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フォトリソグラフィの高度化とは?課題と対策・製品を解説

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?
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量子ドットディスプレイ業界では、鮮やかな色再現性と高い表示品質が求められます。特に、量子ドット材料の純度は、色再現性に大きく影響し、不純物の混入は、色純度の低下や表示ムラの原因となります。当社の超高純度昇華精製装置は、高純度材料の安定供給を実現し、量子ドットディスプレイの色再現性向上に貢献します。
【活用シーン】
・量子ドットディスプレイ製造
・色再現性評価
・高機能材料の開発
【導入の効果】
・色純度の向上
・表示品質の向上
・歩留まりの改善
半導体製造業界、特に露光工程においては、高精度なレンズが不可欠です。微細加工技術の進歩に伴い、レンズには高い光学性能が求められ、わずかな歪みや収差が製品の品質に大きく影響します。当社の大口径両面非球面レンズは、露光装置の性能を最大限に引き出すために開発されました。
【活用シーン】
・露光装置
・半導体製造プロセス
【導入の効果】
・高精度な露光を実現
・歩留まり向上に貢献
・高品質な半導体製品の製造
ガラス装飾業界では、デザインの多様性と耐久性が求められます。レーザー加工は、繊細な模様や文字をガラスに施すことができ、デザインの自由度を格段に向上させます。また、レーザー加工は耐久性にも優れ、長期間にわたって美しい装飾を維持できます。当社の高出力CO2レーザマーカーは、ガラスへの穴あけや切断、彫刻を可能にし、装飾の幅を広げます。
【活用シーン】
・ガラス製品へのデザイン加工
・看板やディスプレイの製作
・インテリア装飾
【導入の効果】
・高精度な加工による高品質な仕上がり
・多様なデザイン表現
・高い耐久性
レーザー加工業界では、加工精度と効率が常に求められます。特に、レーザー光線の収束性と集光性は、加工品質を左右する重要な要素です。非球面レンズは、球面レンズと比較して収差を抑え、より高精度なレーザー加工を可能にします。当社では、お客様のニーズに合わせた非球面レンズを提供し、レーザー加工の品質向上に貢献します。
【活用シーン】
・レーザーマーキング
・レーザーカッティング
・レーザー溶接
・レーザー顕微鏡
・レーザー走査
【導入の効果】
・レーザー加工の精度向上
・加工時間の短縮
・歩留まりの向上
・製品品質の安定化
・コスト削減
光学業界では、レンズやセンサーなどの精密部品の位置合わせが、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な位置決めが求められる場面では、わずかな誤差が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、高精度な位置合わせを実現することが重要です。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、これらの課題に対応します。
【活用シーン】
・レンズやセンサーの位置合わせ
・半導体製造におけるウエハの位置決め
・検査装置における部品の位置決め
【導入の効果】
・高精度な位置合わせによる製品品質の向上
・焦点誤差の解消による歩留まりの向上
・5軸自由度による柔軟な対応力
『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。
レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者
だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。
移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。
当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。
【特長】
■実践で証明されたアクティブ半導体レーザ素子冷却技術
■全システム部品の内部ネットワーク化
■従来のシステムと互換性のあるインターフェース
■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム
■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『JGS2』は、酸水素火炎で溶融した極めて高純度の溶融石英ガラスです。
極低膨張率、遠紫外線域での高い透過率、化学的耐久性などの優れた
特性を有し、サブミクロン単位の超精密性と高い安定性を要求される
光学部品材料として好適。
硝材の材料寸法、形状については都度の対応を致します。
【仕様】
■純度:99.99%
■OH(PPM):200
■使用波長:200~2500nm
■電気的性質
・体積抵抗率:4.0[1013](Ω/cm)at200℃
・誘電率:100(F/m)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『MD-W1000』は、電源部を弁当箱サイズにダウンサイジングした
UV照射装置です。
安定器を使用せず、電子部品化により電源部本体は当社「CT-W1200」から
さらに軽量化が進み1.5kgを実現。
フロアーコーティングの完全硬化に必要な1kWのメタルハライドランプか
水銀灯を選択いただけます。
【特長】
■電子安定器タイプ
■照射部も軽量かつハイパワー仕様
■電源部重量1.6Kg
■60Hzでも50Hz地域でも使用可能
■100Vでも200Vでも使用できる
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
エジスモスは、シングルモード光ファイバケーブル、マルチモード光ファイバプローブとマルチファイバーケーブルアセンブリーを用いたシリカファイバケーブル及び光ファイバープローブをカスタマイズして提供します。
また、エジスモスもコネクタとスリーブタイプの多くの種類を提供します。
フューズドシリカ光ファイバケーブルは通常にシングルモードファイバレーザ及びレーザ伝送に応用です。さらに、特に高出力の青色と紫外光レーザーの結合されるのことです。
当製品は、直管型冷陰極UVランプです。
直管で有効発光長が長いので、広範囲にUVを照射出来ます。
熱陰極UVランプより長寿命をご希望の場合、オススメ致します。
(電源などを変更していただく必要が御座います。)
【特長】
■超コンパクト
■高出力を実現
■様々な分野での応用が可能
■オゾンタイプとオゾンレスタイプをご用意
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『GRANAS-40XY-GL』は、レーザ、ガルバノとXY超精密ステージが
同期連動して動作可能なシステムです。
溶接、切断、スクライブ、穴あけ等のレーザー微細加工をはじめ、
レーザーマーカ、計測機器にご使用いただけます。
【特長】
■レーザー各種に対応可能(532nm、パルスレーザー、他)
■キヤノン製ガルバノスキャナ搭載
■XY超精密グラナイトエアスライダー搭載
■コントローラPowerPMAC搭載
【当社がお選びいただく理由】
・5000×3000クラスの石を常に在庫で持ち、切断から製品完成までの一貫生産により短納期にも対応
・平面/平行/直角精度保証値は、お客様のニーズにお応えします。
・石製品の修正/改造/メンテナンスを行います。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『P303 Picosecond Laser』は、優れたビーム品質・出力安定・コンパクトな
デザインを兼ね備えたピコ秒レーザーです。
ファイバーレーザテクノロジーLD増幅器を結合する事により、
パルスエネルギーが200μ以上・パルス幅が<15ps・アベレージ出力>30Wを
実現しました。
【特長】
■繰り返し周波数:150-1000kHz
■ビームモード:TEMOO(M2<1.3)
■コンパクト設計
■RS232とecternal GATE control保有
■クリーンルームクラス1000の環境にてアッセンブル
※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
LDH-V1610は、固体増幅器2段構成の高出力UVピコ秒レーザです。
355nm波長はガラス、樹脂、セラミックスなどの加工に適しており、穴あけや切断など様々な加工を高い品質で実現可能です。
当社では、自社工場で組み立て製作を行っており、出荷・納品・
アフターサービスまで一貫対応しております。
また、現在お使いの露光用光源(水銀灯)をUV LED光源システムに
置き換えが可能です。ご要望の際は、お気軽にご相談ください。
【製品の基本仕様】
■超高圧水銀灯装置
・露光サイズ:75~2,350mm
・W数:250W,500W,1kW,2kW,3.5kW,5kW,8kW,10kW,16kW,25kW,35kW
■UV LED装置
・露光サイズ:50mm~1000mm×1500mm
・LED波長:365nm,385nm,405nm
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。
本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD(Digital Micromirror Device)に転送されたグレースケール信号をピクセル(□1μm)単位で光強度に階調を持たせた2次元画像として逐次投影することのできるハードウエアから構成されています。
DL-1000を用いることで、マルチトーンマスクを使用したり多重露光をすること無く、レジストの三次元加工を容易に実現することができます。グレースケールデータの作成は、これまで階層毎に図面を描き、各レイヤーに輝度を割り当てる作業が必要でしたが、計算式の係数を変化させることで任意の多角形及び円弧をもとに滑らかなグレースケール画像(最大256階調)を生成することが可能になりました。
また、レジストの感度特性や処理条件の相違による露光結果の変動に対しても、 グレースケールデータを容易に変更することができるため、求める形状を迅速に具現化することができます。
どの用途においても塗膜の厚みの均一さは課題となりますが、薬液の粘度や
性質、基板の材質やサイズに合わせた仕様の『スピンコーター』と試料台を
用いなければ課題達成が難しくなり、効果的な結果を得られません。
ぜひ一度アクティブにご相談ください。
お客様のご要望をできる限り汲んだご提案をいたします。
【選ぶ際の注意点】
■どの用途においても塗膜の厚みの均一さは課題となる
■薬液の粘度や性質、基板の材質やサイズに合わせた仕様の製品と試料台を
用いなければ課題達成が難しく、効果的な結果を得ることができなくなる
【採用事例】
一眼レフカメラレンズ/スマートフォンレンズ/
水泳用ゴーグル/シャーレへの成膜...etc
※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧ください。
ガラス上にレジストを塗布し、レーザーにて(階調/128/256)直後レジストに3D形状を形成します。
この型を元に各種マイクロレンズ・他、多岐にご使用頂けます。
レジストパターン(3D形状)の製作のみとなりますが、後工程のNi電鋳・印プリントも対応可能となります。
【パターン対応サイズ】
○径:500μm(MAX)
○高さ:50μm(MAX)
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
『GVMシリーズ』は、光学式の高精度アナログセンサを搭載した、高性能で高信頼性のガルバノスキャナーです。低イナーシャ、高トルク、高精度リニアリティ、高位置精度、優れた温度特性、湿度の影響が少ないなどの特徴を有しており、レーザ用ミラー(ガルバノミラー)を高速・高精度に広範囲に走査することが可能です。当製品は、幅広いガルバノシステムでレーザスキャン用途に採用されて
います。
【特長】
■低イナーシャ・高トルク
■高精度なリニアリティー・位置精度
■湿度の影響が少なく優れた温度特性
■均一な安定した製品
※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
光学解析ソフトは実際のモノを作る前に光学性能を事前に評価できる非常に優れたツールですが、
専門性が高い為、人材育成をはじめ効果的な運用体制、運用手法の構築が重要になります。
光学の基礎的な座学からソフトを活用した最適な設計手法のご提案まで、
お客様に必要なサービスをご用意しています。
■光学解析ソフト導入支援サービス
■光学解析コンサルティングサービス
■受託光学設計サービス
■材料光学特性測定サービス
■計測システム販売
■計測サービス
■計算システム販売
■ソフトウェア販売
→自社開発ソフトウェア:Light Guide Innovator
当社では、光学薄膜加工を取り扱っております。
低コストのウェットエッチング加工でありながら±1μmのパターン寸法加工
精度を量産で実現。また、ND(ニュートラルデンシティ)コートの豊富な
バリエーション(濃度0.1~6.0)、優れたフラット性と低反射性。
ガラス材料調達から研磨、コーティング、フォトエッチング、
シルクスクリーン印刷、レーザーマーカー刻印、ダイシングカットまで
ワンストップで対応いたします。
【特長】
■ウェットエッチングのパターン寸法精度±1μm
■低コストで短納期
■豊富なバリエーション
■ワンストップ対応
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。




















