レーザー加工業界では、加工精度と効率が常に求められます。特に、レーザー光線の収束性と集光性は、加工品質を左右する重要な要素です。非球面レンズは、球面レンズと比較して収差を抑え、より高精度なレーザー加工を可能にします。当社では、お客様のニーズに合わせた非球面レンズを提供し、レーザー加工の品質向上に貢献します。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザーカッティング・レーザー溶接・レーザー顕微鏡・レーザー走査【導入の効果】・レーザー加工の精度向上・加工時間の短縮・歩留まりの向上・製品品質の安定化・コスト削減

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【半導体露光向け】大口径両面非球面レンズ

株式会社ブル精密

半導体製造業界、特に露光工程においては、高精度なレンズが不可欠です。微細加工技術の進歩に伴い、レンズには高い光学性能が求められ、わずかな歪みや収差が製品の品質に大きく影響します。当社の大口径両面非球面レンズは、露光装置の性能を最大限に引き出すために開発されました。【活用シーン】・露光装置・半導体製造プロセス【導入の効果】・高精度な露光を実現・歩留まり向上に貢献・高品質な半導体製品の製造

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【レーザー加工向け】開口部66×66mm 多軸ピエゾスキャナー

ピーアイ・ジャパン株式会社

レーザー加工業界では、レーザービームの精密な位置決めと制御が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高速加工においては、ナノレベルの精度と高い応答性が求められます。従来の制御方法では、位置決め精度や応答速度に限界があり、加工品質の低下や生産性の停滞を招く可能性がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能を実現し、レーザービームの精密な位置決めと制御を可能にします。【活用シーン】・レーザーマーキング・レーザー切断・レーザー微細加工・レーザー走査【導入の効果】・高精度なレーザー加工を実現・加工時間の短縮・歩留まりの向上・多様な加工への対応

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【レーザー加工向け】SiO2(石英)リング

株式会社スパッタコア

レーザー加工業界では、レーザービームの正確な伝送が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、高出力レーザーや精密加工においては、ビームの減衰や歪みを最小限に抑えることが求められます。SiO2(石英)リングは、レーザー光の透過性に優れ、熱による変形も少ないため、安定したビーム伝送を実現します。【活用シーン】・レーザー発振器・レーザー加工機・光学実験装置【導入の効果】・ビーム品質の向上・加工精度の向上・装置の安定稼働

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【光学調整向け】高推力PICMAWalkアクチュエータ

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界では、精密な光学系の調整において、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが求められます。特に、光軸調整やレンズの位置決めなど、わずかなズレがシステムの性能に大きな影響を与える場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。不正確な調整は、画像の歪みや測定精度の低下を引き起こす可能性があります。高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331は、ナノメートル精度で位置決めを実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。【活用シーン】・光学顕微鏡の対物レンズ調整・レーザー加工機の光軸調整・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め【導入の効果】・ナノメートルレベルでの高精度な位置決め・光学系の性能向上・作業効率の向上

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【ガラス装飾向け】高出力CO2レーザマーカー

株式会社堀内電機製作所

ガラス装飾業界では、デザインの多様性と耐久性が求められます。レーザー加工は、繊細な模様や文字をガラスに施すことができ、デザインの自由度を格段に向上させます。また、レーザー加工は耐久性にも優れ、長期間にわたって美しい装飾を維持できます。当社の高出力CO2レーザマーカーは、ガラスへの穴あけや切断、彫刻を可能にし、装飾の幅を広げます。【活用シーン】・ガラス製品へのデザイン加工・看板やディスプレイの製作・インテリア装飾【導入の効果】・高精度な加工による高品質な仕上がり・多様なデザイン表現・高い耐久性

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【光学向け】高負荷容量リング型アクチュエータ PICA Thru

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界におけるビーム制御では、光の精密な位置決めと安定性が求められます。特に、レーザー加工や光通信といった分野では、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与える可能性があります。PICA(TM) Thruアクチュエータは、サブミリ秒の応答速度とサブナノメートルの分解能により、高精度なビーム制御を実現します。性能劣化のない状態で長期間の使用が可能です。【活用シーン】・レーザー加工におけるビーム位置制御・光通信システムの光ファイバーアライメント・顕微鏡の対物レンズ位置調整【導入の効果】・ビーム位置決め精度の向上・システムの安定性向上・生産性の向上

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【光学向け】多軸位置決めステージ【MD-ZT】

ハイウィン株式会社

光学業界では、レンズやセンサーなどの精密部品の位置合わせが、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な位置決めが求められる場面では、わずかな誤差が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、高精度な位置合わせを実現することが重要です。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、これらの課題に対応します。【活用シーン】・レンズやセンサーの位置合わせ・半導体製造におけるウエハの位置決め・検査装置における部品の位置決め【導入の効果】・高精度な位置合わせによる製品品質の向上・焦点誤差の解消による歩留まりの向上・5軸自由度による柔軟な対応力

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【量子ドット向け】超高純度昇華精製装置

ティー・ケイ・エス株式会社

量子ドットディスプレイ業界では、鮮やかな色再現性と高い表示品質が求められます。特に、量子ドット材料の純度は、色再現性に大きく影響し、不純物の混入は、色純度の低下や表示ムラの原因となります。当社の超高純度昇華精製装置は、高純度材料の安定供給を実現し、量子ドットディスプレイの色再現性向上に貢献します。【活用シーン】・量子ドットディスプレイ製造・色再現性評価・高機能材料の開発【導入の効果】・色純度の向上・表示品質の向上・歩留まりの改善

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【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学機器の調整作業では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、微小な位置ズレが光軸のずれや焦点誤差につながり、最終的な装置性能に大きな影響を与える可能性があります。多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ＋ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟な構成が可能です。高精度な位置決め性能と安定した動作により、光学部品の精密調整や光学系の組み立て工程をサポートします。【活用シーン】・レンズやミラーの位置調整・光学系の組み立て・精密検査【導入の効果】・高精度な位置決めによる品質向上・作業時間の短縮・歩留まりの向上

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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121

ピーアイ・ジャパン株式会社

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。【活用シーン】・光学レンズのアライメント・ファイバーアライメント・光ファイバーデバイスの製造【導入の効果】・高精度なアライメントによる光学性能の向上・歩留まりの向上・生産性の向上

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成膜加工部門

東京特殊硝子株式会社

当社は、硝子加工一筋に取り組み、現在は超精密研磨加工の取り扱いを主力とする企業です。反射膜(成膜加工)は、用途に応じた金属膜・多層膜を、当社では設計から成膜まで徹底した品質管理を行い、より高品質かつ高信頼の製品を提供させて頂いております。 ITO膜(成膜加工)は、透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・高密着・高強度膜を蒸着法・スパッタリング法で対応。また、クリーンルーム内での成膜により安定した品質と高い信頼性を実現しております。【特長】 ■用途に応じた金属膜・多層膜を、設計から成膜まで徹底した品質管理 ■より高品質かつ高信頼の製品を提供 ■透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・高密着・高強度膜を　蒸着法・スパッタリング法で対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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新型マイクロ波方式紫外線発光装置『CW2‐410』

東京ホトン株式会社

『CW2‐410』は、マイクロ波方式無電極ランプ紫外線発光装置がアーク放電式装置に対し本来的に持つ優れた特長（紫外線照度が約2倍など）をそのまま保持した新型マイクロ波方式紫外線発光装置です。他社のマイクロ波式UV装置と比べても極めて斬新な特長を取り入れており、 UV発光装置としてより信頼性の高い進化した装置となっております。また、コントローラー内蔵の電源装置「MPS2-410V」などもご用意しております。【特長】 ■紫外線（UV）照度が約2倍 ■ランプ寿命が2～3倍長い ■赤外線（IR）放出が少ない ■被照射体に与える熱影響が低減できる ■発光安定時間が約10秒と短い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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微細加工用レーザ光源『MPRシリーズ』

マイクロエッヂプロセス株式会社

マイクロエッヂプロセスでは、微細加工用レーザ光源である『MPRシリーズ』を取り扱っております。波長が900nmの赤外半導体レーザ「MPR900シリーズ」をはじめ、 20W・50W・100Wの出力を有する青色半導体レーザ「MPR450シリーズ」や「MPR1000FLシリーズ」を各種ご用意。ご要望に合わせてお選びいただけます。【ラインアップ】 ■MPR900シリーズ ■MPR450シリーズ ■MPR1000FLシリーズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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感光性材料関係

株式会社三宝化学研究所

光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や光酸発生剤、感光性材料などを提供。光技術の革新に貢献しています。感光性材料関係の製品としては、NS-D、PQ-C、TPPA感光体などがあり、さらにこれら以外の多官能フェノール性水酸基を持つ化合物への感光性基の導入も行なっております。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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フライアイレンズ

株式会社ジャパンセル

「フライアイレンズ」は、プロジェクタ、露光装置用のインテグレータ光学系レンズです。本製品を露光装置やプロジェクタに仕様することで、照度ムラが打ち消され照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られるため、主に液晶パネル露光装置や半導体露光装置などに利用されています。当社では、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで一貫した自社製造を行っています。お気軽にご相談下さい。【特長】 ■照度ムラが打ち消される ■照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られる ■世界最大級の液晶パネル用露光装置向けのフライアイレンズを供給 ■光学系レンズ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【コスト対策】プラスチックレンズの金型

株式会社エムケーエフ

成形品の場合コスト対策として、低コスト国へ成形をする事が当たり前になっていましたが、当社は1ショットあたりの製品の取り数を増やすことで対応してきました。 24個取り金型まで実績があります。また、成形サイクルを短くするために金型から製品の抜けを向上させたり、成形サイクルが1秒でも短くなる方法を考え品質の向上に努めております。一番見落としがちなコストダウンの方法は、成形品の次の作業つまり組み立て作業などの作業性の向上を簡略化することによってアッセンブリーなどの作業性を上げることにより結果的にコストダウンに繋げることです。【得意分野（一部）】 ■成形部門　・センサー用レンズ　・LEDレンズ ■金属部品表面コート部門　・塩ビコート　・ナイロンコート ■フレネルレンズ及び各種光学設計部門 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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露光装置用光源ユニット『Multi-Lamp System』

フェニックス電機株式会社

『Multi-Lamp System』は、プリント基板露光やUV接着剤硬化露光など、幅広い用途に用いられる光源ユニットです。 210W 4灯(840W)から300W 400灯(120kW)以上のものまで製作可能。超高圧のランプのため電力交換効率が良く、少ないエネルギー量で早く強い照射が得られ、露光効率が上がります。【特長】 ■ランプの組み合わせにより自由な照度が得られる ■小型超高圧ランプの特長を活かした効率の良い光源 ■ブロードなスペクトルで高エネルギー照射が可能 ■横長や縦長の照射面にも効率の良い露光ができる ■ランプ交換が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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エキシマレーザーグレード

日本結晶光学株式会社

当社では、真空紫外域での高い透過率とレーザー耐久性を活かし、半導体露光装置のレンズ材、紫外線域レーザーの窓材として『エキシマレーザーグレード』を提供しております。また、可視光領域では高い色収差補正能力を利用して、テレビカメラ、デジタルカメラ、天体望遠鏡のレンズ材料のほか、近赤外域での高い透過率を活かした赤外線分析装置の窓材として、可視・赤外グレードの材料も取り扱っています。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【製品概要】 ■特長：真空紫外域での高い透過率とレーザー耐久性 ■主な用途：半導体露光装置、真空紫外レーザー装置用の光学材料 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

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超高速定電流パルス駆動装置『PSI-LDPシリーズ』

ケーアイテック株式会社

『PSI-LDPシリーズ』は、レーザーダイオード＆高輝度LED駆動に好適な LED & LD用定電流パルス駆動装置です。 TTL 同期出力、1μs ～ 100μsの高安定出力が可能。また、THORLABS等にある顕微鏡用LED照明にも接続できるケーブルも別途用意があります。是非お問い合わせください。【特長】 ■レーザーダイオード＆高輝度LED駆動に好適 ■超高速立下り 100ns 以下(LDP01) ■10A でも高い負荷電圧可能～45V ■TTL 同期出力 1μs ～ 100μs 高安定出力 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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フルデジタルガルバノスキャナ　ライトニング2

ノヴァンタ・ジャパン株式会社

Lightning2はこれまでにない超高精度加工と高速加工走査を同時に実現したエンコーダタイプのフルデジタルガルバノスキャナです。超高分解・超低ドリフト光学エンコーダを位置センサに搭載、これまで実現が困難であった超高精度加工のアプリケーションに対応します。第4世代の超高効率 M POWER MOTOR (MPM)　モータを搭載。各種波長の14mm・20mm・25mm・30mmのビーム口径用ミラーを標準ラインアップ。中口径・大口径ビームアプリケーションの高精度・高速加工を提供します。 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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株式会社芝川製作所事業紹介

株式会社芝川製作所

株式会社芝川製作所は、光学設計が可能な設計・生産受託会社です。蒸着、金型、成形、塗装、印刷、部品調達、実装、組立、検査、梱包までの一貫対応が可能です。フレネルレンズ、リフレクター、光学レンズ、LED照明などの光学設計が対応可能です。又、生産難易度の高いキセノンフラッシュの量産技術に評価を受けております。フラッシュライト等の精密機器製造において培った、光学・電気・機構の技術を活用し精密機器の半製品・完成品の生産受託を行っております。主に、真空蒸着や光学設計、フラッシュユニット、LED照明、精密機器などを取扱っておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問合せください。【事業内容】 ■電気機械器具部品製造販売 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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光学エンジニアリングサービス

サクライノベーション株式会社

光学解析ソフトは実際のモノを作る前に光学性能を事前に評価できる非常に優れたツールですが、専門性が高い為、人材育成をはじめ効果的な運用体制、運用手法の構築が重要になります。光学の基礎的な座学からソフトを活用した最適な設計手法のご提案まで、お客様に必要なサービスをご用意しています。 ■光学解析ソフト導入支援サービス ■光学解析コンサルティングサービス ■受託光学設計サービス ■材料光学特性測定サービス ■計測システム販売 ■計測サービス ■計算システム販売 ■ソフトウェア販売 →自社開発ソフトウェア：Light Guide Innovator

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3D形状形成　3Dレジストパターン（グレイスケールマスク）

株式会社コシブ精密

ガラス上にレジストを塗布し、レーザーにて（階調/128/256）直後レジストに3D形状を形成します。この型を元に各種マイクロレンズ・他、多岐にご使用頂けます。レジストパターン（3D形状）の製作のみとなりますが、後工程のNi電鋳・印プリントも対応可能となります。【パターン対応サイズ】 ○径：500μm（MAX） ○高さ：50μm（MAX）詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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レンズユニットなど　光学部品設計技術

佐藤ライト工業株式会社

携帯電話用撮像レンズ、LED照明用複合レンズ、レーザー走査ユニットなど多数の実績があります。クリーンルーム完備の工場内で高精度・高品質の射出成形品の製造が可能です。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

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直管型冷陰極UVランプ

株式会社ミヤカワ

当製品は、直管型冷陰極UVランプです。直管で有効発光長が長いので、広範囲にUVを照射出来ます。熱陰極UVランプより長寿命をご希望の場合、オススメ致します。（電源などを変更していただく必要が御座います。）【特長】 ■超コンパクト ■高出力を実現 ■様々な分野での応用が可能 ■オゾンタイプとオゾンレスタイプをご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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平行光ライティングモジュール　設計・製作サービス

株式会社テクノポスト

当社では、自社工場で組み立て製作を行っており、出荷・納品・アフターサービスまで一貫対応しております。また、現在お使いの露光用光源（水銀灯）をUV LED光源システムに置き換えが可能です。ご要望の際は、お気軽にご相談ください。【製品の基本仕様】 ■超高圧水銀灯装置　・露光サイズ：75～2,350mm 　・W数：250W,500W,1kW,2kW,3.5kW,5kW,8kW,10kW,16kW,25kW,35kW ■UV LED装置　・露光サイズ：50mm～1000mm×1500mm 　・LED波長：365nm,385nm,405nm ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

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レーザーレンズ光学レンズブリズム　反射レンズ

LASER STAR CO., LTD.(レーザースター沛星光電有限公司)

レーザースター光電有限会社は各種類の光学レンズ、フィルター、光学カメラレンズ、プリズムの設計と生産、OEMとODMの専門家です、光学レンズ、フィルター、光学レンズ、プリズム、ウィンドウレンズ、縮小レンズ、視野レンズ、拡大鏡などの全面的な光電部品を提供する会社です。光学レンズの加工とコーティングのサービスも提供致します。沛星光電有限公司 Laser Star Co., Ltd サービス時間：09:00-18:00 土日休み吳經理 Ray Wu Mobile: 0923-254188 Email: ray@laserlens.com.tw TEL: 886-4-22383033

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ピコ秒レーザー『P303 Picosecond Laser』

株式会社デルファイレーザージャパン

『P303 Picosecond Laser』は、優れたビーム品質・出力安定・コンパクトなデザインを兼ね備えたピコ秒レーザーです。ファイバーレーザテクノロジーLD増幅器を結合する事により、パルスエネルギーが200μ以上・パルス幅が30Wを実現しました。【特長】 ■繰り返し周波数：150－1000kHz ■ビームモード：TEMOO(M2

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LED照明器具『EH30-10R-power-DC24Y』

株式会社アルティマ販売

『EH30-10R-power-DC24Y』は、電費半分製特注仕様のLED照明器具です。半導体、液晶製造装置、工場(イエロールーム)などで利用された実績あり。標準100/200V仕様の白色タイプではエージングルームの実績もあります。また、サイズの異なる「EH64-20X-power-DC24Y」「EH120-40X-power-DC24Y」などのご用意がございます。ご用命の際は当社にお問い合わせください。【特長】 ■波長550nm以下をカット ■CE取得 ■危険電圧も回避 ■白色タイプもご用意可能 ■X-powerシリーズ取付サイドブラケット(オプション) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『加工用光学ユニットOTSシリーズ』

レーザーライン株式会社

『加工用光学ユニットOTSシリーズ』は、溶接や、ろう付けから表面処理、付加加工や除去加工の工程を含む複合部品の製造まで、幅広いアプリケーションに対応することが出来ます。強度分布が均一な円形焦点は、ファイバー端面のイメージングによって形成。一般に、金属溶接、樹脂溶着、ろう付け、または、クラッデングなどの用途に使用されます。【特長】 ■モジュール式の多様性、柔軟に組み合わせ可能 ■最大負荷に対応する頑強な構造 ■様々なご要望に対するシンプルなソリューション ■お客様に合わせた焦点形状 ■レーザ溶接、焼入れ、クラッディング(肉盛り溶接)用 ■標準インターフェースとの互換性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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光学薄膜加工サービス

セントラル光学株式会社

当社では、光学薄膜加工を取り扱っております。低コストのウェットエッチング加工でありながら±1μmのパターン寸法加工精度を量産で実現。また、ND(ニュートラルデンシティ)コートの豊富なバリエーション(濃度0.1～6.0)、優れたフラット性と低反射性。ガラス材料調達から研磨、コーティング、フォトエッチング、シルクスクリーン印刷、レーザーマーカー刻印、ダイシングカットまでワンストップで対応いたします。【特長】 ■ウェットエッチングのパターン寸法精度±1μm ■低コストで短納期 ■豊富なバリエーション ■ワンストップ対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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レーザー加工サービス

株式会社ラステック

当社では、蓄積されたレーザー加工技術および設計技術をベースにレーザー微細加工装置やレーザー応用光学ユニットの企画から開発/設計/製作を行っております。また、社内実験装置の設備を使用して、新しいレーザー加工や計測などのレーザー応用技術の開発にも取り組んでいます。【業務内容】 ■レーザー応用装置の開発/設計/製作 ■レーザー技術利用開発 ■レーザー加工実験受託 ■コンサルティング ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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面照射用UV-LED光源装置　MK-LS-80S

ARK TECH株式会社

MK-LS-80Sは、ご要望の照射エリアへの照射が可能な面照射用UV-LED光源装置です。UV-LED波長は、365・385・395・405nmの選択が可能です。電源はAC100～240V　50/60Hｚ、消費電力は約450VA（出力100％時）です。照射ヘッド部の冷却は水冷式を推奨します。電源部の冷却はFAN空冷です。使用環境温度は0～40℃です。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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CW, 266nm, 300mW 『TopWave 266』

トプティカフォトニクス株式会社

産業用グレードのＣＷ TopWave 深紫外レーザーシステムは波長266nmにおいて300mWまたは150mWを出力する高い安定性と信頼性を併せ持ったレーザーシステムです。産業用途に適した完全自動クリスタルシフターを内蔵し10,000時間以上の長寿命を実現しています。シールドされたレーザーヘッドにはビーム品質(M²

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半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

クロスライトソフトウェアインク日本支社

＜主な特徴＞ ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を含むレーザダイオードが計算可能＜多様な物理モデルや機能＞ ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数（１次、２次のグレーティング） ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■２次グレーティングDFBレーザーについての表面放出モード分布の計算 ■異なる縦モードに対する出力と周波数変化 ■サイドモード比、線幅、線幅と出力の積、有効α、２次調和歪み、　表面放出出力（２次グレーティングDFB） ■異なるレーザー面と任意のバイアス条件でのモード出力スペクトル ■異なるバイアス条件と時間におけるモード出力スペクトル ■任意のバイアス条件におけるAM/FM微小信号変調応答、FM/RINノイズスペクトル ■２次調和歪みスペクトル ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード　もしくはお問い合わせ下さい。 ■試用版のご希望は下記のお問い合わせからご連絡ください

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大出力LD電源

株式会社ユニタック

株式会社ユニタックでは『大出力LD電源』を取り扱っております。カラータッチディスプレイを採用した「コントローラー体型万能タイプ」をはじめ「大型タイプ」や「エコノミータイプ」などを多数ご用意。アルミ溶接・微細接合・超微細加工・樹脂溶着等の工業用レーザーの他、治療用・医療用レーザー、その他研究用に好適です。【ラインアップ】 ■パルスレーザー源：LD及びペルチェ内蔵パルスレーザー源 ■パルス／CW兼用：コントローラー体型万能タイプ ■CW用：大型タイプ／エコノミータイプ ■ペルチェドライバー内蔵LD電源 ■冷加熱ペルチェドライバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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フューズドシリカ光ファイバ

エジスモステクノロジー株式会社

エジスモスは、シングルモード光ファイバケーブル、マルチモード光ファイバプローブとマルチファイバーケーブルアセンブリーを用いたシリカファイバケーブル及び光ファイバープローブをカスタマイズして提供します。また、エジスモスもコネクタとスリーブタイプの多くの種類を提供します。フューズドシリカ光ファイバケーブルは通常にシングルモードファイバレーザ及びレーザ伝送に応用です。さらに、特に高出力の青色と紫外光レーザーの結合されるのことです。

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表面仕上げ加工　非球面仕上げ加工　精密微細加工品

株式会社ワークス

我々が目指しているものは、「超精密」の分野で常に信頼されるモノ作りです。その為に必要な精密技術の向上こそが我々の使命です。【特徴】 ○高精度ガラスレンズ金型加工 ○φ0.1ｍｍ±0.1μｍ以下の超精密極細ピン加工技術 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

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レンズ『エアスペース・シリーズ』

株式会社アストロン

『エアスペース・シリーズ』は、収差を最小限に抑え、最少のスポットサイズを達成するために開発されたエアスペース型の焦点レンズです。色消しのトリプレット(3重)レンズは色収差を補正する機能を備えております。それにより、加工レーザビームと検査用可視光ビームの両方が、同一位置または超接近した焦点位置に焦点を結びます。【特長】 ■エアスペース型 ■色消しトリプレットレンズは色収差補正機能あり ■豊富なラインアップ ※こちらのカタログはダイジェスト版です。全編必要な方はお問合せ下さい。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

株式会社コシブ精密

「株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ 　 ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

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AOC2000 ナノ秒・ピコ秒・フェムト秒レーザー微細加工装置

AOCジャパン株式会社

コンパクトなプラットフォームにご希望のレーザー・加工光学系を組み込みます。

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ガルバノ連動超精密ステージ『GRANAS-40XY-GL』

ピー・ヂー・ダブリュー株式会社

『GRANAS-40XY-GL』は、レーザ、ガルバノとXY超精密ステージが同期連動して動作可能なシステムです。溶接、切断、スクライブ、穴あけ等のレーザー微細加工をはじめ、レーザーマーカ、計測機器にご使用いただけます。【特長】 ■レーザー各種に対応可能(532nm、パルスレーザー、他) ■キヤノン製ガルバノスキャナ搭載 ■XY超精密グラナイトエアスライダー搭載 ■コントローラPowerPMAC搭載【当社がお選びいただく理由】・5000×3000クラスの石を常に在庫で持ち、切断から製品完成までの一貫生産により短納期にも対応・平面／平行／直角精度保証値は、お客様のニーズにお応えします。・石製品の修正／改造／メンテナンスを行います。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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フッ化カルシウム（CaF2）

Hellma Materials Japan株式会社

当社の『フッ化カルシウム（CaF2）』は、長年に渡って半導体製造におけるマイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更にその特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【特長（Lithotec(R) CaF2）】 ■深紫外130nm～赤外8μmの広波長域に対する高透過率 ■低い屈折率（nd=1.43384） ■低いスペクトル分散（vd=95.23） ■157m、193nm、248nmといったエキシマレーザーに対する優れたレーザー耐久性 ■高エネルギー分子や放射線への強い耐久性 ■直径420mmと大型の結晶 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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株式会社フジメカニック　事業紹介

株式会社フジメカニック

フジメカニックは、カメラ産業、半導体、医療器機など様々な目的で使用されている薄膜の製造およびレンズ加工に関わる治工具を創業以来製作し続け、業界屈指の光学治工具専門メーカとして成長を遂げてきました。成膜治工具を製作するうえで重要なのは、成膜プロセスを理解し、さらに基板の形状・成膜エリアを考慮することです。このように、成膜過程を考慮してつくられた治具を用いることで、膜特性と成膜エリアを十分に満足する製品をつくることができます。フジメカニックは光学治工具の専門メーカとして長年培ってきたノウハウと実績を根幹とし、設計から製造まで一貫した治工具製作に取組み、お客様に安心と満足を提供しております。光学薄膜分野においてさらなるサービスの充実を図るため、グループ会社とともに、技術・品質の向上を念頭に置き邁進いたします。【事業内容】 ○光学機器レンズ研磨およびコーティング用治工具の設計、製造、販売 ○光学用装置の部品加工 ○光学ガラス研磨、洗浄システム ○その他消耗品の販売詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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溶融石英『JGS2』

USTRON株式会社

『JGS2』は、酸水素火炎で溶融した極めて高純度の溶融石英ガラスです。極低膨張率、遠紫外線域での高い透過率、化学的耐久性などの優れた特性を有し、サブミクロン単位の超精密性と高い安定性を要求される光学部品材料として好適。硝材の材料寸法、形状については都度の対応を致します。【仕様】 ■純度：99.99% ■OH（PPM）：200 ■使用波長：200～2500nm ■電気的性質・体積抵抗率：4.0［1013］（Ω/cm）at200℃ ・誘電率：100（F/m） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ＵＶランプ

株式会社コートテック

コートテックではハンディＵＶ照射器を製造しております関係からあらゆるＵＶランプの製造が可能です。各種ＵＶランプの販売いたしますので。ご使用になっているＵＶランプの型番をお知らせください。お見積りいたします。

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半導体レーザ装置『LDFシリーズ』

レーザーライン株式会社

『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。【特長】 ■実践で証明されたアクティブ半導体レーザ素子冷却技術 ■全システム部品の内部ネットワーク化 ■従来のシステムと互換性のあるインターフェース ■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム ■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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完全空冷 CW・Qスイッチ DPSSレーザー DXシリーズ

レイチャーシステムズ株式会社

超小型・完全空冷 CW・QスイッチDPSSレーザー【特徴】 ■コンパクトでハイパワー ■イントラキャビティー構造が高い波長変換効率と高調波結晶の高寿命を実現！！ ■ファイバーカップリング式エンドポンピング　高いビーム品質と簡単メンテナンスを実現 ■全てTEM00モード、高ビーム品質 ■全て100Vで動作 ■空冷

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フライアイレンズ

株式会社ジャパンセル

露光装置やプロジェクタでは、フライアイレンズを使った光学系を用いることで照度ムラが打ち消され、照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られます。液晶パネル露光装置、半導体露光装置などで利用されています。ジャパンセルでは、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで一貫した自社製造を行っています。 ◆詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください◆

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

回路パターンの微細化が進むにつれて、従来の露光技術では光の回折限界により、所望の解像度が得られにくくなっています。これにより、デバイスの性能向上が阻まれる可能性があります。

歩留まりの低下とコスト増

微細なパターン形成における欠陥の発生率は、微細化とともに増加する傾向があります。これにより、製造歩留まりが低下し、製品コストの上昇を招く要因となります。

露光装置の複雑化と大型化

高精度な露光を実現するためには、より高度な光学系や光源を備えた露光装置が必要となります。これは装置の複雑化、大型化、そして高価格化につながり、設備投資の負担を増大させます。

材料開発の遅延

微細パターン形成に適したフォトレジスト材料やマスク材料の開発が、露光技術の進歩に追いついていない場合があります。これにより、技術全体のボトルネックとなる可能性があります。

対策

次世代露光技術の導入

EUV（極端紫外線）リソグラフィやマルチパターニング技術など、従来の光では実現できない微細化を可能にする露光技術を導入・改良します。

プロセス最適化と欠陥管理

露光プロセス全体の条件を最適化し、欠陥検出・修正技術を高度化することで、歩留まりの向上とコスト削減を目指します。

新規光学・光源技術の開発

より高精度なレンズ設計、新しい光源（例：高出力レーザー）の開発、光学系のシミュレーション技術の向上により、露光性能を飛躍的に向上させます。

先端材料の研究開発

微細パターン形成に適した高感度・高解像度フォトレジスト、低欠陥マスク材料、反射防止膜などの先端材料を開発・採用します。

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

微細な回路パターンを正確にウェハー上に転写するために、極めて高い精度で設計・製造されたレンズ群です。光の収差を最小限に抑え、解像度を向上させます。

先進フォトレジスト材料

露光光に対して高い感度と解像度を持ち、微細なパターンを忠実に再現できる化学材料です。次世代露光技術に対応した特性を備えています。

高出力・短波長光源

微細なパターン形成に必要なエネルギーを効率的に供給し、より短い波長の光を用いることで回折限界を克服する光源装置です。例えば、特定の波長のレーザー光源などが該当します。

高度欠陥検査装置

製造プロセス中に発生する微細な欠陥を、高解像度かつ高速に検出・特定する装置です。これにより、早期の対策が可能となり、歩留まり向上に貢献します。

⭐今週のピックアップ

読み込み中

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説

センサー&計測

光学設計・開発

光通信・ネットワーク

光半導体・電子デバイス

天体観測・宇宙

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

各社の製品

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？

​課題

微細化に伴う解像度限界

歩留まりの低下とコスト増

露光装置の複雑化と大型化

材料開発の遅延

​対策

次世代露光技術の導入

プロセス最適化と欠陥管理

新規光学・光源技術の開発

先端材料の研究開発

​対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

先進フォトレジスト材料

高出力・短波長光源

高度欠陥検査装置

課題

対策

対策に役立つ製品例