レーザー加工業界では、加工精度と効率が常に求められます。特に、レーザー光線の収束性と集光性は、加工品質を左右する重要な要素です。非球面レンズは、球面レンズと比較して収差を抑え、より高精度なレーザー加工を可能にします。当社では、お客様のニーズに合わせた非球面レンズを提供し、レーザー加工の品質向上に貢献します。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザーカッティング・レーザー溶接・レーザー顕微鏡・レーザー走査【導入の効果】・レーザー加工の精度向上・加工時間の短縮・歩留まりの向上・製品品質の安定化・コスト削減

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【レーザー加工向け】SiO2(石英)リング

株式会社スパッタコア

レーザー加工業界では、レーザービームの正確な伝送が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、高出力レーザーや精密加工においては、ビームの減衰や歪みを最小限に抑えることが求められます。SiO2(石英)リングは、レーザー光の透過性に優れ、熱による変形も少ないため、安定したビーム伝送を実現します。【活用シーン】・レーザー発振器・レーザー加工機・光学実験装置【導入の効果】・ビーム品質の向上・加工精度の向上・装置の安定稼働

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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。【活用シーン】・光学レンズのアライメント・ファイバーアライメント・光ファイバーデバイスの製造【導入の効果】・高精度なアライメントによる光学性能の向上・歩留まりの向上・生産性の向上

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【光学調整向け】高推力PICMAWalkアクチュエータ

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界では、精密な光学系の調整において、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが求められます。特に、光軸調整やレンズの位置決めなど、わずかなズレがシステムの性能に大きな影響を与える場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。不正確な調整は、画像の歪みや測定精度の低下を引き起こす可能性があります。高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331は、ナノメートル精度で位置決めを実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。【活用シーン】・光学顕微鏡の対物レンズ調整・レーザー加工機の光軸調整・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め【導入の効果】・ナノメートルレベルでの高精度な位置決め・光学系の性能向上・作業効率の向上

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【量子ドット向け】超高純度昇華精製装置

ティー・ケイ・エス株式会社

量子ドットディスプレイ業界では、鮮やかな色再現性と高い表示品質が求められます。特に、量子ドット材料の純度は、色再現性に大きく影響し、不純物の混入は、色純度の低下や表示ムラの原因となります。当社の超高純度昇華精製装置は、高純度材料の安定供給を実現し、量子ドットディスプレイの色再現性向上に貢献します。【活用シーン】・量子ドットディスプレイ製造・色再現性評価・高機能材料の開発【導入の効果】・色純度の向上・表示品質の向上・歩留まりの改善

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【半導体露光向け】大口径両面非球面レンズ

株式会社ブル精密

半導体製造業界、特に露光工程においては、高精度なレンズが不可欠です。微細加工技術の進歩に伴い、レンズには高い光学性能が求められ、わずかな歪みや収差が製品の品質に大きく影響します。当社の大口径両面非球面レンズは、露光装置の性能を最大限に引き出すために開発されました。【活用シーン】・露光装置・半導体製造プロセス【導入の効果】・高精度な露光を実現・歩留まり向上に貢献・高品質な半導体製品の製造

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【ガラス装飾向け】高出力CO2レーザマーカー

株式会社堀内電機製作所

ガラス装飾業界では、デザインの多様性と耐久性が求められます。レーザー加工は、繊細な模様や文字をガラスに施すことができ、デザインの自由度を格段に向上させます。また、レーザー加工は耐久性にも優れ、長期間にわたって美しい装飾を維持できます。当社の高出力CO2レーザマーカーは、ガラスへの穴あけや切断、彫刻を可能にし、装飾の幅を広げます。【活用シーン】・ガラス製品へのデザイン加工・看板やディスプレイの製作・インテリア装飾【導入の効果】・高精度な加工による高品質な仕上がり・多様なデザイン表現・高い耐久性

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【レーザー加工向け】開口部66×66mm 多軸ピエゾスキャナー

ピーアイ・ジャパン株式会社

レーザー加工業界では、レーザービームの精密な位置決めと制御が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高速加工においては、ナノレベルの精度と高い応答性が求められます。従来の制御方法では、位置決め精度や応答速度に限界があり、加工品質の低下や生産性の停滞を招く可能性がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能を実現し、レーザービームの精密な位置決めと制御を可能にします。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザー切断・レーザー微細加工・レーザー走査【導入の効果】・高精度なレーザー加工を実現・加工時間の短縮・歩留まりの向上・多様な加工への対応

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【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学機器の調整作業では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、微小な位置ズレが光軸のずれや焦点誤差につながり、最終的な装置性能に大きな影響を与える可能性があります。多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ＋ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟な構成が可能です。高精度な位置決め性能と安定した動作により、光学部品の精密調整や光学系の組み立て工程をサポートします。【活用シーン】・レンズやミラーの位置調整・光学系の組み立て・精密検査【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・作業時間の短縮・歩留まりの向上

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【光学向け】高負荷容量リング型アクチュエータ PICA Thru

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界におけるビーム制御では、光の精密な位置決めと安定性が求められます。特に、レーザー加工や光通信といった分野では、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与える可能性があります。PICA(TM) Thruアクチュエータは、サブミリ秒の応答速度とサブナノメートルの分解能により、高精度なビーム制御を実現します。性能劣化のない状態で長期間の使用が可能です。【活用シーン】・レーザー加工におけるビーム位置制御・光通信システムの光ファイバーアライメント・顕微鏡の対物レンズ位置調整【導入の効果】・ビーム位置決め精度の向上・システムの安定性向上・生産性の向上

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【光学向け】多軸位置決めステージ【MD-ZT】

ハイウィン株式会社

光学業界では、レンズやセンサーなどの精密部品の位置合わせが、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な位置決めが求められる場面では、わずかな誤差が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、高精度な位置合わせを実現することが重要です。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、これらの課題に対応します。【活用シーン】・レンズやセンサーの位置合わせ・半導体製造におけるウエハの位置決め・検査装置における部品の位置決め【導入の効果】・高精度な位置合わせによる製品品質の向上・焦点誤差の解消による歩留まりの向上・5軸自由度による柔軟な対応力

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『UV-SHiPLA SSシリーズ』※応用事例集付き

富士通特機システム株式会社

『UV-SHiPLA SSシリーズ』は、水銀フリー紫外線光源です。当シリーズは基礎検討や応用開発に向けた標準サイズ品です。空冷ファンと電源基板を一体化したモジュール(推奨品)を用意しています。【ラインアップ】 ■SK-BUVC-0806 ■SK-NUVB-0806 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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少量多品種　オーダーメイドレンズ　

株式会社飯山特殊硝子

可視化用部品、光学部品、半導体製造用部品等の硝子、ガラス・フィルター、石英等の成形、研磨の試作に対応します！！

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光反応用LED光源照射タイプ『Iris-S』

株式会社セルシステム

『Iris-S』は、新設計の光学エンジンと制御基板を採用することで、均一で安定した光を低消費電力で提供する照射装置です。単色光で高光量の出力が可能で、LEDを光源に採用することで光源の寿命が長くなり、さらに発熱が抑えられるので長時間の連続照射が可能です。 APCにより光強度を一定に保ち、安定した光を照射できます。 PC等とコントローラをRS-232Cにて接続する事で、LEDの照射強度(APC) /電流値(ACC)の変更、照射のON/OFF等の制御が可能です。【特長】 ■均一で安定した光を低消費電力で提供 ■単色光で高光量の出力 ■光源寿命が長い ■長時間の連続照射可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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微細加工用レーザ光源『MPRシリーズ』

マイクロエッヂプロセス株式会社

マイクロエッヂプロセスでは、微細加工用レーザ光源である『MPRシリーズ』を取り扱っております。波長が900nmの赤外半導体レーザ「MPR900シリーズ」をはじめ、 20W・50W・100Wの出力を有する青色半導体レーザ「MPR450シリーズ」や「MPR1000FLシリーズ」を各種ご用意。ご要望に合わせてお選びいただけます。【ラインアップ】 ■MPR900シリーズ ■MPR450シリーズ ■MPR1000FLシリーズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ビームシェーパー『Focal-πShaper_1070』

株式会社プロフィテット

『Focal-πShaper_1070』は、フィールドマッピング型ビームシェーパーです。透過率が非常に高いのが特長で、高出力レーザでも安定して利用できます。付属のマウントは非常に便利です。一般的なコリメータレンズの出力側に使われているマウントネジ（M30×0.75、またはM58×1）付きのマウントに取り付けられておりますので、インテグレーションが容易です。【特長】 ■スパッタ低減に好適 ■透過率が非常に高い ■高出力レーザでも安定して利用可能 ■非常に便利な付属のマウント ■既存装置へのインテグレーションがスムーズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『株式会社ルクスレイ取扱レーザー製品総合カタログ』

株式会社ルクスレイ

『株式会社ルクスレイ取扱レーザー製品総合カタログ』は、取り扱っている、世界のレーザー製品を掲載しています。 630～2300nm の幅広い波長で、マウントバーから完全なターンキーシステムまで、高出力ダイオードレーザーによる幅広いコンポーネントを提供します。他に、パルスレーザー製品を紹介しています。【掲載製品】 ○半導体レーザーダイオード ○ウルトラショートパルスレーザー　他詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

株式会社コシブ精密

「株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ 　 ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

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高屈折樹脂原料『ピリダジン系含硫ジアミンAPP』

日本材料技研株式会社

本製品「APP」はピリダジン骨格、硫黄原子の分子屈折率・原子屈折率が高いことにより、ポリイミドなどのポリマーに高屈折率を付与することができます。 ODPA(4,4'-Oxydiphthalic Anhydride)との重合後のポリイミドフィルムは屈折率1.7（測定波長633nm）と高い屈折率が確認されています。反射防止膜などの薄膜コーティング材料や、光導波路、マイクロレンズなど、各種光学用部材への応用が想定されます。

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半導体レーザ装置『LDFシリーズ』

レーザーライン株式会社

『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。【特長】 ■実践で証明されたアクティブ半導体レーザ素子冷却技術 ■全システム部品の内部ネットワーク化 ■従来のシステムと互換性のあるインターフェース ■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム ■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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レーザー加工サービス

株式会社ラステック

当社では、蓄積されたレーザー加工技術および設計技術をベースにレーザー微細加工装置やレーザー応用光学ユニットの企画から開発/設計/製作を行っております。また、社内実験装置の設備を使用して、新しいレーザー加工や計測などのレーザー応用技術の開発にも取り組んでいます。【業務内容】 ■レーザー応用装置の開発/設計/製作 ■レーザー技術利用開発 ■レーザー加工実験受託 ■コンサルティング ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『楕円面ミラー』

国際商事株式会社

『楕円面ミラー』は、高精度に製作されているためキセノンランプや超高圧水銀ランプ等の光束を高効率で集光することが可能。反射面は紫外域から赤外域まで、それぞれの反射・透過の設計が行えます。ほかにも、水冷式金属反射鏡など各種設計製作にも対応します。【特長】 ■高精度に製作 ■キセノンランプ等の光束を高効率で集光可能 ■紫外域から赤外域まで対応 ■それぞれの反射・透過の設計が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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直管型冷陰極UVランプ

株式会社ミヤカワ

当製品は、直管型冷陰極UVランプです。直管で有効発光長が長いので、広範囲にUVを照射出来ます。熱陰極UVランプより長寿命をご希望の場合、オススメ致します。（電源などを変更していただく必要が御座います。）【特長】 ■超コンパクト ■高出力を実現 ■様々な分野での応用が可能 ■オゾンタイプとオゾンレスタイプをご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『UVレーザー10W』

株式会社デルファイレーザージャパン

『UVレーザー10W』は、厳選されたLDポンプと波長変換素子を搭載した UVレーザーです。優れたビームモードと短パルス幅により、品質の高い微細加工が可能です。ガラスの切断や、サファイアー加工・微細穴あけなどに使用できます。 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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UVピコ秒ハイブリッドレーザ

スペクトロニクス株式会社

LDH-V1610は、固体増幅器2段構成の高出力UVピコ秒レーザです。 355nm波長はガラス、樹脂、セラミックスなどの加工に適しており、穴あけや切断など様々な加工を高い品質で実現可能です。

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レーザー「Nd:YAG/Nd:YVO・mosquitoシステム」

AkiTech LEO株式会社

「Nd:YAG/Nd:YVOシステム」は、IR(1064nm)～第4高調波(266nm)までのシステムが供給可能かつ、それぞれの用途に合わせたシステム構成が選択できるようになっています。「超小型 mosquitoシステム」は、コンパクトなフットプリントで優れた性能を発揮。革新的なシステムアーキテクチャは、短いパルス幅、高繰返しレートでも優れたパルス安定性、回折限界に近いビームを提供いたします。【特徴】「Nd:YAG/Nd:YVOシステム」 ○スキャナーとの組み合わせ可能 ○用途に合わせたシステム構成が選択可能「超小型 mosquitoシステム」 ○超小型筐体 ○MOPAシステム ○高出力(第4高調波の機種まで縦鼻）詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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超精密研磨加工サービス

東京特殊硝子株式会社

東京特殊硝子株式会社は、創業以来、硝子加工一筋に取り組み、現在は液晶用フォトマスクサブストレートや車載用ミラー等々の超精密研磨加工の取り扱いを主力とする企業です。ケミカル強化、ガラス研磨（石英・青板）フォトマスクのことなら是非当社にご相談ください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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特注レーザーオプティクス

太平貿易株式会社

Sill Optics社(シルオプティクス)は長年にわたり、レーザオプティクスのソリューションパートナーとして信頼を得てきました。様々なプロジェクトでユーザー仕様での特注光学設計や独自の外観形状に長年の経験があります。お客様が要望する試作品を短納期で製作することができる理由は、社内の異なる部門間の密接な協力関係や幅広い製造能力、そして高品質な量産体制が理由です。近年では、レーザオプティクスの注文の約6割を特注品の問い合わせや公的研究プロジェクトへの参加に基づく開発品として成功させています。【Sill Optics社による開発利点】 ■設計や生産に基づいた仕様書の作成 ■光学設計者、プロジェクトマネージャーとの高い連携性 ■設計・開発・生産間の完成した生産体制 ■短納期な試作品の開発 ■高品質な量産品の製作 ■個々のニーズに応じた確かな品質 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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100Wグリーンレーザー　HD40II-E

ビーム株式会社

エッジウェーブ社製【特徴】 ○大出力100Wグリーン ○高繰り返し／高パルスエネルギー ○短パルス＜10ns ○出力ビーム形状（いずれか１つを選択：ガウシアン、2Dトップ・ハットビーム、1Dトップ・ハット・ラインビーム） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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超軽量照射器

株式会社コートテック

本体重量3．9ｋｇで、ハンディＵＶ照射器ではダントツの軽量化を図った超軽量照射器です。【特長】 ◆1ｋｗクラスのＵＶ照射器でははじめて軽量化に成功 ◆いままでのＵＶ照射器では電源部は25ｋｇ〜35ｋｇはありましたが、安定器を使用せず、電子部品化で完成しました ◆ＵＶパテ、ＵＶ塗料の完全硬化に必要な1ｋＷのメタルハライドランプを装備 ◆通常の365ナノメーターの他。厚みのあるＵＶ樹脂でも硬化させるために必要な波長も出力できるよう設計しております ■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□ ＝＝＝＝＝詳細はお問い合わせください＝＝＝＝＝

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『加工用光学ユニットOTSシリーズ』

レーザーライン株式会社

『加工用光学ユニットOTSシリーズ』は、溶接や、ろう付けから表面処理、付加加工や除去加工の工程を含む複合部品の製造まで、幅広いアプリケーションに対応することが出来ます。強度分布が均一な円形焦点は、ファイバー端面のイメージングによって形成。一般に、金属溶接、樹脂溶着、ろう付け、または、クラッデングなどの用途に使用されます。【特長】 ■モジュール式の多様性、柔軟に組み合わせ可能 ■最大負荷に対応する頑強な構造 ■様々なご要望に対するシンプルなソリューション ■お客様に合わせた焦点形状 ■レーザ溶接、焼入れ、クラッディング(肉盛り溶接)用 ■標準インターフェースとの互換性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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レンズ『エアスペース・シリーズ』

株式会社アストロン

『エアスペース・シリーズ』は、収差を最小限に抑え、最少のスポットサイズを達成するために開発されたエアスペース型の焦点レンズです。色消しのトリプレット(3重)レンズは色収差を補正する機能を備えております。それにより、加工レーザビームと検査用可視光ビームの両方が、同一位置または超接近した焦点位置に焦点を結びます。【特長】 ■エアスペース型 ■色消しトリプレットレンズは色収差補正機能あり ■豊富なラインアップ ※こちらのカタログはダイジェスト版です。全編必要な方はお問合せ下さい。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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紫外線照射装置 UVB-300

インフリッヂ工業株式会社

【概要】紫外線照射装置 UVB-300は、紫外線照射強度365mmを主波長とした紫外域に高い輝線スペクトルを保つ超高圧水銀ランプと、紫外域において80%以上の反射率を持つ楕円反射鏡とを組み込んだものです。紫外線硬化に有用な紫外域が強く、熱発生の原因となる可視域、赤外域がほとんどないスペクトルが得られます。また可視域、赤外域をカットし熱発生を抑えるフィルターをご用意しております。【特長】 ●リモート機能シャッター、光量コントロール、ランプON/OFF操作が外部よりコントロール可能 ●光量コントロール絞り板の内蔵により連続的に光量コントロール可能 ●プリセットランプ方式採用（※UVB-300のみ）ランプ交換時の位置調整が不要なため、メンテナンスランプ交換作業が簡単に行えます。 ●高効率集光光学系採用姉妹機850W、1800Wともにワンランク上の高照度を実現 ★詳細は、資料請求もしくはカタログダウンロード下さい★

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高出力SCOWLレーザのシミュレータ

クロスライトソフトウェアインク日本支社

クラマース・クローニヒの方程式を用いた屈折率変化のメカニズムの温度依存や自由電子/プラズマモデルが妥当な結果を与える。LASTIPはLASTIPはSCOWLタイプの高出力レーザーにおいて横モードの振舞いの正確な見積を提供する。長い共振器のようなさらに踏込んだ解析には、軸方向空間ホールバーニング(longitudinal spatial hole burning)と端面光ダメージ効果(facet optical damage effect)を考慮する必要があるためPICS3Dを推奨。

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高出力紫外線照射装置　UVフラッシャーストレート型TX2100

株式会社タクト

『UVフラッシャー　ストレート型TX2100』は、電源投入後、直ちに稼動できるので待ち時間が要らない高出力紫外線照射装置。従来の水銀/メタルハライドランプのように常時点灯しておかなくて済むため、大幅な消費電力の低減に貢献します。また、キセノンガスを使用しているので、環境負荷が少なく、発光電圧、発光パルス数などを目的に合わせて容易に設定変更が可能。専用ソフトが標準で付属されているので、導入後直ちに使用できます。【特長】 ■電源投入後、待ち時間が不要 ■電気料の大幅節約 ■環境負荷が少ない ■導入後直ちに使用が可能 ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

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250W水銀光源 REX-250

朝日分光株式会社

248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択･切り換えが可能なUV照射装置です。光学フィルターによって必要な水銀輝線波長のみを取り出すことができます。シャッター、タイマー照射、光量調整、フィルターチェンジャー、外部制御など多彩な機能を標準装備しています。

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特注システム製品「フィルム基板張合せ装置」

ワイヤード株式会社

ワイヤード株式会社では数多くのシステム製品、特注製品などを手がけております。光学設計及び検査装置、特注自動（手動）ステージ、防振台など客先のニーズに合わせた操作性、コスト、納期などを重視しながらきめ細かなところまでお客様の立場に立って設計製作させて頂いております。また、ワイヤード株式会社で出来る範囲を明確にすることにより、製作品の完成度の向上をはかっております。特注品にありがちな不具合などを出来るだけ少なくするシステムで製作を進めさせて頂いております。【特徴】 ○客先のニーズに合わせた操作性、コスト、納期などを重視しながら　きめ細かなところまでお客様の立場に立って設計製作を行っている ○出来る範囲を明確にすることにより、　製作品の完成度の向上をはかっている ○特注品にありがちな不具合などを　出来るだけ少なくするシステムで製作している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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溶融石英『JGS2』

USTRON株式会社

『JGS2』は、酸水素火炎で溶融した極めて高純度の溶融石英ガラスです。極低膨張率、遠紫外線域での高い透過率、化学的耐久性などの優れた特性を有し、サブミクロン単位の超精密性と高い安定性を要求される光学部品材料として好適。硝材の材料寸法、形状については都度の対応を致します。【仕様】 ■純度：99.99% ■OH（PPM）：200 ■使用波長：200～2500nm ■電気的性質・体積抵抗率：4.0［1013］（Ω/cm）at200℃ ・誘電率：100（F/m） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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金属鏡

山田光学工業株式会社

『金属鏡』は、平面、凹面、凸面、非球面鏡の種類があります。 Al、Auコートなどの材質を使用しており、機能、耐久性に優れています。主に炭酸ガスレーザーの光学素子として利用されており、大出力CO2レーザーの光学素子、各種コリメーション、コンデンサー光学系などにご利用頂けます。【特長】 ■種類豊富なラインアップ ■機能、耐久性に優れる ■炭酸ガスレーザーの光学素子として利用されている ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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感光性材料関係

株式会社三宝化学研究所

光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や光酸発生剤、感光性材料などを提供。光技術の革新に貢献しています。感光性材料関係の製品としては、NS-D、PQ-C、TPPA感光体などがあり、さらにこれら以外の多官能フェノール性水酸基を持つ化合物への感光性基の導入も行なっております。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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株式会社芝川製作所事業紹介

株式会社芝川製作所

株式会社芝川製作所は、光学設計が可能な設計・生産受託会社です。蒸着、金型、成形、塗装、印刷、部品調達、実装、組立、検査、梱包までの一貫対応が可能です。フレネルレンズ、リフレクター、光学レンズ、LED照明などの光学設計が対応可能です。又、生産難易度の高いキセノンフラッシュの量産技術に評価を受けております。フラッシュライト等の精密機器製造において培った、光学・電気・機構の技術を活用し精密機器の半製品・完成品の生産受託を行っております。主に、真空蒸着や光学設計、フラッシュユニット、LED照明、精密機器などを取扱っておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問合せください。【事業内容】 ■電気機械器具部品製造販売 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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成膜加工部門

東京特殊硝子株式会社

当社は、硝子加工一筋に取り組み、現在は超精密研磨加工の取り扱いを主力とする企業です。反射膜(成膜加工)は、用途に応じた金属膜・多層膜を、当社では設計から成膜まで徹底した品質管理を行い、より高品質かつ高信頼の製品を提供させて頂いております。 ITO膜(成膜加工)は、透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・高密着・高強度膜を蒸着法・スパッタリング法で対応。また、クリーンルーム内での成膜により安定した品質と高い信頼性を実現しております。【特長】 ■用途に応じた金属膜・多層膜を、設計から成膜まで徹底した品質管理 ■より高品質かつ高信頼の製品を提供 ■透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・高密着・高強度膜を　蒸着法・スパッタリング法で対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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LED照明器具『EH30-10R-power-DC24Y』

株式会社アルティマ販売

『EH30-10R-power-DC24Y』は、電費半分製特注仕様のLED照明器具です。半導体、液晶製造装置、工場(イエロールーム)などで利用された実績あり。標準100/200V仕様の白色タイプではエージングルームの実績もあります。また、サイズの異なる「EH64-20X-power-DC24Y」「EH120-40X-power-DC24Y」などのご用意がございます。ご用命の際は当社にお問い合わせください。【特長】 ■波長550nm以下をカット ■CE取得 ■危険電圧も回避 ■白色タイプもご用意可能 ■X-powerシリーズ取付サイドブラケット(オプション) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

株式会社ナノシステムソリューションズ

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケール信号をピクセル（□1μm）単位で光強度に階調を持たせた2次元画像として逐次投影することのできるハードウエアから構成されています。 DL-1000を用いることで、マルチトーンマスクを使用したり多重露光をすること無く、レジストの三次元加工を容易に実現することができます。グレースケールデータの作成は、これまで階層毎に図面を描き、各レイヤーに輝度を割り当てる作業が必要でしたが、計算式の係数を変化させることで任意の多角形及び円弧をもとに滑らかなグレースケール画像（最大256階調）を生成することが可能になりました。また、レジストの感度特性や処理条件の相違による露光結果の変動に対しても、グレースケールデータを容易に変更することができるため、求める形状を迅速に具現化することができます。

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光学薄膜加工サービス

セントラル光学株式会社

当社では、光学薄膜加工を取り扱っております。低コストのウェットエッチング加工でありながら±1μmのパターン寸法加工精度を量産で実現。また、ND(ニュートラルデンシティ)コートの豊富なバリエーション(濃度0.1～6.0)、優れたフラット性と低反射性。ガラス材料調達から研磨、コーティング、フォトエッチング、シルクスクリーン印刷、レーザーマーカー刻印、ダイシングカットまでワンストップで対応いたします。【特長】 ■ウェットエッチングのパターン寸法精度±1μm ■低コストで短納期 ■豊富なバリエーション ■ワンストップ対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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光反応用LED光源 CLシリーズ

朝日分光株式会社

コントローラーは1chタイプ(CL-1501)と3chタイプ(CL-1503)をご用意しております。ラインナップ以外の波長をご要望にあわせてカスタム可能です。＜LED波長＞ 365nm、385nm、395nm、405nm、430nm、450nm、470nm、505nm、525nm、568nm、590nm、615nm、625nm、660nm、730nm、830nm、850nm、860nm、940nm ※特注例：690nm、ホワイト＜オプション＞・タイマー CL‐TCN1 ・通信ユニット (外部制御) ・ライトガイド(ファイバー)接続アダプタ・フィルターホルダー

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ガルバノ連動超精密ステージ『GRANAS-40XY-GL』

ピー・ヂー・ダブリュー株式会社

『GRANAS-40XY-GL』は、レーザ、ガルバノとXY超精密ステージが同期連動して動作可能なシステムです。溶接、切断、スクライブ、穴あけ等のレーザー微細加工をはじめ、レーザーマーカ、計測機器にご使用いただけます。【特長】 ■レーザー各種に対応可能(532nm、パルスレーザー、他) ■キヤノン製ガルバノスキャナ搭載 ■XY超精密グラナイトエアスライダー搭載 ■コントローラPowerPMAC搭載【当社がお選びいただく理由】・5000×3000クラスの石を常に在庫で持ち、切断から製品完成までの一貫生産により短納期にも対応・平面／平行／直角精度保証値は、お客様のニーズにお応えします。・石製品の修正／改造／メンテナンスを行います。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【2023年4月19日～21日】「レーザーEXPO」開催のご案内

株式会社オプトロニクス社

当社は、パシフィコ横浜にて「レーザーEXPO」を開催いたします。情報通信、材料加工、計測など広範にわたる応用においてレーザー技術が採用され、市場も拡大傾向にあります。本展は研究・開発、生産に至る、国内外のレーザー製品が一堂に会するレーザー技術総合展です。製造加工業など光分野に関係のあるお客様は、この機会に是非ご参加下さい。皆様のご来場を、心よりお待ちしております。【概要】 ■会期：2023年4月19日(水)～21日(金) 10:00～17:00 ■会場：パシフィコ横浜(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1) ■入場料：無料(但し、完全事前登録制) ■7つの展示会によって構成される「OPIE'23」内で開催 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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フューズドシリカ光ファイバ

エジスモステクノロジー株式会社

エジスモスは、シングルモード光ファイバケーブル、マルチモード光ファイバプローブとマルチファイバーケーブルアセンブリーを用いたシリカファイバケーブル及び光ファイバープローブをカスタマイズして提供します。また、エジスモスもコネクタとスリーブタイプの多くの種類を提供します。フューズドシリカ光ファイバケーブルは通常にシングルモードファイバレーザ及びレーザ伝送に応用です。さらに、特に高出力の青色と紫外光レーザーの結合されるのことです。

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300Wキセノン光源 MAX-351

朝日分光株式会社

専用バンドパスフィルター(別売)をセットして、分光した光を出射することができるキセノン光源です。ハイパワーな300Wランプを使用していますが、出射光の熱や迷光を大幅にカットしています。熱の無い環境下で波長切り換えが必要な研究開発用途に最適です。ミラーモジュールの付け替えにより、UVタイプ、UV-VISタイプ、VISタイプ、IRタイプへと簡単に切り換えが可能です。

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

回路パターンの微細化が進むにつれて、従来の露光技術では光の回折限界により、所望の解像度が得られにくくなっています。これにより、デバイスの性能向上が阻まれる可能性があります。

歩留まりの低下とコスト増

微細なパターン形成における欠陥の発生率は、微細化とともに増加する傾向があります。これにより、製造歩留まりが低下し、製品コストの上昇を招く要因となります。

露光装置の複雑化と大型化

高精度な露光を実現するためには、より高度な光学系や光源を備えた露光装置が必要となります。これは装置の複雑化、大型化、そして高価格化につながり、設備投資の負担を増大させます。

材料開発の遅延

微細パターン形成に適したフォトレジスト材料やマスク材料の開発が、露光技術の進歩に追いついていない場合があります。これにより、技術全体のボトルネックとなる可能性があります。

対策

次世代露光技術の導入

EUV（極端紫外線）リソグラフィやマルチパターニング技術など、従来の光では実現できない微細化を可能にする露光技術を導入・改良します。

プロセス最適化と欠陥管理

露光プロセス全体の条件を最適化し、欠陥検出・修正技術を高度化することで、歩留まりの向上とコスト削減を目指します。

新規光学・光源技術の開発

より高精度なレンズ設計、新しい光源（例：高出力レーザー）の開発、光学系のシミュレーション技術の向上により、露光性能を飛躍的に向上させます。

先端材料の研究開発

微細パターン形成に適した高感度・高解像度フォトレジスト、低欠陥マスク材料、反射防止膜などの先端材料を開発・採用します。

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

微細な回路パターンを正確にウェハー上に転写するために、極めて高い精度で設計・製造されたレンズ群です。光の収差を最小限に抑え、解像度を向上させます。

先進フォトレジスト材料

露光光に対して高い感度と解像度を持ち、微細なパターンを忠実に再現できる化学材料です。次世代露光技術に対応した特性を備えています。

高出力・短波長光源

微細なパターン形成に必要なエネルギーを効率的に供給し、より短い波長の光を用いることで回折限界を克服する光源装置です。例えば、特定の波長のレーザー光源などが該当します。

高度欠陥検査装置

製造プロセス中に発生する微細な欠陥を、高解像度かつ高速に検出・特定する装置です。これにより、早期の対策が可能となり、歩留まり向上に貢献します。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

​課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

​対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

​対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

課題

対策

対策に役立つ製品例