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光技術・レーザー

光技術・レーザーに関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。

フォトリソグラフィの高度化とは?課題と対策・製品を解説

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?

光半導体・電子デバイスのフォトリソグラフィの高度化とは、微細な回路パターンを半導体ウェハー上に形成する技術を、より高精度かつ効率的に進化させることを指します。これは、高性能化・小型化が進む現代の電子デバイス製造において不可欠な要素であり、次世代技術の実現を支える基盤となります。

各社の製品

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【量子ドット向け】超高純度昇華精製装置
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量子ドットディスプレイ業界では、鮮やかな色再現性と高い表示品質が求められます。特に、量子ドット材料の純度は、色再現性に大きく影響し、不純物の混入は、色純度の低下や表示ムラの原因となります。当社の超高純度昇華精製装置は、高純度材料の安定供給を実現し、量子ドットディスプレイの色再現性向上に貢献します。

【活用シーン】
・量子ドットディスプレイ製造
・色再現性評価
・高機能材料の開発

【導入の効果】
・色純度の向上
・表示品質の向上
・歩留まりの改善

【半導体露光向け】大口径両面非球面レンズ
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半導体製造業界、特に露光工程においては、高精度なレンズが不可欠です。微細加工技術の進歩に伴い、レンズには高い光学性能が求められ、わずかな歪みや収差が製品の品質に大きく影響します。当社の大口径両面非球面レンズは、露光装置の性能を最大限に引き出すために開発されました。

【活用シーン】
・露光装置
・半導体製造プロセス

【導入の効果】
・高精度な露光を実現
・歩留まり向上に貢献
・高品質な半導体製品の製造

【ガラス装飾向け】高出力CO2レーザマーカー
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ガラス装飾業界では、デザインの多様性と耐久性が求められます。レーザー加工は、繊細な模様や文字をガラスに施すことができ、デザインの自由度を格段に向上させます。また、レーザー加工は耐久性にも優れ、長期間にわたって美しい装飾を維持できます。当社の高出力CO2レーザマーカーは、ガラスへの穴あけや切断、彫刻を可能にし、装飾の幅を広げます。

【活用シーン】
・ガラス製品へのデザイン加工
・看板やディスプレイの製作
・インテリア装飾

【導入の効果】
・高精度な加工による高品質な仕上がり
・多様なデザイン表現
・高い耐久性

【レーザー加工向け】非球面レンズ
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レーザー加工業界では、加工精度と効率が常に求められます。特に、レーザー光線の収束性と集光性は、加工品質を左右する重要な要素です。非球面レンズは、球面レンズと比較して収差を抑え、より高精度なレーザー加工を可能にします。当社では、お客様のニーズに合わせた非球面レンズを提供し、レーザー加工の品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・レーザーマーキング
・レーザーカッティング
・レーザー溶接
・レーザー顕微鏡
・レーザー走査

【導入の効果】
・レーザー加工の精度向上
・加工時間の短縮
・歩留まりの向上
・製品品質の安定化
・コスト削減

【光学向け】多軸位置決めステージ【MD-ZT】
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光学業界では、レンズやセンサーなどの精密部品の位置合わせが、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な位置決めが求められる場面では、わずかな誤差が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、高精度な位置合わせを実現することが重要です。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、これらの課題に対応します。

【活用シーン】
・レンズやセンサーの位置合わせ
・半導体製造におけるウエハの位置決め
・検査装置における部品の位置決め

【導入の効果】
・高精度な位置合わせによる製品品質の向上
・焦点誤差の解消による歩留まりの向上
・5軸自由度による柔軟な対応力

半導体レーザ装置『LDFシリーズ』
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『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。

レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者
だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。

移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。
当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。

【特長】
■実践で証明されたアクティブ半導体レーザ素子冷却技術
■全システム部品の内部ネットワーク化
■従来のシステムと互換性のあるインターフェース
■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム
■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

溶融石英『JGS2』
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『JGS2』は、酸水素火炎で溶融した極めて高純度の溶融石英ガラスです。

極低膨張率、遠紫外線域での高い透過率、化学的耐久性などの優れた
特性を有し、サブミクロン単位の超精密性と高い安定性を要求される
光学部品材料として好適。

硝材の材料寸法、形状については都度の対応を致します。

【仕様】
■純度:99.99%
■OH(PPM):200
■使用波長:200~2500nm
■電気的性質
・体積抵抗率:4.0[1013](Ω/cm)at200℃
・誘電率:100(F/m)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

UV照射装置『MD-W1000』
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『MD-W1000』は、電源部を弁当箱サイズにダウンサイジングした
UV照射装置です。

安定器を使用せず、電子部品化により電源部本体は当社「CT-W1200」から
さらに軽量化が進み1.5kgを実現。

フロアーコーティングの完全硬化に必要な1kWのメタルハライドランプか
水銀灯を選択いただけます。

【特長】
■電子安定器タイプ
■照射部も軽量かつハイパワー仕様
■電源部重量1.6Kg
■60Hzでも50Hz地域でも使用可能
■100Vでも200Vでも使用できる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

フューズドシリカ光ファイバ
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エジスモスは、シングルモード光ファイバケーブル、マルチモード光ファイバプローブとマルチファイバーケーブルアセンブリーを用いたシリカファイバケーブル及び光ファイバープローブをカスタマイズして提供します。
また、エジスモスもコネクタとスリーブタイプの多くの種類を提供します。
フューズドシリカ光ファイバケーブルは通常にシングルモードファイバレーザ及びレーザ伝送に応用です。さらに、特に高出力の青色と紫外光レーザーの結合されるのことです。

直管型冷陰極UVランプ
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当製品は、直管型冷陰極UVランプです。

直管で有効発光長が長いので、広範囲にUVを照射出来ます。
熱陰極UVランプより長寿命をご希望の場合、オススメ致します。
(電源などを変更していただく必要が御座います。)

【特長】
■超コンパクト
■高出力を実現
■様々な分野での応用が可能
■オゾンタイプとオゾンレスタイプをご用意

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ガルバノ連動超精密ステージ『GRANAS-40XY-GL』
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『GRANAS-40XY-GL』は、レーザ、ガルバノとXY超精密ステージが
同期連動して動作可能なシステムです。

溶接、切断、スクライブ、穴あけ等のレーザー微細加工をはじめ、
レーザーマーカ、計測機器にご使用いただけます。

【特長】
■レーザー各種に対応可能(532nm、パルスレーザー、他)
■キヤノン製ガルバノスキャナ搭載
■XY超精密グラナイトエアスライダー搭載
■コントローラPowerPMAC搭載

【当社がお選びいただく理由】
・5000×3000クラスの石を常に在庫で持ち、切断から製品完成までの一貫生産により短納期にも対応
・平面/平行/直角精度保証値は、お客様のニーズにお応えします。
・石製品の修正/改造/メンテナンスを行います。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ピコ秒レーザー『P303 Picosecond Laser』
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『P303 Picosecond Laser』は、優れたビーム品質・出力安定・コンパクトな
デザインを兼ね備えたピコ秒レーザーです。

ファイバーレーザテクノロジーLD増幅器を結合する事により、
パルスエネルギーが200μ以上・パルス幅が<15ps・アベレージ出力>30Wを
実現しました。

【特長】
■繰り返し周波数:150-1000kHz
■ビームモード:TEMOO(M2<1.3)
■コンパクト設計
■RS232とecternal GATE control保有
■クリーンルームクラス1000の環境にてアッセンブル

※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

UVピコ秒ハイブリッドレーザ
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LDH-V1610は、固体増幅器2段構成の高出力UVピコ秒レーザです。

355nm波長はガラス、樹脂、セラミックスなどの加工に適しており、穴あけや切断など様々な加工を高い品質で実現可能です。

平行光ライティングモジュール 設計・製作サービス
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当社では、自社工場で組み立て製作を行っており、出荷・納品・
アフターサービスまで一貫対応しております。

また、現在お使いの露光用光源(水銀灯)をUV LED光源システムに
置き換えが可能です。ご要望の際は、お気軽にご相談ください。

【製品の基本仕様】
■超高圧水銀灯装置
 ・露光サイズ:75~2,350mm
 ・W数:250W,500W,1kW,2kW,3.5kW,5kW,8kW,10kW,16kW,25kW,35kW
■UV LED装置
 ・露光サイズ:50mm~1000mm×1500mm
 ・LED波長:365nm,385nm,405nm

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ
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D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。
本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD(Digital Micromirror Device)に転送されたグレースケール信号をピクセル(□1μm)単位で光強度に階調を持たせた2次元画像として逐次投影することのできるハードウエアから構成されています。
DL-1000を用いることで、マルチトーンマスクを使用したり多重露光をすること無く、レジストの三次元加工を容易に実現することができます。グレースケールデータの作成は、これまで階層毎に図面を描き、各レイヤーに輝度を割り当てる作業が必要でしたが、計算式の係数を変化させることで任意の多角形及び円弧をもとに滑らかなグレースケール画像(最大256階調)を生成することが可能になりました。
また、レジストの感度特性や処理条件の相違による露光結果の変動に対しても、グレースケールデータを容易に変更することができるため、求める形状を迅速に具現化することができます。

【薄膜を均一に成膜可能!】スピンコーターのオーダーメイド
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どの用途においても塗膜の厚みの均一さは課題となりますが、薬液の粘度や
性質、基板の材質やサイズに合わせた仕様の『スピンコーター』と試料台を
用いなければ課題達成が難しくなり、効果的な結果を得られません。

ぜひ一度アクティブにご相談ください。
お客様のご要望をできる限り汲んだご提案をいたします。

【選ぶ際の注意点】
■どの用途においても塗膜の厚みの均一さは課題となる
■薬液の粘度や性質、基板の材質やサイズに合わせた仕様の製品と試料台を
 用いなければ課題達成が難しく、効果的な結果を得ることができなくなる

【採用事例】
一眼レフカメラレンズ/スマートフォンレンズ/
水泳用ゴーグル/シャーレへの成膜...etc

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧ください。

3D形状形成 3Dレジストパターン(グレイスケールマスク)
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ガラス上にレジストを塗布し、レーザーにて(階調/128/256)直後レジストに3D形状を形成します。
この型を元に各種マイクロレンズ・他、多岐にご使用頂けます。
レジストパターン(3D形状)の製作のみとなりますが、後工程のNi電鋳・印プリントも対応可能となります。

【パターン対応サイズ】
○径:500μm(MAX)
○高さ:50μm(MAX)

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

ガルバノ光学スキャナ『GVMシリーズ』
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『GVMシリーズ』は、光学式の高精度アナログセンサを搭載した、高性能で高信頼性のガルバノスキャナーです。低イナーシャ、高トルク、高精度リニアリティ、高位置精度、優れた温度特性、湿度の影響が少ないなどの特徴を有しており、レーザ用ミラー(ガルバノミラー)を高速・高精度に広範囲に走査することが可能です。当製品は、幅広いガルバノシステムでレーザスキャン用途に採用されて
います。

【特長】
■低イナーシャ・高トルク
■高精度なリニアリティー・位置精度
■湿度の影響が少なく優れた温度特性 
■均一な安定した製品

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

光学エンジニアリングサービス
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光学解析ソフトは実際のモノを作る前に光学性能を事前に評価できる非常に優れたツールですが、
専門性が高い為、人材育成をはじめ効果的な運用体制、運用手法の構築が重要になります。
光学の基礎的な座学からソフトを活用した最適な設計手法のご提案まで、
お客様に必要なサービスをご用意しています。

■光学解析ソフト導入支援サービス
■光学解析コンサルティングサービス
■受託光学設計サービス
■材料光学特性測定サービス
■計測システム販売
■計測サービス
■計算システム販売
■ソフトウェア販売
→自社開発ソフトウェア:Light Guide Innovator

光学薄膜加工サービス
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当社では、光学薄膜加工を取り扱っております。

低コストのウェットエッチング加工でありながら±1μmのパターン寸法加工
精度を量産で実現。また、ND(ニュートラルデンシティ)コートの豊富な
バリエーション(濃度0.1~6.0)、優れたフラット性と低反射性。

ガラス材料調達から研磨、コーティング、フォトエッチング、
シルクスクリーン印刷、レーザーマーカー刻印、ダイシングカットまで
ワンストップで対応いたします。

【特長】
■ウェットエッチングのパターン寸法精度±1μm
■低コストで短納期
■豊富なバリエーション
■ワンストップ対応

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

表面仕上げ加工 非球面仕上げ加工 精密微細加工品
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我々が目指しているものは、「超精密」の分野で常に信頼されるモノ作りです。その為に必要な精密技術の向上こそが我々の使命です。

【特徴】
○高精度ガラスレンズ金型加工
○φ0.1mm±0.1μm以下の超精密極細ピン加工技術

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D
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<主な特徴>
■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています
■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を
含むレーザダイオードが計算可能

<多様な物理モデルや機能>
■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング)
■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度
■2次グレーティングDFBレーザーについての表面放出モード分布の計算
■異なる縦モードに対する出力と周波数変化
■サイドモード比、線幅、線幅と出力の積、有効α、2次調和歪み、
  表面放出出力(2次グレーティングDFB)
■異なるレーザー面と任意のバイアス条件でのモード出力スペクトル
■異なるバイアス条件と時間におけるモード出力スペクトル
■任意のバイアス条件におけるAM/FM微小信号変調応答、FM/RINノイズスペクトル
■2次調和歪みスペクトル

■その他機能や詳細については、カタログダウンロード
  もしくはお問い合わせ下さい。

■試用版のご希望は下記のお問い合わせからご連絡ください

ZrO2分散液『DLZシリーズ』
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当社が取り扱う『DLZシリーズ』をご紹介します。

当製品は、溶媒がMEKのZrO2分散液です。
その他にも、IPA仕様の製品もございます。

高屈折材料用フィラーをはじめ、屈折率調整材料や反射防止膜材料、
H/C塗工材料にご利用いただけます。

【特性(例:DLZ-007)】
■溶媒:MEK
■ZrO2含有量:40wt%
■平均粒径(D50):8.0nm
■屈折率(@25℃):1.448
■透過率(@25℃):32.0%  波長:600nm/光路長:5mm

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

スラブ型固体レーザー微細加工装置 IS / BX / HD シリーズ
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エッジウェーブ社製

【特徴】
○出力:IR 100W、グリーン 40W
○短パルス:5~10ns
○ビーム形状:ガウシアン、正方形、ライン
○ガラス基板ストレート穴加工

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

高透過率合成石英ガラス 
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レンズやプリズムなどの光学部品、また半導体製造用フォトマスクや液晶パネル製造用マスク、半導体ウエハ
安価に挑戦します。

【シリンドリカルレンズ】CYLINDRICAL LENS
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『シリンドリカルレンズ』は、露光装置やLED UV照射器などに最適で、2~300mmに対応することが可能です。

また加工内容は、研磨加工(シリンドリカル/平面)や、切断加工(異型)、表面加工(蒸着)で加工しています。

【ラインアップ】
■平凸
■両凹
■メニスカス

※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社コシブ精密 『薄膜製品』 総合カタログ
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「株式会社コシブ精密 『薄膜製品』 総合カタログ」のご案内です。

■□■掲載内容■□■
 
■レーザー直接描画装置スタンダードスケール
■フォトマスク
■ロータリーエンコーダスリット板
■光学レチクル
■薄膜生産設備

●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

100Wグリーンレーザー HD40II-E
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エッジウェーブ社製

【特徴】
○大出力100Wグリーン
○高繰り返し/高パルスエネルギー
○短パルス<10ns
○出力ビーム形状(いずれか1つを選択:ガウシアン、2Dトップ・ハットビーム、1Dトップ・ハット・ラインビーム)

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

レーザー加工サービス
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当社では、蓄積されたレーザー加工技術および設計技術をベースに
レーザー微細加工装置やレーザー応用光学ユニットの企画から
開発/設計/製作を行っております。

また、社内実験装置の設備を使用して、新しいレーザー加工や
計測などのレーザー応用技術の開発にも取り組んでいます。

【業務内容】
■レーザー応用装置の開発/設計/製作
■レーザー技術利用開発
■レーザー加工実験受託
■コンサルティング

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ランプ点灯用電源
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サンエー電機のランプ点灯用電源は、さまざまなランプ(放電管)とのマッチングが可能です。
ランプ特性を最大限に発揮し、光源性能をサンエーの電源で引き出します。

【特徴】
■さまざまなランプ(放電管)とのマッチングが可能
■数w~数10kwまで開発・生産可能(カスタム対応)
■低コスト・コンパクト設計・高効率・低予算でのカスタム対応を実現
■イグナイタ自社設計、自社生産品
■低ノイズ・低グリップ設計を実現(独自の回路設計技術により)

※詳細はお問い合わせまたはカタログをダウンロード下さい。

フライアイレンズ
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「フライアイレンズ」は、プロジェクタ、露光装置用のインテグレータ
光学系レンズです。

本製品を露光装置やプロジェクタに仕様することで、照度ムラが
打ち消され照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られるため、
主に液晶パネル露光装置や半導体露光装置などに利用されています。

当社では、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで
一貫した自社製造を行っています。お気軽にご相談下さい。

【特長】
■照度ムラが打ち消される
■照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られる
■世界最大級の液晶パネル用露光装置向けのフライアイレンズを供給
■光学系レンズ

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

精密微細穴あけ光学ユニット『ビームローテータ』
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『ビームローテータ』は、別名ヘリカルドリリング加工とも呼ばれ、偏心させた
レーザ光を高速で回転させて任意の穴径に調整して加工する光学機器です。

レーザ光に傾斜(角度)をつけて回転させ、無テーパ、テーパ、逆テーパ等
加工断面をコントロール。

新ローテータ技術により、メインローテータと補正ローテータによる独自の
回転コントロールにより四角・三角・正多角形・楕円・星形等、
さまざまなレーザ軌跡による加工を実現します。

【特長】
■レンズを円運動させて多角形の加工が可能
■高アスペクト比微細精密深穴を高速で加工
■硬脆材の難加工でも加工が可能
■装置構成の簡素化を実現でき高速化もスムーズに
■新ローテータ技術による応用でドーナツ形状加工走査・塗りつぶし走査が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『多結晶セラミックYAG』
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『多結晶セラミックYAG』は、単結晶に比べて量産に適し、低コスト化が
可能です。

独自の技術により単結晶に匹敵する低光散乱性を発揮。
より大きなロッドサイズに対応できるほか、ドーパントの均一性など
多くの特徴を持っています。

【特長】
■優れた物理的特性
■優れた透過波面歪(ノンファセット)
■ユニークなコンポジットデザイン
■量産時の品質安定性、コストが優れる
■透明セラミックも製造可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

レンズ『HFLシリーズ』
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『HFLシリーズ』は、低吸収コーティングを施した溶融石英で作られた
高出力ファイバーレーザ用焦点レンズです。

ラインアップされている焦点レンズは、保護ウィンドウ付きですが、
水冷用には別途、レンズとウィンドウを提供させていただきます。

ご用命の際は是非当社まで、お気軽にご相談下さい。

【特長】
■ファイバーレーザ用
■低吸収コーティングを施した溶融石英を使用
■保護ウィンドウ付き

※こちらのカタログはダイジェスト版です。全編必要な方はお問合せ下さい。
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

超軽量照射器
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本体重量3.9kgで、ハンディUV照射器ではダントツの
軽量化を図った超軽量照射器です。

【特長】

◆1kwクラスのUV照射器でははじめて軽量化に成功

◆いままでのUV照射器では電源部は25kg〜35kgはありましたが、
安定器を使用せず、電子部品化で完成しました

◆UVパテ、UV塗料の完全硬化に必要な1kWのメタルハライドランプを装備

◆通常の365ナノメーターの他。厚みのあるUV樹脂でも硬化させるために
必要な波長も出力できるよう設計しております

■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□

=====詳細はお問い合わせください=====

エキシマレーザー微細加工装置 LB1000/1500
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小型~大型エキシマレーザーまで対応、縮小投影倍率 4~18倍固定、多彩なオプションによるカスタマイズ装置

【特徴】
○多彩な光学系オプションによるカスタマイズが可能
○必要に応じたオプションの取り付け変更も容易
○縮小投影倍率は4~18倍の間で設定が可能
○リアルタイムモニターによる観察系
○多機能ソフトウエアによるストレスの少ない操作
○専用オプションはPCからリモートコントロールが可能
○標準 200×200mm XYステージ
○エキシマレーザーの大きさ、製造元に係らず対応可能
○所有されているエキシマレーザーでも使用可能

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

AOC2000 ナノ秒・ピコ秒・フェムト秒レーザー微細加工装置
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コンパクトなプラットフォームにご希望のレーザー・加工光学系を
組み込みます。

ビームシェーパー『Focal-πShaper_1070』
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『Focal-πShaper_1070』は、フィールドマッピング型ビームシェーパーです。

透過率が非常に高いのが特長で、高出力レーザでも安定して利用できます。

付属のマウントは非常に便利です。一般的なコリメータレンズの出力側に
使われているマウントネジ(M30×0.75、またはM58×1)付きのマウントに
取り付けられておりますので、インテグレーションが容易です。

【特長】
■スパッタ低減に好適
■透過率が非常に高い
■高出力レーザでも安定して利用可能
■非常に便利な付属のマウント
■既存装置へのインテグレーションがスムーズ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

クローズドループガルバノメータスキャナ『62xxHシリーズ』
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『62xxHシリーズ』は、独自のポジションディテクタを装備した先進
ムービングマグネット型モータ技術が組み込んだスキャナです。

この特許技術は高い位置安定性と超高速走査を同時に実現していることを
特長としています。

ミラーサイズ(ビーム口径3-50mm)、各波長のミラーコーティングの幅広い
オプションをラインアップしています。

【特長】
■長時間優れた信頼性で最大限のスループットを実現
■走査アプリケーションのニーズに合わせた高い精度のパフォーマンス
■堅牢設計で長期間に渡る一貫した安定性をサポート
■コンパクトサイズ・狭いスペースにも容易に設置

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

CO2レーザー放電管
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ミヤタエレバムでは、独自の設計及びユーザーニーズに応えた
CO2発振器用の放電管の製造、ユーザー設計に基づいた
発振器用放電管のOEM製造を行っています。

サイズ10W~100Wクラス(約全長2m)まで製造可能。

この他に、金属とガラスの接合に威力を発揮する「真空回路部品」も
取り扱っています。

【特長】
■サイズ10W~100Wクラス(約全長2m)まで製造可能
■独自の設計及びユーザーニーズに対応
■医療用に、マーキング用に、用途は多様

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『株式会社ルクスレイ 取扱レーザー製品 総合カタログ』
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『株式会社ルクスレイ 取扱レーザー製品 総合カタログ』は、取り扱っている、世界のレーザー製品を掲載しています。
630~2300nm の幅広い波長で、マウントバーから完全なターンキーシステムまで、高出力ダイオードレーザーによる幅広いコンポーネントを提供します。
他に、パルスレーザー製品を紹介しています。

【掲載製品】
○半導体レーザーダイオード
○ウルトラショートパルスレーザー 他

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

ガラス平面研磨・平面加工
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有限会社十文字光学は、主に光学及び電子産業用平行平面ガラス製造を行っている会社です。当社はロータリー研削盤や自社仕様のNC切断機といった設備を保有し、丸型形状から角型形状、特殊形状に対応する他、ご希望により硝材の変更も可能となっております。

【営業品目】
■光学及び電子産業用平行平面ガラス製造(成形~Final Polish一貫生産)

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

250W水銀光源 REX-250
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248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択・切り換えが可能なUV照射装置です。
光学フィルターによって必要な水銀輝線波長のみを取り出すことができます。
シャッター、タイマー照射、光量調整、フィルターチェンジャー、外部制御など多彩な機能を標準装備しています。

株式会社フジメカニック 事業紹介
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フジメカニックは、カメラ産業、半導体、医療器機など様々な目的で使用されている薄膜の製造およびレンズ加工に関わる治工具を創業以来製作し続け、業界屈指の光学治工具専門メーカとして成長を遂げてきました。
成膜治工具を製作するうえで重要なのは、成膜プロセスを理解し、さらに基板の形状・成膜エリアを考慮することです。
このように、成膜過程を考慮してつくられた治具を用いることで、膜特性と成膜エリアを十分に満足する製品をつくることができます。
フジメカニックは光学治工具の専門メーカとして長年培ってきたノウハウと実績を根幹とし、設計から製造まで一貫した治工具製作に取組み、お客様に安心と満足を提供しております。
光学薄膜分野においてさらなるサービスの充実を図るため、グループ会社とともに、技術・品質の向上を念頭に置き邁進いたします。

【事業内容】
○光学機器レンズ研磨およびコーティング用治工具の設計、製造、販売
○光学用装置の部品加工
○光学ガラス研磨、洗浄システム
○その他消耗品の販売

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

フライアイレンズ
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露光装置やプロジェクタでは、フライアイレンズを使った光学系を用いることで照度ムラが打ち消され、照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られます。
液晶パネル露光装置、半導体露光装置などで利用されています。

ジャパンセルでは、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで一貫した自社製造を行っています。


◆詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください◆

『青色半導体レーザ』高出力ファイバ結合型
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『高出力ファイバ結合型 青色半導体レーザ』は、金(Au)や銅(Cu)など
金属材料への光吸収率が高い波長のレーザです。

最大出力20W、50W、200Wをラインナップ、目的のアプリケーションにより選択できます。

また、光ファイバコア径φ100μmを採用、小径ビームでの微細加工に適しております。

【特長】
■波長450nm
■最大出力20W、50W、200Wをラインナップ
■光ファイバコア径φ100μmを採用
■弊社独自の緑色ガイド光(520nm)標準装備

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

大出力LD電源
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株式会社ユニタックでは『大出力LD電源』を取り扱っております。

カラータッチディスプレイを採用した「コントローラー体型万能タイプ」を
はじめ「大型タイプ」や「エコノミータイプ」などを多数ご用意。

アルミ溶接・微細接合・超微細加工・樹脂溶着等の工業用レーザーの他、
治療用・医療用レーザー、その他研究用に好適です。

【ラインアップ】
■パルスレーザー源:LD及びペルチェ内蔵パルスレーザー源
■パルス/CW兼用:コントローラー体型万能タイプ
■CW用:大型タイプ/エコノミータイプ
■ペルチェドライバー内蔵LD電源
■冷加熱ペルチェドライバー

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

超高速定電流パルス駆動装置『PSI-LDPシリーズ』
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『PSI-LDPシリーズ』は、レーザーダイオード&高輝度LED駆動に好適な
LED & LD用定電流パルス駆動装置です。

TTL 同期出力、1μs ~ 100μsの高安定出力が可能。

また、THORLABS等にある顕微鏡用LED照明にも接続できるケーブルも別途
用意があります。是非お問い合わせください。

【特長】
■レーザーダイオード&高輝度LED駆動に好適
■超高速立下り 100ns 以下(LDP01)
■10A でも高い負荷電圧可能 ~45V
■TTL 同期出力 1μs ~ 100μs 高安定出力

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フェニックス電機株式会社 会社案内
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ハロゲンランプメーカーとしてスタートした当社は、放電灯、超高圧水銀灯、
LEDランプと「お客様にご満足いただける製品開発」を心掛け、
独創的/革新的なアイデアで当社にしかできない製品を生み出してまいりました。

そしてより高度化する技術的ニーズに対応するために、光学設計、機械設計、
電気・電子設計、光源開発、ガラス加工等、各技術の最適化を徹底追及。

お客様が使用される状況を様々な角度から想定した心配りのある開発を
心掛け、差別化された高性能、高品質な製品開発に注力してまいります。

【事業内容】
■露光装置用光源ユニット、プロジェクター用ランプ、産業用LED、
 ハロゲンランプ、一般照明、及びマスク等の開発・製造・販売

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

導波路カップリングプリズム
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ルチル単結晶は、屈折率が高く複屈折性が大きいため、
偏光子や分光プリズムなどの光学アプリケーションに最適です。

また、熱的・化学的にも非常に安定な物質です。
当社では、結晶欠陥の少ない良質ルチル単結晶を製造、加工しております。
ルチル原石生産世界一を誇っております

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?

光半導体・電子デバイスのフォトリソグラフィの高度化とは、微細な回路パターンを半導体ウェハー上に形成する技術を、より高精度かつ効率的に進化させることを指します。これは、高性能化・小型化が進む現代の電子デバイス製造において不可欠な要素であり、次世代技術の実現を支える基盤となります。

​課題

微細化に伴う解像度限界

回路パターンの微細化が進むにつれて、従来の露光技術では光の回折限界により、所望の解像度が得られにくくなっています。これにより、デバイスの性能向上が阻まれる可能性があります。

歩留まりの低下とコスト増

微細なパターン形成における欠陥の発生率は、微細化とともに増加する傾向があります。これにより、製造歩留まりが低下し、製品コストの上昇を招く要因となります。

露光装置の複雑化と大型化

高精度な露光を実現するためには、より高度な光学系や光源を備えた露光装置が必要となります。これは装置の複雑化、大型化、そして高価格化につながり、設備投資の負担を増大させます。

材料開発の遅延

微細パターン形成に適したフォトレジスト材料やマスク材料の開発が、露光技術の進歩に追いついていない場合があります。これにより、技術全体のボトルネックとなる可能性があります。

​対策

次世代露光技術の導入

EUV(極端紫外線)リソグラフィやマルチパターニング技術など、従来の光では実現できない微細化を可能にする露光技術を導入・改良します。

プロセス最適化と欠陥管理

露光プロセス全体の条件を最適化し、欠陥検出・修正技術を高度化することで、歩留まりの向上とコスト削減を目指します。

新規光学・光源技術の開発

より高精度なレンズ設計、新しい光源(例:高出力レーザー)の開発、光学系のシミュレーション技術の向上により、露光性能を飛躍的に向上させます。

先端材料の研究開発

微細パターン形成に適した高感度・高解像度フォトレジスト、低欠陥マスク材料、反射防止膜などの先端材料を開発・採用します。

​対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

微細な回路パターンを正確にウェハー上に転写するために、極めて高い精度で設計・製造されたレンズ群です。光の収差を最小限に抑え、解像度を向上させます。

先進フォトレジスト材料

露光光に対して高い感度と解像度を持ち、微細なパターンを忠実に再現できる化学材料です。次世代露光技術に対応した特性を備えています。

高出力・短波長光源

微細なパターン形成に必要なエネルギーを効率的に供給し、より短い波長の光を用いることで回折限界を克服する光源装置です。例えば、特定の波長のレーザー光源などが該当します。

高度欠陥検査装置

製造プロセス中に発生する微細な欠陥を、高解像度かつ高速に検出・特定する装置です。これにより、早期の対策が可能となり、歩留まり向上に貢献します。

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