量子ドットディスプレイ業界では、鮮やかな色再現性と高い表示品質が求められます。特に、量子ドット材料の純度は、色再現性に大きく影響し、不純物の混入は、色純度の低下や表示ムラの原因となります。当社の超高純度昇華精製装置は、高純度材料の安定供給を実現し、量子ドットディスプレイの色再現性向上に貢献します。【活用シーン】・量子ドットディスプレイ製造・色再現性評価・高機能材料の開発【導入の効果】・色純度の向上・表示品質の向上・歩留まりの改善

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【半導体露光向け】大口径両面非球面レンズ

株式会社ブル精密

半導体製造業界、特に露光工程においては、高精度なレンズが不可欠です。微細加工技術の進歩に伴い、レンズには高い光学性能が求められ、わずかな歪みや収差が製品の品質に大きく影響します。当社の大口径両面非球面レンズは、露光装置の性能を最大限に引き出すために開発されました。【活用シーン】・露光装置・半導体製造プロセス【導入の効果】・高精度な露光を実現・歩留まり向上に貢献・高品質な半導体製品の製造

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【レーザー加工向け】SiO2(石英)リング

株式会社スパッタコア

レーザー加工業界では、レーザービームの正確な伝送が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、高出力レーザーや精密加工においては、ビームの減衰や歪みを最小限に抑えることが求められます。SiO2(石英)リングは、レーザー光の透過性に優れ、熱による変形も少ないため、安定したビーム伝送を実現します。【活用シーン】・レーザー発振器・レーザー加工機・光学実験装置【導入の効果】・ビーム品質の向上・加工精度の向上・装置の安定稼働

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【光学向け】多軸位置決めステージ【MD-ZT】

ハイウィン株式会社

光学業界では、レンズやセンサーなどの精密部品の位置合わせが、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な位置決めが求められる場面では、わずかな誤差が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、高精度な位置合わせを実現することが重要です。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、これらの課題に対応します。【活用シーン】・レンズやセンサーの位置合わせ・半導体製造におけるウエハの位置決め・検査装置における部品の位置決め【導入の効果】・高精度な位置合わせによる製品品質の向上・焦点誤差の解消による歩留まりの向上・5軸自由度による柔軟な対応力

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【光学調整向け】高推力PICMAWalkアクチュエータ

PIジャパン株式会社

光学業界では、精密な光学系の調整において、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが求められます。特に、光軸調整やレンズの位置決めなど、わずかなズレがシステムの性能に大きな影響を与える場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。不正確な調整は、画像の歪みや測定精度の低下を引き起こす可能性があります。高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331は、ナノメートル精度で位置決めを実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。【活用シーン】・光学顕微鏡の対物レンズ調整・レーザー加工機の光軸調整・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め【導入の効果】・ナノメートルレベルでの高精度な位置決め・光学系の性能向上・作業効率の向上

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【レーザー加工向け】非球面レンズ

株式会社ブル精密

レーザー加工業界では、加工精度と効率が常に求められます。特に、レーザー光線の収束性と集光性は、加工品質を左右する重要な要素です。非球面レンズは、球面レンズと比較して収差を抑え、より高精度なレーザー加工を可能にします。当社では、お客様のニーズに合わせた非球面レンズを提供し、レーザー加工の品質向上に貢献します。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザーカッティング・レーザー溶接・レーザー顕微鏡・レーザー走査【導入の効果】・レーザー加工の精度向上・加工時間の短縮・歩留まりの向上・製品品質の安定化・コスト削減

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【光学向け】高負荷容量リング型アクチュエータ PICA Thru

PIジャパン株式会社

光学業界におけるビーム制御では、光の精密な位置決めと安定性が求められます。特に、レーザー加工や光通信といった分野では、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与える可能性があります。PICA(TM) Thruアクチュエータは、サブミリ秒の応答速度とサブナノメートルの分解能により、高精度なビーム制御を実現します。性能劣化のない状態で長期間の使用が可能です。【活用シーン】・レーザー加工におけるビーム位置制御・光通信システムの光ファイバーアライメント・顕微鏡の対物レンズ位置調整【導入の効果】・ビーム位置決め精度の向上・システムの安定性向上・生産性の向上

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【レーザー励起向け】GTシリーズ

株式会社グリーンテクノ

レーザー励起の分野では、安定した高電圧供給がレーザー発振の効率と精度を左右します。特に、精密な制御が求められる用途においては、高電圧の変動がレーザー出力の不安定さや、最悪の場合、機器の故障につながる可能性があります。GTシリーズは、出力可変機能により、レーザー励起に必要な電圧を正確に調整し、最適なレーザー発振をサポートします。【活用シーン】・レーザー加工・レーザー計測・レーザー研究【導入の効果】・レーザー発振の安定化・製品の品質向上・研究開発の効率化

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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121

PIジャパン株式会社

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。【活用シーン】・光学レンズのアライメント・ファイバーアライメント・光ファイバーデバイスの製造【導入の効果】・高精度なアライメントによる光学性能の向上・歩留まりの向上・生産性の向上

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【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417

PIジャパン株式会社

光学機器の調整作業では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、微小な位置ズレが光軸のずれや焦点誤差につながり、最終的な装置性能に大きな影響を与える可能性があります。多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ＋ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟な構成が可能です。高精度な位置決め性能と安定した動作により、光学部品の精密調整や光学系の組み立て工程をサポートします。【活用シーン】・レンズやミラーの位置調整・光学系の組み立て・精密検査【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・作業時間の短縮・歩留まりの向上

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【ガラス装飾向け】高出力CO2レーザマーカー

株式会社堀内電機製作所

ガラス装飾業界では、デザインの多様性と耐久性が求められます。レーザー加工は、繊細な模様や文字をガラスに施すことができ、デザインの自由度を格段に向上させます。また、レーザー加工は耐久性にも優れ、長期間にわたって美しい装飾を維持できます。当社の高出力CO2レーザマーカーは、ガラスへの穴あけや切断、彫刻を可能にし、装飾の幅を広げます。【活用シーン】・ガラス製品へのデザイン加工・看板やディスプレイの製作・インテリア装飾【導入の効果】・高精度な加工による高品質な仕上がり・多様なデザイン表現・高い耐久性

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【レーザー加工向け】開口部66×66mm 多軸ピエゾスキャナー

PIジャパン株式会社

レーザー加工業界では、レーザービームの精密な位置決めと制御が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高速加工においては、ナノレベルの精度と高い応答性が求められます。従来の制御方法では、位置決め精度や応答速度に限界があり、加工品質の低下や生産性の停滞を招く可能性がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能を実現し、レーザービームの精密な位置決めと制御を可能にします。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザー切断・レーザー微細加工・レーザー走査【導入の効果】・高精度なレーザー加工を実現・加工時間の短縮・歩留まりの向上・多様な加工への対応

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【2023年4月19日～21日】「レーザーEXPO」開催のご案内

株式会社オプトロニクス社

当社は、パシフィコ横浜にて「レーザーEXPO」を開催いたします。情報通信、材料加工、計測など広範にわたる応用においてレーザー技術が採用され、市場も拡大傾向にあります。本展は研究・開発、生産に至る、国内外のレーザー製品が一堂に会するレーザー技術総合展です。製造加工業など光分野に関係のあるお客様は、この機会に是非ご参加下さい。皆様のご来場を、心よりお待ちしております。【概要】 ■会期：2023年4月19日(水)～21日(金) 10:00～17:00 ■会場：パシフィコ横浜(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1) ■入場料：無料(但し、完全事前登録制) ■7つの展示会によって構成される「OPIE'23」内で開催 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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防曇膜など多数実績あり　成膜コーター『SPM-300シリーズ』

有限会社浦野技研

『SPM-300シリーズ』は、微少流量での成膜に適した成膜コーターです。塗布材料の塗着効率が高く、従来スプレー方式と比較し 1/2に削減、スピン方式と比較すると1/30以下に削減可能です。常圧環境で塗布成膜するため、真空環境の設備が不要で高価な真空設備コストを大幅に削減します。粒径の大きな固形物が混合されている材料が使用可能。排気、廃液処理が従来システムに比べ最小システムで対応できます。弱酸性、弱アルカリ性、各種有機溶剤の使用が可能です。【特長】 ■塗布材料の塗着効率が高い ■常圧環境で塗布成膜するため、真空環境の設備が不要 ■粒径の大きな固形物が混合されている材料の使用可能 ■排気、廃液処理が従来システムに比べ最小システムで対応可能 ■弱酸性、弱アルカリ性、各種有機溶剤の使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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TSラボの特長

ＴＳラボ株式会社

TSラボ株式会社は、照明機器の開発、製造、販売などを行っている会社です。 1台のカスタム設計から量産まで対応可能(量産時は協力会社による生産体制を構築)。LOTに合わせた好適設計、工法設計を実現します。また、量産時の設計、製造管理、品質マネージメントについても高いスキル、知識を保有しております。【事業内容】 ■照明機器の開発、製造、販売 ■紫外線照射装置の開発、製造、販売 ■LED導光板照明の開発、製造、販売 ■光学機器の開発、製造、販売 ■電子応用装置、電子制御機器の開発、製造、販売 ■各種コンサルティング業務 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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フライアイレンズ

株式会社ジャパンセル

「フライアイレンズ」は、プロジェクタ、露光装置用のインテグレータ光学系レンズです。本製品を露光装置やプロジェクタに仕様することで、照度ムラが打ち消され照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られるため、主に液晶パネル露光装置や半導体露光装置などに利用されています。当社では、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで一貫した自社製造を行っています。お気軽にご相談下さい。【特長】 ■照度ムラが打ち消される ■照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られる ■世界最大級の液晶パネル用露光装置向けのフライアイレンズを供給 ■光学系レンズ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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特注システム製品「フィルム基板張合せ装置」

ワイヤード株式会社

ワイヤード株式会社では数多くのシステム製品、特注製品などを手がけております。光学設計及び検査装置、特注自動（手動）ステージ、防振台など客先のニーズに合わせた操作性、コスト、納期などを重視しながらきめ細かなところまでお客様の立場に立って設計製作させて頂いております。また、ワイヤード株式会社で出来る範囲を明確にすることにより、製作品の完成度の向上をはかっております。特注品にありがちな不具合などを出来るだけ少なくするシステムで製作を進めさせて頂いております。【特徴】 ○客先のニーズに合わせた操作性、コスト、納期などを重視しながら　きめ細かなところまでお客様の立場に立って設計製作を行っている ○出来る範囲を明確にすることにより、　製作品の完成度の向上をはかっている ○特注品にありがちな不具合などを　出来るだけ少なくするシステムで製作している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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DUVピコ秒ハイブリッドレーザ

スペクトロニクス株式会社

LDH-X0810は、SPX独自のLDGS方式により実現した世界唯一の266nm 8Wピコ秒レーザです。 266nm波長はあらゆる材料への光吸収率が高く、加工難易度の高いガラスや樹脂などの透明材料や複数の材料が混ざった複合材の加工にも適しており、今までに無い高品質な加工が可能です。 ★☆★加工実験承ります★☆★

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300Wキセノン光源 MAX-351

朝日分光株式会社

専用バンドパスフィルター(別売)をセットして、分光した光を出射することができるキセノン光源です。ハイパワーな300Wランプを使用していますが、出射光の熱や迷光を大幅にカットしています。熱の無い環境下で波長切り換えが必要な研究開発用途に最適です。ミラーモジュールの付け替えにより、UVタイプ、UV-VISタイプ、VISタイプ、IRタイプへと簡単に切り換えが可能です。

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直管型冷陰極UVランプ

株式会社ミヤカワ

当製品は、直管型冷陰極UVランプです。直管で有効発光長が長いので、広範囲にUVを照射出来ます。熱陰極UVランプより長寿命をご希望の場合、オススメ致します。（電源などを変更していただく必要が御座います。）【特長】 ■超コンパクト ■高出力を実現 ■様々な分野での応用が可能 ■オゾンタイプとオゾンレスタイプをご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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精密微細穴あけ光学ユニット『ビームローテータ』

エイチアールディー株式会社

『ビームローテータ』は、別名ヘリカルドリリング加工とも呼ばれ、偏心させたレーザ光を高速で回転させて任意の穴径に調整して加工する光学機器です。レーザ光に傾斜（角度）をつけて回転させ、無テーパ、テーパ、逆テーパ等加工断面をコントロール。新ローテータ技術により、メインローテータと補正ローテータによる独自の回転コントロールにより四角・三角・正多角形・楕円・星形等、さまざまなレーザ軌跡による加工を実現します。【特長】 ■レンズを円運動させて多角形の加工が可能 ■高アスペクト比微細精密深穴を高速で加工 ■硬脆材の難加工でも加工が可能 ■装置構成の簡素化を実現でき高速化もスムーズに ■新ローテータ技術による応用でドーナツ形状加工走査・塗りつぶし走査が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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インバータ型・マイクロ波無電極UV装置

東京ホトン株式会社

インバータ型・マイクロ波無電極 UV装置はマイクロ波出力を自由に可変することでUV出力（照度）が自由に調節（調光）できる為、少量多品種やプロセススピードの変化する生産及び研究開発に適しています。【特長】 ■発光立ち上りが早く５秒で安定。調光中でも常に安定した発光が得られる。 ■装置が軽量でコンパクトなのにUV出力が大きく熱が非常に少ない。 ■電源周波数（５０＆６０Ｈｚ）によって部品を変える必要が無い。 ※詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。

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ライティングのトータルソリューション提案

株式会社中外

株式会社中外の取り扱う『ライティング』のトータルソリューションについてご紹介します。当社では、光学シミュレーションを用い、ライトガイド・光源ユニットなどの光学部品を適した形で提案致します。光学シミュレーションをはじめ、ライトガイド設計やソフトウェア開発、構成品の設計などは、是非お任せください。【サービス内容】 ■光学シミュレーション ■ライトガイド設計 ■プロトタイプ ■ソフトウェア開発 ■構成品設計 ■回路設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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エキシマレーザー微細加工装置　LB1000／1500

ビーム株式会社

小型～大型エキシマレーザーまで対応、縮小投影倍率 4～18倍固定、多彩なオプションによるカスタマイズ装置【特徴】 ○多彩な光学系オプションによるカスタマイズが可能 ○必要に応じたオプションの取り付け変更も容易 ○縮小投影倍率は4～18倍の間で設定が可能 ○リアルタイムモニターによる観察系 ○多機能ソフトウエアによるストレスの少ない操作 ○専用オプションはPCからリモートコントロールが可能 ○標準 200×200mm XYステージ ○エキシマレーザーの大きさ、製造元に係らず対応可能 ○所有されているエキシマレーザーでも使用可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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面照射用UV-LED光源装置　MK-LS-80S

ARK TECH株式会社

MK-LS-80Sは、ご要望の照射エリアへの照射が可能な面照射用UV-LED光源装置です。UV-LED波長は、365・385・395・405nmの選択が可能です。電源はAC100～240V　50/60Hｚ、消費電力は約450VA（出力100％時）です。照射ヘッド部の冷却は水冷式を推奨します。電源部の冷却はFAN空冷です。使用環境温度は0～40℃です。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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実験用固体UVレーザLLO装置『LSL-10』※デモ機貸出

株式会社オプトピア

『LSL-10』は、固体UVパルスレーザでラインビームを形成しワーク上の基板をステージで動かし、全面にLLOプロセスを行うための実験装置です。 LLOはガラスやサファイアなどレーザ光を透過する基板を用いてレーザ照射により瞬間的に界面の剥離が可能です。当装置は、小型・低価格でキャスターによる移動が可能。クラス4の安全対策を実現しています。【特長】 ■小型・低価格（キャスターにより移動可能） ■AC100V電源のみで使用できる ■クラス4の安全対策（光路/摺動部遮蔽・インターロック） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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LED照明器具『EH30-10R-power-DC24Y』

株式会社アルティマ販売

『EH30-10R-power-DC24Y』は、電費半分製特注仕様のLED照明器具です。半導体、液晶製造装置、工場(イエロールーム)などで利用された実績あり。標準100/200V仕様の白色タイプではエージングルームの実績もあります。また、サイズの異なる「EH64-20X-power-DC24Y」「EH120-40X-power-DC24Y」などのご用意がございます。ご用命の際は当社にお問い合わせください。【特長】 ■波長550nm以下をカット ■CE取得 ■危険電圧も回避 ■白色タイプもご用意可能 ■X-powerシリーズ取付サイドブラケット(オプション) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『青色半導体レーザ』高出力ファイバ結合型

マイクロエッヂプロセス株式会社

『高出力ファイバ結合型青色半導体レーザ』は、金(Au)や銅(Cu)など金属材料への光吸収率が高い波長のレーザです。最大出力20W、50W、200Wをラインナップ、目的のアプリケーションにより選択できます。また、光ファイバコア径φ１００μｍを採用、小径ビームでの微細加工に適しております。【特長】 ■波長450nm ■最大出力20W、50W、200Wをラインナップ ■光ファイバコア径φ１００μｍを採用 ■弊社独自の緑色ガイド光（520nm)標準装備 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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フェニックス電機株式会社　会社案内

フェニックス電機株式会社

ハロゲンランプメーカーとしてスタートした当社は、放電灯、超高圧水銀灯、 LEDランプと「お客様にご満足いただける製品開発」を心掛け、独創的/革新的なアイデアで当社にしかできない製品を生み出してまいりました。そしてより高度化する技術的ニーズに対応するために、光学設計、機械設計、電気・電子設計、光源開発、ガラス加工等、各技術の最適化を徹底追及。お客様が使用される状況を様々な角度から想定した心配りのある開発を心掛け、差別化された高性能、高品質な製品開発に注力してまいります。【事業内容】 ■露光装置用光源ユニット、プロジェクター用ランプ、産業用LED、　ハロゲンランプ、一般照明、及びマスク等の開発・製造・販売 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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フォトエッチング

株式会社東亜理化学研究所

当社で行っています「フォトエッチング」について、ご紹介いたします。精密写真技術により、ガラス基板・石英・シリコン・フィルム・ウェハー蒸着膜の微細精密写真の一貫加工、ハイリゾを含む光学系フィルムと各種高機能光学フィルムの微細加工も承ります。また、レーザー直描画による原版・フォトマスクも加工いたします。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。【ラインアップ】 ■金属膜フォトエッチング(Cr、Cr2O3、Al、 Au、Cu、Ni、その他) ・レチクル、チャート、スケール、エンコーダースリット、電極 ■薄膜フォトエッチング・リフトオフ、SiO2回折格子、ITO ■ガラス基板エッチング・観察用スライドガラス、流路、拡散板(透過率コントロール可) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【カタログ】フォトニクス設計・解析ツール

株式会社LightBridge

当カタログは、お客様のフォトニクスに関する問題を解決するために、フォトニクス設計・解析、フォトニックIC作製、カスタマイズ、教育・コンサルティングなど、幅広いサービスを提供している合同会社LightBridgeが取り扱うフォトニクス設計・解析ツールを掲載しております。高性能なフォトニック・シミュレーション・ソフトウェアを設計者に提供することで、未来のテクノロジーに大きく貢献し続けている Ansys Lumericalの製品を豊富にご紹介しております。【掲載内容】 ■DEVICE SUITE　コンポーネントレベルツール ■SYSTEM SUITE　システムレベルツール ■Ansys Lumerical 　アンシス・ソフトウェア関連サービス ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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『株式会社ルクスレイ取扱レーザー製品総合カタログ』

株式会社ルクスレイ

『株式会社ルクスレイ取扱レーザー製品総合カタログ』は、取り扱っている、世界のレーザー製品を掲載しています。 630～2300nm の幅広い波長で、マウントバーから完全なターンキーシステムまで、高出力ダイオードレーザーによる幅広いコンポーネントを提供します。他に、パルスレーザー製品を紹介しています。【掲載製品】 ○半導体レーザーダイオード ○ウルトラショートパルスレーザー　他詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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【薄膜を均一に成膜可能！】スピンコーターのオーダーメイド

株式会社アクティブ

どの用途においても塗膜の厚みの均一さは課題となりますが、薬液の粘度や性質、基板の材質やサイズに合わせた仕様の『スピンコーター』と試料台を用いなければ課題達成が難しくなり、効果的な結果を得られません。ぜひ一度アクティブにご相談ください。お客様のご要望をできる限り汲んだご提案をいたします。【選ぶ際の注意点】 ■どの用途においても塗膜の厚みの均一さは課題となる ■薬液の粘度や性質、基板の材質やサイズに合わせた仕様の製品と試料台を　用いなければ課題達成が難しく、効果的な結果を得ることができなくなる【採用事例】一眼レフカメラレンズ/スマートフォンレンズ/ 水泳用ゴーグル/シャーレへの成膜...etc ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧ください。

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ガルバノ光学スキャナ『GVMシリーズ』

シチズン千葉精密株式会社

『GVMシリーズ』は、光学式の高精度アナログセンサを搭載した、高性能で高信頼性のガルバノスキャナーです。低イナーシャ、高トルク、高精度リニアリティ、高位置精度、優れた温度特性、湿度の影響が少ないなどの特徴を有しており、レーザ用ミラー(ガルバノミラー)を高速・高精度に広範囲に走査することが可能です。当製品は、幅広いガルバノシステムでレーザスキャン用途に採用されています。【特長】 ■低イナーシャ・高トルク ■高精度なリニアリティー・位置精度 ■湿度の影響が少なく優れた温度特性　 ■均一な安定した製品 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

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レーザエンクロージャー

株式会社インテック

当社では、lasermet社製の『レーザエンクロージャー』を取り扱っております。『レーザエンクロージャー』は、ロボットとレーザを組み合わせたリモート溶接やリモート切断を想定して、5kW程度までのレーザと共に使用できます。出力5kW以上のレーザとの使用も想定し、オプションもご用意しています。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■金属よりも優れた性能 ■オプションによるアップグレードが可能 ■EN60825-4に準拠（レーザ安全製品に関する規格） ■ISO 13849-1に準拠（制御システムの安全性に関する規格） ■IEC 60947-1に準拠（低圧開閉装置と制御装置に関する規格）　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高出力産業用フェムト秒レーザー　イフリート

サイバーレーザー株式会社

フェムト秒レーザーは、光通信デバイス、金属部品、透明材料、半導体への微細加工や医療・バイオ技術、計測技術への高付加価値利用が期待されてます。　　長寿命性、高い耐環境性、短いウォームアップ時間に加えて、小さなフットプリントの New IFRIT は、産業用途から研究用途まで、皆様のご期待に幅広くお応えいたします。

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AOC2000 ナノ秒・ピコ秒・フェムト秒レーザー微細加工装置

AOCジャパン株式会社

コンパクトなプラットフォームにご希望のレーザー・加工光学系を組み込みます。

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超軽量照射器

株式会社コートテック

本体重量3．9ｋｇで、ハンディＵＶ照射器ではダントツの軽量化を図った超軽量照射器です。【特長】 ◆1ｋｗクラスのＵＶ照射器でははじめて軽量化に成功 ◆いままでのＵＶ照射器では電源部は25ｋｇ〜35ｋｇはありましたが、安定器を使用せず、電子部品化で完成しました ◆ＵＶパテ、ＵＶ塗料の完全硬化に必要な1ｋＷのメタルハライドランプを装備 ◆通常の365ナノメーターの他。厚みのあるＵＶ樹脂でも硬化させるために必要な波長も出力できるよう設計しております ■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□ ＝＝＝＝＝詳細はお問い合わせください＝＝＝＝＝

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表面仕上げ加工　非球面仕上げ加工　精密微細加工品

株式会社ワークス

我々が目指しているものは、「超精密」の分野で常に信頼されるモノ作りです。その為に必要な精密技術の向上こそが我々の使命です。【特徴】 ○高精度ガラスレンズ金型加工 ○φ0.1ｍｍ±0.1μｍ以下の超精密極細ピン加工技術 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

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レンズ『エアスペース・シリーズ』

株式会社アストロン

『エアスペース・シリーズ』は、収差を最小限に抑え、最少のスポットサイズを達成するために開発されたエアスペース型の焦点レンズです。色消しのトリプレット(3重)レンズは色収差を補正する機能を備えております。それにより、加工レーザビームと検査用可視光ビームの両方が、同一位置または超接近した焦点位置に焦点を結びます。【特長】 ■エアスペース型 ■色消しトリプレットレンズは色収差補正機能あり ■豊富なラインアップ ※こちらのカタログはダイジェスト版です。全編必要な方はお問合せ下さい。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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CW, 266nm, 300mW 『TopWave 266』

トプティカフォトニクス株式会社

産業用グレードのＣＷ TopWave 深紫外レーザーシステムは波長266nmにおいて300mWまたは150mWを出力する高い安定性と信頼性を併せ持ったレーザーシステムです。産業用途に適した完全自動クリスタルシフターを内蔵し10,000時間以上の長寿命を実現しています。シールドされたレーザーヘッドにはビーム品質(M²

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レンズ『HFLシリーズ』

株式会社アストロン

『HFLシリーズ』は、低吸収コーティングを施した溶融石英で作られた高出力ファイバーレーザ用焦点レンズです。ラインアップされている焦点レンズは、保護ウィンドウ付きですが、水冷用には別途、レンズとウィンドウを提供させていただきます。ご用命の際は是非当社まで、お気軽にご相談下さい。【特長】 ■ファイバーレーザ用 ■低吸収コーティングを施した溶融石英を使用 ■保護ウィンドウ付き ※こちらのカタログはダイジェスト版です。全編必要な方はお問合せ下さい。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高屈折樹脂原料『ピリダジン系含硫ジアミンAPP』

日本材料技研株式会社

本製品「APP」はピリダジン骨格、硫黄原子の分子屈折率・原子屈折率が高いことにより、ポリイミドなどのポリマーに高屈折率を付与することができます。 ODPA(4,4'-Oxydiphthalic Anhydride)との重合後のポリイミドフィルムは屈折率1.7（測定波長633nm）と高い屈折率が確認されています。反射防止膜などの薄膜コーティング材料や、光導波路、マイクロレンズなど、各種光学用部材への応用が想定されます。

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フライアイレンズ

株式会社ジャパンセル

露光装置やプロジェクタでは、フライアイレンズを使った光学系を用いることで照度ムラが打ち消され、照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られます。液晶パネル露光装置、半導体露光装置などで利用されています。ジャパンセルでは、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで一貫した自社製造を行っています。 ◆詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください◆

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酸発生剤関係

株式会社三宝化学研究所

光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や光酸発生剤、感光性材料などを提供。光技術の革新に貢献しています。酸発生剤関係の製品としては、SIN-01、SIN-02、SIN-11などがあります。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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クローズドループガルバノメータスキャナ『62xxHシリーズ』

ノヴァンタ・ジャパン株式会社

『62xxHシリーズ』は、独自のポジションディテクタを装備した先進ムービングマグネット型モータ技術が組み込んだスキャナです。この特許技術は高い位置安定性と超高速走査を同時に実現していることを特長としています。ミラーサイズ(ビーム口径3-50mm)、各波長のミラーコーティングの幅広いオプションをラインアップしています。【特長】 ■長時間優れた信頼性で最大限のスループットを実現 ■走査アプリケーションのニーズに合わせた高い精度のパフォーマンス ■堅牢設計で長期間に渡る一貫した安定性をサポート ■コンパクトサイズ・狭いスペースにも容易に設置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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感光性材料関係

株式会社三宝化学研究所

光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や光酸発生剤、感光性材料などを提供。光技術の革新に貢献しています。感光性材料関係の製品としては、NS-D、PQ-C、TPPA感光体などがあり、さらにこれら以外の多官能フェノール性水酸基を持つ化合物への感光性基の導入も行なっております。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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ディップコーター：スタンドアローンタイプ液循環・US機能付き

株式会社エコートプレシジョン

昇降機能と液循環機能、更に基材微細部への液浸透を目的とした超音波機能も搭載したスタンドアローンタイプの装置です。 ◆液循環4面オーバーフローのメリット・液面を常に一定に保てます。・循環経路に下記機能を持たせて管理することが出来ます。　液温、液濃度を一定の範囲で管理が可能　液中に持ち込まれたコンタミ除去が可能 ◆ワーク微細孔への液浸透を目的とした：超音波機能 ◆コート後に湿度を嫌うためディップ昇降部と液槽内（自動蓋付）に窒素パージ機能を追加しております。上記のように基材・コート剤の特長に応じた追加機能を搭載させることでお客様の目的にあった装置のご提供を心掛けております。

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蒸着材料

アールエムテック株式会社

薄膜は、レンズ類の反射防止膜、レーザーフィルター、ミラー、液晶ディスプレイパネル、建築用ガラス等々、実にさまざまな分野で利用されており、最近では特に撥水、防汚等の機能性薄膜が注目されています。一般的には、これらの薄膜は蒸着によって形成され、金属酸化物やフッ化物等の材料が蒸着材料として用いられており、多種多様な目的に応じた種類・形状・サイズのものが使用されます。弊社ではお客様のニーズにお応えする蒸着材料を提供しています。

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『加工用光学ユニットOTSシリーズ』

レーザーライン株式会社

『加工用光学ユニットOTSシリーズ』は、溶接や、ろう付けから表面処理、付加加工や除去加工の工程を含む複合部品の製造まで、幅広いアプリケーションに対応することが出来ます。強度分布が均一な円形焦点は、ファイバー端面のイメージングによって形成。一般に、金属溶接、樹脂溶着、ろう付け、または、クラッデングなどの用途に使用されます。【特長】 ■モジュール式の多様性、柔軟に組み合わせ可能 ■最大負荷に対応する頑強な構造 ■様々なご要望に対するシンプルなソリューション ■お客様に合わせた焦点形状 ■レーザ溶接、焼入れ、クラッディング(肉盛り溶接)用 ■標準インターフェースとの互換性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

回路パターンの微細化が進むにつれて、従来の露光技術では光の回折限界により、所望の解像度が得られにくくなっています。これにより、デバイスの性能向上が阻まれる可能性があります。

歩留まりの低下とコスト増

微細なパターン形成における欠陥の発生率は、微細化とともに増加する傾向があります。これにより、製造歩留まりが低下し、製品コストの上昇を招く要因となります。

露光装置の複雑化と大型化

高精度な露光を実現するためには、より高度な光学系や光源を備えた露光装置が必要となります。これは装置の複雑化、大型化、そして高価格化につながり、設備投資の負担を増大させます。

材料開発の遅延

微細パターン形成に適したフォトレジスト材料やマスク材料の開発が、露光技術の進歩に追いついていない場合があります。これにより、技術全体のボトルネックとなる可能性があります。

対策

次世代露光技術の導入

EUV（極端紫外線）リソグラフィやマルチパターニング技術など、従来の光では実現できない微細化を可能にする露光技術を導入・改良します。

プロセス最適化と欠陥管理

露光プロセス全体の条件を最適化し、欠陥検出・修正技術を高度化することで、歩留まりの向上とコスト削減を目指します。

新規光学・光源技術の開発

より高精度なレンズ設計、新しい光源（例：高出力レーザー）の開発、光学系のシミュレーション技術の向上により、露光性能を飛躍的に向上させます。

先端材料の研究開発

微細パターン形成に適した高感度・高解像度フォトレジスト、低欠陥マスク材料、反射防止膜などの先端材料を開発・採用します。

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

微細な回路パターンを正確にウェハー上に転写するために、極めて高い精度で設計・製造されたレンズ群です。光の収差を最小限に抑え、解像度を向上させます。

先進フォトレジスト材料

露光光に対して高い感度と解像度を持ち、微細なパターンを忠実に再現できる化学材料です。次世代露光技術に対応した特性を備えています。

高出力・短波長光源

微細なパターン形成に必要なエネルギーを効率的に供給し、より短い波長の光を用いることで回折限界を克服する光源装置です。例えば、特定の波長のレーザー光源などが該当します。

高度欠陥検査装置

製造プロセス中に発生する微細な欠陥を、高解像度かつ高速に検出・特定する装置です。これにより、早期の対策が可能となり、歩留まり向上に貢献します。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

​課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

​対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

​対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

課題

対策

対策に役立つ製品例