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科学・分析機器総合

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金属材料の表面不動態層とは?課題と対策・製品を解説

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化学・材料・製造における金属材料の表面不動態層とは?

金属材料の表面に自然に、あるいは意図的に形成される、腐食や化学反応から金属本体を保護する緻密な酸化物や化合物の層のこと。この層の存在と特性は、金属材料の耐久性、機能性、そして最終製品の性能に大きく影響します。

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【半導体向け】単結晶の回折シミュ『SingleCrystal』

【半導体向け】単結晶の回折シミュ『SingleCrystal』
半導体業界では、現実世界の結晶構造とシミュレーション結果の比較が不可欠です。SingleCrystalでは理論回折パターンと実験データを比較することで、積層欠陥や転位などの欠陥を間接的に示唆する異常(スポットのずれ・拡散散乱)を特定できます。 【活用シーン】 ・X線、中性子、TEMを用いた欠陥解析 ・回折パターンのシミュレーションと実験結果の比較 ・結晶構造の可視化と理解 【導入の効果】 ・欠陥の特定と原因究明の迅速化 ・製品の品質向上と歩留まり改善 ・研究開発の効率化

【研究機関向け】タンタル(Ta)ターゲット

【研究機関向け】タンタ��ル(Ta)ターゲット
研究機関における実験では、信頼性の高い結果を得るために、高品質な材料が不可欠です。特に、薄膜形成実験においては、ターゲット材の品質が実験結果を大きく左右します。タンタル(Ta)ターゲットは、高耐熱性、優れた耐蝕性、良好な導電性を持ち、実験の効率化と精度の向上に貢献します。当社のタンタル(Ta)ターゲットは、高品質な材料と高度な製造技術により、研究開発を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・PVD/CVDプロセスを用いた薄膜形成実験 ・高エネルギー・スパッタリング実験 ・半導体デバイスの研究開発 ・耐食性材料の研究 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の形成 ・実験結果の信頼性向上 ・実験効率の向上 ・研究開発の加速

研究開発向けメタル炉|真空・還元雰囲気・高温熱処理対応

研究開発向けメタル炉|真空・還元雰囲気・高温熱処理対応
研究開発や試作評価では、材料ごとに温度・雰囲気・処理時間を細かく検討できる高温炉が必要です。 特に、セラミックスと金属の接合、ろう付け、アニール、焼成、還元雰囲気処理では、炉内の清浄性や雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 大学・研究機関・企業研究所での材料評価、試作、量産前検討まで、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 研究開発用の高温炉を探している ■ セラミックスと金属の接合・封着を検討したい ■ ろう付け、アニール、焼成条件を評価したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない

【研究機関向け】小型高電圧電源『GTシリーズ』

【研究機関向け】小型高電圧電源『GTシリーズ』
研究機関における実験では、精密な電圧制御が求められます。特に、材料科学、物理学、化学などの分野では、高精度な電圧印加が実験結果に大きく影響します。GTシリーズは、出力電圧を可変できるため、実験目的に合わせた最適な電圧設定が可能です。 【活用シーン】 ・材料の帯電・放電実験 ・絶縁破壊試験 ・プラズマ生成実験 ・各種センサーの動作確認 【導入の効果】 ・実験の再現性の向上 ・実験データの信頼性向上 ・多様な実験への対応 ・安全な実験環境の実現

【半導体向け】レーザ加工装置『LASER BLENDER』

【半導体向け】レーザ加工装置『LASER BLENDER』
半導体業界では、製品の高性能化に伴い、材料の微細な組成分析が不可欠です。特に、ウェーハや薄膜の品質管理においては、局所的な成分分析や深さ方向の分析が求められます。従来の分析手法では、サンプルの準備に時間がかかったり、分析精度に限界がありました。レーザアブレーション装置『LASER BLENDER』は、LA-ICP分析の高速・高精度化を実現し、半導体製造における分析の課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハの異物分析 ・薄膜の深さ方向分析 ・微細構造の局所分析 【導入の効果】 ・分析時間の短縮 ・高精度な分析結果の実現 ・分析手法の多様化

【半導体向け】断面試料作製装置『IB-19510CP』

【半導体向け】断面試料作製装置『IB-19510CP』
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、微細構造の正確な観察が不可欠です。SEMやFE-SEMを用いた観察において、高品質な断面試料作製は、正確な解析の基盤となります。イオンビーム加工による試料作製は、加工によるダメージを最小限に抑え、高精度な観察を可能にします。当社『IB-19510CP』は、高速加工と仕上げ加工を組み合わせることで、高スループットと高品質な断面を実現し、半導体デバイスの微細構造観察を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの断面観察 ・微細構造の解析 ・品質管理 【導入の効果】 ・高スループット化による分析時間の短縮 ・高品質な断面試料の作製による正確な解析 ・試料ダメージの軽減

めっき 表面分析サービス

めっき 表面分析サービス
当社は、様々な装置を用いて表面を分析し、あらゆる問題を解決、 また技術開発に役立てています。 あらゆる分析から問題点を見つけ出し対策につなげ、 形状測定や皮膜の分析から物性を評価します。 また、皮膜中元素や環境規制物質の定量分析も行います。 【取扱品目】 ■問題解決 ■物性評価 ■成分分析 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。

ALD装置 Beneq TFS 200

ALD装置 Beneq TFS 200
『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR&Dに適した、 高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。 マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを 最小限に抑えるよう特殊設計されています。 また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を 特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする 技術ソリューションを提供いたします。 【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

小型高温炉

小型高温炉
コンパクトな上、高温まで急速昇温可能な小型高温炉です

カーボン炉|極低酸素・3000℃級の高温焼成テストに対応

カーボン炉|極低酸素・3000℃級の高温焼成テストに対応
設備導入前の極低酸素・超高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、黒鉛化、再結晶化、粒成長、相形成、酸化影響などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社で取り扱う「カーボン炉」は、条件出しに時間がかかり、 短サイクルでの再現が難しいなどといった課題を解決します。 真空引きで試料内部の空気を事前に排出、置換時間を短縮。 また、トレイ自由度/棚構成で角型サヤなどを並列配置し、 厚みムラの影響評価も可能です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧での焼成 ・真空→Ar/N2へ段階置換 ・炉材カーボンのゲッタリング効果で残存O2/酸化性種を低減 ■超高温プロセス ・常用~2800℃、最大~3000℃クラスでの長時間安定運転 ・1200~2600℃帯の緩昇温→保持で粒成長や再配列を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

真空薄膜形成装置や表面分析装置 長年培った真空技術がこの一冊に!

真空薄膜形成装置や表面分析装置 長年培った真空技術がこの一冊に!
真空機器・装置、理化学機器・装置においてグローバルな視野を持ち、 常に時代の先端を見つめ、新しい技術と商品ニーズを先取りし、 ユーザー様の役に立つ製品を提供し続けている、株式会社パスカルの 総合カタログです。 従来のイオン散乱表面分析装置では不可能だった、絶縁体表面の極性判別や 構造解析、元素同定、さらに電場・磁場中での【その場分析】を可能にした 飛行時間型原子散乱表面分析装置「TOFLAS-3000」をはじめ、 「真空薄膜形成装置」や「表面分析装置」などをラインアップしています。 【掲載内容 抜粋】 ■真空装置、コンポーネント ■表面分析装置 ■低温関連機器 ■アジレント社製真空機器(旧バリアン) ■その他真空関連製品        ほか ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

卓上型コンパクトプローバー『MBP-55』

卓上型コンパクトプローバー『MBP-55』
『MBP-55』は、チップレベルのIV/CV測定に適したコンパクトな プローバーです。 50mm□までのサンプルサイズに対応。 シールドボックスまで装備した一体型です。 また、微小電流IV、微小容量CV測定、高周波測定に対応します。 さらにコンパクトサイズ、軽量で持ち運びも容易です。 【特長】 ■チップレベルのIV/CV測定に好適 ■50mm□までのサンプルサイズに対応 ■シールドボックスまで装備した一体型 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

調査分析

調��査分析
当社で行っている「調査分析」についてご紹介いたします。 熱処理・FPP等の品質管理/保証として、分析機器を保有。 有償でも承ります。 X線回折分析装置を用いて、残留応力測定や残留オーステナイト %量測定を実施。また、走査型電子顕微鏡にて表面観察(SEM) や簡易元素分析(EDS)も行っております。 【X線回折による各測定の特長】 ■非破壊分析 ■深さ数十ミクロンまでの試料採取データ ■試料の微小部分の局所的残留応力分析が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

【分析事例】はんだボール表面の酸化膜評価

【分析事例】はんだボール表面の酸化膜評価
AES分析ではSEM観察機能が付随していることから、試料表面の特定箇所を測定することが可能です。 またサブμmの微小領域での測定が可能なため、基板等の平坦試料だけではなく、球体形状や湾曲形状の試料でも、曲率の影響を受けにくく、平坦試料と同様に特定箇所を狙って測定することができます。 以下は表面形状が異なる半田ボール表面の酸化膜厚を評価した事例です。

集束イオンビーム装置(FIB)用 多出力高圧電源 FIBXシリーズ

集束イオンビーム装置(FIB)用 多出力高圧電源 FIBXシリーズ
各種電源を一つに統合 高い安定度と低リップル モールドされた高圧発生セクション コロナ放電のないオペレーション 光ファイバーにて絶縁されたデジタルインターフェイス CEマーク、UL及びSEMI準拠

微小電流測定用サーモコントローラー『LMT-S-700シリーズ』

微小電流測定用サーモコントローラー『LMT-S-700シリーズ』
『LMT-S-700シリーズ』は、当社の顕微鏡用サーモコントローラの 豊富な技術と実績により、広範囲な温度制御を正確に行うことができる 特注型 微小電流測定用サーモコントローラーです。 半導体パッケージ、液晶、ベアチップ、プリント基板、医薬品等各種素材の 熱変形、電気特性、光学特性を顕微鏡下による観察、測定、計測が可能です。 【特長】 ■幅広い温度範囲での正確な温度制御 ■均一な表面温度 ■幅広い適応性 ■高品質で低価格 ■特注品の製作 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

プローバー 真空<低温>プローバーシステム

プローバー 真空<低温>プローバーシステム
真空<低温>プローバーシステムSB-MCPSシリーズは、多種の低温・高温オプションをご用意し、様々な温度領域に対応するプローバーです。 プローバーシステムは標準システムの他に低温・RF・磁場を合わせたスピントロニクス向けのプローバーや、測定スペースに合わせた省スペース・ミニ型のプローバー、電磁石や赤外線カメラを搭載したプローバーなど製作実績もございます。 ご希望される測定に必要な機能・性能にあわせカスタマイズし、ご提案することも可能です。

テラヘルツ分光装置『Tera Evaluator』

テラヘルツ分光装置『Tera Evaluator』
『Tera Evaluator』は、エリプソメトリの技術を導入した 新しいテラヘルツ分光装置です。反射光学系の採用により 不透明な材料の測定に適しています。 4インチ、6インチウェーハ測定用のマッピングステージを標準搭載し、 半導体ウェーハの非接触・非破壊検査を実現しました。 電磁波パルスの電場強度の時間波形を計測することで、電場強度と共に 位相情報も同時に計測。リファレンスとサンプルでの時間波形の違いを 解析することにより、サンプルの複素誘電率(複素屈折率)の 周波数依存性を得ることができます。 【特長】 ■キャリア濃度・移動度を非破壊・非接触で測定 ■テラヘルツ領域の複素誘電率を計測可能 ■液体試料も測定可能 ■解析用ソフトウェア:THz Analysisを標準搭載 ■レーザーの外部入力が可能なシステムを構築 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

SIMS分析|PCOR-SIMS(高精度・二次イオン質量分析法)

SIMS分析|PCOR-SIMS(高精度・二次イオン質量分析法)
PCOR-SIMS(Point by point Corrected SIMS)はSIMSをベースに、EAG Laboratoriesが長年の経験とノウハウから独自開発した分析手法です。試料のマトリクスの変化に対して感度係数とスパッタリングレートを深さ方向全てのポイントに対して補正し、精度の高い深さ方向プロファイルを得ることが可能な高度なEnhanced SIMS技術です。PCOR-SIMSは化合物半導体の微量元素・組成評価、Shallow B、As、P等の極浅イオン注入(ULE)分布評価などに有効です。

金属材料分析装置 belec compact port HLC

金属材料分析装置 belec compact port HLC
belec compact port HLCは、ポータブルタイプでハイブリッド分光光学系システムを搭載した第6世代分光光学系システム6GSO System (6th Generation Spectrometer Optic System)を採用した、小型・ポータブルタイプの発光分光分析装置です。 新開発のアルゴンUVプローブを使用することで、カーボンはもちろん、リン、硫黄、ボロン、スズまで分析可能です。(検出限界:C 0.003%、P 0.005%、S 0.005%、B0.0005%) また、窒素光学系オプションを使用することで、デュープレックススチールの分析に不可欠な窒素も0.05%の検出限界にて分析が可能です。 【特徴】 ○温度安定型分光器の採用 →周囲の温度に影響を受けず高精度な分析が可能 ○オプションにてDuplex Steelの分析にかかせない窒素の分析も可能 ○マルチベースアプリケーションにも最適 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

表面・界面物性解析装置『SAICAS EN・NN』

表面・界面物性解析装置『SAICAS EN・NN』
『SAICAS EN・NN』は、被着体の剥離強度とせん断強度を測定する装置です。 せん断強度などの物性測定以外にも、従来では困難であった異種材料の 界面近傍の状態観察、塗膜や混合材の深さ方向への切削面の観察による 均一、不均一などの分散状態の解析、耐候性試験後の表層からの内面まで 劣化状態の追跡などが可能です。 【測定モード】 ■定荷重モード :一定の垂直荷重を保って切削する方法 ■定速度モード :一定の速度を保って切削する方法 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

マルチ雰囲気炉|反応条件を雰囲気×温度で精密設計

マルチ雰囲気炉|反応条件を雰囲気×温度で精密設計
当社では、酸化・還元・窒化・加湿など、複数雰囲気での材料評価に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空置換後にN2/Ar/H2/NH3/Air/加湿ガスなどを切替え、雰囲気×温度の二軸で反応条件を精密に設計できます。 炉内には真空システムを内蔵し、処理後の真空置換や所定ガス置換が可能です。雰囲気履歴を管理することで、炉内残留ガスリスクを低減します。 【特長】 ■ 真空置換後、各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ H2/NH3/加湿ガスなど反応性ガスに対応 ■ 温度と雰囲気をプログラム制御 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ■ 研究開発からスケールアップ条件検討まで対応 ■設備導入前の焼成テストも可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

電気化学水晶振動子計測システム『ECstat-302-QCM』

電気化学水晶振動子計測システム『ECstat-302-QCM』
『ECstat-302-QCM』は、水晶振動子マイクロバランス (QCM) 法は、電極上への吸着や析出およびそれらの溶出に伴う質量変化をngオーダーで測定できる高感度な質量センサーです。電極表面で起きる種々の現象を、電気化学と質量変化の両面から同時に計測することができます。 【特長】 ■コンパクトなEQCMシステムが構築が可能 ■微小な質量変化を共振周波数、粘弾性変化を共振抵抗として同時に測定が可能 ■9 MHz水晶振動子に加え、30 MHzまでの高速・高感度測定が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

BHループトレーサー『HBH-20』

BHループトレーサー『HBH-20』
『HBH-20』は、バルク材試料に直流磁界を印加し、BHループをはじめ、 様々な測定・解析を行う装置です。 当社の高性能電磁石を使用し、コンパクトな設計になっています。 また、PC制御によりすべての測定を自動的に行うことが可能です。 【特長】 ■BHループなど様々な測定・解析 ■高性能電磁石を使用 ■コンパクト設計 ■PC制御による自動測定 ※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

セミオートプローバー『AP-150/AP-200』

セミオートプローバー『AP-150/AP-200』
『AP-150/AP-200』は、それぞれ6、8インチまでのウエハサイズに対応した セミオートプローバーです。 コンパクトなシールドの効果により、安定した微小電流測定が可能。 ドライエアを置換できるコンパクトシールド機構により、マイナス温度時も 結露しません。 また、画像認識を活かした自動ウエハアライメントや自動個別チップ アライメント等を搭載できます。 【特長】 ■20kV以上、200A以上のパワーデバイス測定対応 ■それぞれ6、8インチまでのウエハサイズに対応 ■コンパクトなシールドの効果により、安定した微小電流測定が可能 ■オペレーターに分かり易く操作性に優れた制御ソフト ■自動ウエハアライメントや自動個別チップアライメント等を搭載できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

電場/電界解析ソフトウェア『ELFIN』

電場/電界解析ソフトウェア『ELFIN』
『ELFIN』は、電場や物体に働く力の計算に有効な積分要素法に基づいた 電場解析ソフトウェア(電界解析ソフトウェア)です。 単なる静電場解析だけでなく、電位や電荷の時間変化、物体の運動を 考慮した解析も可能です。 空間をメッシュ分割する必要がなく、物体の運動を考慮することが 容易に可能です。数値積分ではないので要素表面の近くでも高精度の 結果が得られます。 【特長】 ■空間メッシュ不要 ■要素近傍でも高精度 ■境界条件不要 ■粗い分割でも高精度 ※詳しくはホームページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※関連リンクのホームページに価格表、解析事例、無料のデモ版があります。

真空プローバーシステム『SB-MCPSシリーズ』

真空プローバーシステム『SB-MCPSシリーズ』
『SB-MCPSシリーズ』は、豊富なオプションで 低温から高温まで対応可能な真空プローバーシステムです。 液体窒素冷却ユニット(80K~500K)をはじめとして、液体ヘリウムフロー型 冷却ユニット(5K台~300K)、高温ユニット(室温~600K)などの 低温・高温オプションをご用意しています。 極低温から、高温までの温度を選択することが可能です。 【仕様】 ■温度範囲:室温 ■サンプルサイズ:ロ20mm ■移動量:X軸 ±25.0mm、Y軸 ±15.0mm、Z軸 ±12.5mm ■コネクター : BNCコネクター ■架台寸法:W550mm×D550mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

レーザー誘起ブレークダウン分光分析計『LIBS』

レーザー誘起ブレークダウン分光分析計『LIBS』
『LIBS』は、炭素の測定が可能なハンドヘルド型分析計です。 小型軽量、バッテリー駆動のため、現地での連続的な分析作業が可能。 放射線を使用せず測定が迅速で、分析結果がその場で確認できます。 また、分析痕はごく軽微なグラインダー仕上げで消失し、蛍光X線では 測定不可能な「C」「Be」なども測定できます。 【特長】 ■「C」「Be」なども測定可能 ■Al合金の分別(2000系、5000系など)が可能 ■小型軽量、バッテリー駆動のため、  現地での連続的な分析作業が可能 ■測定が迅速で、分析結果がその場で確認可能 ■分析痕はごく軽微なグラインダー仕上げで消失(溶発深さ:~50μm程度) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

電気化学装置『ECstat-302』

電気化学装置『ECstat-302』
『ECstat-302』は、当社P/GスタットECstat-301および充放電装置ECAD-1000の後継機として開発した電気化学装置です。 本装置は、コンパクトでありながら多機能であり幅広い電気化学測定や充放電測定にも対応可能です。 【特長】 ■優れたコストパフォーマンス ■コンパクトデザイン ■高感度、最小電流分解能 100pA ■広い電流レンジと制御電圧 3μA~30mA(5レンジ)、±6.4V ■多彩な測定項目(13項目) など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

超高温観察レーザー顕微鏡システムVL3000DX-SVF18SP

超高温観察レーザー顕微鏡システムVL3000DX-SVF18SP
米倉製作所を代表する加熱観察IRイメージ炉に、デジタルバイオレットレーザー顕微鏡を搭載。 最高1800℃の超高温環境下の鮮明なミクロ観察を可能にしました。 従来機と比べ、解像度・明るさが約2倍に向上*し、高倍率、高コントラストでの観察像が得られます。 鉄鋼、非鉄金属、セラミックス、二次電池等の高温下における 微細構造挙動の研究、材料開発にご活用ください。 *当社従来型の「VL2000DX-SVF17SP」と比較 ◆ ポイント◆ ・ 高解像度in-situ(その場)観察   超高温下の高分解能画像を取得 ・多様な観測条件を実現   最高1800℃の急速昇温・急速冷却 ・優れた操作性・制御性   温度と正確にリンクした高速画像取得 オプションの負荷機構モジュール「SVF12FTC」を利用することで、 高温下で応力負荷中(最大5kN)の観察が行えます。 詳細はお問い合わせください。

金属表面処理品の表面及び断面の観察と分析サービス

金属表面処理品の表面及び断面の観察と分析サービス
めっきなど金属表面処理は装飾性を向上するものから機能性を 付与するなど様々な用途で使用されています。しかし、表面に 異物が付着するとそれら機能に問題が発生します。 当社では、金属表面処理加工品などを表面及び断面から 観察分析を行っています。 さらに断面をArガスによるスパッタエッチングすることで めっき皮膜の結晶を観察することができます。 表面処理の異常でお困りが有りましたら御連絡ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

はじめてでも迷わない-用途×雰囲気×温度で“ぴったりの炉"

はじめてでも迷わない-用途×雰囲気×温度で“ぴったりの炉"
当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン&俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気:Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度:〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途:塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気:真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす:〜1800℃前後(機種による) ・主な用途:焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

パルス磁界発生装置『PMGシリーズ』

パルス磁界発生装置『PMGシリーズ』
パルス磁界発生装置『PMGシリーズ』は、コンデンサーに充電した電荷を 空芯コイルに放電することにより、パルス磁界を発生させる装置です。 充電および放電(パルス磁界発生)のタイミングは、手動スイッチもしくは 外部信号(PC or TTL 信号)にて制御が可能です。 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

高温その場測定用チャンバ『ISM-H』

高温その場測定用チャンバ『ISM-H』
高温その場測定用チャンバ『ISM-H』は、高温において残留応力ならびに材料組織の変化を追跡します。 高度なリアルタイム評価技術が誰でも簡単に実施できる試験方法に変わります。 応力測定、構造解析、極点図、相分率などの分析用途に適しています。 【特徴】 ○熱処理ならびに実機供用を想定した高温環境を再現 ○多種様々なプロセスを施工した大型サンプルにも対応 ○特許出願中 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

試料乾燥機

試料乾燥機
当製品は、クリーンで強力な熱風をノズルから吹出して、試料片の 湿式研磨後やエッチング処理後の試料面を瞬時に乾燥させることができる 試料乾燥機です。 試料のクラックやインクルージョン等から滲み出す水分の蒸発による 酸化やダスト付着を防止します。 また、汚れた空気中でも、空気吸入孔のフィルターで除去することが 可能です。 【特長】 ■瞬時乾燥 ■酸化及びダスト付着を防止 ■空気吸入孔のフィルターで除去 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

手軽に電極膜作製 デスクトップコンパクトコーター

手軽に電極膜作製 デスクトップコンパクトコーター
45年以上に渡るロングセラーモデル 小さなボディながらも、電極用薄膜作製から電子顕微鏡(SEM)用試料作製まで対応。 オフィスのデスクに置かれていても違和感のないデザインとコンパクトさ!! 【特徴】 〇スモール&コンパクト 〇ベルジャーを持ち上げる必要のない前面ドア開閉方式 ⇒ サンプルのセット/取出しが楽に行なえます。 〇間欠スパッタ機能を標準搭載 〇多彩なオプションをご用意:シャッター付前面ドア/アルミ製前面ドア/ピラニー真空計取付ポート付前面ドア etc.

パルス磁界発生装置『PMG-5T』

パルス磁界��発生装置『PMG-5T』
『PMG-5T』はコンデンサーからの放電によりパルス磁界を発生させる装置です。 MHループ測定への応用などに使用されます。PC制御により全て自動で測定できます。 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

振動試料型磁力計

振動試料型磁力計
当社では、粉体・薄膜・バルクなど各種磁性材料の磁化曲線、透磁率を 高感度・高精度で測定できる『振動試料型磁力計』を取り扱っております。 磁化器により磁化された試料を一定振幅、一定周波数にて振動させ、 近傍の検出コイルの誘起起電力の大きさから、磁化の強さを求めることが可能。 また、取り扱いも簡単で、サンプルセット後測定条件を入力すれば、 すぐに測定を開始できます。 【主な特長】 ■コンピュータ集中制御・高速測定 ■簡単な測定・解析 ■好適なハードウェア ■サンプルホルダー ■広範囲な温度測定が可能(オプション) ■低磁界測定装置(オプション) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

材料調査 分析・強度特性・物理特性・組織評価

材料調査 分析・強度特性・物理特性・組織評価
「材料調査」では、お客様が調べてみたい材料の成分、硬さ、強度、組織などの評価および破損、腐食、異物付着などの諸問題について、分析データ、強度特性、物理特性あるいは組織評価を行い総合的な見地より原因の追究、考察を報告書にしてお送りするサービスです。 破損や摩耗、腐食などのさまざまな問題点を最新鋭の機器で調査し、その原因を究明します。 【調査】 ○SEM観察 ○マイクロスコープ観察 ○金属顕微鏡観察 ○残留応力測定 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

真空コンポーネント 高速電子回折システム/RHEEDシステム

真空コンポーネント  高速電子回折システム/RHEEDシステム
30KV対応でコンパクトな制御電源です。

表面分析機器『TOFLAS-3000』

表面分析機器『TOFLAS-3000』
『TOFLAS-3000』は、入射プローブとしてイオンではなく電気的に中性な 原子ビームを用いた飛行時間型原子散乱表面分析装置です。 本製品を使用することにより、半導体,金属のみならず絶縁体表面の 組成および原子配列の解析も可能です。 また、帯電(チャージアップ)の問題も解決します。 【特長】 ■金属、半導体はもとより絶縁体の表面分析にも威力を発揮 ■試料表面の元素の同定が可能 ■表面下数層の原子構造解析が可能 ■試料表面の極性判別が可能 ■表面での動的過程のリアルタイムモニタリングに対応 ■電場・磁場中でも影響なく測定が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

金属材料の材質がわかる!ハンドヘルド蛍光X線分析機『VoXER』

金属材料の材質がわかる!ハンドヘルド蛍光X線分析機『VoXER』
『VoXER』は、成分分析の結果をもとに合金を判定する ハンドヘルド蛍光X線分析機です。 大型タッチパネルを採用しており、簡単な操作で分析可能。 持ち運び自由で、分析場所を選びません。 ワンタッチカートリッジ交換式で、メンテナンスが容易です。 【特長】 ■信頼の分析結果・裏付け ■直感的なUIを搭載 ■どこでもポータブル ■非破壊で分析できる ■短時間で分析できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

各種蒸着部材

各種蒸着部材
株式会社プロスタッフでは、EBフィラメントやハースライナーなど、 『各種装着部品』の製作をいたします。 各種真空測定子・水晶振動子(金・銀・アロイ)(5MHz・6MHz)の 販売及び、再生加工も承ります。 また、真空用オイル(ロータリーポンプ油・拡散ポンプ油)も 取り扱っております。 【ラインアップ】 ■各種装着部品:EBフィラメント、EBパーツ、ハースライナー ■測定部品 ■光学用治具:治具(ドーム)、治具等 ■イオン銃パーツ ■真空用オイル・真空グリス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高精度・フレキシブル抵抗率測定システム『VR300DSE-2P』

高精度・フレキシブル抵抗率測定システム『VR300DSE-2P』
『VR300DSE-2P』は、当社のコア技術であるプローブ駆動コントロール システムにより、シリコンウェーハ、磁性体薄板など導電性試料の抵抗率、 シート抵抗を高精度に測定することを実現したフルオートタイプの 四探針測定器です。 また当社では、全機能搭載モデルの「VR300DSE」や、卓上型モデル 「VR300DE」「VR250」などもご用意しております。 【特長】 ■プローブ駆動をレシピにてセットアップ可能 ■高スループット化によるCoOの低減 ■2ロードポート対応 ■プローブ針先端の自動コンディショニング機能搭載 ■抵抗率分布の等高線マップ、三次元マップ等を作図可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

デュアルX線光電子分光分析装置『PHI Quantes』

デュアルX線光電子分光分析装置『PHI Quantes』
『PHI Quantes』は、エネルギーの異なる硬X線(Cr Kα線)と従来の 軟X線(Al Kα線)の2線源を搭載し、微小領域から大面積まで高感度な分析が 可能な走査型デュアルX線光電子分光分析装置 (XPS)です。 2種類のX線源は短時間・自動で切り替えが可能。 試料の同一箇所を分析することができます。 【特長】 ■走査型デュアルモノクロX線源 ■2線源による容易な同領域測定 ■ターンキー帯電中和 ■自動分析 ■高耐圧アナライザ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

コンパクト真空チャンバー『AXCVC10T』

コ��ンパクト真空チャンバー『AXCVC10T』
『AXCVC10T』は、上下駆動部をスライドブッシングを使用することにより 正確な稼動が可能なコンパクト真空チャンバーです。 NW(クイックフランジ)を上下及び側面に設置しており、あらゆる真空用 部品(真空計等)に対応。 また、前面大口径ハッチの採用でチャンバーの内部のオペレーションが 容易になっております。 【特長】 ■前面ハッチはレバー式を採用にて締め付けが容易 ■転倒防止のため最下部に着脱式板を取付 ■レベルアジャスターの採用により上下稼動化(±12mm) ■取外し可能な覗き窓を採用 ■『AXCVC10T』専用架台付 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

分析装置『belec compact port HLC』

分析装置『belec compact port HLC』
『belec compact port HLC』は、ハイブリッド分光光学系システムを 搭載した金属材料分析装置です。 各種金属材料の鋼種判別をはじめ、グレードチェック、PMIテストや 現場での金属材料の定性・定量分析等に最適な装置です。 温度安定型分光器の採用により、周囲の温度に影響を受けず、高精度な 分析が可能です。 また、オプションにてDuplex Steelの分析にかかせない窒素の分析も 可能にします。 【特長】 ■ハイブリッド分光光学系システム搭載 ■温度安定型分光器採用 ■高精度な分析が可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高温・交流ホール効果測定装置『HALS-H II』

高温・交流ホール効果測定装置『HALS-H II』
当社では、どこでも・誰でも・簡単に高温環境下の交流ホール効果測定が できる『HALS-H II』を取り扱っております。 本製品は、パワー半導体材料や、太陽電池材料、ガスセンサー材料など、 半導体材料の基礎特性評価にご利用いただけます。 ご要望の際はお気軽にお問合せください。 【特長】 ■低価格 ■高性能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

UV/VIS表面・界面分光測定装置 SIS-50

UV/VIS表面・界面分光測定装置 SIS-50
システム インスツルメンツ社より「SIS-50」のご案内です。

卓上精密研磨装置『ALP-250型』

卓上精密研磨装置『ALP-250型』
『ALP-250型』は、半導体デバイス、MEMSデバイス・自動車部品、金属、 塗装、樹脂、セラミックス等、様々な分析・解析等で観察面を作成する為に 設計・作成された研磨装置です。 卓上機で高精度、高い剛性のフレーム構造により、高精密研磨試料の 作成を実現。200rpmの安全で高回転域が可能な為、短時間で自由な研磨が 行えます。 【特長】 ■様々な分析・解析等で観察面を作成する為に設計・作成 ■ローラーアーム3ステーション可能なため、ある程度の量産もできる ■治具を使用せずハンディーラップでも使用可能 ■200rpmの安全で高回転域が可能な為、短時間で自由な研磨が行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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化学・材料・製造における金属材料の表面不動態層

化学・材料・製造における金属材料の表面不動態層とは?

金属材料の表面に自然に、あるいは意図的に形成される、腐食や化学反応から金属本体を保護する緻密な酸化物や化合物の層のこと。この層の存在と特性は、金属材料の耐久性、機能性、そして最終製品の性能に大きく影響します。

​課題

不動態層の不安定性

特定の環境下(例:酸性、塩化物イオン存在下)で不動態層が破壊され、腐食が進行してしまう。

不動態層の均一性不足

表面全体に均一な不動態層が形成されず、部分的な腐食や性能低下を引き起こす。

不動態層の評価困難性

不動態層の厚さ、組成、構造などを非破壊的かつ高精度に評価する技術が限られている。

不動態層形成の制御性

目的とする特性を持つ不動態層を、再現性良く、かつ効率的に形成するプロセス制御が難しい。

​対策

表面改質技術の適用

化学的処理、電解処理、プラズマ処理などを施し、より安定で強固な不動態層を形成する。

添加剤による不動態化促進

めっき浴や化成処理液に特定の添加剤を配合し、不動態層の成長を促進・均一化させる。

高度分析手法の活用

X線光電子分光法(XPS)、オージェ電子分光法(AES)、原子間力顕微鏡(AFM)などを用いて不動態層を詳細に分析・評価する。

プロセスパラメータの最適化

処理時間、温度、濃度、電位などのパラメータを精密に制御し、目的の不動態層を形成する。

​対策に役立つ製品例

表面処理装置

化学的、電気化学的な処理により、金属表面に均一で安定した不動態層を形成させるための装置。

表面分析装置

不動態層の組成、構造、厚さなどを非破壊的に高精度で分析し、品質管理や研究開発を支援する装置。

表面改質剤

金属材料の表面処理液に添加することで、不動態層の形成を促進し、その安定性や均一性を向上させる薬剤。

プロセス制御システム

表面処理プロセスにおける各種パラメータをリアルタイムでモニタリング・制御し、再現性の高い不動態層形成を実現するシステム。

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科学・分析システム
その他科学・分析機器総合
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