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研磨時間の短縮とは?課題と対策・製品を解説
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研削・研磨加工における研磨時間の短縮とは?
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ハードディスク装置の飛躍的な性能向上を図るためスライダーヘッド保護膜の極薄膜化が検討されて来ました。
ヘッド/ディスクのナノスペーシング化に伴いヘッドのディスク面への接触による摩損を最小化するために、より硬く弾力性に富んだ炭素膜が必要となり、耐食性に優れたピンポールの無い緻密な膜が要求されてきました。
これらの要求性能を満足しパーティクルフリーで生産性の優れた炭素膜として、『FCVAコーティング方式によるta-C膜』が業界標準的に使用されています。
【アプリケーション事例】
○従来のDLC膜では4nm以下の薄膜領域では実用上問題となった
⇒ta-C膜使用で1.5nmの薄膜が実用化された
○垂直磁気記録方式ではディスク面保護膜としてもta-C膜適用が検討されている
⇒課題:スライダーと比較してより短時間にコーティングする必要性がある
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
コーティングアプリケーション事例『ハードディスク スライダー』
・ 穴あけ後のバリ取り研磨
・ メッキ後のブツざら除去、およびレベリング
・ IVH 基板プレス後のプリブレグ樹脂の除去
・ ビルドアップ樹脂基板、樹脂コーディング基板の樹脂のレベリング
・ アクティブ基板、メッキバンプのメッキ高さのレベリング
【特長】
■ラインスピードの高速化による生産効率の改善
■基板表面のレベリング性に優れ、平滑な仕上がり面を実現
■研磨による穴ダレがなく、スクラッチも少ない綺麗な仕上がり面を実現
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
メッキ表面の突起物を削る【研磨材料】
