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加工深さの精密制御とは?課題と対策・製品を解説
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レーザー加工における加工深さの精密制御とは?
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小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング(IBE)装置です。
微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。
【特長】
○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング
○テーパー加工が容易
○基板表面温度 80℃以下での処理が可能
○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要
○エンドポイントディテクター搭載可能
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
小型イオンビームエッチング装置
株式会社フォアサイトが行う、ガラスエッチング技術の『微細掘り込み加工』
をご紹介します。
時計文字盤、コップ、お皿、ウェルカムボード、ガラス装飾絵画等
これまで電子部品業界で培った微細加工技術を活かしたデザイン性豊かな
装飾品に導入されています。
また、従来の平面構造(2D)の電極配線だけではなく、立体構造(3D)での
電極配線を実現する材料開発への導入事例もあります。
当社ではレーザー加工との組み合わせにより、これまで以上の微細領域の
加工対応も可能ですので、是非ご相談ください。
【特長】
■対応サイズは100×100~400×500程度
■微細領域の加工対応も可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ガラスエッチング技術】微細掘り込み加工
当社では、微細加工の受託サービスとして「電子ビーム(EB)描画加工」を
行っております。
EB描画はその名の通り、フォトマスクを用いることなく、
デバイスパターンを直接描画するマスクレス露光技術です。
BE描画に精通したエンジニアが丁寧にヒアリングし、
必要に応じて前後のプロセスも含めて提案させていただきます。
【特長】
■フォトマスクが不要
■デバイスパターンの変更が容易
■100nm以下の超微細パターンの形成が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
<微細加工の受託サービス>電子ビーム(EB)描画加工
当社では「位置合わせ加工」を行っております。
パターン付き基板や、エンコーダ、マイクロレンズアレイ位置合わせピン用
穴加工なども対応可能。
また、フォトマスクやパターン付基板を位置精度よく加工することもでき、
ミクロンオーダーの実績もございます。
【加工実績】
■パターン付き基板
■エンコーダ
■マイクロレンズアレイ位置合わせピン用穴加工
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
位置合わせ加工
『微細構造物形成』のアプリケーション例をご紹介します。
当技術では、シュミレーションだけでなく実機に近い評価・検証が可能。
マスクを作成して同一基板上にL字・直線・円形(円柱)等複数の形を
線幅変えて分割形成できます。
基材はガラス・シリコンウエハ等も可能です。
ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。
【アプリケーション例】
■接着剤・接着フィルム・充填剤(半導体PKG内等)の追従性評価
■マイクロLED等のマイクロフォルダー
■太陽電池等のカバーガラススペーサー
※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
【微細構造物形成】アプリケーション例
試作・開発・量産まで、ウエハー加工に関する受託加工を行っております。
社内加工では成膜加工(CVD、スパッタ リング)・フォトリソ・エッチング加工を行うことが出来、それ以外の加工は協力企業での加工となります。
成膜は、ウエハー上に数百ナノ~数ミクロンの絶縁膜、金属膜を形成。
フォトリソは、マスクに描かれたミクロン単位のパターンをウエハー上のレジスト膜に転写しパターニング。
エッチングは、形成された膜、またはシリコン等を化学反応で削り、パターンを形成します。
テスト用、評価用パターンウエハーの製作も行っています。
成膜を行った膜付きウエハーや、ウエハー単体での販売も行っております。お気軽にお問合せください。
ウエハー加工(CVD、スパッタ、フォトリソ、エッチング)受託
書籍【CM0708】 マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術
■□■書籍内容■□■
コスト面や生産性で優れるウエット、微細化に優れるドライ、
そしてそれらの応用展開から構成される本書は、研究開発から
生産現場まで広い範囲でお役に立てます!
太陽電池におけるテクスチャー形成、3次元実装における
TSV(シリコン貫通ビア)形成など、最新のエッチング技術を掲載!
予想通りにエッチングができずにお困りなら、是非とも本書をご参考下さい!
■詳細は、お問い合わせ下さい。
書籍【CM0708】 マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術







