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半導体・センサ・パッケージング

半導体・センサ・パッケージングに関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。

データの解析と原因の特定とは?課題と対策・製品を解説

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製品検査におけるデータの解析と原因の特定とは?

半導体・センサ・パッケージング業界における製品検査データの解析と原因の特定は、製造プロセスにおける不良品の発生要因を突き止め、品質向上と歩留まり改善を目指す活動です。膨大な検査データを分析し、隠れたパターンや相関関係を発見することで、根本的な問題解決に繋げます。

各社の製品

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トイレの流しセンサー
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トイレを流すときに手を近づけると反応して流れるしくみ、それをフラッシュセンサーといいます。今回は、その製品の分解調査をしました。構造はいたってシンプル。8ビットマイコンと静電容量型のコントローラーを搭載して、反応をみてマイコンで制御するというもの。基板の大きさも、非常に小さく、部品ももちろん片面実装。ご興味ある方は是非、お問い合わせください。価格は$999からの提示になります。

CVS自動分析システム(めっき液の多検体分析システム)
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CVSテクニック(サイクリックボルタンメトリックストリッピング)を使用した電気化学めっき浴中の有機添加剤の多検体分析を自動で行えるシステムです。

【課題事例】パワー半導体の故障部位が深い / 分析・故障解析
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パワー半導体の故障解析の現場において、裏面から「プラズマFIB」による開封・加工が力を発揮します。

ソースやゲートがある構造物まで、加工・観察・分析が可能。
数十μmの通常加工から500μmまでの断面加工が可能で、加工しながら
断面像も確認できます。

また、当社の特殊加工技術により、50μm以上の深い箇所のEDS分析が可能です。
故障原因の解析もお任せください。

【サービスの特長】
■ソースやゲートがある構造物まで、加工・観察・分析が可能
■数十μmの通常加工から500μmまでの断面加工が可能
■加工しながら断面像も確認できる
■当社の特殊加工技術により、50μm以上の深い箇所のEDS分析が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【イオンクロマトグラフィー資料】ニッケルめっき浴中の硝酸塩
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UV/VIS 検出(205 nm)を用いた陰イオンクロマトグラフィーによる、ニッケルめっき浴中の硝酸の測定

CVS分析装置(めっき液分析用 電気化学分析装置)
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◆ サイクリックボルタンメトリーストリッピング(CVS) やサイクリックパルスボルタンメトリーストリッピング(CPVS) の測定装置です。
◆ 電気めっきプロセスにおける添加剤の効果と有効性を直接測定することができます。
◆ 添加剤の濃度はCVS又はCPVSによって正確に定量できます。

【半導体の組立加工受託】LEDチップ ソート
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プローブテストで分類されたデータを基にチップをソーティング。
良品のみソーティングしたい、仕様を細かく設定しランク分けして
ソーティングしたいなど、用途に合わせて100分類まで対応可能です。

ご用命の際は当社へお気軽にご相談ください。

【概要】
■シートリング配列:100分類
■2~6インチ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

開発製造受託サービス(DMS)
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当社では、設計開発から完成品までを一括して受託する
『開発製造受託サービス(DMS)』を提供しております。

DMSにより、注文書一枚で実装基板及び完成品の調達が可能となり
電子部品の余剰在庫負担がなくなる等の部品調達コストの低減や、
設備投資及び製造品質解析等のメリットが得られます。

ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。

【メリット】
■部品調達コストの低減
■設備投資及び製造品質解析

※詳細はお問い合わせください。

自動滴定装置による錫めっき浴の測定【技術資料】
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このアプリケーションでは、酸性およびアルカリ性スズめっき浴の分析のための電位差滴定法を紹介します。
スズ(II) / スズ(IV) / 総スズ、遊離フッ化ホウ酸または遊離硫酸、酸性スズ浴中の塩化物、アルカリ性スズ浴中の遊離水酸化物および炭酸塩を測定しています。

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
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酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。
塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。
しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。
メッキ浴 鍍金浴

電気めっき浴および合金中の金と銅の同時滴定【技術資料】
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Fe(II) 溶液を滴定液として使用し、電位差滴定法で金と銅を同時に測定する方法について解説しています。

拡張ボード AMC-S602
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■ デュアル80GB SATA 超耐久型HDD
■ シングル幅、中サイズ
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

【半導体無料ウェビナー】2026年の先進包装市場への5つの期待
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当社は、半導体関連無料ウェビナー「2026年の先進包装市場への5つの期待」
を開催しました。

2026年の高度なパッケージング市場を分析し、共パッケージ化された光学系の
採用、AIからのHBM需要、パネルとガラス基板への移行、3Dスタッキングにおける
熱の課題、モバイルデバイスのチップレット統合などを取り上げました。

【開催概要】
■日時:2025年12月3日 午前10時(日本時間)
■所要時間:1時間

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

Solar MEMS社、ナノ衛星向け地球センサーHSNS
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Solar MEMS社のナノおよびマイクロ衛星用地球センサー(HSNS)は、衛星航法技術の最前線に立っています。四重サーモパイルセンサーの力を活用し、HSNSは地球検出とナディールベクトル決定において比類のない精度を提供します。この革新的なデバイスは、Solar MEMS社の姿勢センサーに関する広範な経験とIRセンシング技術に関する深い研究の集大成です。各HSNSユニットは厳格なテストと特性評価を受け、信頼性と性能を保証します。統合マイクロコントローラーを備えたHSNSは、UARTまたはI2Cプロトコルを通じてシームレスな統合を提供し、様々な衛星アプリケーションに対応する汎用性を持っています。主な特徴は以下の通りです:
- 動作温度範囲は-30℃から70℃
- 資格データおよび飛行遺産
- 各IR目のFOV ±2.5º、合計FOV ±64º
- 1度未満の高精度偏差
- 耐久性のあるアルミニウム製ハウジング
- 3年の設計寿命
HSNSの先進的な機能と堅牢な設計は、信頼性の高い地球観測と姿勢制御を求めるナノおよびマイクロ衛星にとって不可欠なコンポーネントです

イオン界面活性剤電極を用いたパラジウムめっき浴の定量【技術資料】
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「イオン界面活性剤」電極を用いたヘキサデシルピリジニウムクロリドによる電位滴定によるパラジウム(II)の測定をおこなっています。

【EMS(設計・生産受託サービス)】お困りごとはありませんか
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開発工数不足・未経験の技術の補完をはじめ、コストが下がらない、
品質が悪い、需要変動が大きい・棚卸が減らないなどのお困りごとは
ございませんか?

当社では、ハード・ソフト、エレキ、筐体までサポートや、
スケールメリット活かした部材調達でコストダウンを支援。
他にも、必要な量を必要なタイミングで納入し、需要変動に応じて
発注いただき、棚卸を最小化することが可能です。

【解決例】
■開発工数不足・未経験の技術の補完
 →ハード・ソフト、エレキ、筐体までサポート
■コストが下がらない
 →スケールメリット活かした部材調達で支援
 →知恵と工夫で低コスト生産を実現(部材倉庫・自動検査・組立自動化)
■品質が悪い
 →独自開発した生産技術を多数保有

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【プロセス分析計 技術資料】めっき浴中のニッケル&次亜リン酸測定
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純粋なニッケルは銀白色の金属で、非常に硬く、耐食性があり、延性があります。これらの顕著な特性のために、ニッケルは、主にコーティングおよび表面工学において多くのアプリケーションで使用されています。無電解ニッケルめっきは、ニッケル‐リン合金の層を工作物の表面にめっきするための自己触媒化学技術です。この方法は、めっきのために金属イオンと反応する還元剤(次亜リン酸ナトリウム)の含有量に依存します。
しかし、めっき浴の薬品の寿命は限られているので、薬品の消費を自動的に監視することが重要なプロセス制御要件となります。めっき浴を長時間使用すると、薬品中の電解質は反応生成物で過負荷になり、工作物の表面および層の特性に悪影響を及ぼします。
このプロセスアプリケーションノートは、ニッケル‐リン合金の均一な層を確実にめっきさせるために、無電解ニッケルめっき浴中の各種活性浴成分を定期的にモニタリングする手法を提案します。

オンライン分析計 プロセス分析計 インライン分析計

自動滴定装置によるカドミウムめっき浴の測定【技術資料】
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このアプリケーションでは、カドミウムめっき浴に含まれる、カドミウム、遊離水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、および総シアン化物の滴定法について解説します。
遊離シアン化物は、総シアン化物とカドミウム含有量から算出できます。

【作成代行】chemSHERPA/JAMA/JGPSSI/SDS
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IMDS/JAPIAシート、chemSHERPA-AIなど、業種や取引先によってさまざまな書式が使われています。
IMDS/JAPIAシートは、やや難易度が高く取っ付き難いイメージです。chemSHERPAは、比較的作りやすいですが、他の業務と兼務されていて、残業時間に対応されている方も多いと思います。

当社では、これらの書式の作成代行を行っておりますので、是非、ご利用ください。

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製品検査におけるデータの解析と原因の特定

製品検査におけるデータの解析と原因の特定とは?

半導体・センサ・パッケージング業界における製品検査データの解析と原因の特定は、製造プロセスにおける不良品の発生要因を突き止め、品質向上と歩留まり改善を目指す活動です。膨大な検査データを分析し、隠れたパターンや相関関係を発見することで、根本的な問題解決に繋げます。

​課題

データサイロ化による分析の遅延

検査装置や工程ごとにデータが分断されており、統合的な分析が困難で、原因特定に時間がかかる。

熟練者依存の暗黙知による属人化

経験豊富な担当者の勘や経験に頼る部分が大きく、ノウハウが共有されず、再現性のある分析が難しい。

異常検知の精度と速度の限界

従来の統計的手法では、微細な異常や複合的な要因による不良を見逃しやすく、リアルタイムでの検知が困難。

根本原因特定のための多角的分析の不足

表面的な不良箇所だけでなく、製造プロセス全体や材料、環境要因との関連性を深く掘り下げた分析ができていない。

​対策

統合データプラットフォームの構築

異なるソースからの検査データを一元管理し、横断的な分析を可能にするシステムを導入する。

AI/機械学習による自動分析

AIを活用して、データから異常パターンを自動で学習・検知し、原因候補を提示させる。

可視化ツールの活用とダッシュボード化

検査データを直感的に理解できるグラフやダッシュボードで表示し、関係者間で迅速な情報共有を図る。

プロセスデータとの相関分析強化

検査データだけでなく、製造時のプロセスパラメータや環境データも同時に分析し、多角的な原因究明を行う。

​対策に役立つ製品例

製造実行システム(MES)連携型データ分析ツール

製造実行システムと連携し、リアルタイムの生産データと検査データを統合して分析することで、工程間の異常を迅速に特定する。

AI駆動型異常検知ソフトウェア

過去の検査データから学習したAIモデルを用いて、未知の異常や微細な不良を自動で検知し、原因究明の糸口を提供する。

多変量解析・統計モデリングシステム

複雑なデータ間の相関関係を統計的に分析し、不良発生の要因となる複数のパラメータを特定するのに役立つ。

IoTセンサーデータ統合・可視化サービス

製造ライン上の様々なIoTセンサーから収集されるデータを統合し、リアルタイムで可視化することで、環境要因や設備異常との関連性を分析する。

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