ハロゲンフリー対応とは？課題と対策・製品を解説

IMDS／JAPIAシート、chemSHERPA-AIなど、業種や取引先によってさまざまな書式が使われています。
IMDS／JAPIAシートは、やや難易度が高く取っ付き難いイメージです。chemSHERPAは、比較的作りやすいですが、他の業務と兼務されていて、残業時間に対応されている方も多いと思います。

当社では、これらの書式の作成代行を行っておりますので、是非、ご利用ください。

テフロン槽　小型PTFEは耐薬品性、及び耐熱性に優れたテフロン層です。テフロンブロックからの削り出し、ご希望のサイズのテフロン槽をご提供いたします。治具とセットで購入可能です。少量のエッチング、洗浄工程に最適です。
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

研究・開発に最適なコンパクトサイズの卓上型多目的処理装置です。

【特長】
・エッチング、洗浄、現像、剥離、乾燥など用途に合わせてカスタマイズ可能。
・ＰＶＣボディー素材で酸、溶剤に対応。
・卓上型なので場所を取らず、低価格にてご提供可能。

【仕様】
ワークサイズ：Φ8インチ、もしくは200×200まで
クリーンユニット：ＨＥＰＡフィルター
洗浄方式：スピン洗浄＋ブラシ又はMS選択
回転数範囲：100〜2,000rpm
回転数設定：ボリューム設定
耐酸アルカリ仕様：耐酸、アルカリ用ボディ（PVC）使用
対溶剤仕様：IPA.アセトン等の各種溶剤対応ボディ（SUS）使用
オプション：高圧ジェットノズル、薬液用ノズル、
　　　　　　及びフィルター各種対応ボディ、薬液循環、等

■その他■卓上スピンコーター、露光装置、剥離装置、真空装置、測定装置
　　　　　など半導体関連装置を取り扱っています。
　　　　　◆◇詳細はカタログダウンロードから◇◆

『塩化第二鉄溶液電解再生システム』は、老化したエッチング液の再生を
電気化学的な方法で処理することにより、安全でクリーンな液の維持管理
の安定を実現した装置です。

特殊電極の採用により処理能力が向上。さらに、電解槽の増減により
あらゆるエッチング操作に最適なシステムで対応可能です。

また、自動制御を行うことにより、運転中の煩わしい操作やメンテナンスは
不要になり、無人運転を可能にします。

【特長】
■安全・クリーン&高効率
■高能力&フレキシブル
■簡単操作&優れた経済性
■完全自動化

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社は携帯電話など液晶ディスプレイ（LCD）等に使用されているマイクロ
ビーズについて従来の無電解めっき法に比べ、作業が容易で精度も高く製作
することができる省資源、低環境負荷な『ナノ粒子めっき法』を開発しました。

当社独自の技術（特許取得）である本技術を応用することで、高い密着性での
薄膜形成を実現。

従来の無電解めっき法では、作業者に高度な技能や経験が必要でしたが、
今回確立したナノ粒子めっき法は、それらを必要としないやさしい技術です。

【特長】
■簡単な作業
■少ない工程
■省資源
■低い環境負荷
■低い製造コスト

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

弘田化学工業では半導体薬液を製造し、ご提供しております。

高品質な汎用製品をはじめとし、
お客様の仕様に合わせたオーダーメイド製品も
リーズナブルな価格で提供しております。

また、ご要望に応じて、様々な容器、入目で充填し、製品提供いたします。

【特長】
■高品質
■製品のオーダーメイド可能
■リーズナブルな価格
■納入形態の要望可能
■環境に配慮

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ミニミニエッチャー 搬送型』は、装置全面より基板投入・取出しが可能な
エッチング実験装置です。

基板投入、スプレー、基板取出しまでの作業を自動で行えます。
本体の材質にPVC（ポリ塩化ビニール）を使用。酸やアルカリに耐性があります。

また、温度の自動制御・スプレー時間制御タイマー付きのため、多用途にご使用
いただけます。

【特長】
■搬送型（自動運転：往復、手動運転：固定）
■装置全面より基板投入・取出しが可能
■基板投入、スプレー、基板取出しまでの作業を自動で行える
■温度の自動制御・スプレー時間制御タイマー付き
■本体の材質にPVC（ポリ塩化ビニール）を使用

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

■エッチングや洗浄プロセスに最適です。
■薬液処理はスピン方式で、リンス乾燥はコンベアー方式
■W-レーンで更なる高スループット対応した実績有り。
■エッチング時の危険な腐食性ガス対策
　◎スピンチャンバー部に前後シャッターやローラーを具備
■薬液の温調循環再利用機能や排水の濃厚/希薄分離機能を有します。
■リンス時のスィングスプレー機能も搭載可能
■リンス水飛沫の再付着防止を考慮した上下エアーナイフ乾燥

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機

めっき用酸化銅（SS-CuO）は、各種銅めっき液の銅イオン補充用に
使用するための粉末製品として、電気めっきはもちろん、
無電解めっき用としても最適な製品です。

作業性が簡単で、めっき工程の管理が非常に便利です。
FREE Acidの増加がなく、一定のめっき浴の維持が可能です。

【特長】
■高純度の機能性酸化銅微粉末
■残留塩素分が少なく、酸の溶解性が優れている
■電気銅めっき用に最適な効果を得ることができる
■安息角が35º以下として粉末の流動性が優れている

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも
使用可能なレジスト剥離液です。

浸漬法、スプレー法にも対応。
剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。

【特長】
■有機アルカリタイプ
■アルミニウム基板にも使用可能
■浸漬法、スプレー法にも対応
■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある
■毒物劇物取締法：毒物

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。