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光技術・レーザー

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フォトリソグラフィの高度化とは?課題と対策・製品を解説

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?

光半導体・電子デバイスのフォトリソグラフィの高度化とは、微細な回路パターンを半導体ウェハー上に形成する技術を、より高精度かつ効率的に進化させることを指します。これは、高性能化・小型化が進む現代の電子デバイス製造において不可欠な要素であり、次世代技術の実現を支える基盤となります。

​各社の製品

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​一度にダウンロードできるカタログは20件までです。

『Positioner』は、高速・高精度なアライメントの実現を目標に開発した
Windows PC用ライブラリソフトウェアです。

画像処理や機械に起因する誤差を学習する独自のキャリブレーション
アルゴリズムを搭載しております。画像処理を含むアプリケーション
ソフトウェアはお客様が自由に構築可能です。

画像処理を使用した複数マークでのアライメントの精度や収束回数を
改善したい方はぜひお試しください。

【特長】
■独自のキャリブレーションアルゴリズム
■画像処理や機械に起因する誤差を補正
■アライメント回数の低減による装置タクト短縮

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

【高精度位置決め】ライブラリソフトウェア『Positioner』

超小型・完全空冷
CW・QスイッチDPSSレーザー

【特徴】
■コンパクトでハイパワー
■イントラキャビティー構造が高い波長変換効率と高調波結晶の高寿命を実現!!
■ファイバーカップリング式エンドポンピング 高いビーム品質と簡単メンテナンスを実現
■全てTEM00モード、高ビーム品質
■全て100Vで動作
■空冷

完全空冷 CW・Qスイッチ DPSSレーザー DXシリーズ

サンエー電機のランプ点灯用電源は、さまざまなランプ(放電管)とのマッチングが可能です。
ランプ特性を最大限に発揮し、光源性能をサンエーの電源で引き出します。

【特徴】
■さまざまなランプ(放電管)とのマッチングが可能
■数w~数10kwまで開発・生産可能(カスタム対応)
■低コスト・コンパクト設計・高効率・低予算でのカスタム対応を実現
■イグナイタ自社設計、自社生産品
■低ノイズ・低グリップ設計を実現(独自の回路設計技術により)

※詳細はお問い合わせまたはカタログをダウンロード下さい。

ランプ点灯用電源

我々が目指しているものは、「超精密」の分野で常に信頼されるモノ作りです。その為に必要な精密技術の向上こそが我々の使命です。

【特徴】
○高精度ガラスレンズ金型加工
○φ0.1mm±0.1μm以下の超精密極細ピン加工技術

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

表面仕上げ加工 非球面仕上げ加工 精密微細加工品

『SPM-300シリーズ』は、微少流量での成膜に適した
成膜コーターです。

塗布材料の塗着効率が高く、従来スプレー方式と比較し
1/2に削減、スピン方式と比較すると1/30以下に削減可能です。

常圧環境で塗布成膜するため、真空環境の設備が不要で
高価な真空設備コストを大幅に削減します。

粒径の大きな固形物が混合されている材料が使用可能。
排気、廃液処理が従来システムに比べ最小システムで対応できます。

弱酸性、弱アルカリ性、各種有機溶剤の使用が可能です。

【特長】
■塗布材料の塗着効率が高い
■常圧環境で塗布成膜するため、真空環境の設備が不要
■粒径の大きな固形物が混合されている材料の使用可能
■排気、廃液処理が従来システムに比べ最小システムで対応可能
■弱酸性、弱アルカリ性、各種有機溶剤の使用可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

防曇膜など多数実績あり 成膜コーター『SPM-300シリーズ』

産業用グレードのCW TopWave 深紫外レーザーシステムは波長266nmにおいて300mWまたは150mWを出力する高い安定性と信頼性を併せ持ったレーザーシステムです。産業用途に最適な完全自動クリスタルシフターを内蔵し10,000時間以上の長寿命を実現しています。 シールドされたレーザーヘッドにはビーム品質(M² < 1.3) を提供可能にするビームシェーピング最適化機能が含まれています。

CW, 266nm, 300mW 『TopWave 266』

『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。

レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者
だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。

移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。
当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。

【特長】
■実践で証明されたアクティブ半導体レーザ素子冷却技術
■全システム部品の内部ネットワーク化
■従来のシステムと互換性のあるインターフェース
■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム
■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体レーザ装置『LDFシリーズ』

『P303 Picosecond Laser』は、優れたビーム品質・出力安定・コンパクトな
デザインを兼ね備えたピコ秒レーザーです。

ファイバーレーザテクノロジーLD増幅器を結合する事により、
パルスエネルギーが200μ以上・パルス幅が<15ps・アベレージ出力>30Wを
実現しました。

【特長】
■繰り返し周波数:150-1000kHz
■ビームモード:TEMOO(M2<1.3)
■コンパクト設計
■RS232とecternal GATE control保有
■クリーンルームクラス1000の環境にてアッセンブル

※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

ピコ秒レーザー『P303 Picosecond Laser』

『iBeam smart』は、最大クラスの出力パワーと優れた出力安定および
ビーム位置安定性を兼ね備えた超小型シングルモード半導体レーザー
です。

独自技術であるFINE、SKILL、AUTOPULSEを搭載し様々なアプリケー
ションにおける諸問題に対応可能です。

【特長】
■純粋なワンボックス·ソリューション
■ノイズやスペックルを除去するFINEやSKILL機能
■アナログ変調と最大250MHzのデジタル変調
■クリーンアップフィルタ 対応可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体レーザー『iBeam smart』

『PSI-LDPシリーズ』は、レーザーダイオード&高輝度LED駆動に好適な
LED & LD用定電流パルス駆動装置です。

TTL 同期出力、1μs ~ 100μsの高安定出力が可能。

また、THORLABS等にある顕微鏡用LED照明にも接続できるケーブルも別途
用意があります。是非お問い合わせください。

【特長】
■レーザーダイオード&高輝度LED駆動に好適
■超高速立下り 100ns 以下(LDP01)
■10A でも高い負荷電圧可能 ~45V
■TTL 同期出力 1μs ~ 100μs 高安定出力

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

超高速定電流パルス駆動装置『PSI-LDPシリーズ』

光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や光酸発生剤、感光性材料などを提供。光技術の革新に貢献しています。
酸発生剤関係の製品としては、SIN-01、SIN-02、SIN-11などがあります。
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

酸発生剤関係

当社は、パシフィコ横浜にて「レーザーEXPO」を開催いたします。

情報通信、材料加工、計測など広範にわたる応用においてレーザー技術が
採用され、市場も拡大傾向にあります。本展は研究・開発、生産に至る、
国内外のレーザー製品が一堂に会するレーザー技術総合展です。

製造加工業など光分野に関係のあるお客様は、この機会に是非ご参加下さい。
皆様のご来場を、心よりお待ちしております。

【概要】
■会期:2023年4月19日(水)~21日(金) 10:00~17:00
■会場:パシフィコ横浜(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)
■入場料:無料(但し、完全事前登録制)
■7つの展示会によって構成される「OPIE'23」内で開催

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【2023年4月19日~21日】「レーザーEXPO」開催のご案内

オーケーラボの取り扱う『レーザーアブレーションシステム』について
ご紹介します。

種々の顕微鏡に対応可能。均一なアブレーションが特長です。

当社では永年光学機器の開発・製造に携わって来ましたので、光学機器に
関するノウハウの蓄積があります。

また、 レンズ設計・光学シミュレーションの経験豊かなスタッフが
加わり、光学機器開発・製造の広い分野をカバーできます。
是非お任せください。

【特長】
■フェムト秒レーザー対応光学系
■近赤外800nm、紫外266nm、200nm 用光学系
■エキシマレーザー 193nm 対応光学系
■均一なアブレーション
■種々の顕微鏡に対応
■YAG その他レーザーに対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

レーザーアブレーションシステム

『CW2‐410』は、マイクロ波方式無電極ランプ紫外線発光装置がアーク放電式
装置に対し本来的に持つ優れた特長(紫外線照度が約2倍など)をそのまま
保持した新型マイクロ波方式紫外線発光装置です。

他社のマイクロ波式UV装置と比べても極めて斬新な特長を取り入れており、
UV発光装置としてより信頼性の高い進化した装置となっております。

また、コントローラー内蔵の電源装置「MPS2-410V」などもご用意しております。

【特長】
■紫外線(UV)照度が約2倍
■ランプ寿命が2~3倍長い
■赤外線(IR)放出が少ない
■被照射体に与える熱影響が低減できる
■発光安定時間が約10秒と短い

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

新型マイクロ波方式紫外線発光装置『CW2‐410』

LDH-X0810は、SPX独自のLDGS方式により実現した世界唯一の266nm 8Wピコ秒レーザです。
266nm波長はあらゆる材料への光吸収率が高く、加工難易度の高いガラスや樹脂などの透明材料や複数の材料が混ざった複合材の加工にも適しており、今までに無い高品質な加工が可能です。

★☆★加工実験承ります★☆★ 

DUVピコ秒ハイブリッドレーザ

『LSL-10』は、固体UVパルスレーザでラインビームを形成しワーク上の
基板をステージで動かし、全面にLLOプロセスを行うための実験装置です。

LLOはガラスやサファイアなどレーザ光を透過する基板を用いて
レーザ照射により瞬間的に界面の剥離が可能です。

当装置は、小型・低価格でキャスターによる移動が可能。
クラス4の安全対策を実現しています。

【特長】
■小型・低価格(キャスターにより移動可能)
■AC100V電源のみで使用できる
■クラス4の安全対策(光路/摺動部遮蔽・インターロック)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

実験用固体UVレーザLLO装置『LSL-10』※デモ機貸出

『UV-SHiPLA SSシリーズ』は、水銀フリー紫外線光源です。

当シリーズは基礎検討や応用開発に向けた標準サイズ品です。
空冷ファンと電源基板を一体化したモジュール(推奨品)を用意しています。

【ラインアップ】
■SK-BUVC-0806
■SK-NUVB-0806

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『UV-SHiPLA SSシリーズ』※応用事例集付き

薄膜は、レンズ類の反射防止膜、レーザーフィルター、ミラー、液晶ディスプレイパネル、建築用ガラス等々、実にさまざまな分野で利用されており、最近では特に撥水、防汚等の機能性薄膜が注目されています。一般的には、これらの薄膜は蒸着によって形成され、金属酸化物やフッ化物等の材料が蒸着材料として用いられており、多種多様な目的に応じた種類・形状・サイズのものが使用されます。弊社ではお客様のニーズにお応えする蒸着材料を提供しています。

蒸着材料

【概要】
紫外線照射装置 UVB-300は、紫外線照射強度365mmを主波長とした紫外域に高い輝線スペクトルを保つ超高圧水銀ランプと、紫外域において80%以上の反射率を持つ楕円反射鏡とを組み込んだものです。 紫外線硬化に有用な紫外域が強く、熱発生の原因となる可視域、赤外域がほとんどないスペクトルが得られます。
また可視域、赤外域をカットし熱発生を抑えるフィルターをご用意しております。

【特長】
●リモート機能
シャッター、光量コントロール、ランプON/OFF操作が外部よりコントロール可能
●光量コントロール
絞り板の内蔵により連続的に光量コントロール可能
●プリセットランプ方式採用(※UVB-300のみ)
ランプ交換時の位置調整が不要なため、メンテナンスランプ交換作業が簡単に行えます。
●高効率集光光学系採用
姉妹機850W、1800Wともにワンランク上の高照度を実現

★詳細は、資料請求もしくはカタログダウンロード下さい★

紫外線照射装置 UVB-300

高純度のクリーンルームにて組立てられた完全封じ切りのレーザーヘッドは、信頼性が高く安定な使用を可能としております。また内部設置型のパワーモニタを標準搭載しており、新開発の小型精密制御電源装置との組み合わせにより、広範な使い方に対応できます。

産業用空冷固体レーザー SPICA

『水晶波長板』は、水晶の複屈折を利用して光に位相差を生じさせることに
よって円偏光、直線偏光させる光学素子です。

DVD等の光ピックアップ、デジタルコピー機などの読取装置、光通信などに
使用されます。

また、プロジェクター用の水晶波長板も製作可能です。

【特長】
■円偏光、直線偏光させる光学素子
■プロジェクター用の水晶波長板も製作可能
■DVD等の光ピックアップなどの読取装置、光通信などに使用可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

水晶波長板

株式会社芝川製作所は、光学設計が可能な設計・生産受託会社です。
蒸着、金型、成形、塗装、印刷、部品調達、実装、組立、検査、梱包までの一貫対応が可能です。
フレネルレンズ、リフレクター、光学レンズ、LED照明などの光学設計が対応可能です。又、生産難易度の高いキセノンフラッシュの量産技術に評価を受けております。
フラッシュライト等の精密機器製造において培った、光学・電気・機構の技術を活用し精密機器の半製品・完成品の生産受託を行っております。
主に、真空蒸着や光学設計、フラッシュユニット、LED照明、精密機器などを取扱っておりますので、ご要望の際は、お気軽にお問合せください。

【事業内容】
■電気機械器具部品製造販売

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社芝川製作所 事業紹介

本体重量3.9kgで、ハンディUV照射器ではダントツの
軽量化を図った超軽量照射器です。

【特長】

◆1kwクラスのUV照射器でははじめて軽量化に成功

◆いままでのUV照射器では電源部は25kg〜35kgはありましたが、
安定器を使用せず、電子部品化で完成しました

◆UVパテ、UV塗料の完全硬化に必要な1kWのメタルハライドランプを装備

◆通常の365ナノメーターの他。厚みのあるUV樹脂でも硬化させるために
必要な波長も出力できるよう設計しております

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=====詳細はお問い合わせください=====

超軽量照射器

248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択・切り換えが可能なUV照射装置です。
光学フィルターによって必要な水銀輝線波長のみを取り出すことができます。
シャッター、タイマー照射、光量調整、フィルターチェンジャー、外部制御など多彩な機能を標準装備しています。

250W水銀光源 REX-250

『株式会社ルクスレイ 取扱レーザー製品 総合カタログ』は、取り扱っている、世界のレーザー製品を掲載しています。
630~2300nm の幅広い波長で、マウントバーから完全なターンキーシステムまで、高出力ダイオードレーザーによる幅広いコンポーネントを提供します。
他に、パルスレーザー製品を紹介しています。

【掲載製品】
○半導体レーザーダイオード
○ウルトラショートパルスレーザー 他

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

『株式会社ルクスレイ 取扱レーザー製品 総合カタログ』

常温・常圧でコート可能なウエットプロセス「交互積層法」での反射防止成膜を是非ご検討下さい。

反射防止成膜プロセスの主流である真空蒸着などのドライプロセスは、真空条件を必要とするためコスト面での負担が大きいプロセスです。
一方、ウエットプロセスの「交互積層法」では、常温・常圧下で2種類の溶液(カチオン・アニオン)に基材を交互に浸漬させて積層する手法のため真空条件を必要としない手法です。

そのコストメリットは、テスト検証段階は勿論のこと量産設備の段階で非常に大きな差が出ると考えます。

交互積層法:ウエットプロセスでの反射防止膜

『UVフラッシャー ストレート型TX2100』は、電源投入後、直ちに稼動できるので待ち時間が要らない高出力紫外線照射装置。従来の水銀/メタルハライドランプのように常時点灯しておかなくて済むため、大幅な消費電力の低減に貢献します。また、キセノンガスを使用しているので、環境負荷が少なく、発光電圧、発光パルス数などを目的に合わせて容易に設定変更が可能。専用ソフトが標準で付属されているので、導入後直ちに使用できます。

【特長】
■電源投入後、待ち時間が不要
■電気料の大幅節約
■環境負荷が少ない
■導入後直ちに使用が可能

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

高出力紫外線照射装置 UVフラッシャー ストレート型TX2100

『ズーム光学ユニットOTZシリーズ』は、調節可能で均一化された焦点を
持つズーム光学ユニットされた、当社が提供する好適なシステムソリューションです。

多様な可変円形 スポットとラインプロファイルは、xおよびy方向を
各々個別に調整出来る矩形スポットと同様に、適切な強度分布を可能に
します。

光学素子をモータで調整することで、スポット径、トラック幅
またはレーザスポットの焦点距離を正確に制御することが出来ます。

【特長】
■柔軟なスポット形状
■加工対象物のダイナミクス
■モジュール式の構造

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ズーム光学ユニットOTZシリーズ』

『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を
直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。

ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。

【特長】
■広範囲な膜種による多層成膜
■高屈折率制御が可能
■高速で成膜が可能
■低温・低ダメージで高品質、高結晶性
■基板および成長面のクリーニング効果

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

レンズやプリズムなどの光学部品、また半導体製造用フォトマスクや液晶パネル製造用マスク、半導体ウエハ
安価に挑戦します。

高透過率合成石英ガラス 

クラマース・クローニヒの方程式を用いた屈折率変化のメカニズムの温度依存や自由電子/プラズマモデルが妥当な結果を与える。LASTIPはLASTIPはSCOWLタイプの高出力レーザーにおいて横モードの振舞いの正確な見積を提供する。長い共振器のようなさらに踏込んだ解析には、軸方向空間ホールバーニング(longitudinal spatial hole burning)と端面光ダメージ効果(facet optical damage effect)を考慮する必要があるためPICS3Dを推奨。

高出力SCOWLレーザのシミュレータ

コンパクトなプラットフォームにご希望のレーザー・加工光学系を
組み込みます。

AOC2000 ナノ秒・ピコ秒・フェムト秒レーザー微細加工装置

フェムト秒レーザーは、光通信デバイス、金属部品、透明材料、半導体への微細加工や医療・バイオ技術、計測技術への高付加価値利用が期待されてます。  長寿命性、高い耐環境性、短いウォームアップ時間に加えて、小さなフットプリントの New IFRIT は、産業用途から研究用途まで、皆様のご期待に幅広くお応えいたします。

高出力産業用フェムト秒レーザー イフリート

露光装置やプロジェクタでは、フライアイレンズを使った光学系を用いることで照度ムラが打ち消され、照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られます。
液晶パネル露光装置、半導体露光装置などで利用されています。

ジャパンセルでは、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで一貫した自社製造を行っています。


◆詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください◆

フライアイレンズ

携帯電話用撮像レンズ、LED照明用複合レンズ、レーザー走査ユニットなど多数の実績があります。クリーンルーム完備の工場内で高精度・高品質の射出成形品の製造が可能です。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

レンズユニットなど 光学部品設計技術

<主な特徴>
■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています
■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を
含むレーザダイオードが計算可能

<多様な物理モデルや機能>
■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング)
■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度
■2次グレーティングDFBレーザーについての表面放出モード分布の計算
■異なる縦モードに対する出力と周波数変化
■サイドモード比、線幅、線幅と出力の積、有効α、2次調和歪み、
  表面放出出力(2次グレーティングDFB)
■異なるレーザー面と任意のバイアス条件でのモード出力スペクトル
■異なるバイアス条件と時間におけるモード出力スペクトル
■任意のバイアス条件におけるAM/FM微小信号変調応答、FM/RINノイズスペクトル
■2次調和歪みスペクトル

■その他機能や詳細については、カタログダウンロード
  もしくはお問い合わせ下さい。

■試用版のご希望は下記のお問い合わせからご連絡ください

半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

『EH30-10R-power-DC24Y』は、電費半分製特注仕様のLED照明器具です。

半導体、液晶製造装置、工場(イエロールーム)などで利用された
実績あり。標準100/200V仕様の白色タイプではエージングルームの
実績もあります。

また、サイズの異なる「EH64-20X-power-DC24Y」
「EH120-40X-power-DC24Y」などのご用意がございます。
ご用命の際は当社にお問い合わせください。

【特長】
■波長550nm以下をカット
■CE取得
■危険電圧も回避
■白色タイプもご用意可能
■X-powerシリーズ取付サイドブラケット(オプション)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

LED照明器具『EH30-10R-power-DC24Y』

『HFLシリーズ』は、低吸収コーティングを施した溶融石英で作られた
高出力ファイバーレーザ用焦点レンズです。

ラインアップされている焦点レンズは、保護ウィンドウ付きですが、
水冷用には別途、レンズとウィンドウを提供させていただきます。

ご用命の際は是非当社まで、お気軽にご相談下さい。

【特長】
■ファイバーレーザ用
■低吸収コーティングを施した溶融石英を使用
■保護ウィンドウ付き

※こちらのカタログはダイジェスト版です。全編必要な方はお問合せ下さい。
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

レンズ『HFLシリーズ』

特長
◆設置場所の状況(一般場所、危険場所、クリーンルーム等)に合わせたシステムのご提案を致します。
◆出力密度MAX320W/cm・ランプ発光⾧2,000mm以上にも対応可能です。詳しくはお問合わせください。
◆照射物のサイズに合わせたご提案を致します。
◆熱影響や光源の組合せを考えた仕様にも対応致します。
◆ランプ出力の高低、発光波⾧を問わず最適な装置をご提案致します。

内圧式(閉鎖式)UV照射器具

『加工用光学ユニットOTSシリーズ』は、溶接や、ろう付けから
表面処理、付加加工や 除去加工の工程を含む複合部品の製造まで、
幅広いアプリケーションに対応することが出来ます。

強度分布が均一な円形焦点は、ファイバー端面のイメージングによって形成。

一般に、金属溶接、樹脂溶着、ろう付け、または、クラッデングなどの用途に使用されます。

【特長】
■モジュール式の多様性、柔軟に組み合わせ可能
■最大負荷に対応する頑強な構造
■様々なご要望に対するシンプルなソリューション
■お客様に合わせた焦点形状
■レーザ溶接、焼入れ、クラッディング(肉盛り溶接)用
■標準インターフェースとの互換性

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『加工用光学ユニットOTSシリーズ』

有限会社十文字光学は、主に光学及び電子産業用平行平面ガラス製造を行っている会社です。当社はロータリー研削盤や自社仕様のNC切断機といった設備を保有し、丸型形状から角型形状、特殊形状に対応する他、ご希望により硝材の変更も可能となっております。

【営業品目】
■光学及び電子産業用平行平面ガラス製造(成形~Final Polish一貫生産)

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

ガラス平面研磨・平面加工

レーザースター光電有限会社は各種類の光学レンズ、フィルター、光学カメラレンズ、プリズムの設計と生産、OEMとODMの専門家です、光学レンズ、フィルター、光学レンズ、プリズム、ウィンドウレンズ、縮小レンズ、視野レンズ、拡大鏡などの全面的な光電部品を提供する会社です。光学レンズの加工とコーティングのサービスも提供致します。
沛星光電有限公司 Laser Star Co., Ltd


サービス時間:09:00-18:00 土日休み

吳經理 Ray Wu

Mobile: 0923-254188

Email: ray@laserlens.com.tw

TEL: 886-4-22383033

レーザーレンズ 光学レンズ ブリズム 反射レンズ

『HR-G10』は、高繰返し、短パルス幅が特長のDPSSパルス・グリーンレーザです。熱影響の小さい高品質・高精度な加工が可能です。また、カスタマイズにも対応します。
【特長】
■完全空冷、B5版サイズのヘッドから10W以上を出力し、装置の小型化に寄与
■高繰返し、短パルス幅で熱影響の小さい高品質・高精度な加工が可能
■専用GUI もしくは専用リモートコンソールによる制御
■M2<1.2の良好なビーム品質
■1ショット目からフルパワー動作で安定した出力

『HR-G10シリーズ』は、【HR-G10】をベースにしたカスタマイズモデルで、高速スキャナを搭載しています。サンプル加工に対応しています。
【レーザマーカ仕様モデルの主な用途】
■トレーサビリティコード印字
■レーザラベル印字
■ICマーキング
■ウェハマーキング

※サンプル加工お受けしています。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

DPSS ナノ秒パルスレーザ&レーザマーカ

『Iris-S』は、新設計の光学エンジンと制御基板を採用することで、
均一で安定した光を低消費電力で提供する照射装置です。

単色光で高光量の出力が可能で、LEDを光源に採用することで光源の寿命が
長くなり、さらに発熱が抑えられるので長時間の連続照射が可能です。

APCにより光強度を一定に保ち、安定した光を照射できます。
PC等とコントローラをRS-232Cにて接続する事で、LEDの照射強度(APC)
/電流値(ACC)の変更、照射のON/OFF等の制御が可能です。

【特長】
■均一で安定した光を低消費電力で提供
■単色光で高光量の出力
■光源寿命が長い
■長時間の連続照射可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

光反応用LED光源 照射タイプ『Iris-S』

東京特殊硝子株式会社は、創業以来、硝子加工一筋に取り組み、
現在は液晶用フォトマスクサブストレートや車載用ミラー等々の
超精密研磨加工の取り扱いを主力とする企業です。

ケミカル強化、ガラス研磨(石英・青板)フォトマスクのことなら
是非当社にご相談ください。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

超精密研磨加工サービス

昇降機能と液循環機能、更に基材微細部への液浸透を目的とした超音波機能も搭載したスタンドアローンタイプの装置です。

◆液循環4面オーバーフローのメリット
・液面を常に一定に保てます。
・循環経路に下記機能を持たせて管理することが出来ます。
 液温、液濃度を一定の範囲で管理が可能
 液中に持ち込まれたコンタミ除去が可能

◆ワーク微細孔への液浸透を目的とした:超音波機能

◆コート後に湿度を嫌うためディップ昇降部と液槽内(自動蓋付)に窒素パージ機能を追加しております。

上記のように基材・コート剤の特長に応じた追加機能を搭載させることでお客様の目的にあった装置のご提供を心掛けております。

ディップコーター:スタンドアローンタイプ 液循環・US機能付き

『高出力ファイバ結合型 青色半導体レーザ』は、金(Au)や銅(Cu)など
金属材料への光吸収率が高い波長のレーザです。

最大出力20W、50W、200Wをラインナップ、目的のアプリケーションにより選択できます。

また、光ファイバコア径φ100μmを採用、小径ビームでの微細加工に適しております。

【特長】
■波長450nm
■最大出力20W、50W、200Wをラインナップ
■光ファイバコア径φ100μmを採用
■弊社独自の緑色ガイド光(520nm)標準装備

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『青色半導体レーザ』高出力ファイバ結合型

当社では、自社工場で組み立て製作を行っており、出荷・納品・
アフターサービスまで一貫対応しております。

また、現在お使いの露光用光源(水銀灯)をUV LED光源システムに
置き換えが可能です。ご要望の際は、お気軽にご相談ください。

【製品の基本仕様】
■超高圧水銀灯装置
 ・露光サイズ:75~2,350mm
 ・W数:250W,500W,1kW,2kW,3.5kW,5kW,8kW,10kW,16kW,25kW,35kW
■UV LED装置
 ・露光サイズ:50mm~1000mm×1500mm
 ・LED波長:365nm,385nm,405nm

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

平行光ライティングモジュール 設計・製作サービス

小型~大型エキシマレーザーまで対応、縮小投影倍率 4~18倍固定、多彩なオプションによるカスタマイズ装置

【特徴】
○多彩な光学系オプションによるカスタマイズが可能
○必要に応じたオプションの取り付け変更も容易
○縮小投影倍率は4~18倍の間で設定が可能
○リアルタイムモニターによる観察系
○多機能ソフトウエアによるストレスの少ない操作
○専用オプションはPCからリモートコントロールが可能
○標準 200×200mm XYステージ
○エキシマレーザーの大きさ、製造元に係らず対応可能
○所有されているエキシマレーザーでも使用可能

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

エキシマレーザー微細加工装置 LB1000/1500

『MD-W1000』は、電源部を弁当箱サイズにダウンサイジングした
UV照射装置です。

安定器を使用せず、電子部品化により電源部本体は当社「CT-W1200」から
さらに軽量化が進み1.5kgを実現。

フロアーコーティングの完全硬化に必要な1kWのメタルハライドランプか
水銀灯を選択いただけます。

【特長】
■電子安定器タイプ
■照射部も軽量かつハイパワー仕様
■電源部重量1.6Kg
■60Hzでも50Hz地域でも使用可能
■100Vでも200Vでも使用できる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

UV照射装置『MD-W1000』

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化

光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?

光半導体・電子デバイスのフォトリソグラフィの高度化とは、微細な回路パターンを半導体ウェハー上に形成する技術を、より高精度かつ効率的に進化させることを指します。これは、高性能化・小型化が進む現代の電子デバイス製造において不可欠な要素であり、次世代技術の実現を支える基盤となります。

課題

微細化に伴う解像度限界

回路パターンの微細化が進むにつれて、従来の露光技術では光の回折限界により、所望の解像度が得られにくくなっています。これにより、デバイスの性能向上が阻まれる可能性があります。

歩留まりの低下とコスト増

微細なパターン形成における欠陥の発生率は、微細化とともに増加する傾向があります。これにより、製造歩留まりが低下し、製品コストの上昇を招く要因となります。

露光装置の複雑化と大型化

高精度な露光を実現するためには、より高度な光学系や光源を備えた露光装置が必要となります。これは装置の複雑化、大型化、そして高価格化につながり、設備投資の負担を増大させます。

材料開発の遅延

微細パターン形成に適したフォトレジスト材料やマスク材料の開発が、露光技術の進歩に追いついていない場合があります。これにより、技術全体のボトルネックとなる可能性があります。

​対策

次世代露光技術の導入

EUV(極端紫外線)リソグラフィやマルチパターニング技術など、従来の光では実現できない微細化を可能にする露光技術を導入・改良します。

プロセス最適化と欠陥管理

露光プロセス全体の条件を最適化し、欠陥検出・修正技術を高度化することで、歩留まりの向上とコスト削減を目指します。

新規光学・光源技術の開発

より高精度なレンズ設計、新しい光源(例:高出力レーザー)の開発、光学系のシミュレーション技術の向上により、露光性能を飛躍的に向上させます。

先端材料の研究開発

微細パターン形成に適した高感度・高解像度フォトレジスト、低欠陥マスク材料、反射防止膜などの先端材料を開発・採用します。

​対策に役立つ製品例

高精度光学レンズシステム

微細な回路パターンを正確にウェハー上に転写するために、極めて高い精度で設計・製造されたレンズ群です。光の収差を最小限に抑え、解像度を向上させます。

先進フォトレジスト材料

露光光に対して高い感度と解像度を持ち、微細なパターンを忠実に再現できる化学材料です。次世代露光技術に対応した特性を備えています。

高出力・短波長光源

微細なパターン形成に必要なエネルギーを効率的に供給し、より短い波長の光を用いることで回折限界を克服する光源装置です。例えば、特定の波長のレーザー光源などが該当します。

高度欠陥検査装置

製造プロセス中に発生する微細な欠陥を、高解像度かつ高速に検出・特定する装置です。これにより、早期の対策が可能となり、歩留まり向上に貢献します。

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