酸化膜品質の向上とは？課題と対策・製品を解説

UL認証・CEマーク取得済　SEMI・S2/S3適合 高純度石英インラインヒーター 【特徴】 ○インコネルヒーターを使用したインラインヒーター ○外装はテフロン(PTFE)を使用 ○高温にならないので、窒素パージ、CDA冷却装置などは不要 ○耐圧性に優れる。(4.2Kg/cm2) ○コンパクトサイズ ○縦置き／横置き共に設置可能 ○3kw〜18kwと多彩なラインナップ ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

『断熱リング』は、半導体製造工程で使用される拡散炉・CVD炉用高温断熱材です。 外被材及び縫糸は高耐熱性アルミナ長繊維を使用し、長寿命。外被材組成は Al2O3 72%、SiO2 28%からなり、繊維径は7μmφと細く柔軟性に優れています。 ニチビにしかない高グレード品として、さらに低不純物素材を使用した 先端ニーズ品があります。 【特長】 ■外被材及び縫糸は高耐熱性アルミナ長繊維を使用し、長寿命 ■酸化ホウ素を含有しないアルミナ長繊維を使用した特許製品 ■石英チューブや炭化ケイ素チューブの形状に合わせて縫製加工する ■低不純物素材を使用した先端ニーズ品がある ■外被材組成はAl2O3 72%、SiO2 28%からなり、繊維径は7μmφと 　細く柔軟性に優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

パイロリティックボロンナイトライド（PBN）やタンタルカーバイドは高い耐熱性や耐腐食性を有し、 急速昇降温・超高温を容易に実現できるセラミックスです。 PBNは色々な形状に蒸着製造または加工が可能。 超高温ヒータや高温静電チャック、グラファイト保護コーティングもございます。 PBN機能部品は有機ELの製造プロセス、半導体単結晶成長プロセス、 その他の高温真空プロセスなどの改善に貢献します。 【特長】 ■12インチウェハ（300mmウェハ）にも対応 ■超高真空・高温（1700℃※）条件で使用できる ■高温下でも高い電気絶縁性を維持できる ■靭性があるため割れにくい ■化学的に安定 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、電極の焼成の事例紹介です。 ハロゲンヒータを使用することで、ハロゲンヒータが持つ 高速昇温性、配熱分布や放射波長により 基板や電極材料の特性にマッチした熱処理を行うことができる ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

『LMS蛍光体』は、白色LEDに使用される希土類励起の シリケート系蛍光体です。 結晶化度はYAGに比べ優れており、白色LEDに向けて幅の広い励起帯域を 持っているためUVチップや青色チップ、さらには青緑チップも お使い頂けます。 様々な色温度や指標に対応可能となるように、現在発光ピーク波長を 基準として多彩なラインアップをご用意しております。 【特長】 ■優れた化学安定性 ■毒性・放射性物質を含まない ■環境に対して安全 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『パルセラム BT』は、蓚酸塩法で合成されたチタン酸バリウム （BaTiO3）です。 古くからコンデンサの材料として使用され、特に積層セラミックス コンデンサ（MLCC；Multi Layer Ceramics Capacitor）の誘電体原料として 長年使用されています。 当社では微粒化タイプの他、粒子径が2.0μm以上の大粒子タイプも 取り揃えておりますので、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■高い誘電率 ■組成比（Ba/Ti 比）の安定したチタン酸バリウムが得られる ■高純度品の合成が可能 ■粒度のそろった粒子が得られる ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高温窒素パージホットプレート「PH-212-600型」は、窒素パージ高温（600℃）対応の 高温ヒーター仕様です。ダイボンディング、はんだ付けなど、幅広いアプリケーションにも対応（生産、試作、評価、分析など）しています。ワーク、アプリケーションに合わせて、チャンバー構造、ガス噴出しパターンなどがカスタマイズ可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。

SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（高速昇降温加熱）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○熱容量が小さく、3000K以上のフィラメントから照射される 　輻射光により、高温/急速昇降温といった加熱特性に優れた熱源 ○半導体や耐用電池の熱処理プロセスにおいて 　酸化膜形成、不純物拡散、シリサイド形成、電極焼成など 　多くの工程で使用される ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。伝統と豊富な実績を持つウシオ社の

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源によるRTPの事例紹介です。 かつての半導体熱処理は、ファーネス（断熱）が一般的だったが ナノオーダーのデバイスの場合、薄い膜形成や浅い接合が必要となり アイソサーマルの代名詞ともなっているRTPがキーテクノロジーとなっています。 また、次世代半導体においては、熱流束技術として フラッシュランプアニールが主流となっています。 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

液晶パネル製造などに使用する現像液、剥離液・溶剤の加熱に特化したヒーター 【特徴】 ○表面温度の均一性と安全対策に充分対処 ○表面温度のばらつきが少なく、温度劣化を起こす薬液の管理が容易になる ○安全を確保するため、アルミ鋳込みヒーターを採用し接液部に万一不具合が 　発生しても、発熱体に影響が及ばない構造 ○温度劣化をおこす薬液には、安全な表面温度になるように設計 ○端子函は安全増し防爆構造に準拠 ●薬液槽との取り合いは、サニタリーフェルールを標準としていますが 　ご要望に合わせ、ＪＩＳフランジ、特殊フランジに対応可能です 　お気軽にお問い合わせ下さい