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金属材料の表面不動態層とは?課題と対策・製品を解説

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化学・材料・製造における金属材料の表面不動態層とは?
金属材料の表面に自然に、あるいは意図的に形成される、腐食や化学反応から金属本体を保護する緻密な酸化物や化合物の層のこと。この層の存在と特性は、金属材料の耐久性、機能性、そして最終製品の性能に大きく影響します。
各社の 製品
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【半導体向け】断面試料作製装置『IB-19510CP』
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、微細構造の正確な観察が不可欠です。SEMやFE-SEMを用いた観察において、高品質な断面試料作製は、正確な解析の基盤となります。イオンビーム加工による試料作製は、加工によるダメージを最小限に抑え、高精度な観察を可能にします。当社『IB-19510CP』は、高速加工と仕上げ加工を組み合わせることで、高スループットと高品質な断面を実現し、半導体デバイスの微細構造観察を強力にサポートします。
【活用シーン】
・半導体デバイスの断面観察
・微細構造の解析
・品質管理
【導入の効果】
・高スループット化による分析時間の短縮
・高品質な断面試料の作製による正確な解析
・試料ダメージの軽減
【研究機関向け】小型高電圧電源『GTシリーズ』
【半導体向け】レーザ加工装置『LASER BLENDER』
【研究機関向け】タンタル(Ta)ターゲット
研究機関における実験では、信頼性の高い結果を得るために、高品質な材料が不可欠です。特に、薄膜形成実験においては、ターゲット材の品質が実験結果を大きく左右します。タンタル(Ta)ターゲットは、高耐熱性、優れた耐蝕性、良好な導電性を持ち、実験の効率化と精度の向上に貢献します。当社のタンタル(Ta)ターゲットは、高品質な材料と高度な製造技術により、研究開発を強力にサポートします。
【活用シーン】
・PVD/CVDプロセスを用いた薄膜形成実験
・高エネルギー・スパッタリング実験
・半導体デバイスの研究開発
・耐食性材料の研究
【導入の効果】
・高品質な薄膜の形成
・実験結果の信頼性向上
・実験効率の向上
・研究開発の加速
研究開発向けメタル炉|真空・還元雰囲気・高温熱処理対応
研究開発や試作評価では、材料ごとに温度・雰囲気・処理時間を細かく検討できる高温炉が必要です。
特に、セラミックスと金属の接合、ろう付け、アニール、焼成、還元雰囲気処理では、炉内の清浄性や雰囲気制御が品質に影響します。
弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。
大学・研究機関・企業研究所での材料評価、試作、量産前検討まで、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。
■ 研究開発用の高温炉を探している
■ セラミックスと金属の接合・封着を検討したい
■ ろう付け、アニール、焼成条件を評価したい
■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい
■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない
【半導体向け】単結晶の回折シミュ『SingleCrystal』
ポータブル蛍光エックス線分析計『Innov-X』
『Innov-X』は、材料を痛めることなく現地で分析を行い、非破壊かつ
スピーディに材料の含有元素を知ることが可能なエネルギー分散型
ポータブル蛍光エックス線分析計です。
測定時間は1測定あたり5~20秒程度であり、数秒後には分析結果が得られ、
測定データはポケットPCに保存可能。
分析にはファンダメンタル・パラメーター(FP)法を採用しており、
標準サンプルを必要としません。
【特長】
■非破壊にて迅速 かつ信頼性の高い分析が可能
■小型軽量・バッテリー電源なので、現地での分析作業が可能
■分析にはファンダメンタル・パラメーター(FP)法を採用
■標準サンプルを必要としない
■測定時間は1測定あたり5~20秒程度
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
調査分析
セミオートプローバー『AP-150/AP-200』
『AP-150/AP-200』は、それぞれ6、8インチまでのウエハサイズに対応した
セミオートプローバーです。
コンパクトなシールドの効果により、安定した微小電流測定が可能。
ドライエアを置換できるコンパクトシールド機構により、マイナス温度時も
結露しません。
また、画像認識を活かした自動ウエハアライメントや自動個別チップ
アライメント等を搭載できます。
【特長】
■20kV以上、200A以上のパワーデバイス測定対 応
■それぞれ6、8インチまでのウエハサイズに対応
■コンパクトなシールドの効果により、安定した微小電流測定が可能
■オペレーターに分かり易く操作性に優れた制御ソフト
■自動ウエハアライメントや自動個別チップアライメント等を搭載できる
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
SIMS分析|PCOR-SIMS(高精度・二次イオン質量分析法)
パルス磁界発生装置『PMGシリーズ』
超高温観察レーザー顕微鏡システムVL3000DX-SVF18SP
米倉製作所を代表する加熱観察IRイメージ炉に、デジタルバイオレットレーザー顕微鏡を搭載。
最高1800℃の超高温環境下の鮮明なミクロ観察を可能にしました。
従来機と比べ、解像度・明るさが約2倍に向上*し、高倍率、高コントラストでの観察像が得られます。
鉄鋼、非鉄金属、セラミックス、二次電池等の高温下における
微細構造挙動の研究、材料開発にご活用ください。
*当社従来型の「VL2000DX-SVF17SP」と比較
◆ ポイント◆
・ 高解像度in-situ(その場)観察
超高温下の高分解能画像を取得
・多様な観測条件を実現
最高1800℃の急速昇温・急速冷却
・優れた操作性・制御性
温度と正確にリンクした高速画像取得
オプションの負荷機構モジュール「SVF12FTC」を利用することで、
高温下で応力負荷中(最大5kN)の観察が行えます。
詳細はお問い合わせください。
【分析事例】はんだボール表面の酸化膜評価
電気化学装置『ECstat-302』
プローバー 真空<低温>プローバーシステム














