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フォトリソグラフィの高度化とは?課題と対策・製品を解説
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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?
各社の製品
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『Positioner』は、高速・高精度なアライメントの実現を目標に開発した
Windows PC用ライブラリソフトウェアです。
画像処理や機械に起因する誤差を学習する独自のキャリブレーション
アルゴリズムを搭載しております。画像処理を含むアプリケーション
ソフトウェアはお客様が自由に構築可能です。
画像処理を使用した複数マークでのアライメントの精度や収束回数を
改善したい方はぜひお試しください。
【特長】
■独自のキャリブレーションアルゴリズム
■画像処理や機械に起因する誤差を補正
■アライメント回数の低減による装置タクト短縮
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
【高精度位置決め】ライブラリソフトウェア『Positioner』
超小型・完全空冷
CW・QスイッチDPSSレーザー
【特徴】
■コンパクトでハイパワー
■イントラキャビティー構造が高い波長変換効率と高調波結晶の高寿命を実現!!
■ファイバーカップリング式エンドポンピング 高いビーム品質と簡単メンテナンスを実現
■全てTEM00モード、高ビーム品質
■全て100Vで動作
■空冷
完全空冷 CW・Qスイッチ DPSSレーザー DXシリーズ
サンエー電機のランプ点灯用電源は、さまざまなランプ(放電管)とのマッチングが可能です。
ランプ特性を最大限に発揮し、光源性能をサンエーの電源で引き出します。
【特徴】
■さまざまなランプ(放電管)とのマッチングが可能
■数w~数10kwまで開発・生産可能(カスタム対応)
■低コスト・コンパクト設計・高効率・低予算でのカスタム対応を実現
■イグナイタ自社設計、自社生産品
■低ノイズ・低グリップ設計を実現(独自の回路設計技術により)
※詳細はお問い合わせまたはカタログをダウンロード下さい。
ランプ点灯用電源
我々が目指しているものは、「超精密」の分野で常に信頼されるモノ作りです。その為に必要な精密技術の向上こそが我々の使命です。
【特徴】
○高精度ガラスレンズ金型加工
○φ0.1mm±0.1μm以下の超精密極細ピン加工技術
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
表面仕上げ加工 非球面仕上げ加工 精密微細加工品
『SPM-300シリーズ』は、微少流量での成膜に適した
成膜コーターです。
塗布材料の塗着効率が高く、従来スプレー方式と比較し
1/2に削減、スピン方式と比較すると1/30以下に削減可能です。
常圧環境で塗布成膜するため、真空環境の設備が不要で
高価な真空設備コストを大幅に削減します。
粒径の大きな固形物が混合されている材料が使用可能。
排気、廃液処理が従来システムに比べ最小システムで対応できます。
弱酸性、弱アルカリ性、各種有機溶剤の使用が可能です。
【特長】
■塗布材料の塗着効率が高い
■常圧環境で塗布成膜するため、真空環境の設備が不要
■粒径の大きな固形物が混合されている材料の使用可能
■排気、廃液処理が従来システムに比べ最小システムで対応可能
■弱酸性、弱アルカリ性、各種有機溶剤の使用可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
防曇膜など多数実績あり 成膜コーター『SPM-300シリーズ』
産業用グレードのCW TopWave 深紫外レーザーシステムは波長266nmにおいて300mWまたは150mWを出力する高い安定性と信頼性を併せ持ったレーザーシステムです。産業用途に最適な完全自動クリスタルシフターを内蔵し10,000時間以上の長寿命を実現しています。 シールドされたレーザーヘッドにはビーム品質(M² < 1.3) を提供可能にするビームシェーピング最適化機能が含まれています。
CW, 266nm, 300mW 『TopWave 266』
『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。
レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者
だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。
移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。
当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。
【特長】
■実践で証明されたアクティブ半導体レ ーザ素子冷却技術
■全システム部品の内部ネットワーク化
■従来のシステムと互換性のあるインターフェース
■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム
■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体レーザ装置『LDFシリーズ』
『P303 Picosecond Laser』は、優れたビーム品質・出力安定・コンパクトな
デザインを兼ね備えたピコ秒レーザーです。
ファイバーレーザテクノロジーLD増幅器を結合する事により、
パルスエネルギーが200μ以上・パルス幅が<15ps・アベレージ出力>30Wを
実現しました。
【特長】
■繰り返し周波数:150-1000kHz
■ビームモード:TEMOO(M2<1.3)
■コンパクト設計
■RS232とecternal GATE control保有
■クリーンルームクラス1000の環境にてアッセンブル
※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
ピコ秒レーザー『P303 Picosecond Laser』
『iBeam smart』は、最大クラスの出力パワーと優れた出力安定および
ビーム位置安定性を兼ね備えた超小型シングルモード半導体レーザー
です。
独自技術であるFINE、SKILL、AUTOPULSEを搭載し様々なアプリケー
ションにおける諸問題に対応可能です。
【特長】
■純粋なワンボックス·ソリューション
■ノイズやスペックルを除去するFINEやSKILL機能
■アナログ変調と最大250MHzのデジタル変調
■クリーンアップフィルタ 対応可能
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体レーザー『iBeam smart』
『PSI-LDPシリーズ』は、レーザーダイオード&高輝度LED駆動に好適な
LED & LD用定電流パルス駆動装置です。
TTL 同期出力、1μs ~ 100μsの高安定出力が可能。
また、THORLABS等にある顕微鏡用LED照明にも接続できるケーブルも別途
用意があります。是非お問い合わせください。
【特長】
■レーザーダイオード&高輝度LED駆動に好適
■超高速立下り 100ns 以下(LDP01)
■10A でも高い負荷電圧可能 ~45V
■TTL 同期出力 1μs ~ 100μs 高安定出力
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
超高速定電流パルス駆動装置『PSI-LDPシリーズ』
光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や光酸発生剤、感光性材料などを提供。光技術の革新に貢献しています。
酸発生剤関係の製品としては、SIN-01、SIN-02、SIN-11などがあります。
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
酸発生剤関係
当社は、パシフィコ横浜にて「レーザーEXPO」を開催いたします。
情報通信、材料加工、計測など広範にわたる応用においてレーザー技術が
採用され、市場も拡大傾向にあります。本展は研究・開発、生産に至る、
国内外のレーザー製品が一堂に会するレーザー技術総合展です。
製造加工業など光分野に関係のあるお客様は、この機会に是非ご参加下さい。
皆様のご来場を、心よりお待ちしております。
【概要】
■会期:2023年4月19日(水)~21日(金) 10:00~17:00
■会場:パシフィコ横浜(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)
■入場料:無料(但し、完全事前登録制)
■7つの展示会によって構成される「OPIE'23」内で開催
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【2023年4月19日~21日】「レーザーEXPO」開催のご案内
オーケーラボの取り扱う『レーザーアブレーションシステム』について
ご紹介します。
種々の顕微鏡に対応可能。均一なアブレーションが特長です。
当社では永年光学機器の開発・製造に携わって来ましたので、光学機器に
関するノウハウの蓄積があります。
また、 レンズ設計・光学シミュレーションの経験豊かなスタッフが
加わり、光学機器開発・製造の広い分野をカバーできます。
是非お任せください。
【特長】
■フェムト秒レーザー対応光学系
■近赤外800nm、紫外266nm、200nm 用光学系
■エキシマレーザー 193nm 対応光学系
■均一なアブレーション
■種々の顕微鏡に対応
■YAG その他レーザーに対応
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
レーザーアブレーションシステム
『CW2‐410』は、マイクロ波方式無電極ランプ紫外線発光装置がアーク放電式
装置に対し本来的に持つ優れた特長(紫外線照度が約2倍など)をそのまま
保持した新型マイクロ波方式紫外線発光装置です。
他社のマイクロ波式UV装置と比べても極めて斬新な特長を取り入れており、
UV発光装置としてより信頼性の高い進化した装置となっております。
また、コントローラー内蔵の電源装置「MPS2-410V」などもご用意しております。
【特長】
■紫外線(UV)照度が約2倍
■ランプ寿命が2~3倍長い
■赤外線(IR)放出が少ない
■被照射体に与える熱影響が低減できる
■発光安定時間が約10秒と短い
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
新型マイクロ波方式紫外線発光装置『CW2‐410』
LDH-X0810は、SPX独自のLDGS方式により実現した世界唯一の266nm 8Wピコ秒レーザです。
266nm波長はあらゆる材料への光吸収率が高く、加工難易度の高いガラスや樹脂などの透明材料や複数の材料が混ざった複合材の加工にも適しており、今までに無い高品質な加工が可能です。
★☆★加工実験承ります★☆★
DUVピコ秒ハイブリッドレーザ













