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パターン転写精度の向上とは?課題と対策・製品を解説

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ウェーハプロセスにおけるパターン転写精度の向上とは?
パワーデバイスやパワーモジュール製造におけるウェーハプロセスでは、微細な回路パターンをウェーハ上に高精度に転写することが不可欠です。この精度の向上は、デバイスの性能、信頼性、そして生産効率に直結するため、業界全体の重要な課題となっています。
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【パワーモジュール製造・組立工程向け】HIWINウエハアライナー
SiC・GaN などのパワーデバイスやパワーモジュールは、高耐圧・大電流・高温動作といった厳しい条件下で使用されるため、製造・検査・評価工程における位置決め精度と再現性が製品品質を大きく左右します。わずかな位置ズレや傾きでも、測定誤差や接触不良、特性評価のばらつきにつながります。HIWINウエハアライナーは、、ウエハや基板を高精度に位置決め・調整できる機構を備え、パワーデバイス/パワーモジュール工程において安定したアライメント精度と繰返し性能を実現します。
【活用シーン】
・ウエハ・デバイス位置合わせ精度の向上による測定信頼性の安定化
・再現性の高いアライメントにより、電気特性評価のばらつきを低減
・自動化装置への組込みによる 検査・評価工程の省人化
・高速かつ安定した動作によるタクトタイム短縮
【導入の効果】
・パワーデバイス(SiC/GaN)ウエハの電気特性評価
・パワーモジュール用チップの位置合わせ・仮固定工程
・プローバ・検査装置におけるウエハアライメント機構
・高温・高電圧環境での信頼性試験装置
パッシブ除振台
露光用 ランプシリーズ
手動等倍露光装置(マニュアルマスクアライナー)
当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。
基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。
ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。
面倒なフォトマスクとウエハの平行調整やギャップ調整は自動で行います。
また,超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で
フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。
ソフト、ハードコンタクトにも対応 。
マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、
設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。
基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。
【特長】
■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光
■オートアライメント機能搭載
■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能
■多品種少量生産、研究、開発用途に好適
■省スペース&簡単メンテナンス
■低価格、コンパクトを実現
■超精密UVWステージ搭載
■特殊基板等のオーダーメイド可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型均一・平行光露光光源「デモ機あり」
UVEシリーズは、超高圧水銀ラ ンプ250W~2000Wまで高性能インテグレーターを使用し、コリメーターレンズを通してワーク面にUV光を均一照射させることができます。
多種の照射径ユニットを取り揃えております。(100~400m/mΦ)
※その他大面積はご相談下さい。
また、各種フィルター等もご要望によりご提案致します。
用途として、半導体ウェハ、水晶発振子等の電子部品の露光、マスクアライナー用光源、各種光学、露光実験装置として幅広く利用して頂いております。
【特徴】
○ハィパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計
○高安定・長寿命・オゾンレスランプ使用
○用途に応じた照射波長域の選択が可能
○自動化ラインに対応する豊富なリモート機能
○万全なノイズ防止対策
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
プリンタブルエレクトロニクス向け高精細インクジェット塗布装置
ダイシング加工サービス
“ダイシング加工”は、ダイヤモンドブレードを使用して、基板をサイの
目状に切断する加工方法です。 当社では半導体ウエハーや光学ガラス部品、
セラミック等の基板を0.5mm~のサイズに加工することが可能です。
お求めの製品仕様に合わせて条件を設定いたします。
ダイシングテープの場合はコスト面で有利です。
ワックス等でのカットは外形寸法の精度追求や異形基板のダイシングに効果的です。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【ラインアップ】
■ガラスダイシング
■セラミックダイシング
■厚物/異素材積層ウエハーダイシング
■結晶ダイシング
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スクライブ&ブレイク加工
『スクライブ&ブレイク加工』は、加工素材の物性を利用した切断加工方法です。
水を使用しないドライ加工であり、加工速度も高速化が可能。
一方で、素材の物性(特に結晶方位)に大きく影響されるため、加工のプロセス条件を見出すことが難しい側面を持っています。
また、スクライブ&ブレイク手法は、ガラスのような硬くて脆い材料を切断する
方法として古くから使われてきた手法です。
【特長】
■微細加工への対応
・薄い基板の小チップ切断にも好適
・加工時の振動も少なく、チップが飛んでしまうような こともほとんどない
■曲線加工への対応
・応用で曲線への加工(3D加工)に対応
・レーザスクライブでは更に小さい半径での切断が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
新型固体UVレーザLLO装置『LSL-40/100』
康井精機 リチウム二次電池用コーター
レーザーダイオード 各種
【用途別事例】半導体製造装置用光学部品
6SVGシリーズ UV-LED Power SMD 紫外線













