光学業界では、レンズやセンサーなどの精密部品の位置合わせが、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な位置決めが求められる場面では、わずかな誤差が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、高精度な位置合わせを実現することが重要です。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、これらの課題に対応します。【活用シーン】・レンズやセンサーの位置合わせ・半導体製造におけるウエハの位置決め・検査装置における部品の位置決め【導入の効果】・高精度な位置合わせによる製品品質の向上・焦点誤差の解消による歩留まりの向上・5軸自由度による柔軟な対応力

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【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学機器の調整作業では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、微小な位置ズレが光軸のずれや焦点誤差につながり、最終的な装置性能に大きな影響を与える可能性があります。多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ＋ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟な構成が可能です。高精度な位置決め性能と安定した動作により、光学部品の精密調整や光学系の組み立て工程をサポートします。【活用シーン】・レンズやミラーの位置調整・光学系の組み立て・精密検査【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・作業時間の短縮・歩留まりの向上

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【光学調整向け】高推力PICMAWalkアクチュエータ

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界では、精密な光学系の調整において、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが求められます。特に、光軸調整やレンズの位置決めなど、わずかなズレがシステムの性能に大きな影響を与える場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。不正確な調整は、画像の歪みや測定精度の低下を引き起こす可能性があります。高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331は、ナノメートル精度で位置決めを実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。【活用シーン】・光学顕微鏡の対物レンズ調整・レーザー加工機の光軸調整・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め【導入の効果】・ナノメートルレベルでの高精度な位置決め・光学系の性能向上・作業効率の向上

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【レーザー加工向け】非球面レンズ

株式会社ブル精密

レーザー加工業界では、加工精度と効率が常に求められます。特に、レーザー光線の収束性と集光性は、加工品質を左右する重要な要素です。非球面レンズは、球面レンズと比較して収差を抑え、より高精度なレーザー加工を可能にします。当社では、お客様のニーズに合わせた非球面レンズを提供し、レーザー加工の品質向上に貢献します。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザーカッティング・レーザー溶接・レーザー顕微鏡・レーザー走査【導入の効果】・レーザー加工の精度向上・加工時間の短縮・歩留まりの向上・製品品質の安定化・コスト削減

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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。【活用シーン】・光学レンズのアライメント・ファイバーアライメント・光ファイバーデバイスの製造【導入の効果】・高精度なアライメントによる光学性能の向上・歩留まりの向上・生産性の向上

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【ガラス装飾向け】高出力CO2レーザマーカー

株式会社堀内電機製作所

ガラス装飾業界では、デザインの多様性と耐久性が求められます。レーザー加工は、繊細な模様や文字をガラスに施すことができ、デザインの自由度を格段に向上させます。また、レーザー加工は耐久性にも優れ、長期間にわたって美しい装飾を維持できます。当社の高出力CO2レーザマーカーは、ガラスへの穴あけや切断、彫刻を可能にし、装飾の幅を広げます。【活用シーン】・ガラス製品へのデザイン加工・看板やディスプレイの製作・インテリア装飾【導入の効果】・高精度な加工による高品質な仕上がり・多様なデザイン表現・高い耐久性

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【レーザー加工向け】SiO2(石英)リング

株式会社スパッタコア

レーザー加工業界では、レーザービームの正確な伝送が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、高出力レーザーや精密加工においては、ビームの減衰や歪みを最小限に抑えることが求められます。SiO2(石英)リングは、レーザー光の透過性に優れ、熱による変形も少ないため、安定したビーム伝送を実現します。【活用シーン】・レーザー発振器・レーザー加工機・光学実験装置【導入の効果】・ビーム品質の向上・加工精度の向上・装置の安定稼働

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【レーザー加工向け】開口部66×66mm 多軸ピエゾスキャナー

ピーアイ・ジャパン株式会社

レーザー加工業界では、レーザービームの精密な位置決めと制御が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高速加工においては、ナノレベルの精度と高い応答性が求められます。従来の制御方法では、位置決め精度や応答速度に限界があり、加工品質の低下や生産性の停滞を招く可能性がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能を実現し、レーザービームの精密な位置決めと制御を可能にします。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザー切断・レーザー微細加工・レーザー走査【導入の効果】・高精度なレーザー加工を実現・加工時間の短縮・歩留まりの向上・多様な加工への対応

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【半導体露光向け】大口径両面非球面レンズ

株式会社ブル精密

半導体製造業界、特に露光工程においては、高精度なレンズが不可欠です。微細加工技術の進歩に伴い、レンズには高い光学性能が求められ、わずかな歪みや収差が製品の品質に大きく影響します。当社の大口径両面非球面レンズは、露光装置の性能を最大限に引き出すために開発されました。【活用シーン】・露光装置・半導体製造プロセス【導入の効果】・高精度な露光を実現・歩留まり向上に貢献・高品質な半導体製品の製造

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【量子ドット向け】超高純度昇華精製装置

ティー・ケイ・エス株式会社

量子ドットディスプレイ業界では、鮮やかな色再現性と高い表示品質が求められます。特に、量子ドット材料の純度は、色再現性に大きく影響し、不純物の混入は、色純度の低下や表示ムラの原因となります。当社の超高純度昇華精製装置は、高純度材料の安定供給を実現し、量子ドットディスプレイの色再現性向上に貢献します。【活用シーン】・量子ドットディスプレイ製造・色再現性評価・高機能材料の開発【導入の効果】・色純度の向上・表示品質の向上・歩留まりの改善

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【光学向け】高負荷容量リング型アクチュエータ PICA Thru

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界におけるビーム制御では、光の精密な位置決めと安定性が求められます。特に、レーザー加工や光通信といった分野では、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与える可能性があります。PICA(TM) Thruアクチュエータは、サブミリ秒の応答速度とサブナノメートルの分解能により、高精度なビーム制御を実現します。性能劣化のない状態で長期間の使用が可能です。【活用シーン】・レーザー加工におけるビーム位置制御・光通信システムの光ファイバーアライメント・顕微鏡の対物レンズ位置調整【導入の効果】・ビーム位置決め精度の向上・システムの安定性向上・生産性の向上

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ビームホモジナイザ『NBH-00』

株式会社オプトメカエンジニアリング

『NBH-00』は、高い均一性が得られる長尺四角ロッドを採用したカライドスコープ方式のビームホモジナイザです。専用モジュールを装着することで、種々の光源に対応し、同軸落射蛍光計測等にも対応します。【特長】 ■ガスレーザー等のコリメート空間光(必要に応じてビームエキスパンダ装着) ■ファイバー出力タイプ ■LD/LEDの素子単体からの空間出力光 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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300Wキセノン光源 MAX-351

朝日分光株式会社

専用バンドパスフィルター(別売)をセットして、分光した光を出射することができるキセノン光源です。ハイパワーな300Wランプを使用していますが、出射光の熱や迷光を大幅にカットしています。熱の無い環境下で波長切り換えが必要な研究開発用途に最適です。ミラーモジュールの付け替えにより、UVタイプ、UV-VISタイプ、VISタイプ、IRタイプへと簡単に切り換えが可能です。

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TSラボの特長

ＴＳラボ株式会社

TSラボ株式会社は、照明機器の開発、製造、販売などを行っている会社です。 1台のカスタム設計から量産まで対応可能(量産時は協力会社による生産体制を構築)。LOTに合わせた好適設計、工法設計を実現します。また、量産時の設計、製造管理、品質マネージメントについても高いスキル、知識を保有しております。【事業内容】 ■照明機器の開発、製造、販売 ■紫外線照射装置の開発、製造、販売 ■LED導光板照明の開発、製造、販売 ■光学機器の開発、製造、販売 ■電子応用装置、電子制御機器の開発、製造、販売 ■各種コンサルティング業務 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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カメラモジュール組み立て装置『MD-60AA Series』

株式会社エフケー光学研究所

『MD-60AA Series』は高精度な多軸フォーカス、傾き、調芯、接着までの機能を自動化し、カメラモジュール補正を行える組み立て装置です。 FOV（実視野）最大180°までカバーするため、多種多様なアプリケーションのカメラモジュールの大量生産に適応します。 MTF計算結果に基づいて高精度に多軸調整を行い、高画質を得ることができ、多様な用途のイメージモジュールの組立に対応します。【特長】 ■FOV165°（MAX180°）・FullFOV（実視野全域）でのアライメントにより最適な像品質が得られる ■像領域の調整・アジャスタブルコリメータによりテスト領域変更が簡単 ■異なる物体距離に適応・無限遠で調整・物体距離に合わせてBFLOffsetを調整 ■精度と効率・最適な像面を得るためにFOV全域で像面品質を測定してアライメントする ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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レンズユニットなど　光学部品設計技術

佐藤ライト工業株式会社

携帯電話用撮像レンズ、LED照明用複合レンズ、レーザー走査ユニットなど多数の実績があります。クリーンルーム完備の工場内で高精度・高品質の射出成形品の製造が可能です。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

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岡本硝子株式会社　事業紹介

岡本硝子株式会社

21世紀は「光の時代」です。光通信、ディスプレイや光記憶媒体が進化し、光はますます情報伝達に欠かせないものとなります。例えば、光信号を一旦電気信号に置き換えずに光のみで信号処理を行うことによって、処理速度は100万倍になるといわれます。岡本硝子株式会社は、こうした理論を実用化するための光素子となるガラス素材の研究を進めています。オプトエレクトロニクス時代をもっと豊かにするために、これまでに蓄積した技術力・開発力に更に磨きをかけ、「光を科学する」研究開発型企業として、お客様が感動する製品・サービスを提供し続けます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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面照射用UV-LED光源装置　MK-LS-80S

ARK TECH株式会社

MK-LS-80Sは、ご要望の照射エリアへの照射が可能な面照射用UV-LED光源装置です。UV-LED波長は、365・385・395・405nmの選択が可能です。電源はAC100～240V　50/60Hｚ、消費電力は約450VA（出力100％時）です。照射ヘッド部の冷却は水冷式を推奨します。電源部の冷却はFAN空冷です。使用環境温度は0～40℃です。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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光反応用LED光源 CLシリーズ

朝日分光株式会社

コントローラーは1chタイプ(CL-1501)と3chタイプ(CL-1503)をご用意しております。ラインナップ以外の波長をご要望にあわせてカスタム可能です。＜LED波長＞ 365nm、385nm、395nm、405nm、430nm、450nm、470nm、505nm、525nm、568nm、590nm、615nm、625nm、660nm、730nm、830nm、850nm、860nm、940nm ※特注例：690nm、ホワイト＜オプション＞・タイマー CL‐TCN1 ・通信ユニット (外部制御) ・ライトガイド(ファイバー)接続アダプタ・フィルターホルダー

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エキシマレーザーグレード

日本結晶光学株式会社

当社では、真空紫外域での高い透過率とレーザー耐久性を活かし、半導体露光装置のレンズ材、紫外線域レーザーの窓材として『エキシマレーザーグレード』を提供しております。また、可視光領域では高い色収差補正能力を利用して、テレビカメラ、デジタルカメラ、天体望遠鏡のレンズ材料のほか、近赤外域での高い透過率を活かした赤外線分析装置の窓材として、可視・赤外グレードの材料も取り扱っています。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【製品概要】 ■特長：真空紫外域での高い透過率とレーザー耐久性 ■主な用途：半導体露光装置、真空紫外レーザー装置用の光学材料 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

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加工『蒸着加工』

有限会社シャスコテック

半導体製造用材料（特殊ガラス）の加工・販売・卸業を手掛けている当社では、蒸着を用いた加工品の製造および提供も行っています。反射防止膜、ミラ－等々各金属膜、サファイアコートなど、又スパッタ、メッキ加工までご要望に応じた製品の製造・提供が可能です。 ★特殊ガラスや樹脂加工品でお困りの方はお気軽にお問い合わせ下さい！【取り扱い製品（一例）】 ■Al2O3 ■MgF2 ■Al ■Au ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

JSWアフティ株式会社

『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリーニング効果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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レンズ『HFLシリーズ』

株式会社アストロン

『HFLシリーズ』は、低吸収コーティングを施した溶融石英で作られた高出力ファイバーレーザ用焦点レンズです。ラインアップされている焦点レンズは、保護ウィンドウ付きですが、水冷用には別途、レンズとウィンドウを提供させていただきます。ご用命の際は是非当社まで、お気軽にご相談下さい。【特長】 ■ファイバーレーザ用 ■低吸収コーティングを施した溶融石英を使用 ■保護ウィンドウ付き ※こちらのカタログはダイジェスト版です。全編必要な方はお問合せ下さい。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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パルスCO2レーザ発振器『SRシリーズ』

株式会社インテック

『SRシリーズ』は、RF電源を内蔵した設計のスラブ冷却式のパルスCO2レーザ発振器です。高速加工が可能で、パルス幅が短く、ピークの高いビームを得ることができます。また、出力・波長（ 10.6µm, 10.25µm, 9.3µm ）の異なるラインナップをご用意しておりますので、ワークの材料やアプリケーションに適したレーザをご選択いただけます。【特長】 ■高速加工が可能 ■パルス幅が短い ■ピークの高いビームを得ることができる ■熱影響の少ない加工が可能 ■頑丈で密閉性に優れた設計　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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株式会社芝川製作所事業紹介

株式会社芝川製作所

株式会社芝川製作所は、光学設計が可能な設計・生産受託会社です。蒸着、金型、成形、塗装、印刷、部品調達、実装、組立、検査、梱包までの一貫対応が可能です。フレネルレンズ、リフレクター、光学レンズ、LED照明などの光学設計が対応可能です。又、生産難易度の高いキセノンフラッシュの量産技術に評価を受けております。フラッシュライト等の精密機器製造において培った、光学・電気・機構の技術を活用し精密機器の半製品・完成品の生産受託を行っております。主に、真空蒸着や光学設計、フラッシュユニット、LED照明、精密機器などを取扱っておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問合せください。【事業内容】 ■電気機械器具部品製造販売 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『UVレーザー10W』

株式会社デルファイレーザージャパン

『UVレーザー10W』は、厳選されたLDポンプと波長変換素子を搭載した UVレーザーです。優れたビームモードと短パルス幅により、品質の高い微細加工が可能です。ガラスの切断や、サファイアー加工・微細穴あけなどに使用できます。 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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CO2レーザー放電管

ミヤタエレバム株式会社

ミヤタエレバムでは、独自の設計及びユーザーニーズに応えた CO2発振器用の放電管の製造、ユーザー設計に基づいた発振器用放電管のOEM製造を行っています。サイズ10W～100Wクラス（約全長2m）まで製造可能。この他に、金属とガラスの接合に威力を発揮する「真空回路部品」も取り扱っています。【特長】 ■サイズ10W～100Wクラス（約全長2m）まで製造可能 ■独自の設計及びユーザーニーズに対応 ■医療用に、マーキング用に、用途は多様 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【高精度位置決め】ライブラリソフトウェア『Positioner』

株式会社アドメテ

『Positioner』は、高速・高精度なアライメントの実現を目標に開発した Windows PC用ライブラリソフトウェアです。画像処理や機械に起因する誤差を学習する独自のキャリブレーションアルゴリズムを搭載しております。画像処理を含むアプリケーションソフトウェアはお客様が自由に構築可能です。画像処理を使用した複数マークでのアライメントの精度や収束回数を改善したい方はぜひお試しください。【特長】 ■独自のキャリブレーションアルゴリズム ■画像処理や機械に起因する誤差を補正 ■アライメント回数の低減による装置タクト短縮 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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金属鏡

山田光学工業株式会社

『金属鏡』は、平面、凹面、凸面、非球面鏡の種類があります。 Al、Auコートなどの材質を使用しており、機能、耐久性に優れています。主に炭酸ガスレーザーの光学素子として利用されており、大出力CO2レーザーの光学素子、各種コリメーション、コンデンサー光学系などにご利用頂けます。【特長】 ■種類豊富なラインアップ ■機能、耐久性に優れる ■炭酸ガスレーザーの光学素子として利用されている ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

株式会社コシブ精密

「株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ 　 ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

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3D形状形成　3Dレジストパターン（グレイスケールマスク）

株式会社コシブ精密

ガラス上にレジストを塗布し、レーザーにて（階調/128/256）直後レジストに3D形状を形成します。この型を元に各種マイクロレンズ・他、多岐にご使用頂けます。レジストパターン（3D形状）の製作のみとなりますが、後工程のNi電鋳・印プリントも対応可能となります。【パターン対応サイズ】 ○径：500μm（MAX） ○高さ：50μm（MAX）詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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ＵＶＬＥＤ照射器　(ULEDN-101)

株式会社ナウデータ

紫外線加工の万能波長３６５ｎｍを照射する、装置組込専用の放熱フィン・コントローラー一体型のＵＶＬＥＤ照射器です。

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ＵＶランプ

株式会社コートテック

コートテックではハンディＵＶ照射器を製造しております関係からあらゆるＵＶランプの製造が可能です。各種ＵＶランプの販売いたしますので。ご使用になっているＵＶランプの型番をお知らせください。お見積りいたします。

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AOC2000 ナノ秒・ピコ秒・フェムト秒レーザー微細加工装置

AOCジャパン株式会社

コンパクトなプラットフォームにご希望のレーザー・加工光学系を組み込みます。

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超軽量照射器

株式会社コートテック

本体重量3．9ｋｇで、ハンディＵＶ照射器ではダントツの軽量化を図った超軽量照射器です。【特長】 ◆1ｋｗクラスのＵＶ照射器でははじめて軽量化に成功 ◆いままでのＵＶ照射器では電源部は25ｋｇ〜35ｋｇはありましたが、安定器を使用せず、電子部品化で完成しました ◆ＵＶパテ、ＵＶ塗料の完全硬化に必要な1ｋＷのメタルハライドランプを装備 ◆通常の365ナノメーターの他。厚みのあるＵＶ樹脂でも硬化させるために必要な波長も出力できるよう設計しております ■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□ ＝＝＝＝＝詳細はお問い合わせください＝＝＝＝＝

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高出力産業用フェムト秒レーザー　イフリート

サイバーレーザー株式会社

フェムト秒レーザーは、光通信デバイス、金属部品、透明材料、半導体への微細加工や医療・バイオ技術、計測技術への高付加価値利用が期待されてます。　　長寿命性、高い耐環境性、短いウォームアップ時間に加えて、小さなフットプリントの New IFRIT は、産業用途から研究用途まで、皆様のご期待に幅広くお応えいたします。

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40mm角照射テレセントリックホモジナイザ『TBH-40』

株式会社オプトメカエンジニアリング

『TBH-40』は、より大きな範囲を一度に照射できる照明光源が欲しい、というお客様の声から生まれた広範囲テレセントリックホモジナイザです。当社製品「TBH-12」の思想を受け継ぎながら更なる進化を遂げた本格的「高効率テレセントリック光学系（直径 96mmレンズを採用）」を搭載。当社オリジナルの新設計により、40mm角の範囲をテレセントリック均一照明するとともに、従来品より格段に高い光の利用効率を実現しました。【特長】 ■広い範囲を照射できる ■直径 96mmレンズを採用 ■当社オリジナルの新設計 ■従来品より格段に高い光の利用効率を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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半導体レーザ装置『LDFシリーズ』

レーザーライン株式会社

『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。【特長】 ■実践で証明されたアクティブ半導体レーザ素子冷却技術 ■全システム部品の内部ネットワーク化 ■従来のシステムと互換性のあるインターフェース ■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム ■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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LED照明器具『EH30-10R-power-DC24Y』

株式会社アルティマ販売

『EH30-10R-power-DC24Y』は、電費半分製特注仕様のLED照明器具です。半導体、液晶製造装置、工場(イエロールーム)などで利用された実績あり。標準100/200V仕様の白色タイプではエージングルームの実績もあります。また、サイズの異なる「EH64-20X-power-DC24Y」「EH120-40X-power-DC24Y」などのご用意がございます。ご用命の際は当社にお問い合わせください。【特長】 ■波長550nm以下をカット ■CE取得 ■危険電圧も回避 ■白色タイプもご用意可能 ■X-powerシリーズ取付サイドブラケット(オプション) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ガラスモールド非球面シリンドリカルレンズ

株式会社住田光学ガラス

【SUMITAの精密ガラスモールドレンズの特長】■小ロット生産から量産まで対応■低コスト■高精度■光学設計からの対応可■レンズ試作可

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直管型冷陰極UVランプ

株式会社ミヤカワ

当製品は、直管型冷陰極UVランプです。直管で有効発光長が長いので、広範囲にUVを照射出来ます。熱陰極UVランプより長寿命をご希望の場合、オススメ致します。（電源などを変更していただく必要が御座います。）【特長】 ■超コンパクト ■高出力を実現 ■様々な分野での応用が可能 ■オゾンタイプとオゾンレスタイプをご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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平行光ライティングモジュール　設計・製作サービス

株式会社テクノポスト

当社では、自社工場で組み立て製作を行っており、出荷・納品・アフターサービスまで一貫対応しております。また、現在お使いの露光用光源（水銀灯）をUV LED光源システムに置き換えが可能です。ご要望の際は、お気軽にご相談ください。【製品の基本仕様】 ■超高圧水銀灯装置　・露光サイズ：75～2,350mm 　・W数：250W,500W,1kW,2kW,3.5kW,5kW,8kW,10kW,16kW,25kW,35kW ■UV LED装置　・露光サイズ：50mm～1000mm×1500mm 　・LED波長：365nm,385nm,405nm ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

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半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

クロスライトソフトウェアインク日本支社

＜主な特徴＞ ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を含むレーザダイオードが計算可能＜多様な物理モデルや機能＞ ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数（１次、２次のグレーティング） ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■２次グレーティングDFBレーザーについての表面放出モード分布の計算 ■異なる縦モードに対する出力と周波数変化 ■サイドモード比、線幅、線幅と出力の積、有効α、２次調和歪み、　表面放出出力（２次グレーティングDFB） ■異なるレーザー面と任意のバイアス条件でのモード出力スペクトル ■異なるバイアス条件と時間におけるモード出力スペクトル ■任意のバイアス条件におけるAM/FM微小信号変調応答、FM/RINノイズスペクトル ■２次調和歪みスペクトル ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード　もしくはお問い合わせ下さい。 ■試用版のご希望は下記のお問い合わせからご連絡ください

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露光装置用光源ユニット『Multi-Lamp System』

フェニックス電機株式会社

『Multi-Lamp System』は、プリント基板露光やUV接着剤硬化露光など、幅広い用途に用いられる光源ユニットです。 210W 4灯(840W)から300W 400灯(120kW)以上のものまで製作可能。超高圧のランプのため電力交換効率が良く、少ないエネルギー量で早く強い照射が得られ、露光効率が上がります。【特長】 ■ランプの組み合わせにより自由な照度が得られる ■小型超高圧ランプの特長を活かした効率の良い光源 ■ブロードなスペクトルで高エネルギー照射が可能 ■横長や縦長の照射面にも効率の良い露光ができる ■ランプ交換が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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レーザー「Nd:YAG/Nd:YVO・mosquitoシステム」

AkiTech LEO株式会社

「Nd:YAG/Nd:YVOシステム」は、IR(1064nm)～第4高調波(266nm)までのシステムが供給可能かつ、それぞれの用途に合わせたシステム構成が選択できるようになっています。「超小型 mosquitoシステム」は、コンパクトなフットプリントで優れた性能を発揮。革新的なシステムアーキテクチャは、短いパルス幅、高繰返しレートでも優れたパルス安定性、回折限界に近いビームを提供いたします。【特徴】「Nd:YAG/Nd:YVOシステム」 ○スキャナーとの組み合わせ可能 ○用途に合わせたシステム構成が選択可能「超小型 mosquitoシステム」 ○超小型筐体 ○MOPAシステム ○高出力(第4高調波の機種まで縦鼻）詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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新型マイクロ波方式紫外線発光装置『CW2‐410』

東京ホトン株式会社

『CW2‐410』は、マイクロ波方式無電極ランプ紫外線発光装置がアーク放電式装置に対し本来的に持つ優れた特長（紫外線照度が約2倍など）をそのまま保持した新型マイクロ波方式紫外線発光装置です。他社のマイクロ波式UV装置と比べても極めて斬新な特長を取り入れており、 UV発光装置としてより信頼性の高い進化した装置となっております。また、コントローラー内蔵の電源装置「MPS2-410V」などもご用意しております。【特長】 ■紫外線（UV）照度が約2倍 ■ランプ寿命が2～3倍長い ■赤外線（IR）放出が少ない ■被照射体に与える熱影響が低減できる ■発光安定時間が約10秒と短い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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精密微細穴あけ光学ユニット『ビームローテータ』

エイチアールディー株式会社

『ビームローテータ』は、別名ヘリカルドリリング加工とも呼ばれ、偏心させたレーザ光を高速で回転させて任意の穴径に調整して加工する光学機器です。レーザ光に傾斜（角度）をつけて回転させ、無テーパ、テーパ、逆テーパ等加工断面をコントロール。新ローテータ技術により、メインローテータと補正ローテータによる独自の回転コントロールにより四角・三角・正多角形・楕円・星形等、さまざまなレーザ軌跡による加工を実現します。【特長】 ■レンズを円運動させて多角形の加工が可能 ■高アスペクト比微細精密深穴を高速で加工 ■硬脆材の難加工でも加工が可能 ■装置構成の簡素化を実現でき高速化もスムーズに ■新ローテータ技術による応用でドーナツ形状加工走査・塗りつぶし走査が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ガラス平面研磨・平面加工

有限会社十文字光学

有限会社十文字光学は、主に光学及び電子産業用平行平面ガラス製造を行っている会社です。当社はロータリー研削盤や自社仕様のNC切断機といった設備を保有し、丸型形状から角型形状、特殊形状に対応する他、ご希望により硝材の変更も可能となっております。【営業品目】 ■光学及び電子産業用平行平面ガラス製造（成形～Final Polish一貫生産） ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

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産業用空冷固体レーザー SPICA

サイバーレーザー株式会社

高純度のクリーンルームにて組立てられた完全封じ切りのレーザーヘッドは、信頼性が高く安定な使用を可能としております。また内部設置型のパワーモニタを標準搭載しており、新開発の小型精密制御電源装置との組み合わせにより、広範な使い方に対応できます。

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半導体レーザー『iBeam smart』

トプティカフォトニクス株式会社

『iBeam smart』は、最大クラスの出力パワーと優れた出力安定およびビーム位置安定性を兼ね備えた超小型シングルモード半導体レーザーです。独自技術であるFINE、SKILL、AUTOPULSEを搭載し様々なアプリケーションにおける諸問題に対応可能です。【特長】 ■純粋なワンボックス·ソリューション ■ノイズやスペックルを除去するFINEやSKILL機能 ■アナログ変調と最大250MHzのデジタル変調 ■クリーンアップフィルタ対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

回路パターンの微細化が進むにつれて、従来の露光技術では光の回折限界により、所望の解像度が得られにくくなっています。これにより、デバイスの性能向上が阻まれる可能性があります。

歩留まりの低下とコスト増

微細なパターン形成における欠陥の発生率は、微細化とともに増加する傾向があります。これにより、製造歩留まりが低下し、製品コストの上昇を招く要因となります。

露光装置の複雑化と大型化

高精度な露光を実現するためには、より高度な光学系や光源を備えた露光装置が必要となります。これは装置の複雑化、大型化、そして高価格化につながり、設備投資の負担を増大させます。

材料開発の遅延

微細パターン形成に適したフォトレジスト材料やマスク材料の開発が、露光技術の進歩に追いついていない場合があります。これにより、技術全体のボトルネックとなる可能性があります。

対策

次世代露光技術の導入

EUV（極端紫外線）リソグラフィやマルチパターニング技術など、従来の光では実現できない微細化を可能にする露光技術を導入・改良します。

プロセス最適化と欠陥管理

露光プロセス全体の条件を最適化し、欠陥検出・修正技術を高度化することで、歩留まりの向上とコスト削減を目指します。

新規光学・光源技術の開発

より高精度なレンズ設計、新しい光源（例：高出力レーザー）の開発、光学系のシミュレーション技術の向上により、露光性能を飛躍的に向上させます。

先端材料の研究開発

微細パターン形成に適した高感度・高解像度フォトレジスト、低欠陥マスク材料、反射防止膜などの先端材料を開発・採用します。

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

微細な回路パターンを正確にウェハー上に転写するために、極めて高い精度で設計・製造されたレンズ群です。光の収差を最小限に抑え、解像度を向上させます。

先進フォトレジスト材料

露光光に対して高い感度と解像度を持ち、微細なパターンを忠実に再現できる化学材料です。次世代露光技術に対応した特性を備えています。

高出力・短波長光源

微細なパターン形成に必要なエネルギーを効率的に供給し、より短い波長の光を用いることで回折限界を克服する光源装置です。例えば、特定の波長のレーザー光源などが該当します。

高度欠陥検査装置

製造プロセス中に発生する微細な欠陥を、高解像度かつ高速に検出・特定する装置です。これにより、早期の対策が可能となり、歩留まり向上に貢献します。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

​課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

​対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

​対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

課題

対策

対策に役立つ製品例