表面処理・コーティング層とは？課題と対策・製品を解説

『DF-1037』シリーズは、高性能な分光システムと高機能な顕微鏡システムを
高い次元で融合させた顕微分光システムです。

新設計コールドフィルターWECFの採用による広いスペクトル測定レンジ(約380～960nm)、
高解像度デジタル画像撮影、スペクトル解析ソフトウエアSCOUTを用いた
薄膜サンプルの膜厚・光学定数解析など、
高度なご要求にお答えする充実した機能が搭載されています。

【特長】
■新設計コールドフィルターWECFを採用、広帯域顕微分光測定を実現
■顕微分光測定と高解像度デジタル画像撮影を簡単切換
■スペクトル解析ソフトウエアSCOUTによる膜厚、光学定数解析が可能
■顕微分光測定と豊富な顕微鏡オプションを利用したサンプル観察を両立

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

サンプル加熱は抵抗加熱、EB加熱に対応しており、Kタイプ、Cタイプ熱電対で‐200度から2200度までを0.1度単位でPID温度制御が可能です。

また蒸着セルの温度制御電源として、2ゾーンのヒーター制御も可能で有機セル用としても使用が可能です。

全てタッチパネルで、操作性にも優れ、安全性にも配慮された高品質な制御電源です。

『NS 1S500U』は、500mm幅でナノファイバーをエレクトロスピニングする
研究と開発、および少量生産のための多用途なナノファイバー生産装置です。

独自のニードル、ノズルを使用しない電界紡糸工程を搭載しており、
ナノファイバーの生産装置としてだけなく、高性能なラボ用装置としての
機能もあわせもつため、バッチおよび連続フィードのどちらのモードでも
操作が可能です。

【特長】
■フルタイムシフト操作が可能
■エアー量、動作湿度、基材送りスピードなどプロセスのトラッキングが可能
■タッチスクリーンによる操作パネル
■様々な種類のポリマーでスピニングが可能
■独自のニードルを使用しないナノスパイダーテクノロジー採用

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当製品は、超高真空において使用可能なビームエネルギー10eVから3000eVの
減速型コールドカソードイオン銃です。

効率よくイオンを引き出し、高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の
低速イオンビームを照射可能です。

フィラメントがない構造は反応性ガスを使用可能となっており、長寿命の
為メンテナンスサイクルを短くすることが可能。整備性に優れた新設計
ディスチャージチャンバーを採用しております。

また高効率差動排気設計によりメインチャンバーを超高真空度に保ちます。

【特長】
■減速型コールドカソードイオン銃
■高電流密度の低速イオンビームを照射可能
■フィラメントがない構造は反応性ガスを使用できる
■長寿命の為メンテナンスサイクルを短くすることが可能
■整備性に優れた新設計ディスチャージチャンバーを採用

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高度な制御が可能で多くの材料に対して0.1～50Å/minの範囲でコントロールが可能。

≪用途≫
数nmの薄膜作製、半導体ドーピング

≪特長≫
■冷却効率で今民ネーションフリーの設計
■材料はロッドまたはルツボ充鎮の選択
■標準搭載のフラックスモニタリングプレートにより精密な膜厚コントロール可能
■1ポケットと4ポケットのタイプがあり、4ポケットは、それぞれ独立した制御が可能なタイプと最高４つの材料の同時蒸着が可能なタイプ

システム インスツルメンツ社より「SIS-50」のご案内です。

当社では、ガートナ社製の自動エリプソメータシステムを取り扱っております。

Sシリーズは、従来より超高速測定が可能になり、変化の早い物質測定が可能。
また、LMシリーズは、Sシリーズにオートフォーカス及びオートチルトを
標準で装備しており、更に高精度＆高再現性を実現し、高い信頼性を実現。

本システムは、ストークス法の測定方法と各種測定タイプをご用意しております。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【ラインアップ】
■Sシリーズ：最大3波長まで搭載可能
■LMシリーズ：最大300mmまで対応

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株式会社プロスタッフでは、EBフィラメントやハースライナーなど、
『各種装着部品』の製作をいたします。

各種真空測定子・水晶振動子(金・銀・アロイ)(5MHz・6MHz)の
販売及び、再生加工も承ります。

また、真空用オイル(ロータリーポンプ油・拡散ポンプ油)も
取り扱っております。

【ラインアップ】
■各種装着部品：EBフィラメント、EBパーツ、ハースライナー
■測定部品
■光学用治具：治具(ドーム)、治具等
■イオン銃パーツ
■真空用オイル・真空グリス

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『MDD-2016』は、高出力（最大5kW）のマイクロ波電源および自動整合器（4Eチューナ） により、安定な高密度プラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速合成できる装置です。独自のプラズマ制御機能により、プラズマ点灯状態で基板上のプラズマ分布を制御できます。マイクロ波電源はマグネトロン発振（ 連続波、パルス波、高安定スペクトル）およびソリッドステート発振など、当社電源ラインアップからお選び頂けます。

【特長】
■高出力（最大5kW）
■高密度プラズマを発生
■高品質ダイヤモンドを高速合成

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、マルチガスプラズマおよびダメージフリープラズマを中心とした
オリジナルの大気圧プラズマ源を開発しております。

約1500℃～8000℃の高温プラズマが生成可能な高純度・高温マルチガス
プラズマや、放電損傷が生じず、かつ低温のダメージフリープラズマ源などを
ご提供しております。まずはお気軽にお問合せください。

【取扱製品】
■高純度・高温マルチガスプラズマ
■リニア型ダメージフリープラズマ
■ジェット型ダメージフリーマルチガスプラズマ
■超高出力・超小型マルチガスプラズマ
■コロナ方式マルチガスプラズマ　など

※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』は、不活性ガス雰囲気中で基板交換およびターゲット交換ができる、高品質と低価格を実現した研究開発用小型スパッタ装置です。

小型ながら2インチカードを2基備え、真空を破らずにターゲット基板間の距離を変えることが可能で、基板を加熱しながら回転成膜することができます。また、前面ハッチと基板チャッキング機構により、容易に基板交換できる構造としています。

スパッタチャンバー前面ハッチ部に真空置換可能なパスボックス付き簡易グローブボックスを直結しています。大気に曝さずに、基板交換、ターゲット交換が可能です。


※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『OMS-5010ESi』は、新開発のコールドカソードイオン銃、EXBセパレーター、
ビーム輸送系、高性能レンズシステムを備え、最大10kVの高電圧大電流の
各種イオンビームを照射できるイオンビーム照射システムです。

Ar、He、水素はもちろん、窒素、酸素、CO2ガスも放電することが可能。

イオン源部はレアメタルを採用し、優れたメンテナンス性、安定性を
獲得しており、長時間に亘る実験に有効です。

【特長】
■ExBセパレーター型
■最大10kVの高電圧大電流の各種イオンビームを照射可能
■オリフィスを交換することで、分解能1amuの質量分離が可能
■多段に配置された収束レンズにより高効率
■Ar、He、水素はもちろん、窒素、酸素、CO2ガスも放電することができる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

◆ サイクリックボルタンメトリーストリッピング（CVS) やサイクリックパルスボルタンメトリーストリッピング（CPVS) の測定装置です。
◆ 電気めっきプロセスにおける添加剤の効果と有効性を直接測定することができます。
◆ 添加剤の濃度はCVS又はCPVSによって正確に定量できます。

当社では、超伝導薄膜の研究に適した米国レスカー社製の『マグネトロンスパッタ源』を
取り扱っております。

ターゲット利用効率が高い「Oリングタイプ」をはじめ、150mmの高さ調整が可能な
「シャッター 一体式スパッタ源」や「超高真空タイプ」などをラインアップ。

また、各種ターゲット材料の取り扱いもしております。お気軽にお問い合わせください。

【Oリングタイプ 特長】
■強力なスパッタによりデポジションレートが速い
■ターゲット利用効率が高い
■成膜精度が高い
■ターゲット取付はクランプ式を採用
■ターゲット交換が容易（ボンディング不要）

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QUICK AUTO COATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。

【特徴】
○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。
○コーティング/エッチングモード搭載
〇デバイスの電極膜付けにも使用可能

当社では、バリア（封止）性能を評価できるカルシウム(Ca)薄膜基板を製造・販売しております。このCa薄膜基板は、JISなどで規定される水蒸気透過率（WVTR、カルシウム腐食法）評価用の基板として適しています。

WVTRは、膜厚が正確に規定されたCa薄膜の酸化劣化（半透明化）したエリアの面積を求め、残存膜厚とCa密度からカルシウムと反応した酸素・水分量を見積もり、算出することが可能です。この数値を用いることで、サンプル間の正確な比較（定量）評価を行うことができます。

Ca成膜基板の膜厚は、定期的に蒸着・成膜条件を確認して厳しく管理しています。またCa膜厚測定の際には、薄膜上にカバレージがよく、再現性のよいアルミを成膜することでCa薄膜の膨潤を防ぎ、正確な膜厚を測定、蒸着条件を算出しています。

【特長】
■水分や酸素に反応しやすく、感度がよい
■有機ELなど素子をセンサー代わりに用いるより、遙かに安価
■酸化前後の変化(金属光沢から半透明化)が見た目に分かり易い
■他の金属よりも安全で使用後の処理が容易

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・小型卓上スピンコーター　（型式：labo-coat-2）
・安価な価格設定、コンパクト設計　
・持ち運びが便利な軽量ハンディータイプ　
・基板吸着テーブル：材質 デルリン
＊本体標準付属品。形状・サイズは変更可能。
・吸着方式：真空ポンプ による吸着
＊真空ポンプは本体内蔵されてます。
・独自開発の制御基盤システムで、簡易操作が可能。
　(操作ボタン２箇所)・・・回転数・加速時間・回転保持時間・減速時間
＊装置機械操作が苦手な方も安心・簡単に設定可能になっておらます。
※デモ機の貸出を可能でございます。

●　価格500万円(税込み)
●　φ3インチターゲット　1元カソード
●　RF300W電源、自動マッチングボックス付
●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、
　　マスフローコントローラーによる調整
●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。
●　オプションにて基板ヒーターの取付可。
●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。
●　800W×600L×900Hの省スペース

容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します
。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。

ウエハやガラス基板などに刻まれるパターンは微細化されている。マイクロマシン／MEMSの分野における次の表面評価装置として、自動極小接触角計MCAは注目されている。

『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。

ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に
保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御
により、安定した温度制御を実現しています。

机上に設置可能なコンパクトサイズ、研究室などでの実験装置として
適しています。

【特長】
■高真空中で小形の基板を加熱
■高真空での加熱が可能
■ヒーター温度は500℃(Max800℃)で加熱可能
■プログラム温度制御により、安定した温度制御を実現
■加熱室の各種ポートはICF70フランジを採用することにより、高真空に対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

塗膜の評価には、同じ条件で同じ膜厚で安定した塗膜が必要です。自動フィルムアプリケーターは一定の速度と荷重でバーコーターやアプリケーターをスライドさせ安定した膜厚で再現性のある塗工が行えます。本製品は安定した塗工と使いやすさを追求したシンプルな装置です。全ての操作をタッチパネル画面でおこなえるので、誰でも感覚的に操作を行うことが可能です。付属のタッチペンでも指でも操作が可能です。塗工速度や塗工距離も自由に設定でき、テストピースや試料に合わせたオリジナルの設定が最大８つまでメモリーできるため、電源を入れてすぐに同じ条件で塗工が行えます。

『EddyCus(R) TF lab 4040SR-OT-OR-H』は、導電性薄膜の
シート抵抗(Ohm/sq)と光透過性と反射の正確な測定ができる
非接触シート抵抗&光伝送測定器です。

使いやすいソフトウエアによる手動マッピング。
光電池や半導体、透明帯電防止導板などの測定に用いられます。

導電性薄膜、自立構造やグリッド・ワイヤー構造などの
精密な測定が可能です。

【特長】
■非接触測定
■リアルタイム測定
■精密な測定
■使いやすいソフトウェア
■手動マッピング

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

・R＆D向け 小型卓上スピンコーター
・安価な価格設定、コンパクト設計　
・持ち運びが便利な軽量ハンディータイプ　
・基板吸着テーブル：材質デルリン
　※吸着テーブルは、本体標準装備品。(形状：サイズは要相談）
　・吸着方式：真空ポンプによる吸着　
　※真空ポンプは本体内蔵

・独自開発の制御基盤システムで、簡易操作が可能。
　(操作ボタン２箇所)・・・回転数・加速時間・回転保持時間・減速時間
　※機械・装置操作が苦手な方でも簡単ボタン操作設定
・使用電源1か所、本体のみ。AC１００電源 ２Ａ

・装置機種：２機種
　　labo-coat　（１インチ用 ２５ｍｍ□）
　　labo-coat-2（２インチ用 ５０ｍｍ□)　
　

めっきなど金属表面処理は装飾性を向上するものから機能性を
付与するなど様々な用途で使用されています。しかし、表面に
異物が付着するとそれら機能に問題が発生します。

当社では、金属表面処理加工品などを表面及び断面から
観察分析を行っています。

さらに断面をArガスによるスパッタエッチングすることで
めっき皮膜の結晶を観察することができます。

表面処理の異常でお困りが有りましたら御連絡ください。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『SCOUT』は、透過率、反射率、吸収、ATR、エリプソメトリー
などの分光スペクトルデータと、光化学モデルをベースにした
シミュレーションとのフィッティング解析から、膜厚や光学定数
などを決定するスペクトル解析ソフトウエアです。

豊富な誘電分散モデルなどにより、あらゆる波長領域の
分光スペクトルに対する多様な解析アプリケーションに対応します。

【主な特長】
■真空紫外領域からテラヘルツ領域に至る広いスペクトル範囲の観測データに対応
■透過率、反射率などのあらゆる分光スペクトルに対して、任意の組み合わせで
同時フィッティング解析が可能
■膜の層数に制限がなく、層構造の異なる複数の多層膜サンプルに対する
フィッティングが可能
■分光測定ハードウエアとのシステムアップにより、スペクトル解析の
トータルソリューションを提供など

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『マグネトロンスパッタ装置』は、ターゲットの背面に強力な磁石を用いて
カソード表面層でのイオン化を促進し、電界によりイオンをターゲットに
衝突させて金属分子を放出させる原理を応用させたものです。

株式会社真空デバイス製の本装置は試料へのダメージが極めて少ないことが
特長です。

また、スパッタターゲットの種類、試料のサイズ、価格など、
お客様のご要望に合ったラインアップを各種取り揃えております。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【ラインアップ】
■MSP-mini
■MSP-1S
■MSP-20-UM
■MSP-20-MT
■MSP-20-TK　など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD）
システムです。

1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。
モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。

また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を
簡単交換できます。

【特長】
■操作性が高くコンパクト
■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下
■モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着
■1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニット
■6種類のターゲットが使用可

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな
蒸着装置です。

電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。

チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを
搭載可能です。

【概要】
■蒸発源はタングステンボート2個搭載
■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ
■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した
　圧力表示が可能
■マグネット駆動式基板シャッタ装備
■停電時は装置動作自動中断、非常停止スイッチも装備

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レンタル画ラボは､８台のユニークな実験機に技術者を付け､研究を確実にサポートします！

『NEW卓ダイ MINI』は、超小型で軽量、塗工部・制御部分離型の
研究・開発・少生産用のスリットダイコーターです。

極少容量5cc以下でもサンプル取りが可能。液の無駄がありません。
また開口5μの吸着定盤、吸着マークで、乾燥ムラも出ません。

【特長】
■ダイセット組立が容易
■液替え時間は15分
■ダイヘッドが片持ち、前面開放の為操作が容易
■構造がシンプルで再現性が高い
■塗工液に合わせ各種デザインに対応可能

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

Windows 11　対応
解析モデル:
「Fowkes」
「Owen-Wendt」
「Kitazaki-Hara」
コピー防止プロテクターUSBkey付属
日本製

『Beneq TFS 500』は、薄膜成膜用途での様々な使用に適し、
マルチ・プロジェクト環境に好適なツールです。

手動操作のロードロックを搭載して、ウェハ処理能力を高めることが可能。
異なる種類の反応チャンバを真空チャンバ内部に取り付けることができ、
お客様の用途に合わせて各反応チャンバを最適化することができます。

また、工業的信頼性に関する厳しい要件と、R＆D業務の柔軟性へのニーズの両方を
満たすことが可能。プロセス構成部品はスペア・パーツの可用性が確保されます。

【取扱製品・サービス】
■3Dおよびバッチ生産
■研究設備
■コーティングサービス
■研究開発サービス

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『NS LAB』は材料科学、機能性テキスタイルや膜研究および
実験作業で均一なナノファイバー膜を作成する本格的な研究装置です。

ニードルタイプのエレクトロスピニングと比較し、高い生産性を持ち、
大学、研究機関や企業の研究用に設計されています。

また、プロセスに必要なパラメータが容易に設定可能で、
厚い膜厚を得るための基材の送りスピードを低く設定可能です。

【特長】
■ニードルを使用しないエレクトロスピニング装置
■高い生産性
■バッチ式で長時間運転が可能
■スピニング電圧は0-80kV
■シンプルな機構と安全性

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マグネトロン電極により極めて低い電圧でコーティングします。
シンプルなのに非常に光沢のある金属膜がワンタッチでコーティングできます。
試料をセットします。コーティング厚さに応じてタイマーをセットします。スタートボタンを押すと予備排気からコーティングまで自動的に進行します。コーティングが終わるとRPが止まり、自動的にエアリークされます。

『プラズモンナノ加飾』は、MFS技術を応用したナノ銀粒子の
プラズモン共鳴を活用した加飾技術です。

物理化学処理による豊富なカラーバリエーション。鮮やか、
深みのある色調で、コーティング済み製品として供給が可能です。

ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■鮮やか、深みのある色調
■ナノ銀粒子の薄膜
■大きさ形状などご相談により対応
■リーズナブル価格でご提供

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当社では、主に電子顕微鏡の前処理目的に使用する『親水処理装置』を
取り扱っております。

接触角90°以上の撥水性試料も1min程度の親水処理で接触角15～30°に。
また、操作は全自動機能を搭載し、再現性も抜群です。

【ラインアップ】
■PIB-10
　・CHサイズ：内径110mm×高さ60mm
　・試料サイズ：φ50mm、高さ25mm
■PIB-20
　・CHサイズ：内径149mm×高さ82mm
　・試料サイズ：φ130mm、高さ25mm

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当社では、EllipsoTechnology社製の分光エリプソメータシステムを
取り扱っております。

操作しやすいソフトウェアで、導入しやすい低価格。

また、豊富なオプション(自動ステージ、オートアングル、オートフォーカス＆
オートチルト)、さらにウェハーマッピングに対応しております。
無償及び有償サンプル測定を行っておりますので、お問い合わせください。

【特長】
■コンパクト
■DUV への対応
■豊富なサポート体制
■各種カスタマイズに対応　など

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・ポータブルテーブル機
・片面塗布（上面）
・ステンレス製
・エンドレスコンベアベルト
・ローラー部で取り外し可能な振動スクレーパーブレード
・ローラー部は素早い交換が可能です
・膜厚の正確な調整が可能です
・ドクターローラーは連結によって素早くロックさせることが可能です
・少量の塗料でも機械を運転することが可能です
・塗料は漏斗部より投入可能です
・防爆使用のモーターと構成部品で作られています

『CI-100』は、卓上型のバッジ式高機能低真空UVインプリント装置です。

材料評価 ･金型評価 ･相性評価 ･硬化条件 ･残膜条件等の基本的な
転写プロセスを誰もが手軽に検証可能。

機械加工された精密金型、ウエハモールドなど各種金型に対応。
多くのモード選択や設定の調整が出来ます。
１）自動モード：隙間量制御(Z軸) or 圧力制御(ロードセル)
　・隙間量制御
　　　基材(フィルム、ガラス等)とモールドの距離で制御
　　　隙間量やUV照射前の隙間位置での保持時間設定
　・圧力制御
　　　基材とモールドと接触後の圧力を検知し制御
２）真空ポンプのON/OFF、真空圧設定
３）上下面のUV照射のON/OFF、照射強度設定
４）Z軸スピード設定：低速中速高速を任意に設定

※テスト対応可能（初回のみ無料）

【概略仕様】
■ワークサイズ：120×120mm
■転写エリア：100×100mm
■真空度：1000Pa
■LED-UV：50mW/cm2×上下2面 365nm（他の波長はオプション）
■転写部：W360ｘD290ｘH465 45kg

抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。
基板上に平滑な金の(111)面を形成することができる為、原子間力顕微鏡(AFM)、走査型プローブ顕微鏡(SPM)での測定用基板、また自己組織化単分子膜(SAM)の成長基板の作製に適しています。

◆詳しくは
　製品カタログ（PDFダウンロード）をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
　関連リンクからも製品カタログをご覧いただけます。

『TFALD-201』は、昇華原料に対応した研究開発用ALDシステムです。

金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応。

また、様々な原料や反応ガスの圧力に応じて、適したガス供給ユニットを
選択することができます。さらに原料ユニットおよびガス供給ユニットは
必要に応じて追加することも、取り外すことも可能です。

【特長】
■昇華原料に対応
■研究開発用
■金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応
■高アスペクト比の三次元構造に対して均一な成膜
■詳細なカスタマイズが可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、
高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。

マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを
最小限に抑えるよう特殊設計されています。

また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を
特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする
技術ソリューションを提供いたします。

【取扱製品(一部)】
■3Dおよびバッチ生産
■研究設備
■半導体装置
■空間ALD装置

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『Park NX10』は、サンプルのセッティングからイメージング、測定、
解析に至るまですべての段階において簡単に操作することができる
原子間力顕微鏡(AFM)です。

本製品なら、ユーザーはより多くの時間と、より優れたデータを基盤に
革新的な研究に集中することができます。

【特長】
■クロストーク除去によるボーイングの無い正確なXYスキャン
■低ノイズZ検出器を使った正確なAFMトポグラフィー
■真のノンコンタクト(TM)モードによる最高クラスのチップ寿命、分解能
　およびサンプルの保護
■半導体/ポリマー/電池材料や炭素系材料などさまざまな材料の表面解析を
　ナノオーダーで解析(※イメージギャラリー参照)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

液体用ダイアフラムポンプ「FM 50」は、精度±2%、再現性±1%、当社従来品のダイアフラム送液ポンプを凌駕する流量精度、圧力変動に伴う流量変動の少ない安定した送液を実現します。　

【特長】
■非常に安定した液体の流れ
■リニアで予測可能な流量
■ポンプ間のばらつきなし
■最終段階でのキャリブレーションによる高い精度
■自給式と空運転の安全性

※詳細はPDFをダウンロード頂くか直接お問い合わせください。

・塗料、顔料、インキ等の塗膜を作製するための自動塗工機です。
・一定速度で塗布しますので、むらや個人差が解消できます。
・定盤には吸引孔が開けてあり、コート紙やポリエステルフィルム等にも真空吸着により塗布することができます。
・バーコーター、アプリケーター共に使用可能です。

＜参考規格＞JIS-K5101、(K5400)、ASTM-D823

【カタログダウンロードについて】
下記関連リンクまたはお問い合わせからカタログ請求をお願いいたします。
※単品カタログがない製品については総合カタログを請求ください。

特長
■クリーンなサイドスパッタ方式を採用
■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意
■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト
■設置スペースを取らないコンパクトな装置
■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション
■低温・高温スパッタにも対応
■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内））
■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能


■用途
・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品,
　自動車・樹脂, 特殊膜, MEMS
■代表的な成膜材料
・誘電体膜ほか
　SiN, SiO2, ZrO, TiO2, 重合膜
・透明導電膜
　ITO, ZnO
・金属膜ほか
　Au, Ag, Cu, Si, Ti, Sn, Cr, Al, Ni, DLC, 電磁波シールド

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＭＴは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。４インチサイズのターゲット仕様。大きな試料・多数の試料を処理可能です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の
卓上型マグネトロンスパッタ装置です。

基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで
構成される金属薄膜用スパッタ。

RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの
拡張オプションにより、研究ステージに合せて
グレードアップしていただくことが可能です。

【特長】
■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能
■基本仕様でアルゴン用MFCを備えており、ガス流量を精密に制御
■成膜方向は試料へのゴミ付着を防止するためにデポアップを採用
■卓上タイプながら真空シール性の高いSUSチャンバを採用

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

真空機器・装置、理化学機器・装置においてグローバルな視野を持ち、
常に時代の先端を見つめ、新しい技術と商品ニーズを先取りし、
ユーザー様の役に立つ製品を提供し続けている、株式会社パスカルの
総合カタログです。

従来のイオン散乱表面分析装置では不可能だった、絶縁体表面の極性判別や
構造解析、元素同定、さらに電場・磁場中での【その場分析】を可能にした
飛行時間型原子散乱表面分析装置「TOFLAS-3000」をはじめ、
「真空薄膜形成装置」や「表面分析装置」などをラインアップしています。

【掲載内容　抜粋】
■真空装置、コンポーネント
■表面分析装置
■低温関連機器
■アジレント社製真空機器(旧バリアン)
■その他真空関連製品　　　　　　　　ほか

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。