ハロゲンフリー対応とは？課題と対策・製品を解説

金属回収業界では、工程で使用する薬品や洗浄廃液の適切な処理が求められます。特に、有害物質を含む廃液や、少量多品種の廃棄物は、専門的な知識と適切な処理方法が必要です。不適切な処理は、環境汚染や法規制違反のリスクを高める可能性があります。当社は、廃棄に際して、対象物のリストアップや分類・分別、梱包までの一連作業をサポートします。 又、希少金属（金、銀、白金）を含む廃液・汚泥等の買取対応もしております。 【活用シーン】 ・金属回収工程で使用した薬品の残り ・洗浄廃液 ・使用期限切れの薬品 【導入の効果】 ・専門業者による適切な処理で、コンプライアンスを遵守 ・廃棄物処理にかかる手間とコストを削減 ・環境負荷の低減

テフロン槽　小型PTFEは耐薬品性、及び耐熱性に優れたテフロン層です。テフロンブロックからの削り出し、ご希望のサイズのテフロン槽をご提供いたします。治具とセットで購入可能です。少量のエッチング、洗浄工程に最適です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

IMDS／JAPIAシート、chemSHERPA-AIなど、業種や取引先によってさまざまな書式が使われています。 IMDS／JAPIAシートは、やや難易度が高く取っ付き難いイメージです。chemSHERPAは、比較的作りやすいですが、他の業務と兼務されていて、残業時間に対応されている方も多いと思います。 当社では、これらの書式の作成代行を行っておりますので、是非、ご利用ください。

当社は携帯電話など液晶ディスプレイ（LCD）等に使用されているマイクロ ビーズについて従来の無電解めっき法に比べ、作業が容易で精度も高く製作 することができる省資源、低環境負荷な『ナノ粒子めっき法』を開発しました。 当社独自の技術（特許取得）である本技術を応用することで、高い密着性での 薄膜形成を実現。 従来の無電解めっき法では、作業者に高度な技能や経験が必要でしたが、 今回確立したナノ粒子めっき法は、それらを必要としないやさしい技術です。 【特長】 ■簡単な作業 ■少ない工程 ■省資源 ■低い環境負荷 ■低い製造コスト ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ミニミニエッチャー 搬送型』は、装置全面より基板投入・取出しが可能な エッチング実験装置です。 基板投入、スプレー、基板取出しまでの作業を自動で行えます。 本体の材質にPVC（ポリ塩化ビニール）を使用。酸やアルカリに耐性があります。 また、温度の自動制御・スプレー時間制御タイマー付きのため、多用途にご使用 いただけます。 【特長】 ■搬送型（自動運転：往復、手動運転：固定） ■装置全面より基板投入・取出しが可能 ■基板投入、スプレー、基板取出しまでの作業を自動で行える ■温度の自動制御・スプレー時間制御タイマー付き ■本体の材質にPVC（ポリ塩化ビニール）を使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

めっき用酸化銅（SS-CuO）は、各種銅めっき液の銅イオン補充用に 使用するための粉末製品として、電気めっきはもちろん、 無電解めっき用としても最適な製品です。 作業性が簡単で、めっき工程の管理が非常に便利です。 FREE Acidの増加がなく、一定のめっき浴の維持が可能です。 【特長】 ■高純度の機能性酸化銅微粉末 ■残留塩素分が少なく、酸の溶解性が優れている ■電気銅めっき用に最適な効果を得ることができる ■安息角が35º以下として粉末の流動性が優れている 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『塩化第二鉄溶液電解再生システム』は、老化したエッチング液の再生を 電気化学的な方法で処理することにより、安全でクリーンな液の維持管理 の安定を実現した装置です。 特殊電極の採用により処理能力が向上。さらに、電解槽の増減により あらゆるエッチング操作に最適なシステムで対応可能です。 また、自動制御を行うことにより、運転中の煩わしい操作やメンテナンスは 不要になり、無人運転を可能にします。 【特長】 ■安全・クリーン&高効率 ■高能力&フレキシブル ■簡単操作&優れた経済性 ■完全自動化 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

弘田化学工業では半導体薬液を製造し、ご提供しております。 高品質な汎用製品をはじめとし、 お客様の仕様に合わせたオーダーメイド製品も リーズナブルな価格で提供しております。 また、ご要望に応じて、様々な容器、入目で充填し、製品提供いたします。 【特長】 ■高品質 ■製品のオーダーメイド可能 ■リーズナブルな価格 ■納入形態の要望可能 ■環境に配慮 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

研究・開発に最適なコンパクトサイズの卓上型多目的処理装置です。 【特長】 ・エッチング、洗浄、現像、剥離、乾燥など用途に合わせてカスタマイズ可能。 ・ＰＶＣボディー素材で酸、溶剤に対応。 ・卓上型なので場所を取らず、低価格にてご提供可能。 【仕様】 ワークサイズ：Φ8インチ、もしくは200×200まで クリーンユニット：ＨＥＰＡフィルター 洗浄方式：スピン洗浄＋ブラシ又はMS選択 回転数範囲：100〜2,000rpm 回転数設定：ボリューム設定 耐酸アルカリ仕様：耐酸、アルカリ用ボディ（PVC）使用 対溶剤仕様：IPA.アセトン等の各種溶剤対応ボディ（SUS）使用 オプション：高圧ジェットノズル、薬液用ノズル、 　　　　　　及びフィルター各種対応ボディ、薬液循環、等 ■その他■卓上スピンコーター、露光装置、剥離装置、真空装置、測定装置 　　　　　など半導体関連装置を取り扱っています。 　　　　　◆◇詳細はカタログダウンロードから◇◆

『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

■エッチングや洗浄プロセスに最適です。 ■薬液処理はスピン方式で、リンス乾燥はコンベアー方式 ■W-レーンで更なる高スループット対応した実績有り。 ■エッチング時の危険な腐食性ガス対策 　◎スピンチャンバー部に前後シャッターやローラーを具備 ■薬液の温調循環再利用機能や排水の濃厚/希薄分離機能を有します。 ■リンス時のスィングスプレー機能も搭載可能 ■リンス水飛沫の再付着防止を考慮した上下エアーナイフ乾燥 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機