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パワーデバイス＆パワーモジュール

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プロセス時間短縮とは？課題と対策・製品を解説

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ウェーハプロセスにおけるプロセス時間短縮とは？

パワーデバイス＆パワーモジュール業界におけるウェーハプロセスのプロセス時間短縮とは、半導体チップ製造の基盤となるウェーハ上に、デバイス構造を形成する一連の工程にかかる時間を削減することです。これにより、生産性の向上、コスト削減、市場投入までのリードタイム短縮を目指します。

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シリンダヒーター

シリンダヒーター
株式会社セラ
液晶パネル製造などに使用する現像液、剥離液・溶剤の加熱に特化したヒーター 【特徴】 ○表面温度の均一性と安全対策に充分対処 ○表面温度のばらつきが少なく、温度劣化を起こす薬液の管理が容易になる ○安全を確保するため、アルミ鋳込みヒーターを採用し接液部に万一不具合が 　発生しても、発熱体に影響が及ばない構造 ○温度劣化をおこす薬液には、安全な表面温度になるように設計 ○端子函は安全増し防爆構造に準拠 ●薬液槽との取り合いは、サニタリーフェルールを標準としていますが 　ご要望に合わせ、ＪＩＳフランジ、特殊フランジに対応可能です 　お気軽にお問い合わせ下さい
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新型固体UVレーザLLO装置『LSL-40/100』

新型固体UVレーザLLO装置『LSL-40/100』
株式会社オプトピア
『LSL-40/100』は、固体UVパルスレーザを用いて当社独自の光学設計により 均一ラインビームを基板に照射し、ワークをステージで動かすことにより 基板全面にLLOプロセスを行うための小型低価格装置です。 新型レーザを採用することにより、LLO品質が格段に向上。 電源のみでご使用いただけます。 【特長】 ■小型・低価格(キャスターにより移動可能) ■電源のみで使用可能 ■クラス4の安全対策(光路摺動部遮蔽・インターロック安全回路) ■装置を御検討いただくためのデモ機もご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【半導体関連】電力消費量が少ない イオン交換膜電解槽

【半導体関連】電力消費量が少ない イオン交換膜電解槽
株式会社イープラン
イープランはイオン交換膜電解槽の設計・製作について深い知識を有していると自負しております。 イオン交換膜電解槽ユニットはイオン交換膜、ガスケット、電解槽枠、入口、出口ヘッダー、入口、出口ホース、それらを装着するプレスなどを指します。 食塩電解の場合ですと40A/dｍ2でサイズが1200×2400で約90枠を油圧プレスなどで装着したものが１万トン/Y-Naoh生産量に匹敵します。 この場合、電解槽枠の陽極側の材料はチタンで出来ており、溶接や曲げ加工に熟練を要し、 陰極側の材料は苛性ソーダの濃度によって使い分けられており、純ニッケルを使用いたします。 これらの技術を応用したものに最近、硫酸電解槽、また半導体関係の高純度精製装置にも多く使用されております。 【技術的特長】 ・電解電圧が低く、電力消費量が少ない ・陽極室と陰極室を爆着によって確実に接合でき導電性が良い ・溶接部が少ないため漏洩が皆無である ・熱や圧力による応力解析を行うことが出来る ※詳しくはお問い合わせください。
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露光機用 UV-LED光源『ULA シリーズ』

露光機用 UV-LED光源『ULA シリーズ』
株式会社サーマプレシジョン
露光機用 UV-LED光源『ULA シリーズ』は、露光機用のUV-LEDランプです。 【特長】 ■ 各種光学仕様に対してカスタマイズ可能 ■ 波長：365nm, 385nm, 405nm各種混合可能 ■ プロキシミティ/コンタクトアライナーの光源と置き換え可能 ■ 高生産：水銀ランプに対して同等以上の照度を実現 ■ 消費電力削減：圧倒的なランニングコストダウンを実現 ■ 省スペース：UV-LED 光源と電源部の分離が可能 ■ 高速応答性：on/off 照射タイミングでの電子制御 　　　　　　 　(水銀ランプは 常時点灯、メカニカルシャッター) ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
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静電チャック・ESC向け雰囲気焼成炉

静電チャック・ESC向け雰囲気焼成炉
株式会社サーモニックENG
静電チャック（ESC）やセラミックス部品の焼成・還元処理・脱バインダー処理に対応した、雰囲気制御型の高温焼成炉です。 N₂およびN₂＋H₂還元雰囲気での運転に対応し、常用1000℃、最高1650℃までの高温処理が可能です。 また、オプションによりWetガス導入・露点制御・Dry/Wet切替にも対応できるため、材料の焼き上がり、緻密化、絶縁性、表面状態、内部電極状態などの条件検討に活用できます。 同一チャンバー内で雰囲気を切り替えながら処理できるため、工程間の移動や外気曝露を抑制し、焼成条件の再現性向上、ばらつき低減、試作評価の効率化に貢献します。 ESC向けの焼成条件出し、N₂＋H₂還元処理、露点管理を伴うセラミックス焼成でお困りの場合は、お気軽にご相談ください。
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卓上型アライナー『AA2568』

卓上型アライナー『AA2568』
アテル株式会社
『AA2568』は、5、6、8インチウェハ対応アライナーです。 ウェハセンタリングはポリアセタール樹脂製クランプでウェハ外周を把持。 スピンドルで吸着、光センサによる位置決めが可能です。 2相ステッピングモータを使用しています。 【特長】 ■ウェハセンタリング：ポリアセタール樹脂製クランプでウェハ外周を把持 ■ノッチ位置決め　スピンドルで吸着、光センサによる位置決め ■コンパクト、クリーンなボディで清浄度アップ ■RS232C通信制御またはI/O制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【モーター結束】PPS製編組コード『Tie Cord PPS』

【モーター結束】PPS製編組コード『Tie Cord PPS』
レラッツジャパン株式会社
機械的強度と樹脂との高い適合性を備えたモーター結束用途に適したPPS製編組コード『Tie Cord PPS』
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半導体　ヌードゲージフィラメント

半導体　ヌードゲージフィラメント
セミバック株式会社
セミバック株式会社より、「ヌードゲージフィラメント」のご案内です。
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MEMSファンドリーサービス (ウエハ受託加工サービス）

MEMSファンドリーサービス (ウエハ受託加工サービス）
日本MEMS株式会社
MEMSの部分工程請負、全体開発試作から量産ファンダリまで幅広く対応します。 ２インチや異型の基板から12インチ(300mm)のMEMSラインのネットワークによりあらゆるご要望に対応。 １枚からの露光、エッチング受託加工、成膜サービス等もお気軽にご相談ください。 本格的なMEMS専用ラインでのファンドリーサービスです。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス 　スパッタ法で４，５，６，８インチに対応 ・Siディープエッチングサービス 　２～１２インチに対応します ・100℃以下の低温CVD膜付けサービス 　２～６インチに対応します。 ・8インチ, 12インチMEMSファンドリーサービス 　大型チップ向けMEMS製造が可能 ※詳細はPDFをダウンロード下さい。
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遠赤外線卓上加熱炉導入ガイド【事例資料を無料で進呈中】

遠赤外線卓上加熱炉導入ガイド【事例資料を無料で進呈中】
TPR商事株式会社
生産現場の多くで使用されているバッチ式の熱風加熱炉は、 加熱処理時間が長く、人手がかかるというデメリットがありました。 TPR商事の『遠赤外線卓上加熱炉』は、独自の遠赤ヒーターQUTクイックウルトラサーモを採用して、 樹脂やゴムのワークの加熱処理時間を劇的に短くできる可能性があります。 加熱処理の時短が叶えば、インライン化も可能です。 『遠赤外線卓上加熱炉』による時短事例を、無料で進呈しています。 興味がある方は、下記「PDFダウンロード」からダウンロード下さい。
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GEM300ドライバ

GEM300ドライバ
株式会社ラポールシステム
ご不明な点がございましたら、お気軽にお問合せ下さい。
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新熱工業のシーズヒーターを活かした『半導体・液晶装置用ヒーター』

新熱工業のシーズヒーターを活かした『半導体・液晶装置用ヒーター』
新熱工業株式会社
新熱工業では、一貫したシーズヒーター製造販売の技術を活かし、 『半導体、液晶装置用ヒーター』を取り扱っています。 シーズヒーターの専門メーカーだからこそ実現できる多種多様な ヒーターを組込んだ製品をご提案いたします。 プレート材質、加工方法、使用温度、容量などから最適なヒーター 仕様を選定いたします。 各種ヒーターは電気的に絶縁されており、直接加熱が可能です。 振動、衝撃に優れ、発熱線が酸化されにくいために長寿命。 【特長】 ■プレート材質、加工方法、使用温度、容量などから最適なヒーター 　仕様を選定。 ■各種ヒーターは電気的に絶縁されており、直接加熱が可能。 ■表面処理を行うことでガスによる耐腐食性に優れている。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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メタル炉｜セラミックスや金属のろう付けを高純度雰囲気で

メタル炉｜セラミックスや金属のろう付けを高純度雰囲気で
株式会社サーモニックENG
当社で取り扱う「メタル炉」は、セラミックスや金属の封着・ろう付け・拡散接合に適した高純度雰囲気炉です。 微量O2/H2O/炭化水素は、濡れ性・界面反応・気密性に影響します。 メタル炉は高真空雰囲気とMo/W系金属ホットゾーンにより、炭素・有機由来の汚染を抑えた熱処理が可能です。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール、封止処理にも適用できます。 【特長】 ■ 高真空雰囲気で残留ガスの影響を低減 ■ 金属ホットゾーンによりクリーン雰囲気を維持 ■ ±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■ 金属治具や荷重機構との組合せが可能 ■ 試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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連続式熱処理炉

連続式熱処理炉
大村技研株式会社
大村技研の『連続式熱処理炉』は、均一な温度による電子部品の 連続熱処理に用いることが出来る装置です。 あらゆる電子部品の熱処理に対応可能で、多品種・小ロットの電子部品の 熱処理に適しています。 高精度な温度コントロールにより歩留まり向上に貢献します。 【特長】 ■均一な温度による電子部品の連続熱処理に ■多品種・小ロットの電子部品に対応 ■高精度な温度コントロール ■要求仕様により設計製作が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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ウシオの光で出来ること『高速昇降温加熱』

ウシオの光で出来ること『高速昇降温加熱』
ウシオ電機株式会社
伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（高速昇降温加熱）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○熱容量が小さく、3000K以上のフィラメントから照射される 　輻射光により、高温/急速昇降温といった加熱特性に優れた熱源 ○半導体や耐用電池の熱処理プロセスにおいて 　酸化膜形成、不純物拡散、シリサイド形成、電極焼成など 　多くの工程で使用される ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。伝統と豊富な実績を持つウシオ社の
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今さら聞けない【半導体の基礎知識】～イオン注入～※イラスト解説

今さら聞けない【半導体の基礎知識】～イオン注入～※イラスト解説
株式会社イオンテクノセンター
当資料では、イオン注入の基礎として、目的、装置、その評価についてイラストにてご紹介しています。 株式会社イオンテクノセンターでは、研究開発のためのサンプル作製から 量産請負まで、半導体の前工程のプロセスの受託サービスを行っています。 イオン注入でお困りでしたら、是非当社にお任せください。 【掲載内容】 ■イオン注入の基礎知識
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ドライ電極(開発品)

ドライ電極(開発品)
三菱鉛筆株式会社
当社で取り扱う、『ドライ電極(開発品)』をご紹介します。 乾燥、溶剤回収工程を削減し、コスト、環境負荷を低減。 筆記用具開発で培った高い技術力、品質安定化マスターバッチでの ご提案も検討中です。 当製品を用いたセル設計を当社と一緒に開発しましょう。 【ドライプロセス】 ■混錬 ■シート化 ■電極化 ■巻取り ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【事例紹介】RTP（ラピッドサーマルプロセス）

【事例紹介】RTP（ラピッドサーマルプロセス）
ウシオ電機株式会社
伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源によるRTPの事例紹介です。 かつての半導体熱処理は、ファーネス（断熱）が一般的だったが ナノオーダーのデバイスの場合、薄い膜形成や浅い接合が必要となり アイソサーマルの代名詞ともなっているRTPがキーテクノロジーとなっています。 また、次世代半導体においては、熱流束技術として フラッシュランプアニールが主流となっています。 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
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【カーボン製品の用途】半導体・太陽電池

【カーボン製品の用途】半導�体・太陽電池
株式会社レイホー製作所
半導体分野では、高純度処理をした黒鉛材が必要とされており、シリコン 単結晶引上炉用の部材（ルツボ、ヒーター）などは不純物を嫌います。 一般的な人造黒鉛素自体は99.9%（代表値でCIP材約800ppm以下）は不純物の ない素材となっております。 当社では、半導体関連部材・化合物半導体の製造工程、光ファイバー、 熱処理用サセプター、ダミーウ工ハー、薄膜太陽電池の製造装置部材なども、 製造しております。 【製品（抜粋）】 ■高純度カーボン発熱体 ■シリコン引上用ルツボ ■半導体製造装置治具 ■カーボンスパッタリングターゲット ■固体高分子形燃料電池などのセパレータ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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真空乾燥機　リチウムイオン電池　原料用　

真空乾燥機　リチウムイオン電池　原料用　
株式会社島川製作所
リチウムイオン電池の原料への厳格な加熱温度管理や急速な昇温、降温を要求される工程に対応するため、従来の真空乾燥機にない機構を採用しています。 N2雰囲気加熱も対応可能です。
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真空乾燥システム

真空乾燥システム
大村技研株式会社
大村技研の『真空乾燥システム』は、充電池やリチウムイオン電池、 リチウムイオンキャパシタ極板等の水分及び溶剤乾燥に利用する装置です。 多数本による乾燥で省スペース化、乾燥時間短縮を実現。 また、高精度な温度コントロールにより、歩留まり向上に貢献します。 フルカスタム対応による製作で、お客様の要望に応えます。 【特長】 ■フルカスタム対応による製作で仕様の満足度に貢献 ■多数本による乾燥で省スペース化に貢献 ■高精度な温度コントロール ■乾燥時間短縮による省エネ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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軽接触式気化器　VU-900 series

軽接触式気化器　VU-900 series
株式会社リンテック
High-kや各種メタルなど、熱分解しやすい液体気化に適した気化器です 【特長】 ○液体を気化器の器壁（金属製）に接触する機会が少なく、 　 （軽接触）効率よく気化 ○アトマイザによる液滴化とブローガスによる微細化による 　 高効率気化 ○液体マスフローメータLM-3000L seriesとの組合せにより、 　 液体材料を精密流量制御し、効率良く気化（US PAT.5372754） ○熱分解し易い液体を低温にて気化する方式の気化器 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
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【事例紹介】電極の焼成

【事例紹介】電極の焼成
ウシオ電機株式会社
伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、電極の焼成の事例紹介です。 ハロゲンヒータを使用することで、ハロゲンヒータが持つ 高速昇温性、配熱分布や放射波長により 基板や電極材料の特性にマッチした熱処理を行うことができる ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
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SiCの研削 加工事例

SiCの研削 加工事例
日本エンギス株式会社
今後の市場拡大が予想されるSiC(シリコンカーバイド)、 GaN(ガリウムナイトラ)などのパワーデバイスにおいて、コスト削減は 重要な課題です。 その中でも、従来の加工プロセスと異る方法でコスト 削減を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ＜0.5nm (後工程CMP) ■TTV＜2μm/Warp＜10μm ■高速圧研磨装置『EJD-6BY』と 　固定砥石 『MAD Plate』を使用することで 　SiCの両面研削加工を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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康井精機　リチウム二次電池用コーター

康井精機　リチウム二次電池用コーター
株式会社康井精機
リチウムイオン二次電池の電極生産用スロットダイ・コーター。パターン塗工と表裏の見当合わせ塗工が可能。塗工巾300mmの狭巾用生産機もあります。 【特徴】 ○塗工方式：スロットダイ・パターン塗工 ○ライン速度：1～8m/min ○塗工巾：300～600mm ○駆動方式：ACサーボモーターセクショナルドライブ方式 ○乾燥方式：ロール支持アーチ型、熱風温度　200℃ Max
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卓上型アライナー『GA2400』

卓上型アライナー『GA2400』
アテル株式会社
『GA2400』は、PEEK樹脂製クランプでウェハ外周を把持する エッジグリップ仕様アライナーです。 ウェハ外周を把持し、光センサによる位置決めが可能。 極単純構造にすることにより、製造コストを大幅に削減できます。 また、2相ステッピングモータを使用しています。 【特長】 ■ウェハセンタリング：PEEK樹脂製クランプでウェハ外周を把持 ■ノッチ位置決め ウェハ外周を把持し、光センサによる位置決め ■2相ステッピングモータ使用 ■RS232C通信制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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IPAミスト直接置換乾燥装置『IMD IIID』

IPAミスト直接置換乾燥装置『IMD IIID』
ワイエイシイメカトロニクス株式会社
当社の従来製品「IMD III」を使用して薄ウェハの乾燥処理を 行った場合、ウェハとキャリアを分離した際、隣のウェハ同士が 接触する問題が生じ、乾燥不良の原因となっていました。 『IMD IIID』は、純水引き下げで乾燥処理開始後、ウェハ上部が 純水面から出た直後にウェハ上部を保持。 その後、ウェハとキャリアを分離することにより、ウェハ同士の 接触を防止して、キャリアレス乾燥と同等の乾燥能力を提供できます。 【特長】 ■ウォーターマークレス乾燥 ■純水引き下げ方式によるマランゴニ乾燥 ■従来乾燥法では困難な薄ウェハの乾燥 ■IPA消費量の削減（10～20cc/1バッチ） ■3”～8”ウェハの乾燥が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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真空蒸着用製品『スペシャルボート（一例）』

真空蒸着用製品『スペシャルボート（一例）』
イムテック株式会社
イムテック株式会社では、抵抗加熱法で行う真空蒸着用ボートを取り扱っております。 真空蒸着用ボートには、スタンダードとスペシャルタイプのボートがあります。 スペシャルタイプはBEシリーズで、モリブデンとタングステン材がありますが、タンタルも製作できます。 その他、ご希望の形状に応じて製作いたしますので、ご相談ください。 【スペシャルボート（一例）】 ○製品名：BE-1、BE-2、BE-3、BE-4、BE-7、BE-8 ○深さ：3、5.5 ○高さ：5、10，12 ○板厚：0.2、0.3 ○この他にBE-10～20などもあります 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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修理-2

修理-2
株式会社P.R.A.
※詳細は添付PDFの参照、及びお気軽に弊社宛に直接お問い合わせ下さい。 047-369-3389
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拡散炉・CVD炉用高温断熱材『断熱リング』

拡散炉・CVD炉用高温断熱材『断熱リング』
株式会社東京興業貿易商会
『断熱リング』は、半導体製造工程で使用される拡散炉・CVD炉用高温断熱材です。 外被材及び縫糸は高耐熱性アルミナ長繊維を使用し、長寿命。外被材組成は Al2O3 72%、SiO2 28%からなり、繊維径は7μmφと細く柔軟性に優れています。 ニチビにしかない高グレード品として、さらに低不純物素材を使用した 先端ニーズ品があります。 【特長】 ■外被材及び縫糸は高耐熱性アルミナ長繊維を使用し、長寿命 ■酸化ホウ素を含有しないアルミナ長繊維を使用した特許製品 ■石英チューブや炭化ケイ素チューブの形状に合わせて縫製加工する ■低不純物素材を使用した先端ニーズ品がある ■外被材組成はAl2O3 72%、SiO2 28%からなり、繊維径は7μmφと 　細く柔軟性に優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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『キュア炉』

『キュア炉』
調和工業株式会社
調和工業株式会社では各種製品の特殊制作を受注しております。 『キュア炉』は、太陽電池などの大型基板の乾燥に使用できる炉です。 棚が引出型で試料を引出すことが可能で、最大300℃まで対応できます。 大型基板のエージングに適しています。 仕様に合わせた寸法の製作も可能です。 【特長】 ■引出型の棚で試料を引き出せる ■最大温度300℃まで対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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高純度石英インラインヒーター　ACCUHEAT（R)

高純度石英インラインヒーター　ACCUHEAT（R)
株式会社ヒロテック
UL認証・CEマーク取得済　SEMI・S2/S3適合 高純度石英インラインヒーター 【特徴】 ○インコネルヒーターを使用したインラインヒーター ○外装はテフロン(PTFE)を使用 ○高温にならないので、窒素パージ、CDA冷却装置などは不要 ○耐圧性に優れる。(4.2Kg/cm2) ○コンパクトサイズ ○縦置き／横置き共に設置可能 ○3kw〜18kwと多彩なラインナップ ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
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バッチ式プラズマ処理装置

バッチ式プラズマ処理装置
株式会社日立ハイテク
「バッチ式プラズマ処理装置」はLCP・PTFE等の貼付け前処理、デスミア・ドライフィルムの残渣除去に使用可能です。 世界各国の量産工場で200台以上稼働実績があります。 ＜製品特長＞ １．高速、高均一 両面処理 ２．豊富な実績 ３．面内均一冷却 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
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リチウムイオン用連続エッジング方式集電体【独自技術でコスト削減】

リチウムイオン用連続エッジング方式集電体【独自技術でコスト削減】
株式会社キング製作所
リチウムイオン及び電気二重層キャパシタ用正極集電体・負極集電体として使用されます。硬度・純度・厚み・孔径精度・開孔率等の指示を頂ければ正極集電体・負極集電体を作成いたします。 【特長】 ・コスト削減 ・軽量化 ・用途様々 ・電解液の安定性や熱交換性 ※詳細はお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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リチウムイオン電池材料向けスプレードライヤ

リチウムイオン電池材料向けスプレードライヤ
GEAジャパン株式会社
リチウムイオン電池の関連技術は日進月歩であり、それぞれの材料においても技術革新が求められています。GEA Niro では、多様なリチウムイオン電池材料に対して、それぞれの特性に応じた噴霧乾燥技術をご提供いたします。
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イオン注入　タングステン・モリブデン製品

イオン注入　タングステン・モリブデン製品
プランゼージャパン株式会社
プランゼーのタングステン・モリブデン製アークチャンバーは、材料メーカーだからこそ保証できる高品質タングステン・モリブデン素材を使用し、プランゼー日本工場の高い品質基準の下で製造されています。
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冷陰極ランプベーキング機

冷陰極ランプベーキング機
株式会社成田製作所
『冷陰極ランプベーキング機』は、 石英ガラス管搬送タイプの蛍光体焼成機です。 加熱温度800℃で、ガス炉、電気炉共に実績があります。 石英ガラス管からのランプの取入取出機構を備え、 バッチ型・インライン型はご要望により対応します。 【特長】 ■石英ガラス管搬送タイプ ■加熱温度800℃ ■ガス炉・電気炉共に実績あり ■バッチ型・インライン型はご要望により対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【モーター結束】Nomex製編組コード『Nomex』

【モーター結束】Nomex製編組コード『Nomex』
レラッツジャパン株式会社
機械的強度と樹脂との高い適合性を備えたモーター結束用途に適したNomex製編組コード『Tie Cord Nomex』
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GaN/Al2O3専用高脆材研削砥石

GaN/Al2O3専用高脆材研削砥石
株式会社フェムテック
当製品は、研削液を砥石の中から滴入し被削材に充分な研削液の供給を実現した GaN/Al2O3専用高脆材研削砥石です。 従来から課題でありました研削液の供給を砥石の中から滴入することにより、 研削スピードの効率化と目詰まり防止効果を高めました。 温度変化による研削性能のバラツキや砥石の局部温度上昇による早期炭化を防ぎ、 安定した研削加工が可能になります。 【特長】 ■砥石の中から研削液供給実現 ■エッジチッピングの大幅低減 ■集中度180 研削効率大幅U ■ビトリファイドボンディング ■ポア効果による目詰まり解消 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K
エムエス機器株式会社
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減
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【電池業界で活躍】パムアペックスミキサ　バッチ式/連続式

【電池業界で活躍】パムアペックスミキサ　バッチ式/連続式
大平洋機工株式会社
「パムアペックスミキサ」は、ショベル羽根による浮遊拡散混合と高速回転するチョッパー羽根による高速剪断分散作用で高品質な製品が得られます。 配合割合、比重が大きく異なる粉体の混合に適しています。 機械はお客様ニーズに合わせて1台毎のカスタマイズに対応いたします。 電池業界では正極材、負極材の混合で使用されており特に正極材の連続混合用途で、問合せが増加しています。 バッチ、連続ともに小型の試験機がございますのでテスト対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードお願いいたします。
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真空加圧注液含浸装置

真空加圧注液含浸装置
株式会社協真エンジニアリング
リチウムイオン電池セルに真空中で電解液を注ぎ、 加圧により含浸させる真空加圧注液含浸装置のご紹介です。 ■□■特徴■□■ ■加圧することにより、セパレータや電極表面物質に電解液を確実に 高速含浸することができる ■真空度と圧力の管理が行える その他機能や詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。
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テフロンヒーター（薬液加熱用投げ込みテフロン被覆ヒーター）

テフロンヒーター（薬液加熱用投げ込みテフロン被覆ヒーター）
株式会社大興製作所
お客様のご要望・仕様に合わせて設計・製作致しますので、一度お問い合わせください。
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【配線結束】ポリエステル製編組コード『Polyester』

【配線結束】ポリエステル製編組コード『Polyester』
レラッツジャパン株式会社
断熱性と機械的保護性能を備えたポリエステルヤーン編組スリーブ 『Tie Cord Polyester』
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炭化ケイ素・石原ケミカル株式会社

炭化ケイ素・石原ケミカル株式会社
石原ケミカル株式会社
石原ケミカルではセラミックス加工での実績のもと、高品質の加工品を短納期で提供します。
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【配線結束】ガラス繊維製編組コード『Fiberglass』

【配線結束】ガラス繊維製編組コード『Fiberglass』
レラッツジャパン株式会社
機械的強度と樹脂との高い適合性を備え、モーター結束用途に適したガラスファイバー製編組コード『Tie Cord Fiberglass』
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研磨技術『SiC ウエハー』

研磨技術『SiC ウエハー』
株式会社ティ・ディ・シー
電子部品製造・加工業を行うTDCでは、次世代パワーデバイス材料 『SiC ウエハー』の革新的研磨技術を確立しました。 SiCは大変優れた材料特性から、次世代パワーデバイス材料として有望視 されていますが、研磨プロセスのコストが障壁となっていました。 そこで当社では、東北大学多元物質科学研究所との共同研究、産業技術総合 研究所のご指導の下、自社独自の研磨技術を開発し、短時間・低コストで ウエハー品質（粗さ・TTV）を実現することに成功しました。 【特長】 ■東北大学多元物質科学研究所と共同研究 ■SiCの面粗さ・TTVの高精度化を効率的に実現 ■短時間・低コスト ■1個から量産品まで対応 ■材料調達から全加工まで対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』
エムエス機器株式会社
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減
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ロールtoロール方式　真空乾燥装置

ロールtoロール方式　真空乾燥装置
株式会社メイコー
真空中でロール搬送による各種処理が行えます。 主に2次電池の電極の乾燥に適しており、タクト短縮や処理品質の向上に効果があります。もちろん、2次電池以外の高機能フィルムやフレキ材の各種処理にも対応致します。 真空環境で連続均熱乾燥他各種の処理をおこない、搬送速度は最速1000mm／secです。排出ガスをリアルタイムで測定でき、水分量の測定も可能です。
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硬脆材料・複合材料ウェーハ研削盤『R631DF』

硬脆材料・複合材料ウェーハ研削盤『R631DF』
株式会社ジェイテクトマシンシステム
『R631DF』は、高精度研削に対応する一頭超精密平面研削盤です。 ビルトインサーボモータ式のエアースピンドルを採用。 高剛性(μm／300N)エアー静圧軸受けで、高ダンパー効果がございます。 また、従来のラップ工程を研削工程に置き換え、高効率・全自動化を 実現しました。 【特長】 ■立軸形 ■各種難削材料、ウェーハ研削に対応 ■自動搬送システムを搭載 ■各種難削材料ウェーハを、高精度に研削加工 ■従来のラップ工程を研削工程に置き換え、高効率・全自動化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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ウェーハプロセスにおけるプロセス時間短縮

ウェーハプロセスにおけるプロセス時間短縮とは？

パワーデバイス＆パワーモジュール業界におけるウェーハプロセスのプロセス時間短縮とは、半導体チップ製造の基盤となるウェーハ上に、デバイス構造を形成する一連の工程にかかる時間を削減することです。これにより、生産性の向上、コスト削減、市場投入までのリードタイム短縮を目指します。

​課題

工程の複雑化と長時間化

微細化・高集積化に伴い、各工程のステップ数が増加し、全体としてプロセス時間が長期化しています。

装置の処理能力限界

既存の製造装置では、処理できるウェーハ枚数や速度に限界があり、生産能力のボトルネックとなっています。

材料・薬品の反応時間

成膜、エッチング、洗浄などの工程で使用される材料や薬品の反応・浸透に一定の時間を要し、短縮が困難な場合があります。

歩留まり低下リスク

プロセス時間を無理に短縮しようとすると、品質管理が不十分になり、歩留まり低下や不良品の増加を招く恐れがあります。

​対策

新プロセス技術の導入

より高速・高効率な成膜技術やエッチング技術、あるいは工程数を削減できる革新的なプロセスを開発・導入します。

装置の高性能化・自動化

処理速度の向上した次世代製造装置の導入や、工程間の搬送・管理の自動化により、装置稼働率を高めます。

材料・薬品の最適化

反応速度の速い材料や薬品への切り替え、あるいは最適な使用条件を見出すことで、工程時間を短縮します。

シミュレーション・AI活用

プロセスシミュレーションやAIによる条件最適化、異常検知を行い、無駄な時間を削減し、歩留まりを維持・向上させます。

​対策に役立つ製品例

高速成膜装置

従来の装置よりも短時間で均一な膜厚の成膜を実現し、生産性を向上させます。

高精度エッチングシステム

精密なパターン形成を高速かつ高選択的に行い、工程時間を短縮しつつ、微細化に対応します。

プロセス最適化ソフトウェア

AIやシミュレーション技術を活用し、各工程の最適な条件を導き出し、無駄な時間を排除します。

自動搬送・検査システム

ウェーハの搬送や検査を自動化し、人的ミスを減らし、工程間の待ち時間を削減します。

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ウェーハプロセス

ウェーハ品質の改善
薄膜均一性の確保
エッチング制御
ばらつきに強い設計
表面・内部欠陥の抑制
熱処理アニール工程の短縮
パターン転写精度の向上
成膜プロセスの低ダメージ化
ウェーハ表面仕上げ
重要結晶欠陥の防止
不純物添加プロセスの均一化
露光解像度
表面パーティクル汚染
酸化膜品質の向上
ドーピング活性化
ウェーハ反り・歪みの低減
プロセス時間短縮
プラズマエッチングの均一性
洗浄プロセスの改善

組立・パッケージング

ウェーハ品質の改善
薄膜均一性の確保
エッチング制御
ばらつきに強い設計
表面・内部欠陥の抑制
熱処理アニール工程の短縮
パターン転写精度の向上
成膜プロセスの低ダメージ化
ウェーハ表面仕上げ
重要結晶欠陥の防止
不純物添加プロセスの均一化
露光解像度
表面パーティクル汚染
酸化膜品質の向上
ドーピング活性化
ウェーハ反り・歪みの低減
プロセス時間短縮
プラズマエッチングの均一性
洗浄プロセスの改善

パワーモジュール

ウェーハ品質の改善
薄膜均一性の確保
エッチング制御
ばらつきに強い設計
表面・内部欠陥の抑制
熱処理アニール工程の短縮
パターン転写精度の向上
成膜プロセスの低ダメージ化
ウェーハ表面仕上げ
重要結晶欠陥の防止
不純物添加プロセスの均一化
露光解像度
表面パーティクル汚染
酸化膜品質の向上
ドーピング活性化
ウェーハ反り・歪みの低減
プロセス時間短縮
プラズマエッチングの均一性
洗浄プロセスの改善

評価・分析・検査

ウェーハ品質の改善
薄膜均一性の確保
エッチング制御
ばらつきに強い設計
表面・内部欠陥の抑制
熱処理アニール工程の短縮
パターン転写精度の向上
成膜プロセスの低ダメージ化
ウェーハ表面仕上げ
重要結晶欠陥の防止
不純物添加プロセスの均一化
露光解像度
表面パーティクル汚染
酸化膜品質の向上
ドーピング活性化
ウェーハ反り・歪みの低減
プロセス時間短縮
プラズマエッチングの均一性
洗浄プロセスの改善

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