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パワーデバイス&パワーモジュール

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パターン転写精度の向上とは?課題と対策・製品を解説

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ウェーハプロセスにおけるパターン転写精度の向上とは?

パワーデバイスやパワーモジュール製造におけるウェーハプロセスでは、微細な回路パターンをウェーハ上に高精度に転写することが不可欠です。この精度の向上は、デバイスの性能、信頼性、そして生産効率に直結するため、業界全体の重要な課題となっています。

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低価格短納期で、各種レーザーダイオードをご提供!

レーザーダイオード 各種

〈量産向け高精細 塗布モデル発売開始〉

【特徴】
■材料のコストダウン(液使用効率:~99%)
■工程削減によるスループット向上。
■高精細パターニング~部分コーティングまで幅広くコーティング対応。
■コーティングサイズ:Max 300x300mm or Φ300mm
■FPD、電子部品、半導体パッケージ分野向けに適しています。
■IJ塗布~乾燥まで1台で。
■レジストインク、導電性インク、絶縁インク対応、粒子含有インク対応。
■2液対応可能

※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。

プリンタブルエレクトロニクス向け高精細インクジェット塗布装置

『GA2400』は、PEEK樹脂製クランプでウェハ外周を把持する
エッジグリップ仕様アライナーです。

ウェハ外周を把持し、光センサによる位置決めが可能。
極単純構造にすることにより、製造コストを大幅に削減できます。

また、2相ステッピングモータを使用しています。

【特長】
■ウェハセンタリング:PEEK樹脂製クランプでウェハ外周を把持
■ノッチ位置決め ウェハ外周を把持し、光センサによる位置決め
■2相ステッピングモータ使用
■RS232C通信制御

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

卓上型アライナー『GA2400』

UVEシリーズは、超高圧水銀ランプ250W~2000Wまで高性能インテグレーターを使用し、コリメーターレンズを通してワーク面にUV光を均一照射させることができます。
多種の照射径ユニットを取り揃えております。(100~400m/mΦ)
※その他大面積はご相談下さい。

また、各種フィルター等もご要望によりご提案致します。
用途として、半導体ウェハ、水晶発振子等の電子部品の露光、マスクアライナー用光源、各種光学、露光実験装置として幅広く利用して頂いております。

【特徴】
○ハィパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計
○高安定・長寿命・オゾンレスランプ使用
○用途に応じた照射波長域の選択が可能
○自動化ラインに対応する豊富なリモート機能
○万全なノイズ防止対策

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

小型均一・平行光露光光源「デモ機あり」

自動露光機と、手動露光機を取りそろえています。

工業・電子部品用露光装置

『スリッター DA700』は、ギャング式、ゲーベル式、どちらの切断方法でも
選択可能なマルチスリッターです。

ミクロン単位の刃組みが可能なHAKUSANカッタースタンドを搭載しています。

HAKUSANカッタースタンドは軸のラジアルブレ、スラストブレともに5ミクロン
以下という高精度を実現、切断品質の向上に貢献します。

【特長】
■リチウム電池電極材等の金属基材複合材を高精度・高品質に切断可能
■カッター軸受け機構にセンサーと軸位置調整用サーボモーターを搭載
■刃同士のクリアランス変動を最小限に抑える自動制御が可能
■イージーオペレーションを実現
■陽極材、陰極材、セパレータ等異なる素材に合わせて選択可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

電池用材料向けマルチスリッター『スリッター DA700』

半導体LD・光デバイス用3DシミュレーターPICS3Dの様々なオプションや物理モデルについて紹介。

オプション説明一覧 (PICS3D)

シリコンコアテクノロジーグループは、1997年に米国・シリコンバレーに設立したテクノロジー企業です。

シリコンコアテクノロジーグループ会社概要

『LSL-40/100』は、固体UVパルスレーザを用いて当社独自の光学設計により
均一ラインビームを基板に照射し、ワークをステージで動かすことにより
基板全面にLLOプロセスを行うための小型低価格装置です。

新型レーザを採用することにより、LLO品質が格段に向上。
電源のみでご使用いただけます。

【特長】
■小型・低価格(キャスターにより移動可能)
■電源のみで使用可能
■クラス4の安全対策(光路摺動部遮蔽・インターロック安全回路)
■装置を御検討いただくためのデモ機もご用意

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

新型固体UVレーザLLO装置『LSL-40/100』

ナイトライド・セミコンダクター株式会社 製
ハイパワーUV-LED
・NS365L-6SVG 365nm 690mW If500mA 3.8V(Typ)
・NS375L-6SVG 375nm 710mW If500mA 3.8V(Typ)
・NS385L-6SVG 385nm 950mW If500mA 3.8V (Typ)
・NS395L-6SVG 395nm 900mW If500mA 3.6V (Typ)
・NS405L-6SVG 405nm 900mW If500mA 3.6V (Typ)


●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

6SVGシリーズ UV-LED Power SMD 紫外線

露光機用 UV-LED光源『ULA シリーズ』は、露光機用のUV-LEDランプです。

【特長】
■ 各種光学仕様に対してカスタマイズ可能
■ 波長:365nm, 385nm, 405nm各種混合可能
■ プロキシミティ/コンタクトアライナーの光源と置き換え可能
■ 高生産:水銀ランプに対して同等以上の照度を実現
■ 消費電力削減:圧倒的なランニングコストダウンを実現
■ 省スペース:UV-LED 光源と電源部の分離が可能
■ 高速応答性:on/off 照射タイミングでの電子制御
        (水銀ランプは 常時点灯、メカニカルシャッター)

※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。

露光機用 UV-LED光源『ULA シリーズ』

当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。
基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。

ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。

面倒なフォトマスクとウエハの平行調整やギャップ調整は自動で行います。

また,超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で
フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。

ソフト、ハードコンタクトにも対応。

マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、
設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。
基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。

【特長】
■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光
■オートアライメント機能搭載
■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能
■多品種少量生産、研究、開発用途に好適
■省スペース&簡単メンテナンス
■低価格、コンパクトを実現
■超精密UVWステージ搭載
■特殊基板等のオーダーメイド可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

手動等倍露光装置(マニュアルマスクアライナー)

『スクライブ&ブレイク加工』は、加工素材の物性を利用した切断加工方法です。

水を使用しないドライ加工であり、加工速度も高速化が可能。
一方で、素材の物性(特に結晶方位)に大きく影響されるため、加工のプロセス条件を見出すことが難しい側面を持っています。

また、スクライブ&ブレイク手法は、ガラスのような硬くて脆い材料を切断する
方法として古くから使われてきた手法です。

【特長】
■微細加工への対応
 ・薄い基板の小チップ切断にも好適
 ・加工時の振動も少なく、チップが飛んでしまうようなこともほとんどない
■曲線加工への対応
 ・応用で曲線への加工(3D加工)に対応
 ・レーザスクライブでは更に小さい半径での切断が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

スクライブ&ブレイク加工

リチウムイオン二次電池の電極生産用スロットダイ・コーター。パターン塗工と表裏の見当合わせ塗工が可能。塗工巾300mmの狭巾用生産機もあります。

【特徴】
○塗工方式:スロットダイ・パターン塗工
○ライン速度:1~8m/min
○塗工巾:300~600mm
○駆動方式:ACサーボモーターセクショナルドライブ方式
○乾燥方式:ロール支持アーチ型、熱風温度 200℃ Max

康井精機 リチウム二次電池用コーター

『AA2568』は、5、6、8インチウェハ対応アライナーです。

ウェハセンタリングはポリアセタール樹脂製クランプでウェハ外周を把持。

スピンドルで吸着、光センサによる位置決めが可能です。
2相ステッピングモータを使用しています。

【特長】
■ウェハセンタリング:ポリアセタール樹脂製クランプでウェハ外周を把持
■ノッチ位置決め スピンドルで吸着、光センサによる位置決め
■コンパクト、クリーンなボディで清浄度アップ
■RS232C通信制御またはI/O制御

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

卓上型アライナー『AA2568』

当社の『シングルモードファイバ』は、Geドープシリカコア、
ピュアシリカクラッドの構造をもった光ファイバです。

汎用サイズであるクラッド径125μmからクラッド径30μmまで細径なファイバの
作製が可能です。
また、任意のカットオフ波長を選択することも可能です。

お客様のご要望に応じた光ファイバの設計、製造、評価まで一貫した製品作りを
行っておりますので、オリジナルファイバの製作が可能です。

【特長】
■長距離伝送用
■高ビーム品質
■高い集光性

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

特殊光ファイバ『シングルモードファイバ』

“ダイシング加工”は、ダイヤモンドブレードを使用して、基板をサイの
目状に切断する加工方法です。 当社では半導体ウエハーや光学ガラス部品、
セラミック等の基板を0.5mm~のサイズに加工することが可能です。

お求めの製品仕様に合わせて条件を設定いたします。
ダイシングテープの場合はコスト面で有利です。
ワックス等でのカットは外形寸法の精度追求や異形基板のダイシングに効果的です。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【ラインアップ】
■ガラスダイシング
■セラミックダイシング
■厚物/異素材積層ウエハーダイシング
■結晶ダイシング

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ダイシング加工サービス

【対応可能光源】

■超高圧水銀灯(g/h/i-line)対応ARコート
■超高圧水銀灯(g/h/i-line)対応AL増反射ミラー
■365nmHR
■無偏光ビームスプリッター(ハイブリッドタイプ)
■780nmPBS

※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

【用途別事例】半導体製造装置用光学部品

旭精工株式会社の治具による製品事例を紹介します。
半導体部品に使用される材質 AL52Sの加工製品です。
細くて長いので反りや取り扱いが難しいのですが、高精度治具の製作技術がある旭精工株式会社ならではの製品です。
この製品のエンドユーザー様は、あのインテルです。
もちろん、コピーイグザクトリー製品かつROHS対応品です。

【仕様】
○分類:治具による精度部品
○材質:AL52S
○サイズ:20*20*500
○加工精度:±0.01
○表面処理:脱脂

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【製品事例】治具による製品 精度部品 AL52S

ランプメーカーとして、光源と光学系技術の開発・応用力の粋を集めた超高圧水銀ランプ、クセノンショートアークランプ、DEEP UV ランプ、メタルハライドランプ(GLシリーズ)、低圧水銀ランプ、毛細管型高圧水銀ランプ、ハロゲンランプは、露光分野でも高く評価されています。

露光用 ランプシリーズ

ナノインプリント技術のみでは、量産を実現することは出来ません。当社では、実用化に必要となる周辺技術との融合を進め、
独自の超微細加工ファウンドリプラットフォームを構築しました。本ファウンドリサービスをご活用いただくことにより新製品
の開発期間を大幅に短縮することが可能になります。

【量産承ります!】ナノインプリントファウンドリ 量産受託サービス

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ウェーハプロセスにおけるパターン転写精度の向上

ウェーハプロセスにおけるパターン転写精度の向上とは?

パワーデバイスやパワーモジュール製造におけるウェーハプロセスでは、微細な回路パターンをウェーハ上に高精度に転写することが不可欠です。この精度の向上は、デバイスの性能、信頼性、そして生産効率に直結するため、業界全体の重要な課題となっています。

課題

微細化に伴う露光限界

デバイスの小型化・高機能化が進むにつれて、より微細なパターンを形成する必要が生じていますが、従来の露光技術では解像度の限界に達しつつあります。

マスク欠陥の影響増大

微細なパターンでは、マスク上のわずかな欠陥がウェーハ上の回路にそのまま転写され、デバイス不良の原因となるリスクが高まります。

プロセス変動による精度低下

温度、圧力、薬液濃度などのプロセス条件のわずかな変動が、パターンの寸法や位置のずれを引き起こし、転写精度を低下させます。

異物混入によるパターン乱れ

クリーンルーム環境であっても微細な異物が混入すると、露光や現像工程でパターンが乱れ、設計通りの回路形成が困難になります。

​対策

次世代露光技術の導入

より高い解像度を持つEUV(極端紫外線)露光やマルチパターニング技術などを導入し、微細パターンの転写限界を突破します。

高精度マスク検査・補修

マスク上の欠陥を早期に発見し、高精度に補修する技術を確立することで、転写されるパターンの品質を確保します。

プロセス制御の最適化

AIや機械学習を活用し、リアルタイムでプロセス条件を監視・最適化することで、変動要因を抑制し安定した精度を実現します。

高度な清浄度管理

製造環境の清浄度を極限まで高め、異物混入を徹底的に排除するシステムを導入し、クリーンなウェーハプロセスを維持します。

​対策に役立つ製品例

高解像度リソグラフィ装置

従来の露光装置よりも格段に高い解像度を実現し、微細なパターンを正確にウェーハ上に転写することを可能にします。

先進マスク検査システム

微細なマスク欠陥を高感度で検出し、その位置やサイズを正確に特定することで、不良転写のリスクを低減します。

プロセス最適化ソフトウェア

製造データを分析し、最適なプロセス条件をリアルタイムで提案・実行することで、歩留まり向上と精度安定化に貢献します。

超清浄度製造環境システム

製造エリア全体の空気清浄度を極限まで高め、異物付着を最小限に抑えることで、クリーンなウェーハプロセスを実現します。

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