活用シーン】
・ウエハ・デバイス位置合わせ精度の向上による測定信頼性の安定化
・再現性の高いアライメントにより、電気特性評価のばらつきを低減
・自動化装置への組込みによる検査・評価工程の省人化
・高速かつ安定した動作によるタクトタイム短縮
【導入の効果】
・パワーデバイス(SiC/GaN)ウエハの電気特性評価
・パワーモジュール用チップの位置合わせ・仮固定工程
・プローバ・検査装置におけるウエハアライメント機構
・高温 ・高電圧環境での信頼性試験装置
露光機用 UV-LED光源『ULA シリーズ』
露光機用 UV-LED光源『ULA シリーズ』は、露光機用のUV-LEDランプです。
【特長】
■ 各種光学仕様に対してカスタマイズ可能
■ 波長:365nm, 385nm, 405nm各種混合可能
■ プロキシミティ/コンタクトアライナーの光源と置き換え可能
■ 高生産:水銀ランプに対して同等以上の照度を実現
■ 消費電力削減:圧倒的なランニングコストダウンを実現
■ 省スペース:UV-LED 光源と電源部の分離が可能
■ 高速応答性:on/off 照射タイミングでの電子制御
(水銀ランプは 常時点灯、メカニカルシャッター)
※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
小型均一・平行光露光光源「デモ機あり」
UVEシリーズは、超高圧水銀ランプ250W~2000Wまで高性能インテグレーターを使用し、コリメーターレンズを通してワーク面にUV光を均一照射させることができます。
多種の照射径ユニットを取り揃えております。(100~400m/mΦ)
※その他大面積はご相談下さい。
また、各種フィルター等もご要望によりご提案致します。
用途として、半導体ウェハ、水晶発振子等の電子部品の露光、マスクアライナー用光源、各種光学、露光実験装置として幅広く利用して頂 いております。
【特徴】
○ハィパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計
○高安定・長寿命・オゾンレスランプ使用
○用途に応じた照射波長域の選択が可能
○自動化ラインに対応する豊富なリモート機能
○万全なノイズ防止対策
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
工業・電子部品用露光装置
レーザーダイオード 各種
【用途別事例】半導体製造装置用光学部品
6SVGシリーズ UV-LED Power SMD 紫外線








