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表面処理・コーティング層とは？課題と対策・製品を解説

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化学・材料・製造における表面処理・コーティング層とは？

化学・材料・製造分野における表面処理・コーティング層とは、素材の表面に特定の機能や特性を付与するために、化学的または物理的な手法を用いて薄膜を形成する技術およびその層のことです。これにより、耐食性、耐摩耗性、絶縁性、光学特性、生体適合性などの向上を図り、製品の性能、耐久性、付加価値を高めることを目的とします。

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【コーティング向け】CNTスラリー研究卓上インライン分散機

IKAジャパン株式会社

コーティング業界では、製品の耐久性を向上させるために、耐摩耗性の向上が求められます。特に、過酷な環境で使用されるコーティング剤においては、カーボンナノチューブ（CNT）などの添加剤を均一に分散させることが、性能を左右する重要な要素となります。不均一な分散は、コーティングの剥離や性能劣化につながる可能性があります。当製品は、CNTのスラリー化や分散プロセスを研究開発することで、耐摩耗性の高いコーティング剤の開発を支援します。【活用シーン】・耐摩耗性コーティング剤の研究開発・CNT分散技術の最適化・少量多品種のコーティング剤製造【導入の効果】・均一なCNT分散によるコーティング性能の向上・スケールアップ可能な研究開発基盤の構築・高価な原料の有効活用

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【材料科学向け】顕微分光膜厚計 OPTM series

大塚電子株式会社

材料科学分野では、新しい材料の開発や既存材料の性能評価において、膜厚や光学特性の正確な測定が不可欠です。特に、薄膜や多層膜の特性評価は、材料の機能性を理解し、製品の品質を向上させる上で重要な要素となります。従来の測定方法では、測定に時間がかかったり、測定精度に課題があったりすることがありました。顕微分光膜厚計 OPTM seriesは、1秒/pointの高速測定と高精度な光学定数解析により、材料の特性評価における課題を解決します。【活用シーン】・各種フィルム、ウェーハ、光学材料などのコーティング膜の膜厚測定・多層膜の膜厚測定と光学定数解析・研究開発における材料の特性評価【導入の効果】・高速測定による研究開発の効率化・高精度な測定による材料特性の正確な把握・非破壊・非接触測定による材料への影響軽減

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各種蒸着部材

株式会社プロスタッフ

株式会社プロスタッフでは、EBフィラメントやハースライナーなど、『各種装着部品』の製作をいたします。各種真空測定子・水晶振動子(金・銀・アロイ)(5MHz・6MHz)の販売及び、再生加工も承ります。また、真空用オイル(ロータリーポンプ油・拡散ポンプ油)も取り扱っております。【ラインアップ】 ■各種装着部品：EBフィラメント、EBパーツ、ハースライナー ■測定部品 ■光学用治具：治具(ドーム)、治具等 ■イオン銃パーツ ■真空用オイル・真空グリス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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実験用スパッタ装置

株式会社ヤシマ

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900Hの省スペース

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自動エリプソメータシステム

ミワオプト株式会社

当社では、ガートナ社製の自動エリプソメータシステムを取り扱っております。 Sシリーズは、従来より超高速測定が可能になり、変化の早い物質測定が可能。また、LMシリーズは、Sシリーズにオートフォーカス及びオートチルトを標準で装備しており、更に高精度＆高再現性を実現し、高い信頼性を実現。本システムは、ストークス法の測定方法と各種測定タイプをご用意しております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【ラインアップ】 ■Sシリーズ：最大3波長まで搭載可能 ■LMシリーズ：最大300mmまで対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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高真空基板加熱装置『SP-1321』

サイエンスプラス株式会社

『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御により、安定した温度制御を実現しています。机上に設置可能なコンパクトサイズ、研究室などでの実験装置として適しています。【特長】 ■高真空中で小形の基板を加熱 ■高真空での加熱が可能 ■ヒーター温度は500℃(Max800℃)で加熱可能 ■プログラム温度制御により、安定した温度制御を実現 ■加熱室の各種ポートはICF70フランジを採用することにより、高真空に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』

フィルジェン株式会社

『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の導電性薄膜作製装置です。プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を短時間に形成することができます。非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを与えることなく得られます。【特長】 ■フルオート操作 ■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能 ■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能 ■製膜時間が短い（数nm/数秒） ■アンプルは昇華室の中で割る安全構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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原子間力顕微鏡(AFM)『Park NX10』　

パーク・システムズ・ジャパン株式会社

『Park NX10』は、サンプルのセッティングからイメージング、測定、解析に至るまですべての段階において簡単に操作することができる原子間力顕微鏡(AFM)です。本製品なら、ユーザーはより多くの時間と、より優れたデータを基盤に革新的な研究に集中することができます。【特長】 ■クロストーク除去によるボーイングの無い正確なXYスキャン ■低ノイズZ検出器を使った正確なAFMトポグラフィー ■真のノンコンタクト(TM)モードによる最高クラスのチップ寿命、分解能　およびサンプルの保護 ■半導体/ポリマー/電池材料や炭素系材料などさまざまな材料の表面解析を　ナノオーダーで解析(※イメージギャラリー参照) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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自動フィルムアプリケーター

オールグッド株式会社

塗膜の評価には、同じ条件で同じ膜厚で安定した塗膜が必要です。自動フィルムアプリケーターは一定の速度と荷重でバーコーターやアプリケーターをスライドさせ安定した膜厚で再現性のある塗工が行えます。本製品は安定した塗工と使いやすさを追求したシンプルな装置です。全ての操作をタッチパネル画面でおこなえるので、誰でも感覚的に操作を行うことが可能です。付属のタッチペンでも指でも操作が可能です。塗工速度や塗工距離も自由に設定でき、テストピースや試料に合わせたオリジナルの設定が最大８つまでメモリーできるため、電源を入れてすぐに同じ条件で塗工が行えます。

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ミニeビームエバポレーター

三和真空株式会社

高度な制御が可能で多くの材料に対して0.1～50Å/minの範囲でコントロールが可能。 ≪用途≫ 数nmの薄膜作製、半導体ドーピング ≪特長≫ ■冷却効率で今民ネーションフリーの設計 ■材料はロッドまたはルツボ充鎮の選択 ■標準搭載のフラックスモニタリングプレートにより精密な膜厚コントロール可能 ■1ポケットと4ポケットのタイプがあり、4ポケットは、それぞれ独立した制御が可能なタイプと最高４つの材料の同時蒸着が可能なタイプ

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手軽に電極膜作製　デスクトップコンパクトコーター

サンユー電子株式会社

45年以上に渡るロングセラーモデル小さなボディながらも、電極用薄膜作製から電子顕微鏡(SEM)用試料作製まで対応。オフィスのデスクに置かれていても違和感のないデザインとコンパクトさ!! 【特徴】〇スモール＆コンパクト〇ベルジャーを持ち上げる必要のない前面ドア開閉方式　⇒　サンプルのセット/取出しが楽に行なえます。〇間欠スパッタ機能を標準搭載〇多彩なオプションをご用意：シャッター付前面ドア/アルミ製前面ドア/ピラニー真空計取付ポート付前面ドア etc.

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分光エリプソメータシステム

ミワオプト株式会社

当社では、EllipsoTechnology社製の分光エリプソメータシステムを取り扱っております。操作しやすいソフトウェアで、導入しやすい低価格。また、豊富なオプション(自動ステージ、オートアングル、オートフォーカス＆オートチルト)、さらにウェハーマッピングに対応しております。無償及び有償サンプル測定を行っておりますので、お問い合わせください。【特長】 ■コンパクト ■DUV への対応 ■豊富なサポート体制 ■各種カスタマイズに対応　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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コンパクト卓上スピンコーター（最小・最軽量クラス）

ネクス株式会社

・小型卓上スピンコーター　（型式：labo-coat-2）・安価な価格設定、コンパクト設計　・持ち運びが便利な軽量ハンディータイプ　・基板吸着テーブル：材質デルリン＊本体標準付属品。形状・サイズは変更可能。・吸着方式：真空ポンプによる吸着＊真空ポンプは本体内蔵されてます。・独自開発の制御基盤システムで、簡易操作が可能。　(操作ボタン２箇所)・・・回転数・加速時間・回転保持時間・減速時間＊装置機械操作が苦手な方も安心・簡単に設定可能になっておらます。 ※デモ機の貸出を可能でございます。

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超小型マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－ｍｉｎｉ

株式会社真空デバイス

マグネトロン電極により極めて低い電圧でコーティングします。シンプルなのに非常に光沢のある金属膜がワンタッチでコーティングできます。試料をセットします。コーティング厚さに応じてタイマーをセットします。スタートボタンを押すと予備排気からコーティングまで自動的に進行します。コーティングが終わるとRPが止まり、自動的にエアリークされます。

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Buerkle社ラボ用ロールコーティングマシンBKL

ユーロプランニング株式会社

・ポータブルテーブル機・片面塗布（上面）・ステンレス製・エンドレスコンベアベルト・ローラー部で取り外し可能な振動スクレーパーブレード・ローラー部は素早い交換が可能です・膜厚の正確な調整が可能です・ドクターローラーは連結によって素早くロックさせることが可能です・少量の塗料でも機械を運転することが可能です・塗料は漏斗部より投入可能です・防爆使用のモーターと構成部品で作られています

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卓上型蒸着装置『Mebius』

テクノウェーブ株式会社

『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな蒸着装置です。電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを搭載可能です。【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した　圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装置動作自動中断、非常停止スイッチも装備 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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UV/VIS表面・界面分光測定装置　SIS-50

システムインスツルメンツ株式会社

システムインスツルメンツ社より「SIS-50」のご案内です。

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超高真空蒸着装置

株式会社日本シード研究所

抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。基板上に平滑な金の(111)面を形成することができる為、原子間力顕微鏡(AFM)、走査型プローブ顕微鏡(SPM)での測定用基板、また自己組織化単分子膜(SAM)の成長基板の作製に適しています。 ◆詳しくは　製品カタログ（PDFダウンロード）をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。　関連リンクからも製品カタログをご覧いただけます。

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ALD装置　Beneq TFS 500

Beneq株式会社

『Beneq TFS 500』は、薄膜成膜用途での様々な使用に適し、マルチ・プロジェクト環境に好適なツールです。手動操作のロードロックを搭載して、ウェハ処理能力を高めることが可能。異なる種類の反応チャンバを真空チャンバ内部に取り付けることができ、お客様の用途に合わせて各反応チャンバを最適化することができます。また、工業的信頼性に関する厳しい要件と、R＆D業務の柔軟性へのニーズの両方を満たすことが可能。プロセス構成部品はスペア・パーツの可用性が確保されます。【取扱製品・サービス】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■コーティングサービス ■研究開発サービス ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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メタルプラズマコーター「AT-ET」【導電性薄膜を作製！】

株式会社エーティーエー

メタルプラズマコーター「AT-ET」は、電子顕微鏡観察時における試料の帯電を防止するためのAu（金）、Ag（銀）、Pt（白金）等の導電性薄膜を作製する装置です。ロータリーポンプを本体に内蔵したことで、省スペースでの設置が可能となりました。真空度の表示は読み易いデジタル表示で、ボタン1つで排気～コーティング～終了（標準処理時間約5分）までを自動で行える簡単操作のコンパクトなメタル薄膜作製専用コーターです。【特長】 ■ロータリーポンプを本体に内蔵 ■コンパクトな卓上サイズ ■操作が簡単 ■見やすいデジタル表示 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

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大気圧プラズマ生成用電源

株式会社栗田製作所

・各方面の大学と共同開発を行なっており、多くの成果が出ています。・用途に応じて特注品の製作も承ります。

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親水処理装置

株式会社ユニオン

当社では、主に電子顕微鏡の前処理目的に使用する『親水処理装置』を取り扱っております。接触角90°以上の撥水性試料も1min程度の親水処理で接触角15～30°に。また、操作は全自動機能を搭載し、再現性も抜群です。【ラインアップ】 ■PIB-10 　・CHサイズ：内径110mm×高さ60mm 　・試料サイズ：φ50mm、高さ25mm ■PIB-20 　・CHサイズ：内径149mm×高さ82mm 　・試料サイズ：φ130mm、高さ25mm ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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昇華原料対応ALDシステム『TFALD-201』

株式会社テクノファイン

『TFALD-201』は、昇華原料に対応した研究開発用ALDシステムです。金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応。また、様々な原料や反応ガスの圧力に応じて、適したガス供給ユニットを選択することができます。さらに原料ユニットおよびガス供給ユニットは必要に応じて追加することも、取り外すことも可能です。【特長】 ■昇華原料に対応 ■研究開発用 ■金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応 ■高アスペクト比の三次元構造に対して均一な成膜 ■詳細なカスタマイズが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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プラズモンナノ加飾

有限会社納諾相研究所

『プラズモンナノ加飾』は、MFS技術を応用したナノ銀粒子のプラズモン共鳴を活用した加飾技術です。物理化学処理による豊富なカラーバリエーション。鮮やか、深みのある色調で、コーティング済み製品として供給が可能です。ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。【特長】 ■鮮やか、深みのある色調 ■ナノ銀粒子の薄膜 ■大きさ形状などご相談により対応 ■リーズナブル価格でご提供 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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顕微分光システム『DF-1037』シリーズ

有限会社テクノ・シナジー

『DF-1037』シリーズは、高性能な分光システムと高機能な顕微鏡システムを高い次元で融合させた顕微分光システムです。新設計コールドフィルターWECFの採用による広いスペクトル測定レンジ(約380～960nm)、高解像度デジタル画像撮影、スペクトル解析ソフトウエアSCOUTを用いた薄膜サンプルの膜厚・光学定数解析など、高度なご要求にお答えする充実した機能が搭載されています。【特長】 ■新設計コールドフィルターWECFを採用、広帯域顕微分光測定を実現 ■顕微分光測定と高解像度デジタル画像撮影を簡単切換 ■スペクトル解析ソフトウエアSCOUTによる膜厚、光学定数解析が可能 ■顕微分光測定と豊富な顕微鏡オプションを利用したサンプル観察を両立 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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カルシウム(Ca)薄膜の販売、成膜サービス

有限会社Q-Lights

当社では、バリア（封止）性能を評価できるカルシウム(Ca)薄膜基板を製造・販売しております。このCa薄膜基板は、JISなどで規定される水蒸気透過率（WVTR、カルシウム腐食法）評価用の基板として適しています。 WVTRは、膜厚が正確に規定されたCa薄膜の酸化劣化（半透明化）したエリアの面積を求め、残存膜厚とCa密度からカルシウムと反応した酸素・水分量を見積もり、算出することが可能です。この数値を用いることで、サンプル間の正確な比較（定量）評価を行うことができます。 Ca成膜基板の膜厚は、定期的に蒸着・成膜条件を確認して厳しく管理しています。またCa膜厚測定の際には、薄膜上にカバレージがよく、再現性のよいアルミを成膜することでCa薄膜の膨潤を防ぎ、正確な膜厚を測定、蒸着条件を算出しています。【特長】 ■水分や酸素に反応しやすく、感度がよい ■有機ELなど素子をセンサー代わりに用いるより、遙かに安価 ■酸化前後の変化(金属光沢から半透明化)が見た目に分かり易い ■他の金属よりも安全で使用後の処理が容易 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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受託成膜・受託分析

アイゲート株式会社

アイゲート株式会社は『受託成膜・受託分析』を承っております。「受託成膜」では、Si、ガラス、フィルムなどの真空成膜加工が可能なほか、エッチングや表面処理、塗布加工にも対応。また「受託分析」では、高性能水蒸気・ガス透過率測定装置を使用した受託測定を致します。【受託分析詳細】 ■測定装置：DELTAPERM ■測定範囲：5×10-5g/m2/day～10g/m2/day ■測定環境：15℃0％～100℃98％ ■測定ガス：水蒸気、酸素、ヘリウム、窒素　他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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金属表面処理品の表面及び断面の観察と分析サービス

株式会社環境アシスト

めっきなど金属表面処理は装飾性を向上するものから機能性を付与するなど様々な用途で使用されています。しかし、表面に異物が付着するとそれら機能に問題が発生します。当社では、金属表面処理加工品などを表面及び断面から観察分析を行っています。さらに断面をArガスによるスパッタエッチングすることでめっき皮膜の結晶を観察することができます。表面処理の異常でお困りが有りましたら御連絡ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ミカド機器販売株式会社　レンタルラボ機一覧

ミカド機器販売株式会社

レンタル画ラボは､８台のユニークな実験機に技術者を付け､研究を確実にサポートします！

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全自動イオンコーター　SC-701AT

サンユー電子株式会社

QUICK AUTO COATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。【特徴】 ○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。 ○コーティング/エッチングモード搭載〇デバイスの電極膜付けにも使用可能

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『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』

株式会社菅製作所

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』は、不活性ガス雰囲気中で基板交換およびターゲット交換ができる、高品質と低価格を実現した研究開発用小型スパッタ装置です。小型ながら2インチカードを2基備え、真空を破らずにターゲット基板間の距離を変えることが可能で、基板を加熱しながら回転成膜することができます。また、前面ハッチと基板チャッキング機構により、容易に基板交換できる構造としています。スパッタチャンバー前面ハッチ部に真空置換可能なパスボックス付き簡易グローブボックスを直結しています。大気に曝さずに、基板交換、ターゲット交換が可能です。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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スペクトル解析ソフトウエア『SCOUT』

有限会社テクノ・シナジー

『SCOUT』は、透過率、反射率、吸収、ATR、エリプソメトリーなどの分光スペクトルデータと、光化学モデルをベースにしたシミュレーションとのフィッティング解析から、膜厚や光学定数などを決定するスペクトル解析ソフトウエアです。豊富な誘電分散モデルなどにより、あらゆる波長領域の分光スペクトルに対する多様な解析アプリケーションに対応します。【主な特長】 ■真空紫外領域からテラヘルツ領域に至る広いスペクトル範囲の観測データに対応 ■透過率、反射率などのあらゆる分光スペクトルに対して、任意の組み合わせで同時フィッティング解析が可能 ■膜の層数に制限がなく、層構造の異なる複数の多層膜サンプルに対するフィッティングが可能 ■分光測定ハードウエアとのシステムアップにより、スペクトル解析のトータルソリューションを提供など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ALD装置　Beneq TFS 200

Beneq株式会社

『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを最小限に抑えるよう特殊設計されています。また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする技術ソリューションを提供いたします。【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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実験用小型真空蒸着装置

株式会社ヤシマ

容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。

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大気圧プラズマ装置　開発サービス

株式会社プラズマコンセプト東京

当社では、マルチガスプラズマおよびダメージフリープラズマを中心としたオリジナルの大気圧プラズマ源を開発しております。約1500℃～8000℃の高温プラズマが生成可能な高純度・高温マルチガスプラズマや、放電損傷が生じず、かつ低温のダメージフリープラズマ源などをご提供しております。まずはお気軽にお問合せください。【取扱製品】 ■高純度・高温マルチガスプラズマ ■リニア型ダメージフリープラズマ ■ジェット型ダメージフリーマルチガスプラズマ ■超高出力・超小型マルチガスプラズマ ■コロナ方式マルチガスプラズマ　など ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

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HEAT-3

株式会社テクノポート

サンプル加熱は抵抗加熱、EB加熱に対応しており、Kタイプ、Cタイプ熱電対で‐200度から2200度までを0.1度単位でPID温度制御が可能です。また蒸着セルの温度制御電源として、2ゾーンのヒーター制御も可能で有機セル用としても使用が可能です。全てタッチパネルで、操作性にも優れ、安全性にも配慮された高品質な制御電源です。

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抵抗加熱蒸着装置DH300ＨＤ

有限会社ダックハウス

DH300HD（G/M）は低騒音タイプの磁気浮上型TMPを搭載したハイグレードタイプで、メインのアングルバルブと粗引きラインを配置することによりTMPの汚染を防止するとともに、ポンプを停止することなく試料交換を行うことが可能です。さらに蒸着モニタを標準装備していますので、より精度の高い膜厚制御や自動成膜を行うことも可能となります。

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小型卓上スピンコーター

ネクス株式会社

・R＆D向け小型卓上スピンコーター・安価な価格設定、コンパクト設計　・持ち運びが便利な軽量ハンディータイプ　・基板吸着テーブル：材質デルリン　※吸着テーブルは、本体標準装備品。(形状：サイズは要相談）　・吸着方式：真空ポンプによる吸着　　※真空ポンプは本体内蔵・独自開発の制御基盤システムで、簡易操作が可能。　(操作ボタン２箇所)・・・回転数・加速時間・回転保持時間・減速時間　※機械・装置操作が苦手な方でも簡単ボタン操作設定・使用電源1か所、本体のみ。AC１００電源２Ａ・装置機種：２機種　　labo-coat　（１インチ用２５ｍｍ□）　　labo-coat-2（２インチ用５０ｍｍ□)

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マグネトロンスパッタ

株式会社ユニオン

『マグネトロンスパッタ装置』は、ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、電界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用させたものです。株式会社真空デバイス製の本装置は試料へのダメージが極めて少ないことが特長です。また、スパッタターゲットの種類、試料のサイズ、価格など、お客様のご要望に合ったラインアップを各種取り揃えております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【ラインアップ】 ■MSP-mini ■MSP-1S ■MSP-20-UM ■MSP-20-MT ■MSP-20-TK　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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デュアルX線光電子分光分析装置『PHI Quantes』

アルバック・ファイ株式会社

『PHI Quantes』は、エネルギーの異なる硬X線（Cr Kα線）と従来の軟X線（Al Kα線）の2線源を搭載し、微小領域から大面積まで高感度な分析が可能な走査型デュアルＸ線光電子分光分析装置 (XPS)です。 2種類のX線源は短時間･自動で切り替えが可能。試料の同一箇所を分析することができます。【特長】 ■走査型デュアルモノクロX線源 ■2線源による容易な同領域測定 ■ターンキー帯電中和 ■自動分析 ■高耐圧アナライザ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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542-AB オートマチックフィルムアプリケーター

株式会社安田精機製作所

・塗料、顔料、インキ等の塗膜を作製するための自動塗工機です。・一定速度で塗布しますので、むらや個人差が解消できます。・定盤には吸引孔が開けてあり、コート紙やポリエステルフィルム等にも真空吸着により塗布することができます。・バーコーター、アプリケーター共に使用可能です。＜参考規格＞JIS-K5101、(K5400)、ASTM-D823 【カタログダウンロードについて】下記関連リンクまたはお問い合わせからカタログ請求をお願いいたします。 ※単品カタログがない製品については総合カタログを請求ください。

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自動極小接触角計　MCA

協和界面科学株式会社

ウエハやガラス基板などに刻まれるパターンは微細化されている。マイクロマシン／MEMSの分野における次の表面評価装置として、自動極小接触角計MCAは注目されている。

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モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』

株式会社パスカル

『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を簡単交換できます。【特長】 ■操作性が高くコンパクト ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着 ■1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニット ■6種類のターゲットが使用可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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マイクロ波ダイヤモンド成膜装置『MDD-2016』

日本高周波株式会社

『MDD-2016』は、高出力（最大5kW）のマイクロ波電源および自動整合器（4Eチューナ）により、安定な高密度プラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速合成できる装置です。独自のプラズマ制御機能により、プラズマ点灯状態で基板上のプラズマ分布を制御できます。マイクロ波電源はマグネトロン発振（連続波、パルス波、高安定スペクトル）およびソリッドステート発振など、当社電源ラインアップからお選び頂けます。【特長】 ■高出力（最大5kW） ■高密度プラズマを発生 ■高品質ダイヤモンドを高速合成 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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米国レスカー社製マグネトロンスパッタ源

株式会社グリーンテック

当社では、超伝導薄膜の研究に適した米国レスカー社製の『マグネトロンスパッタ源』を取り扱っております。ターゲット利用効率が高い「Oリングタイプ」をはじめ、150mmの高さ調整が可能な「シャッター一体式スパッタ源」や「超高真空タイプ」などをラインアップ。また、各種ターゲット材料の取り扱いもしております。お気軽にお問い合わせください。【Oリングタイプ特長】 ■強力なスパッタによりデポジションレートが速い ■ターゲット利用効率が高い ■成膜精度が高い ■ターゲット取付はクランプ式を採用 ■ターゲット交換が容易（ボンディング不要） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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イオンビーム照射システム『OMS-5010ESi』

株式会社オメガトロン

『OMS-5010ESi』は、新開発のコールドカソードイオン銃、EXBセパレーター、ビーム輸送系、高性能レンズシステムを備え、最大10kVの高電圧大電流の各種イオンビームを照射できるイオンビーム照射システムです。 Ar、He、水素はもちろん、窒素、酸素、CO2ガスも放電することが可能。イオン源部はレアメタルを採用し、優れたメンテナンス性、安定性を獲得しており、長時間に亘る実験に有効です。【特長】 ■ExBセパレーター型 ■最大10kVの高電圧大電流の各種イオンビームを照射可能 ■オリフィスを交換することで、分解能1amuの質量分離が可能 ■多段に配置された収束レンズにより高効率 ■Ar、He、水素はもちろん、窒素、酸素、CO2ガスも放電することができる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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液体用ダイアフラムポンプ「FM 50」　※定量送液ポンプ

株式会社ケーエヌエフ・ジャパン

液体用ダイアフラムポンプ「FM 50」は、精度±2%、再現性±1%、当社従来品のダイアフラム送液ポンプを凌駕する流量精度、圧力変動に伴う流量変動の少ない安定した送液を実現します。　【特長】 ■非常に安定した液体の流れ ■リニアで予測可能な流量 ■ポンプ間のばらつきなし ■最終段階でのキャリブレーションによる高い精度 ■自給式と空運転の安全性 ※詳細はPDFをダウンロード頂くか直接お問い合わせください。

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【分析事例】プラズマ処理によるぬれ性変化の原因調査

一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

細胞培養シャーレの表面では、細胞の密着性（接着性）を高めるために、疎水性のプラスチック表面を親水性に変える処理が行われています。今回、親水処理を行ったシャーレの表面についてXPS、TOF-SIMSで評価した結果、OH、CHOが増加していることがわかりました。XPSで定量的な評価を行い、TOF-SIMSで定性的な評価を行うことで、表面がどのように変化したかを捉えることが可能です。

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【分析事例】DLC膜のsp2/(sp2+sp3)比高精度定量化

一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

コーティング材料として幅広い分野で用いられているDLC（ダイヤモンドライクカーボン）膜はミクロな視点から見ると、ダイヤモンド構造に対応するsp3混成軌道有する炭素元素と、グラファイト構造に対応するsp2混成軌道を有する炭素元素が混ざり合って構成されています。 DLC膜の特性を決める一つの指標として、sp2/(sp2+sp3)比が挙げられます。XAFSによってDLC膜のsp2/(sp2+sp3)比の高精度定量化が可能です。

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マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＭＴ

株式会社真空デバイス

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＭＴは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。４インチサイズのターゲット仕様。大きな試料・多数の試料を処理可能です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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化学・材料・製造における表面処理・コーティング層

化学・材料・製造における表面処理・コーティング層とは？

課題

均一な膜厚制御の困難さ

微細な構造や複雑な形状を持つ基材に対し、均一な膜厚でコーティング層を形成することが技術的に難しく、性能のばらつきや不良の原因となる。

密着性の低下と剥離

基材とコーティング層との密着性が不十分な場合、使用環境下での剥離や損傷が発生しやすく、製品寿命の短縮につながる。

環境負荷とコスト増

従来の表面処理・コーティングプロセスでは、有害物質の使用や大量のエネルギー消費を伴う場合があり、環境規制への対応や製造コストの増加が課題となっている。

機能性評価の複雑化

高度化する要求性能に対し、コーティング層の特性を正確かつ効率的に評価するための分析手法や標準化が追いついていない。

対策

精密成膜技術の導入

プラズマCVD、原子層堆積(ALD)、スパッタリングなどの精密成膜技術を活用し、ナノメートルオーダーでの膜厚制御と均一性を実現する。

界面改質と接着促進

プラズマ処理やカップリング剤を用いた基材表面の改質、または中間層の導入により、基材とコーティング層間の密着性を飛躍的に向上させる。

環境調和型プロセスの開発

水系溶媒や無溶剤型のコーティング材料、低エネルギープロセス、リサイクル可能な材料の使用を推進し、環境負荷の低減とコスト効率化を図る。

高度分析・評価システムの活用

透過型電子顕微鏡(TEM)、原子間力顕微鏡(AFM)、X線光電子分光(XPS)などの高度分析機器と、自動化された評価システムを組み合わせ、迅速かつ高精度な特性評価を行う。

対策に役立つ製品例

精密薄膜形成装置

プラズマや真空技術を用いて、原子レベルでの精密な膜厚制御を可能にし、均一で高品質なコーティング層を形成する。

表面改質処理装置

プラズマや紫外線照射により基材表面の化学構造を変化させ、コーティング材との親和性を高め、強固な密着性を実現する。

環境対応型コーティング材料

VOCフリー、低VOC、水系などの環境に配慮したコーティング剤を提供し、安全かつ持続可能な表面処理を実現する。

表面分析・評価サービス

最新の分析機器と専門知識を駆使し、コーティング層の組成、構造、物性を詳細に分析・評価し、品質保証と開発支援を行う。

⭐今週のピックアップ

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表面処理・コーティング層とは？課題と対策・製品を解説

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化学・材料・製造における表面処理・コーティング層

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​課題

均一な膜厚制御の困難さ

密着性の低下と剥離

環境負荷とコスト増

機能性評価の複雑化

​対策

精密成膜技術の導入

界面改質と接着促進

環境調和型プロセスの開発

高度分析・評価システムの活用

​対策に役立つ製品例

精密薄膜形成装置

表面改質処理装置

環境対応型コーティング材料

表面分析・評価サービス

課題

対策

対策に役立つ製品例