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半導体・センサ・パッケージング

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異物混入・汚染の防止とは?課題と対策・製品を解説

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ウェーハのダイシングにおける異物混入・汚染の防止とは?

半導体・センサ・パッケージング業界において、ウェーハのダイシング工程は、一枚のウェーハを個々のチップに分割する重要なプロセスです。この工程で発生する異物混入や汚染は、チップの性能低下、歩留まりの悪化、さらには製品全体の信頼性低下に直結するため、その防止は極めて重要となります。

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【半導体製造向け】切削油使用工作機械洗浄添加剤リンガーフラッシュ

【半導体製造向け】切削油使用工作機械洗浄添加剤リンガーフラッシュ
半導体製造業界では、品質向上が重要です。リンガーフラッシュは、水溶性切削油を使用している工作機械やタンクに付着した汚れや臭いに効果が得られるフラッシング用添加剤です。水溶性切削油の全交換前に添加して循環させながら工作機械内部とタンク・配管内の汚れを洗浄します。添加後も機械設備を止めずに加工を継続できて手軽です。それにより、切削油交換時のフラッシング作業の清掃の手間と時間を削減。タンク清掃の水洗い時間を減らせるので、廃液量を削減します。しかも化学物質のリスクアセスメントの観点では、GHS分類基準に該当しません。交換後の水溶性切削油を長寿命化させ、生産性の向上につながります。 【このような現場におすすめ】 ・水溶性切削油交換時のフラッシング作業をもっと時短で手軽にしたい。 ・化学物質のリスクアセスメントの観点から、GHS分類基準に該当しないフラッシング剤を探していた。 ・人手不足、働き方改革の現場に。 【活用シーン】 ・工作機械の水溶性切削油交換時 ・工作機械の定期メンテナンス時 【導入の効果】 ・切削油の寿命延長 ・清掃時の手間と作業時間と廃液を削減

【半導体向け】KFシリーズ フロートスイッチ

【半導体向け】KFシリーズ フロートスイッチ
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に供給するために、純水の水質管理が重要です。純水中の異物混入は、製品の歩留まり低下や品質問題を引き起こす可能性があります。KFシリーズ フロートスイッチは、純水タンク内の液面レベルを正確に監視し、異常を早期に検知することで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 * 純水製造装置 * 純水貯蔵タンク * 各種洗浄工程 【導入の効果】 * 液面レベルの正確な監視 * 異常検知による早期対応 * 製品品質の安定化

【半導体製造装置向け】HIWIN単軸リニアモーターステージ

【半導体製造装置向け】HIWIN単軸リニアモーターステージ
半導体・センサ・パッケージング分野では、微細化・高集積化の進展により、装置に求められる位置決め精度と動作の安定性は年々厳しさを増しています。特に、ダイボンディングやワイヤーボンディング、検査・測定工程においては、わずかな位置ズレや振動が、接合不良や検査誤判定の原因となり、歩留まり低下につながります。こうした工程では、高精度で再現性の高い直線動作を安定して行える駆動機構が不可欠です。HIWINの単軸リニアモーターステージは、滑らかな直線動作と高い位置決め再現性を兼ね備え、半導体・センサ製造工程における装置性能の安定化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ダイボンディング工程でのチップ位置決め ・ワイヤーボンディング前後の高精度アライメント ・センサ素子・MEMSデバイスの位置決め・検査 ・パッケージ外観検査・寸法測定装置 【導入の効果】 ・微細工程での位置ズレ・ばらつき低減 ・繰返し精度の安定による歩留まり向上 ・高速かつ安定した動作によるタクトタイム短縮 ・装置の安定稼働による再調整・手直し工数の削減

【ダイシング前工程向け】ウエハ搬送ロボット【Eシリーズ】

【ダイシング前工程向け】ウエハ搬送ロボット【Eシリーズ】
半導体製造業界では、ウエハの高速搬送における高い精度と信頼性が求められます。製造プロセスにおける搬送の遅延や不正確さは、生産効率の低下や不良品の増加につながる可能性があります。HIWINウエハ搬送ロボット【Eシリーズ】は、これらの課題に対し、高精度かつ高速な搬送性能を提供することで、生産性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内でのウエハ搬送 ・製造装置へのウエハ供給 ・検査工程へのウエハ搬送 【導入の効果】 ・搬送時間の短縮による生産性向上 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・部品点数削減によるメンテナンス工数軽減

【半導体向け】カーボンナノファイバーによる熱対策・帯電防止

【半導体向け】カーボンナノファイバーによる熱対策・帯電防止
カーボンナノファイバー(CNF)は、優れた分散性により樹脂中で均一な導電ネットワークを形成し、安定した性能発現が可能な機能性フィラーです。これにより、電子部材における熱対策として熱伝導性の向上に寄与するとともに、半導体搬送用途であるFOUPにおいて求められる帯電防止性能の付与にも効果を発揮します。高機能材料として、幅広い電材・半導体分野での課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・FOUP(半導体ウェハ搬送容器)への強度UP、帯電防止用途 ・半導体製造装置内の各種樹脂部材(トレイ、カセット、ガイド部品など) ・電子部品の梱包材・トレー ・電子部材・筐体の放熱部品(熱対策用途) 【導入の効果】 ・帯電防止性能により、パーティクル付着リスクを低減 ・優れた分散性により、性能バラツキを低減 ・静電気によるデバイス破壊リスクの低減 ・熱伝導性向上による効率的な熱対策が可能

【半導体向け】XPR自動分注天秤

【半導体向け】XPR自動分注天秤
半導体業界では、微量な材料の正確な計量が製品の品質を左右します。特に、高精度な材料配合が求められる場面では、計量誤差が製品の性能に直接影響を与える可能性があります。XPR自動分注天秤は、手動操作では不可能なレベルの正確な計量を可能にし、半導体製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の精密計量 ・微量添加剤の調合 ・品質管理におけるサンプル調製 【導入の効果】 ・計量精度の向上 ・材料の無駄を削減 ・作業時間の短縮 ・再現性の高い結果の実現

ICチップトレイ、ニーズに合わせてカスタマイズしています。

ICチップトレイ、ニーズに合わせてカスタマイズしています。
弊社のICチップトレイは、金型の豊富なサイズ展開により、お客様の多様なニーズにお応えいたします。 既存形状に合わない特殊形状のICチップトレイでも、お客様の要求サイズに合わせて設計し、製造いたします。

CVS自動分析システム(めっき液の多検体分析システム)

CVS自動分析システム(めっき液の多検体分析システム)
CVSテクニック(サイクリックボルタンメトリックストリッピング)を使用した電気化学めっき浴中の有機添加剤の多検体分析を自動で行えるシステムです。

自動滴定装置によるカドミウムめっき浴の測定【技術資料】

自動滴定装置によるカドミウムめっき浴の測定【技術資料】
このアプリケーションでは、カドミウムめっき浴に含まれる、カドミウム、遊離水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、および総シアン化物の滴定法について解説します。 遊離シアン化物は、総シアン化物とカドミウム含有量から算出できます。

メルテックス株式会社 会社案内

メルテックス株式会社 会社案内
メルテックスは、主にめっきに使用される表面処理薬品の製造販売を 行っています。 1960年の会社創立以来、常に高性能・高品質なめっき用薬品を開発・ 提供し、高い評価を受けてきました。 蓄積された経験とノウハウ、研究開発体制を駆使し、エレクトロニクス 分野をはじめ、新しい技術と製品分野の開拓に挑戦していきます。 また表面処理に関する高い技術と知識を活用し、商品だけでなく、 お客様に適したトータルソリューションをご提供いたします。 【事業内容】 ■電子工業用薬品の製造販売 ■表面処理薬品(めっき用)の製造販売 ■化学機器の設計・施工 ■化学薬品、金属の分析及び回収 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』
『TP-50B』は、電波法による設置許可申請も不要の50W型で、操作も簡単、 気軽にプラズマ加工が行える卓上プラズマエッチング装置です。 独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能で、半導体故障解析用試料の 前処理(配線の露出)から、各種プラズマ加工に幅広く対応致します。 また小型のため、スペースの限られた研究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所的なプラズマ加工が可能(Φ0.5mm~) ■低残渣かつ高速加工を実現(10μm/mim) ■低出力のRF電源(最大出力50W未満) ■試料をステージで移動させた広範囲の加工が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

MID(三次元成形回路部品)用 めっきプロセス薬品

MID(三次元成形回路部品)用 めっきプロセス薬品
日本マクダーミッドは、高い歩留まり、確かな選択性を備え、LDS、Pd含有樹脂及びダブルショットMIDへのめっき処理に最適な、新しいMIDめっきプロセスを提案します。 幅広い材料や触媒に対し安定した選択性を提供し、最も必要とされる低コストな成形複合材料に対し、より複雑で効率的な設計を可能にするプロセスです。また、シンプルで管理しやすいプロセスにより、安定しためっき速度と長く予測しやすい浴寿命が得られます。

半導体向け装置「メッキ装置」

半導体向け装置「メッキ装置」
当製品は、ヴァリアス社製のGMR、MR HEAD用のメッキ装置。 パーマロイ、コイル、バンプメッキ等に対応しています。 メッキ槽は、精密温度制御、ろ過循環、スキージー駆動、電源制御。 ローダー、アンローダー、WETストック可能です。 【特徴】 ○薬液に対応した配管、槽、外装(PVC、PP、PVDF、PFA、PTFE) ○リンス洗浄(DIP、シャワー) ○専用治具、電極製作 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【耐久性・高精度・加工性フィルター】積層焼結金網フィルター

【耐久性・高精度・加工性フィルター】積層焼結金網フィルター
ニチダイフィルタは、 独自の積層焼結技術により、何枚ものステンレス金網を各種各様に重ねて 一体構造化したフィルタを製造しています。 この素材を使用した円筒や円盤、ストレーナ及びにバスケットなど、 お客様のニーズに合わせたモノづくりを設計から製造まで 全て社内で行っており、お客様の声をかたちにする技術力があります! また京都工場、タイ工場を合わせて10台の巨大真空炉を所持しており、 世界最大規模の焼結金網の生産能力を誇ります。そのため、 供給力・大量生産も受けることが出来るキャパシティを持っています。 【特長】 ■独自の積層焼結技術でフィルタを製造 ■お客様のニーズに合わせたモノづくりを設計から製造まで全て社内で行う ■お客様の声をかたちにする技術力 ■世界最大規模の焼結金網の生産能力 ■高い供給力・大量生産も受けることが出来るキャパシティ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

セラミック基板用 ウエット装置

セラミック基板用 ウエット装置
小さな基板に対応したコンパクトな製造装置です。 サーマルプリンタヘッド(TPH)基板の 電極パターンを形成するフォトエッチングライン、 あるいはチップ抵抗基板用のめっき装置をご紹介します。 製造実績に基づき標準的な設備仕様も カタログで紹介しています。 基本的には顧客要望に基づくオーダーメイドの設備ですから 使用基材、処理工程に合せて柔軟な対応が可能です。 お気軽にお問合せください。

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』
『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れます。 【特長】 ■レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環  あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れる ■「アンラスト ROS」の改良品 ■塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが殆どない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

マニュアルテープ剥がし機

マニュアルテープ剥がし機
マニュアルテープ剥がし機は、ウエハ及び基板に貼りつけられたBG(バックグラインド)テープなどの保護テープを手動で剥がすマニュアルタイプのテープ剥がし機です。

半導体・プリント基板水平製造装置 エッチング装置(パターン形成)

半導体・プリント基板水平製造装置 エッチング装置(パターン形成)
株式会社フジ機工の取り扱う、パターン形成用のエッチング装置を ご紹介します。 バキュームエッチング技術により高精細なパターン処理を実現し、 ほぼ面内バラツキ無く仕上がります。 また、微細な半導体パッケージ基板から厚銅基板まで対応できます。 【特長】 ■枚葉基板からRoll to Rollによるフレキシブル基板まで対応 ■微細な半導体パッケージ基板から厚銅基板まで対応 ■バキュームエッチング技術により高精細なパターン処理を実現 ■ほぼ面内バラツキ無く仕上がる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました~♪

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました~♪
Siやカーボン膜の受託エッチング! その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪ 一週間~レンタル可能で研究開発をスピーディーにサポート致します! 初回条件出しやデモ処理は無償対応。

『半導体薬液』なら弘田の製品!

『半導体薬液』なら弘田の製品!
弘田化学工業では半導体薬液を製造し、ご提供しております。 高品質な汎用製品をはじめとし、 お客様の仕様に合わせたオーダーメイド製品も リーズナブルな価格で提供しております。 また、ご要望に応じて、様々な容器、入目で充填し、製品提供いたします。 【特長】 ■高品質 ■製品のオーダーメイド可能 ■リーズナブルな価格 ■納入形態の要望可能 ■環境に配慮 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

めっき処理『光沢スズめっき/無光沢スズめっき』

めっき処理『光沢スズめっき/無光沢スズめっき』
神谷理研で行う、めっき処理『光沢スズめっき/無光沢スズめっき』を ご紹介いたします。 「光沢スズめっき」は、光沢剤の添加された比較的硬い被膜で、コネクター・ バスバー・端子などに使用。「無光沢スズめっき」は、光沢剤が添加されていない為 ハンダ付け性能がよい被膜です。 スズは比較的柔らかい金属であるため、機械の摺動部分にめっきをして なじみをよくする役目をはたします。 【特長】 ■電導性 ■低接触抵抗 ■ハンダ付性 ■環境規制対応 ■鉛フリー対応(ハンダめっき切替) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

[ホワイトペーパー]DRAMモジュール : 硫化の脅威の除去

[ホワイトペーパー]DRAMモジュール : 硫化の脅威の除去
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 このホワイトペーパーでは、腐食の過程や対策をご紹介していきます。

半導体分野向け比抵抗計『UPW UniCondセンサ』

半導体分野向け比抵抗計『UPW UniCondセンサ』
メトラートレドの『UPW UniCondセンサ』は、大手半導体メーカーとの共同開発により 堅牢な構造と高度な温度補正機能を備えた比抵抗計です。 環境温度やプロセス温度の変化による測定値の変化や 信号ノイズを防ぎ、高い温度補償比抵抗精度を実現。 半導体分野における水質の正確な把握と歩留まりの向上に貢献します。 【特長】 ■±0.5%以下の測定精度を実現 ■ノイズと水質変化による干渉を区別し、高い信号安定性を実現 ■環境的要因による測定値の変化を防ぎ、正確な比抵抗の値を取得 ■識別、校正、メンテナンスデータの保存に対応 ※テスト評価の結果を確認できる「Case Study」を無料で進呈中。  カタログ、半導体分野向けの製品資料も<PDFダウンロード>よりご覧いただけます。

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。 メッキ浴 鍍金浴

LED用エッチング剤(日米特許取得)

LED用エッチング剤(日米特許取得)
LED用エッチング剤は、ガラスエッチング剤フロストタイプの中で特に白く加工するタイプです。 ●液晶を構成する光学部品である光拡散板の製造やLED照明に用いられる拡散板の製造などに使用するガラスエッチング剤です。 ●ソーダガラス、無アルカリガラス等のガラス種を白く加工します。 ●LED用エッチング剤は、フッ酸を使用していません。フッ化物の濃度も低減しています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※製品画像の代わりにグラスファンタジー類を使用して製作した作品画像を掲載しています。

【作成代行】chemSHERPA/JAMA/JGPSSI/SDS

【作成代行】chemSHERPA/JAMA/JGPSSI/SDS
IMDS/JAPIAシート、chemSHERPA-AIなど、業種や取引先によってさまざまな書式が使われています。 IMDS/JAPIAシートは、やや難易度が高く取っ付き難いイメージです。chemSHERPAは、比較的作りやすいですが、他の業務と兼務されていて、残業時間に対応されている方も多いと思います。 当社では、これらの書式の作成代行を行っておりますので、是非、ご利用ください。

ろ過フィルター『エッチング カートリッジ』

ろ過フィルター『エッチング カートリッジ』
『エッチング カートリッジ』は、精密エッチング加工を使用した オールステンレスろ過フィルターです。 半導体等の電子部品製造分野で用いられるフォトエッチング技術を使用し、 正確な孔が均一に開いているため、ろ過精度が保たれます。 また、金網ストレーナーと比べ破損による鋼線の離脱がなく、 目詰まりによる残留物がほとんどありません。 【特長】 ■高度なエッチング技術 ■異物混入のリスクが激減 ■優れた再生洗浄性 ■耐薬品性(耐食性) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【半導体の組立加工受託】LEDチップ ソート

【半導体の組立加工受託】LEDチップ ソート
プローブテストで分類されたデータを基にチップをソーティング。 良品のみソーティングしたい、仕様を細かく設定しランク分けして ソーティングしたいなど、用途に合わせて100分類まで対応可能です。 ご用命の際は当社へお気軽にご相談ください。 【概要】 ■シートリング配列:100分類 ■2~6インチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

アルミエッチング液『混酸Alエッチング液』

アルミエッチング液『混酸Alエッチング液』
『混酸Alエッチング液』は、ガラスやSi 基板を侵すことなく、微細加工が可能なAl用エッチング液です。 Mo、Mo合金エッチング液としてもご使用いただけます。 【特徴】 ■希釈、調合不要であり、そのまま使用可能 ■ 毒劇物、危険物、PRTR 規制対象物質に非該当 ■ ガラス、Si 基板等へのダメージがない ■ エッチング形状の面内均一性が良好 ■ エッチング残渣がない ■ Al エッチングレート 約1,000Å/min.(30℃)

プリント基板用 エッチング液 

プリント基板用 エッチング液 
サンハヤト社が取扱う、エッチング液のご紹介です

耐熱トレー、耐熱温度700℃~800℃のICチップトレイ

耐熱トレー、耐熱温度700℃~800℃のICチップトレイ
「サイズ」 豊富なサイズを取り揃えています。 既存形状では収まらない、特殊形状の耐熱トレーも設計します。 2インチ/4インチのチップトレイは既存品のラインナップを豊富に取り揃えています。

多目的処理装置(スピンプロセッサー)

多目的処理装置(スピンプロセッサー)
研究・開発に最適なコンパクトサイズの卓上型多目的処理装置です。 【特長】 ・エッチング、洗浄、現像、剥離、乾燥など用途に合わせてカスタマイズ可能。 ・PVCボディー素材で酸、溶剤に対応。 ・卓上型なので場所を取らず、低価格にてご提供可能。 【仕様】 ワークサイズ:Φ8インチ、もしくは200×200まで クリーンユニット:HEPAフィルター 洗浄方式:スピン洗浄+ブラシ又はMS選択 回転数範囲:100〜2,000rpm 回転数設定:ボリューム設定 耐酸アルカリ仕様:耐酸、アルカリ用ボディ(PVC)使用 対溶剤仕様:IPA.アセトン等の各種溶剤対応ボディ(SUS)使用 オプション:高圧ジェットノズル、薬液用ノズル、       及びフィルター各種対応ボディ、薬液循環、等 ■その他■卓上スピンコーター、露光装置、剥離装置、真空装置、測定装置      など半導体関連装置を取り扱っています。      ◆◇詳細はカタログダウンロードから◇◆

電気めっき浴および合金中の金と銅の同時滴定【技術資料】

電気めっき浴および合金中の金と銅の同時滴定【技術資料】
Fe(II) 溶液を滴定液として使用し、電位差滴定法で金と銅を同時に測定する方法について解説しています。

【加工技術】エッチングの工程

【加工技術】エッチングの工程
当社で行っている、エッチングの工程についてご紹介いたします。 最初に、お客様からいただいた図面やデータをもとにCADにて パターンフィルムを作成。油分や被膜などの除去、レジストラミネートなどを実施。 製品には非常に高い精度が要望されます。寸法検査、外観検査など 万全の品質管理を実施し、製品として問題のないものをお客様のもとへ お届けいたします。 【工程内容(一部))】 1.パターンフォルム作成 2.前処理工程 3.レジストラミネート 4.露光 5.現像 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

試作加工・受託加工

試作加工・受託加工
当社では『試作加工・受託加工』を行っております。 生産環境として、静電気対策されたクリーンルームを完備。 さらに、自社開発小型設備によりセル生産が可能です。 長年培ってきた製造ノウハウを活かし、多種多様な製品に対応するほか、 お客さまや材料・加工・装置メーカーと連携し、課題克服・新技術の 開発に共闘できるパートナーを目指しております。 【特長】 ■液晶パネルの取り扱い、ACF 接続、顕微鏡検査が得意 ■組立は立作業、セル生産方式 ■ラインにマッチした治工具や簡易な自動機も製作可能 ■生産環境として、静電気対策されたクリーンルームを完備 ■交代勤務可能、2直、12時間勤務(4勤2休等) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

酸化銅剤

酸化銅剤
めっき用酸化銅(SS-CuO)は、各種銅めっき液の銅イオン補充用に 使用するための粉末製品として、電気めっきはもちろん、 無電解めっき用としても最適な製品です。 作業性が簡単で、めっき工程の管理が非常に便利です。 FREE Acidの増加がなく、一定のめっき浴の維持が可能です。 【特長】 ■高純度の機能性酸化銅微粉末 ■残留塩素分が少なく、酸の溶解性が優れている ■電気銅めっき用に最適な効果を得ることができる ■安息角が35º以下として粉末の流動性が優れている 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ウェハ保管用デシケーター【特注事例】

ウェハ保管用デシケーター【特注事例】
8インチウェハを保管するための大型デシケーターです。 当社では、ガス置換・真空・クリーン仕様など、デシケーターのフルオーダーメイドを承っております。

ダイシングフレーム洗浄装置

ダイシングフレーム洗浄装置
● 2枚取り防止機能!   ワークの段積みが可能になりスムーズなワーク供給を実現。 ● タクト調整機能!   ワークに合わせてのレシピ設定が可能です。 ● 段取り替えはワンタッチ!   スイッチ1つでワークに合った段取り替えを自動で行ないます。 ● 工程間の搬送もスムーズ!   専用台車によるワークの供給搬出なので工程間の持ち運びもスムーズです。

ホワイトペーパー『半導体業界における水の測定、制御、改善』

ホワイトペーパー『半導体業界における水の測定、制御、改善』
メトラートレドのホワイトペーパー『半導体業界における水の測定、制御、改善』は、半導体製造プロセスで使用される超純水・純水の 水質モニタリングに関するホワイトペーパーです。 代表的な純水分配システムや、 排水の回収・リサイクル・再利用を検討するべき理由などについて、 当社のTOCセンサ「6000TOCi」の特長や導入効果を交えて解説しています。 【掲載内容(抜粋)】 ■半導体製造施設における水の使用量 ■排水処理施設の課題 ■水再生戦略 ■排水の測定・制御・分離・収集 ※詳しい内容は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。  製品に関するお問い合わせもお気軽にどうぞ。

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』
『アンラスト F』は、レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に  添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易 ■適用法令:危険物 危険物第四類第2石油類 水溶性液体 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】
Siやカーボン膜のエッチング! その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪

【イオンクロマトグラフィー資料】ニッケルめっき浴中の硝酸塩

【イオンクロマトグラフィー資料】ニッケルめっき浴中の硝酸塩
UV/VIS 検出(205 nm)を用いた陰イオンクロマトグラフィーによる、ニッケルめっき浴中の硝酸の測定

テープ剥がし機

テープ剥がし機
テープ剥がし機は、ウエハー上に貼られた保護フィルムを剥離する装置です。カセットで供給されたウエハーをアライナーで位置決めし、テープ剥離後同一カセットに排出します。 ■薄厚ワーク対応■ 独自の剥離機構と全面吸着テーブルの採用によりウエハへのストレスを最小限に抑え、薄ウエハにも対応可能。 ■リトライ機能■ 離動作後、センサーにより剥離確認を行います。NGの場合再び剥離動作に入り、剥がし残しを防ぎます。(回数設定可) ■アライメント機能■ 剥離前にアライメントテーブルにて、オリフラ・ノッチの角度位置合せとセンタリングを行い、位置ズレによる剥離不良を防ぎます。 ■タクト調整機能■ テープ剥離速度、搬送速度等をタッチパネルにて設定可能。ワークにあわせた調整が可能です。 ■テープ空検知■ 剥離用テープの残量をセンサで検知。残量が5m(設定変更可)になるとアラームで通知。無駄な装置停止をなくします。 ■静電気対策■ イオナイザー(静電気除去器)を標準装備。

『ゴア(R) MEMSプロテクティブベント STYLE 300』

『ゴア(R) MEMSプロテクティブベント STYLE 300』
『ゴア(R) MEMSプロテクティブベント STYLE 300』は、 マイクロフォンに直接組み込むことで、高い防水保護機能を実現するベントフィルターです。 筐体にアコースティックベントの搭載が必要なくなり、マイクロフォンの防水デバイスの製造工程削減と、機器内の省スペース化に貢献します。 【特長】 ■MEMSマイクロフォンのパッケージング工程でマイクロフォン内部への組み付けが可能 ■コンポーネントレベルでIP68等級の防水性能を実現するマイクロフォン ※マイクロフォン防塵・防水ソリューション『ゴア(R) MEMSプロテクティブベント STYLE 300』の詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

回路形成材料 アデカエイフェススーパーシステム

回路形成材料 アデカエイフェススーパーシステム
回路形成材料「アデカエイフェススーパーシステム」は、専用エッチング液「アデカケルミカTFE-3000シリーズ」により、サブトラクティブ法による微細配線を実現します。ピッチ25μm以下COFにおいて、高エッチファクターの回路形成を可能にします。自動管理装置「アデカエイフェススーパー装置」による液管理により、安定したファインエッチングを提供します。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

治具レス!『ウエハーめっき装置』

治具レス!『ウエハーめっき装置』
現状のウエハーめっき装置は垂直型が主流であり、 メッキを行う装置に付属している治具の使い勝手が悪く、下記のような課題が多く聞かれます。 ・メッキ液に浸食されてパーツを常に交換しなくてはならない。 ・通電が悪くメッキが不良になる。 ・ウェハーのセットに時間がかかる構造で、作業がスムーズに進まない。 ・持ち運びしにくく、効率的な動きがしにくい。 更に、今後増加するハイアスペクト対応(金属イオンの供給、均一液流)や均一膜厚性向上による、生産効率の向上が求められています。 当社の『ウエハーめっき装置』は治具レス・水平・上向きのため、従来製品の課題を解消することが可能です。 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

自動滴定装置による錫めっき浴の測定【技術資料】

自動滴定装置による錫めっき浴の測定【技術資料】
このアプリケーションでは、酸性およびアルカリ性スズめっき浴の分析のための電位差滴定法を紹介します。 スズ(II) / スズ(IV) / 総スズ、遊離フッ化ホウ酸または遊離硫酸、酸性スズ浴中の塩化物、アルカリ性スズ浴中の遊離水酸化物および炭酸塩を測定しています。

エッチング実験装置『ミニミニエッチャー 搬送型』

エッチング実験装置『ミニミニエッチャー 搬送型』
『ミニミニエッチャー 搬送型』は、装置全面より基板投入・取出しが可能な エッチング実験装置です。 基板投入、スプレー、基板取出しまでの作業を自動で行えます。 本体の材質にPVC(ポリ塩化ビニール)を使用。酸やアルカリに耐性があります。 また、温度の自動制御・スプレー時間制御タイマー付きのため、多用途にご使用 いただけます。 【特長】 ■搬送型(自動運転:往復、手動運転:固定) ■装置全面より基板投入・取出しが可能 ■基板投入、スプレー、基板取出しまでの作業を自動で行える ■温度の自動制御・スプレー時間制御タイマー付き ■本体の材質にPVC(ポリ塩化ビニール)を使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス

ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス
当社は、『ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス』を 行っています。 金属膜多層配線をはじめ、クロム膜や薄いガラスの金属膜、SiO2膜などの パターニングに対応。 ご用命の際はお問い合わせください。 【特長】 ■金属膜多層配線のパターニング ・透明金属膜:ITO膜 ・白色金属膜:AL合金膜(W/10μm) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

CVS分析装置(めっき液分析用 電気化学分析装置)

CVS分析装置(めっき液分析用 電気化学分析装置)
◆ サイクリックボルタンメトリーストリッピング(CVS) やサイクリックパルスボルタンメトリーストリッピング(CPVS) の測定装置です。 ◆ 電気めっきプロセスにおける添加剤の効果と有効性を直接測定することができます。 ◆ 添加剤の濃度はCVS又はCPVSによって正確に定量できます。
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ウェーハのダイシングにおける異物混入・汚染の防止

ウェーハのダイシングにおける異物混入・汚染の防止とは?

半導体・センサ・パッケージング業界において、ウェーハのダイシング工程は、一枚のウェーハを個々のチップに分割する重要なプロセスです。この工程で発生する異物混入や汚染は、チップの性能低下、歩留まりの悪化、さらには製品全体の信頼性低下に直結するため、その防止は極めて重要となります。

​課題

微細な異物の付着・飛散

ダイシング時の切削粉や周辺環境からの微細な異物がウェーハ表面やチップに付着し、電気的特性に悪影響を与える。

加工液・洗浄液による汚染

ダイシングに用いる加工液や洗浄液に含まれる不純物、あるいはそれらの残留物がウェーハやチップを汚染する可能性がある。

装置・治具からのコンタミネーション

ダイシング装置の摩耗粉、治具の汚れ、または作業者の手指などを介して異物がウェーハに持ち込まれる。

静電気による異物吸着

ダイシング工程で発生する静電気により、空気中の微細な異物がウェーハ表面に吸着しやすくなる。

​対策

クリーン環境の維持・管理

ダイシングエリアの清浄度を厳格に管理し、HEPAフィルターなどを活用して空気中の異物を除去する。

適切な加工液・洗浄液の選定と管理

高純度の加工液・洗浄液を使用し、定期的なろ過や交換を行うことで、液由来の汚染を防ぐ。

装置・治具の清掃とメンテナンス

ダイシング装置や治具を定期的に清掃・点検し、摩耗や汚れによる異物発生を抑制する。

静電気対策の実施

帯電防止材料の使用や除電装置の設置により、静電気の発生を抑制し、異物吸着を防ぐ。

​対策に役立つ製品例

高機能クリーンルーム用フィルター

空気中の微細な粒子を効率的に捕集し、ダイシングエリアの清浄度を維持することで、異物付着リスクを低減する。

超純水製造・供給システム

不純物を極限まで排除した超純水を提供し、加工液や洗浄液による汚染を防ぐ。

精密洗浄用ブラシ・ワイパー

ウェーハ表面や装置部品に付着した微細な異物を、ウェーハを傷つけることなく効果的に除去する。

帯電防止用クリーンルームウェア

作業者が身につけることで静電気の発生を抑え、空気中の異物がウェーハに吸着するのを防ぐ。

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