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光技術・レーザー

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レーザー加工の高速化とは？課題と対策・製品を解説

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センサー&計測

生産ラインの異常検知
非接触の温度計測
3Dマッピング
設備の劣化診断
生体情報のセンシング
ガス濃度のモニタリング
ロボットの位置決め
農作物の生育状況
水質汚染の分析
自動運転時の障害物回避
リアルタイム成分分析
振動耐久性の評価
透明体・液体の厚み測定
X線イメージング
顔・虹彩認証
地表面形状のリモートセンシング
極限環境下の安定計測
超高速現象の時間分解計測
磁場・重力の計測
ウェアラブルデバイスの小型化
食品鮮度の非破壊評価
単一細胞のリアルタイム解析
レーザー光の精密速度測定
危険物・爆発物の遠隔検知
生産ラインの異常検知
非接触の温度計測
3Dマッピング

光学設計・開発

広視野・高解像度の両立
超解像度の対物レンズ設計
医療用内視鏡の超小型化
赤外線迷光・ゴースト抑制
UV・可視光線のアクロマート化
複数の波長を分離・合成
カスタムフィルタの特性最適化
均一な照度分布
AR/VR向けレンズ設計
熱膨張・収縮の低減
光学機器の高温安定性
アウトガスの対策
シミュレーションと実測の誤差
高出力レーザーの耐損傷性向上
超短パルスレーザーの分散
ファイバー結合効率の解析
大口径ミラーの精密研磨
広視野・高解像度の両立
超解像度の対物レンズ設計
医療用内視鏡の超小型化

光通信・ネットワーク

超高速・大容量光伝送
波長多重伝送
データセンター同士の光相互接続
既存ファイバ容量の活用
伝送品質劣化要因の抑制
データ伝送速度の改善
データ送信時の遅延時間短縮
ディスプレイの薄型化
産業用途の高信頼性通信
量子暗号通信対応
走査速度の向上
光ネットワーク機器の小型化
光ファイバ敷設
ファイバ曲げ損失の最小化
運用保守の効率化
超高速・大容量光伝送
波長多重伝送
データセンター同士の光相互接続

光半導体・電子デバイス

レーザー加工の高速化
フォトリソグラフィの高度化
微細な欠陥検出
バッテリー持続時間の延長
光トランシーバの高速化
3Dセンシングの小型化
曲面ディスプレイの実現
太陽電池の発電効率向上
基幹ネットワークの容量拡大
高効率太陽電池の開発
LiDARの測定距離向上
超高速3D計測の実現
暗視カメラの高画質撮影
データセンターの処理能力維持
イメージセンサーの感度向上
屋外ディスプレイの視認性向上
デバイスの長寿命化
レーザー加工の高速化
フォトリソグラフィの高度化
微細な欠陥検出

天体観測・宇宙

天文観測用のイメージセンサ開発
観測データの精度向上
地球観測の高解像度リモセン
衛星機器の高集積化
光学部品の長寿命化
極低温環境の観測
観測機器の感度向上
天文観測用のイメージセンサ開発
観測データの精度向上
地球観測の高解像度リモセン

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ポジショニング
レーザー
レンズ設計・製造
宇宙・天文光学
光と画像のセンサ＆イメージング
光源・光学素子
光通信・要素技術＆応用
その他光技術・レーザー
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光半導体・電子デバイスにおけるレーザー加工の高速化とは？

光半導体や電子デバイスの製造プロセスにおいて、微細かつ高精度な加工を実現するためにレーザー技術が不可欠となっています。この「レーザー加工の高速化」とは、加工時間を短縮し、生産性を向上させることを目的としています。これにより、デバイスのコスト削減や市場投入までのリードタイム短縮が期待されます。

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【光学位置決め向け】小型・高精度1軸リニアステージ L-836

【光学位置決め向け】小型・高精度1軸リニアステージ L-836
PIジャパン株式会社
光学システムでは、レンズやミラーなどの光学素子の位置調整が、装置性能を左右する重要な要素です。光軸のわずかなずれや焦点位置の変化は、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじ駆動と高精度リニアガイドにより、光学素子の微調整や光学アセンブリ工程における安定した位置決めを実現します。光学装置や検査装置、研究用途など、さまざまな光学位置決め用途に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工 ・光学アセンブリ ・試験・検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化
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【光学向け】高精度位置決めに エアベアリングステージ A-110

【光学向け】高精度位置決めに エアベアリングステージ A-110
PIジャパン株式会社
光学分野では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システム性能を大きく左右します。特に、高精度位置決めやスキャン用途においては、わずかな振動や摩擦が測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 PIglide直動エアベアリングステージ「A-110」は、非接触エアベアリングと磁気リニアモータ、光学式リニアエンコーダを搭載。摩擦のない滑らかな動作により、高い位置決め精度と優れた再現性を実現します。また、パーティクルを発生しないため、クリーンルーム環境での光学用途にも最適です。さらに、最大400 mmの長ストロークに対応し、広範囲の高精度スキャンにも対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡 ・分光器 ・レーザー加工機 ・光学測定器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・調整時間の短縮 ・製品品質の向上
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【光学部品向け】ステルスダイシング搭載レーザー加工機

【光学部品向け】ステルスダイシング搭載レーザー加工機
西進商事株式会社
光学部品業界では、レンズやプリズムなどの透明材料の精密な切断加工が求められます。特に、製品の性能を左右する加工精度と、歩留まりを向上させるための高品質な加工が重要です。従来のブレード方式では、微細な割れやチッピングが発生しやすく、歩留まりの低下につながることが課題です。当社のステルスダイシング搭載レーザー加工機は、浜松ホトニクス社特許技術であるステルスダイシングエンジンを搭載し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・レンズ、プリズム、フィルターなどの光学部品製造 ・サファイア、SiC、水晶、LiNbO₃などの透明材料の切断加工 ・スマートフォン部品、LED関連部品などの精密加工 【導入の効果】 ・微細な割れやチッピングを抑制し、歩留まりを向上 ・高速加工により、生産タクトタイムを短縮 ・多種多様な材料に対応し、フレキシブルな生産体制を構築
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【研究向け】6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxx

【研究向け】6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxx
PIジャパン株式会社
研究・実験分野において、フォトニクスデバイスや光ファイバーの高精度アライメントは、結合効率や測定結果の再現性に大きく影響します。特にSiPhウェーハやPICを用いた評価では、ナノメートル分解能での6自由度位置決めと、高速な探索動作が求められます。F-713コンパクト高速6自由度フォトニクスアライメントシステムは、Hexapodベースの6DoF制御と高速スキャン機能を組み合わせ、効率的な自動アライメントを実現します。マルチチャネル測定にも対応し、研究室環境での柔軟な実験構成が可能です。コンパクト設計のため、光学テーブル上での使用や既存実験系への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・SiPhウェーハおよびPICの光結合評価 ・光ファイバーとフォトニックデバイスのアライメント実験 ・シリコンフォトニクス研究 ・光学系の微調整および最適化 【導入の効果】 ・アライメント工程の高速化 ・実験時間の短縮 ・再現性の高い光学評価 ・ナノレベルの高精度位置決め
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【ガラス装飾向け】高出力CO2レーザマーカー

【ガラス装飾向け】高出力CO2レーザマーカー
株式会社堀内電機製作所
ガラス装飾業界では、デザインの多様性と耐久性が求められます。レーザー加工は、繊細な模様や文字をガラスに施すことができ、デザインの自由度を格段に向上させます。また、レーザー加工は耐久性にも優れ、長期間にわたって美しい装飾を維持できます。当社の高出力CO2レーザマーカーは、ガラスへの穴あけや切断、彫刻を可能にし、装飾の幅を広げます。 【活用シーン】 ・ガラス製品へのデザイン加工 ・看板やディスプレイの製作 ・インテリア装飾 【導入の効果】 ・高精度な加工による高品質な仕上がり ・多様なデザイン表現 ・高い耐久性
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【レーザー加工向け】非球面レンズ

【レーザー加工向け】非球面レンズ
株式会社ブル精密
レーザー加工業界では、加工精度と効率が常に求められます。特に、レーザー光線の収束性と集光性は、加工品質を左右する重要な要素です。非球面レンズは、球面レンズと比較して収差を抑え、より高精度なレーザー加工を可能にします。当社では、お客様のニーズに合わせた非球面レンズを提供し、レーザー加工の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザーマーキング ・レーザーカッティング ・レーザー溶接 ・レーザー顕微鏡 ・レーザー走査 【導入の効果】 ・レーザー加工の精度向上 ・加工時間の短縮 ・歩留まりの向上 ・製品品質の安定化 ・コスト削減
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【レーザー加工向け】SiO2(石英)リング

【レーザー加工向け】SiO2(石英)リング
株式会社スパッタコア
レーザー加工業界では、レーザービームの正確な伝送が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、高出力レーザーや精密加工においては、ビームの減衰や歪みを最小限に抑えることが求められます。SiO2(石英)リングは、レーザー光の透過性に優れ、熱による変形も少ないため、安定したビーム伝送を実現します。 【活用シーン】 ・レーザー発振器 ・レーザー加工機 ・光学実験装置 【導入の効果】 ・ビーム品質の向上 ・加工精度の向上 ・装置の安定稼働
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【レーザー加工向け】ダイレクトドライブ高精度回転ステージ

【レーザー加工向け】ダイレクトドライブ高精度回転ステージ
PIジャパン株式会社
レーザー加工業界では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に、微細加工や精密なパターン形成においては、位置ずれや振動が加工精度に大きく影響します。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、レーザー加工の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・角度依存の微細パターン加工 ・光学部品・精密部品の試作加工 ・レーザー加工プロセス開発・条件検証 【導入の効果】 ・加工精度・加工品質の向上 ・微細加工の再現性向上 ・加工プロセスの信頼性向上
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【レーザーマーキング向け】エアベアリング A-311

【レーザーマーキング向け】エアベアリング A-311
PIジャパン株式会社
光学レンズ研磨・加工分野では、レンズの形状精度や表面品質が最終的な光学性能を大きく左右するため、極めて高い位置決め精度と安定性が求められます。特に研磨や表面加工工程では、わずかな振動や摺動摩擦が加工精度や再現性に影響を及ぼす可能性があります。 PIglide IS A-311 は、エアベアリングによる非接触支持とリニアモータ駆動を採用した高精度XYステージです。機械的摩擦やスティックスリップを排除することで、滑らかで安定した平面動作を実現し、光学用途に求められる高い位置決め精度と繰り返し性を支えます。 光学レンズの研磨工程や、精密な表面加工・評価工程において、加工品質の安定化やプロセス再現性の向上に貢献します。また、エアベアリング構造により発塵を抑えられるため、クリーンルーム環境での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・レンズ研磨工程 ・高精度な表面加工が必要な場面 ・クリーンルーム環境での使用 【導入の効果】 ・高精度な研磨を実現 ・タクトタイムの短縮 ・製品の品質向上
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【光学調整向け】プリロード付きピエゾアクチュエータ P-841

【光学調整向け】プリロード付きピエゾアクチュエータ P-841
PIジャパン株式会社
光学業界では、光ファイバーやレーザーなどの精密な調整が求められます。特に、微細な位置調整は、システムの性能を左右する重要な要素です。従来の調整方法では、調整に時間がかかったり、精度の限界がありました。P-841は、サブナノメートルの分解能とµs応答により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ファイバ・光学素子のアライメント ・レーザー波長チューニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるシステム性能の向上 ・調整時間の短縮 ・実験の効率化
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【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417

【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417
PIジャパン株式会社
光学機器の調整作業では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、微小な位置ズレが光軸のずれや焦点誤差につながり、最終的な装置性能に大きな影響を与える可能性があります。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ＋ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟な構成が可能です。高精度な位置決め性能と安定した動作により、光学部品の精密調整や光学系の組み立て工程をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・作業時間の短縮 ・歩留まりの向上
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【光学部品向け】コンパクトな設計ながら6軸の動作を実行可能

【光学部品向け】コンパクトな設計ながら6軸の動作を実行可能
PIジャパン株式会社
光学部品業界では、正確で要求の厳しい位置決めが品質を左右する重要な要素です。当社のH-815産業用ヘキサポッドは、高精度な位置決めを実現し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・フォトニクスにおける要求の厳しいアライメントプロセスに対応 ・レンズやその他の光学部品などの極めて小さな部品のアライメント 【導入の効果】 ・複雑な製造・計測プロセスの生産性を向上 ・小さな部品のアライメント ・高負荷サイクルに対応した長寿命設計
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【レーザー向け】石英基板

【レーザー向け】石英基板
株式会社ブル精密
レーザー業界では、レーザー光の反射・透過特性を最適化するために、高品質なミラー基板が求められます。特に、高出力レーザーや精密な光学系においては、基板の精度がレーザーの性能を大きく左右します。基板の歪みや表面粗さは、レーザー光の減衰やビーム品質の低下を引き起こす可能性があります。当社の石英基板は、端面研磨や斜面研磨など、お客様のニーズに合わせた加工が可能です。高い光学特性と耐久性を実現し、レーザーシステムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザー発振器 ・レーザー加工機 ・光学実験 【導入の効果】 ・レーザー光の反射率・透過率の向上 ・ビーム品質の改善 ・レーザーシステムの安定性向上
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【光学アライメント向け】リニアモーター駆動のステージ V-731

【光学アライメント向け】リニアモーター駆動のステージ V-731
PIジャパン株式会社
光学業界のアライメント作業では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整においては、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与えます。位置決めの精度が低いと、光軸のずれや焦点距離の変動が発生し、最終的な製品の品質を損なう可能性があります。V-731は、高精度な位置決めを実現し、光学アライメント作業の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・光学部品の位置調整 ・レーザー加工 ・走査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・作業時間の短縮 ・歩留まりの向上
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【レーザー加工向け】密着冷却用空冷サーモ・クーラー

【レーザー加工向け】密着冷却用空冷サーモ・クーラー
日本ブロアー株式会社
レーザー加工業界では、レーザービームの安定性が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、長時間にわたる加工や、高出力レーザーを使用する際には、熱による影響でビームが不安定になり、加工不良や装置の故障につながる可能性があります。密着冷却用空冷サーモ・クーラーは、レーザー発振器や光学部品を直接冷却し、温度変化を抑制することで、ビームの安定性を向上させます。これにより、安定した加工品質と、装置の長寿命化に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザー発振器の冷却 ・光学レンズ、ミラーの冷却 ・レーザー加工機の安定稼働 【導入の効果】 ・ビームの安定化による加工精度向上 ・装置の安定稼働による生産性向上 ・部品の長寿命化によるコスト削減
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【光学向け】最大8°チップチルトミラーステージ V-931

【光学向け】最大8°チップチルトミラーステージ V-931
PIジャパン株式会社
光通信や光学システムでは、光ビームの正確な制御と安定性が、システム性能を左右する重要な要素です。特に、光ファイバー通信や光学アライメントでは、ビームのわずかなずれや揺らぎが信号の減衰やノイズ増加を引き起こし、通信品質や測定精度に影響を与える可能性があります。 V-931は、最大8°の大角度駆動が可能なボイスコイル駆動Tip/Tiltミラーステージです。光ビームの角度を高精度かつ高速に制御し、光学システムにおけるビーム偏向や安定化を実現します。 【活用シーン】 ・光通信システムにおけるビーム調整 ・光ファイバーアライメント ・光ファイバーセンサシステム 【導入の効果】 ・ビーム安定化による通信品質の向上 ・高精度位置決めによるアライメント効率の向上 ・システム信頼性の向上
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【レーザー加工向け】開口部66×66mm 多軸ピエゾスキャナー

【レーザー加工向け】開口部66×66mm 多軸ピエゾスキャナー
PIジャパン株式会社
レーザー加工業界では、レーザービームの精密な位置決めと制御が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高速加工においては、ナノレベルの精度と高い応答性が求められます。従来の制御方法では、位置決め精度や応答速度に限界があり、加工品質の低下や生産性の停滞を招く可能性がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能を実現し、レーザービームの精密な位置決めと制御を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーマーキング ・レーザー切断 ・レーザー微細加工 ・レーザー走査 【導入の効果】 ・高精度なレーザー加工を実現 ・加工時間の短縮 ・歩留まりの向上 ・多様な加工への対応
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【レーザー向け】波長選択の最適化に『TFCalc』

【レーザー向け】波長選択の最適化に『TFCalc』
株式会社ヒューリンクス
レーザー業界では、特定の波長を選択的に透過・反射させる光学素子の設計が重要です。レーザーの効率や性能を左右するため、精密な設計が求められます。 TFCalcは、光学薄膜コーティングの特性を計算し、レーザー用途に最適なコーティング設計 (高出力ミラーやビームスプリッターなど) を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザー発振器 ・レーザー加工機 ・光学フィルター 【導入の効果】 ・レーザーシステムの性能向上 ・波長選択の最適化 ・設計時間の短縮
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【レーザー励起向け】GTシリーズ

【レーザー励起向け】GTシリーズ
株式会社グリーンテクノ
レーザー励起の分野では、安定した高電圧供給がレーザー発振の効率と精度を左右します。特に、精密な制御が求められる用途においては、高電圧の変動がレーザー出力の不安定さや、最悪の場合、機器の故障につながる可能性があります。GTシリーズは、出力可変機能により、レーザー励起に必要な電圧を正確に調整し、最適なレーザー発振をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー加工 ・レーザー計測 ・レーザー研究 【導入の効果】 ・レーザー発振の安定化 ・製品の品質向上 ・研究開発の効率化
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【光学機器向け】ACS-4-5 エアベアリングシリンダ

【光学機器向け】ACS-4-5 エアベアリングシリンダ
藤倉コンポジット株式会社
光学機器業界では、レンズ調整において、ミリ単位以下の微細な動きが求められます。特に、高精度な位置決めと滑らかな動作が、製品の品質を左右する重要な要素となります。 従来のシリンダでは、摩擦抵抗による微小な動きの制御の難しさや、位置決めの精度に課題がありました。藤倉コンポジットのACS-4-5は、エアベアリング技術により摩擦抵抗をゼロにし、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡 ・カメラ ・望遠鏡 ・各種測定器 【導入の効果】 ・高精度なレンズ調整が可能に ・製品の品質向上 ・装置の小型化・軽量化
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【レーザー技術向け】極低温サーモクーラー

【レーザー技術向け】極低温サーモクーラー
日本ブロアー株式会社
レーザー技術分野では、レーザー素子の温度管理が性能維持の鍵となります。素子の温度上昇は、出力の低下や寿命の短縮につながるため、正確な温度制御が不可欠です。特に、高出力レーザーや精密な実験においては、安定した冷却環境が求められます。サーモクーラー VLシリーズは、-50℃までの極低温環境を提供し、レーザー素子の最適な動作温度を維持することで、性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・レーザー素子の冷却 ・レーザー実験における温度管理 ・レーザー加工における安定した性能維持 【導入の効果】 ・レーザー素子の寿命延長 ・レーザー出力の安定化 ・実験精度の向上
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【光学機器向け】パンチピンによるレンズ金型加工

【光学機器向け】パンチピンによるレンズ金型加工
三和クリエーション株式会社
光学機器業界では、レンズの精密な形状と高い品質が求められます。レンズの性能は、金型の精度に大きく左右され、パンチピンの品質が重要になります。パンチピンの摩耗や精度不足は、レンズの品質低下や製造効率の悪化につながる可能性があります。当社パンチピンは、超硬合金やPCD(人工多結晶ダイヤモンド)等の材質を使用し、レンズ金型加工における高い精度と耐久性を実現します。 【活用シーン】 ・レンズ金型加工 ・精密部品加工 ・金型部品の交換 【導入の効果】 ・レンズの高品質化 ・金型寿命の延長 ・加工精度の向上
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ピコ秒パルスレーザ光源『LDB-200シリーズ』

ピコ秒パルスレーザ光源『LDB-200シリーズ』
珠電子株式会社
『LDB-200シリーズ』は、半導体レーザ(LD)を使用したピコ秒パルス レーザ光源です。 学術研究から製品開発まで幅広くご利用いただけます。 5V電源ケーブル付属のため、特別な電源の用意も必要ありません。 また、ノートPCからUSB接続で手軽にご使用いただけます。 【特長】 ■ファイバー出力タイプのみ ■半導体レーザ(LD)を使用 ■フルケース仕様なので電磁ノイズが軽減される ■ターンキースイッチ付き ■インターロックコネクタで安全対策が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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コムネット レーザーカッター『C180 II』

コムネット レーザーカッター『C180 II』
コムネット株式会社
『C180 II』は、ギフト・グッズのほとんどが製作できる性能をもつ レーザーカッターです。 テーブル1台分のマシンサイズですが、A3サイズ（458×305mm）の 加工エリアが確保されています。 さらに、前面扉を開けた状態で加工ができ、ゴルフクラブやバッド、 竹刀のグリップ部分など、長い素材への彫刻も可能です。 【特長】 ■A3サイズ(458mm×305mm)加工エリア ■アクリル、木材、生地、革、ゴム等様々な素材に彫刻&カットができる ■テーブル1台分のマシンサイズ ■前面扉を開けた状態で加工ができる ■ゴルフクラブやバッド、竹刀のグリップ部分など長い素材への彫刻も可能 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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中型レーザー加工機「SPIRIT LS PRO」

中型レーザー加工機「SPIRIT LS PRO」
コムネット株式会社
SPIRIT LS PROは、中型タイプのCO2レーザー加工機（レーザーカッター）です。 印刷業界でレーザーカッターに求められるのは、トムソン等の抜き加工では難しい微細な紙の切抜き加工です。 紙等のカットした際に焦げの発生しやすい素材をキレイにカットするには、素早くカットすることが重要です。 SPIRITなら入り組んだ細かなカットでも素早く加工し、焦げを軽減します。 【特徴】 ■ワット数：40W／80W ■加工エリア：640×460mm ■最大駆動速度：3,048mm/秒 ■前後扉開放で長尺加工可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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ガルバノ連動超精密ステージ『GRANAS-40XY-GL』

ガルバノ連動超精密ステージ『GRANAS-40XY-GL』
ピー・ヂー・ダブリュー株式会社
『GRANAS-40XY-GL』は、レーザ、ガルバノとXY超精密ステージが 同期連動して動作可能なシステムです。 溶接、切断、スクライブ、穴あけ等のレーザー微細加工をはじめ、 レーザーマーカ、計測機器にご使用いただけます。 【特長】 ■レーザー各種に対応可能(532nm、パルスレーザー、他) ■キヤノン製ガルバノスキャナ搭載 ■XY超精密グラナイトエアスライダー搭載 ■コントローラPowerPMAC搭載 【当社がお選びいただく理由】 ・5000×3000クラスの石を常に在庫で持ち、切断から製品完成までの一貫生産により短納期にも対応 ・平面／平行／直角精度保証値は、お客様のニーズにお応えします。 ・石製品の修正／改造／メンテナンスを行います。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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シール・ラベル用レーザー加工機 COMBAT（コンバット）

シール・ラベル用レーザー加工機 COMBAT（コンバット）
コムネット株式会社
SEIシリーズ COMBATは、コンパクトなシール・ラベル製作用レーザー加工機です。 高速、正確に抜き加工ができるレーザー加工にくわえ、巻き出し、ラミネート、カス上げ、スリッターなど、 シール・ラベルの後加工に必要な機能が搭載されています。
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250W水銀光源 REX-250

250W水銀光源 REX-250
朝日分光株式会社
248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択･切り換えが可能なUV照射装置です。 光学フィルターによって必要な水銀輝線波長のみを取り出すことができます。 シャッター、タイマー照射、光量調整、フィルターチェンジャー、外部制御など多彩な機能を標準装備しています。
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レーザーマーカー専用架台『APLシリーズ』

レーザーマーカー専用架台『APLシリーズ』
株式会社アヴァンスラボ
当社では、治具止め穴が設けてあり使い勝手の良い仕様となっている Panasonic社製のレーザーマーカー専用架台『APLシリーズ』を 取り扱っております。 『APLシリーズ』は、ハンドルを回すだけで必要な高さに調整可能。 また、加工時にヒュームが発生するため、吸排気口も設けております。 【形式】 ■APL-1 ■APL-2 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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半導体レーザ素子駆動制御用周辺機器

半導体レーザ素子駆動制御用周辺機器
株式会社ＹＨＴＣ
【半導体レーザ光源・LD光源】 　実装LD素子の仕様性能を限りなく再現した安定化基準LD光源。 　UVから遠赤外帯域までの波長LD素子を取そろへ実装。 【光源制御要素】 　★ノイズレストランスの採用。 　★APC駆動制御＆ＡＣＣ駆動制御回路。 　★LD素子保護回路。 　★温度制御：±1/100℃制御。PID制御回路採用。 　★国内外よりお客様に見合った波長、パワーのLD素子を取り揃えます。 　★安全に作業を遂行出来るよう、工夫され誕生した半導体レーザ（ＬＤ）マウンター治具を以下に紹介致します。 　★LD専用の各種PIN配置に見合ったコネクター採用。 　★Φ0.7微少白金抵抗体＆サーミスター採用。
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緑/青/赤色・赤外線などのレーザーモジュール（OEM、ODM可）

緑/青/赤色・赤外線などのレーザーモジュール（OEM、ODM可）
エジスモステクノロジー株式会社
エジスモスのレーザーモジュールは、レーザーアプリケーション用に、自己完結型のダイオードのレーザーモジュールです。製造能力は1ヶ月あたり1,000,000個です。 エジスモスは青色レーザーダイオードモジュール、DPSSグリーンレーザモジュール、赤色レーザーダイオードモジュールおよび赤外線ダイオードレーザーモジュールなどを販売しています。 ダイオードレーザモジュールは、陽極酸化アルミニウム、ニッケルメッキ、真鍮ハウジング、レーザーダイオー ド、ドライバ IC及びコリメートレンズで構成されています。 また、電気接続は外部のフライングリードが行われます。
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半導体レーザ装置『LDFシリーズ』

半導体レーザ装置『LDFシリーズ』
レーザーライン株式会社
『LDFシリーズ』は、高出力半導体レーザのベンチマークです。 レーザ出力が20kWを超える発振器もキャスター移動可能で、一人の作業者 だけで他の場所に移動させ、製造ラインに組み込むことができます。 移動先で使用するには、電流、水、光ファイバーがあれば十分です。 当シリーズは高いビーム品質でマルチキロワットの出力が得られます。 【特長】 ■実践で証明されたアクティブ半導体レーザ素子冷却技術 ■全システム部品の内部ネットワーク化 ■従来のシステムと互換性のあるインターフェース ■30,000時間以上操作できるように設計された丈夫なシステム ■半導体レーザ素子は5年間保証、レーザ装置は2年間保証 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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トップハットビームシェイパー　テクノロジー

トップハットビームシェイパー　テクノロジー
株式会社 彩世
彩世のトップハットビームシェイパーは、従来技術のDOE式と同様に光の回折を利用してガウシアンビームをトップハット（均一な強度分布）に変換しますが、DOE式 とは一角を成す、以下のような優れた特徴を持ちます。これらは、従来のDOE式の欠点を解決する革新的なトップハットビームシェイパーと言えます。 ＊【多波長対応】ひとつの素子で広い波長範囲の対応が可能 ＊【高精度】　　偽スポットがないため、光の照射や計測制度が向上 ＊【高効率】　　理論効率が高く、性能の安定性が向上 ＊ライン状や正方形状、丸の光ビームに変換できます。 μLINEMAN(LBS)・・・・照度均一のライン μSQUAREMAN(MBS)・・照度均一の正方形 を所望の焦点位置に形成いたします。 μLINEMAN、μSQUAREMANは上述の特徴を生かして複数光源の搭載も可能です。 また、ラインや正方形のサイズ変更、円形、長方形への変換、あるいはトップハット以外の強度分布への変換等、カスタマイズも可能です。
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DPSS ナノ秒パルスレーザ&レーザマーカ

DPSS ナノ秒パルスレーザ&レーザマーカ
株式会社ニレコ
『HR-G10』は、高繰返し、短パルス幅が特長のDPSSパルス・グリーンレーザです。熱影響の小さい高品質・高精度な加工が可能です。また、カスタマイズにも対応します。 【特長】 ■完全空冷、B5版サイズのヘッドから10W以上を出力し、装置の小型化に寄与 ■高繰返し、短パルス幅で熱影響の小さい高品質・高精度な加工が可能 ■専用GUI もしくは専用リモートコンソールによる制御 ■M2
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レーザーレンズ 光学レンズ ブリズム　反射レンズ

レーザーレンズ 光学レンズ ブリズム　反射レンズ
LASER STAR CO., LTD.(レーザースター沛星光電有限公司)
レーザースター光電有限会社は各種類の光学レンズ、フィルター、光学カメラレンズ、プリズムの設計と生産、OEMとODMの専門家です、光学レンズ、フィルター、光学レンズ、プリズム、ウィンドウレンズ、縮小レンズ、視野レンズ、拡大鏡などの全面的な光電部品を提供する会社です。光学レンズの加工とコーティングのサービスも提供致します。 沛星光電有限公司 Laser Star Co., Ltd サービス時間：09:00-18:00 土日休み 吳經理 Ray Wu Mobile: 0923-254188 Email: ray@laserlens.com.tw TEL: 886-4-22383033
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電子制御メカニカルシャッター

電子制御メカニカルシャッター
株式会社アド・サイエンス
◆豊富なラインナップ −シャッターは多数のラインナップがあり、開口径やシャッタースピード,サイズなどからご選定頂けます。 ◆高速動作 −高速な開閉動作が可能です。 ◆小型サイズ −組込み用途には超薄型(Un-Housed style)タイプも供給可能です。 ◆対高出力光源ブレードオプション −シャッターブレードは標準で艶消し黒色テフロンコーティングがされていますが、高出力光源(レーザー/水銀・キセノンランプ)向けに反射コーティングしたブレードをご選定頂けます。(オプション) ◆ＳＹＮＣ機能による高精度な露光制御 −シャッターブレードの開閉を検知し、フィードバック信号を外部出力するＳＹＮＣ機能は、より高度な露光制御を可能にします。 ◆各種取付けマウントに対応 −接続用には各種マウントを取り揃えており、ビデオ用(Cマウント他)から顕微鏡用(オリンパス/ニコン/Zaiss/Leica)まで幅広く対応可能です。 ◆真空対応可能 −低〜中真空に対応可能です。(オプション)
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【大成プラスの主力技術】肉厚レンズ

【大成プラスの主力技術】肉厚レンズ
大成プラス株式会社
大成プラス株式会社の主力技術である「肉厚レンズ」に ついてご紹介いたします。 当社では、2色成形を用いた独自のノウハウで、保圧冷却時間を 削減・成形サイクルを半減させた肉厚の導光レンズを提案。 これにより、生産効率が向上することで、コストを抑えることも 可能になります。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【製品実績例】 ■品目：球体導光レンズ(4個取り) ■樹脂：PMMA＋PMMA(※またはPC) ■製品サイズ：直径Φ60mm、厚み20mm ■成形機：2色成形機(SE280T) ■セールスポイント：成形サイクル半減による生産効率UPコスト低減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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『UVレーザー10W』

『UVレーザー10W』
株式会社デルファイレーザージャパン
『UVレーザー10W』は、厳選されたLDポンプと波長変換素子を搭載した UVレーザーです。 優れたビームモードと短パルス幅により、品質の高い微細加工が可能です。 ガラスの切断や、サファイアー加工・微細穴あけなどに使用できます。 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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ファイバカップリングLDマーキング『LDFシリーズ』

ファイバカップリングLDマーキング『LDFシリーズ』
ネオアーク株式会社
『LDFシリーズ』は、レーザ源が光ファイバで接続する独⽴したLDユニットのため、 レーザ出射部を取り外すことなく、レーザ交換が行える ファイバカップリングLDマーキングです。 光ファイバ⽅式を採⽤することによりレーザ出射部と コントロールボックスを分離し、レーザラインの調整、 取り扱いの利便性を改善しました。 【特長】 ■新しいレーザラインプロジェクタ ■取り回し・設置が簡単な光ファイバ方式 ■らくらくレーザ交換 ■製材、鉄鋼、縫製、様々な現場に ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
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LD用高性能コリメーターレンズ

LD用高性能コリメーターレンズ
株式会社オプトライン
独自のレンズ設計によるコリメートレンズユニット。 従来品と異なり、高出力にも対応可能で、かつ、 波面収差も抑えた設計。 ● 高出力LD（約10W）にも使用可。 ● 透過波面収差 λ/20以下 （設計値）。 ● 近紫外〜近赤外までラインアップ。
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ストロボ発光部『TCFX-04A』

ストロボ発光部『TCFX-04A』
東京コイルエンジニアリング株式会社
『TCFX-04A』は、反射鏡を支える部品であるホルダにトリガー コイルを内蔵した「ホルダーコイル」を使用するストロボ発光部です。 光学シミュレーションを行い、お客様のご要望に沿った 発光部をご提供することも得意としております。 ホルダにトリガーコイルを内蔵する事で光学部分を大きく 確保する事ができ、光学性能を優先した設計が可能です。 トリガーの高電圧をホルダで封止しているため 高圧部からの沿面距離を確保する必要がありません。 【特長】 ■小型、小スペース ■高圧部を露出させることなく反射鏡(Xe管)に出力電圧を伝達可能 ■発光部として沿面距離不足が解消される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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紫外線接着/紫外線硬化用光源装置　AT750

紫外線接着/紫外線硬化用光源装置　AT750
ARK TECH株式会社
AT750は、光学レンズの貼り合わせ、微小部品や光学部品の紫外線硬化用光源装置です。小型設計のため、設置場所の省スペース化が可能です。入力電源は単相で100V仕様が90～110V、200V仕様が180～220Vになります。入力電流は約10A、消費電力は約1kVAです。電源及びランプハウスは一体型で、ランプ寿命は2000時間です。また、使用環境温度は0～40℃、本体外形寸法は350（W）×483（H）×350（D）mmです。重量は約25kgになります。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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【開発・製造実績紹介】赤外・レーザー用、光学要素(レンズなど)

【開発・製造実績紹介】赤外・レーザー用、光学要素(レンズなど)
株式会社エリオテック
当社の「赤外・レーザー用、光学要素(レンズなど)」の開発・製造実績 をご紹介します。 レーザー外径測定器用大型レンズや、fθレンズ、紫外、 赤外アクロマートレンズなどを開発・製造。 そのほか、サファイア、セラミック製レンズ・プリズムや、 光ファイバ用集光・コリメート用レンズなどもございます。 【実績(一部)】 ■レーザー外径測定器用大型レンズ ■fθレンズ ■紫外、赤外アクロマートレンズ ■サファイア、セラミック製レンズ・プリズム ■光ファイバ用集光・コリメート用レンズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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空冷固体UVレーザー発振器『紫外線(空冷)1W』

空冷固体UVレーザー発振器『紫外線(空冷)1W』
株式会社HiPA Photonics Japan
空冷固体UVレーザー『紫外線(空冷)1W』は、伝導による熱放散と 空気の対流による熱放散を組み合わせた熱管理を行っている製品です。 水冷固体UVレーザーに比べ、面倒な水循環システムを不要とし、簡単に 設置することが可能。 完璧なビーム品質、高い安定性、長い耐用年数、高い一貫性、便利な設置 およびメンテナンス操作の性能を備えています。 【特長】 ■完璧なビーム品質 ■高い安定性 ■長い耐用年数 ■高い一貫性 ■便利な設置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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光反応用LED光源 CLシリーズ

光反応用LED光源 CLシリーズ
朝日分光株式会社
コントローラーは1chタイプ(CL-1501)と3chタイプ(CL-1503)をご用意しております。 ラインナップ以外の波長をご要望にあわせてカスタム可能です。 ＜LED波長＞ 365nm、385nm、395nm、405nm、430nm、450nm、470nm、505nm、525nm、568nm、590nm、615nm、625nm、660nm、730nm、830nm、850nm、860nm、940nm ※特注例：690nm、ホワイト ＜オプション＞ ・タイマー CL‐TCN1 ・通信ユニット (外部制御) ・ライトガイド(ファイバー)接続アダプタ ・フィルターホルダー
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【資料】レーザの本質－危険性について考える

【資料】レーザの本質－危険性について考える
トルンプ株式会社
当資料は、レーザに少しでも携わっている方、また今後携わるかもしれない方に 是非読んでいただきたい冊子です。 レーザ装置は今や身近に感じるところまで普及してまいりましたが、普及の 速度とは裏腹に"レーザの本質＝危険な光である"ということへの認識は、 いまだ低いと言わざるを得ません。本誌ではそうした現状に警鐘を鳴らし、 知識の普及を目指します。 また当社では、レーザの発振原理や眼の構造とレーザ波長の関係性、 保護メガネなどの安全対策といったより深く掘り下げた内容のセミナーも 開催しています。ぜひご一読ください。 【掲載内容】 ■レーザは危険？ ■眼で見ることができないレーザ ■なぜ不可視レーザが怖いのか ■レーザの本質をもっと理解したいとお考えの方へ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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パワーを自動制御し安定化するレーザパワーコントローラ　LPC

パワーを自動制御し安定化するレーザパワーコントローラ　LPC
フォトテクニカ株式会社
LPCはCWまたはモードロックレーザのパワーを自動制御し正確に手軽に安定化することができます。ビームの減衰器として、スタビライザとして、またパワーメータとしても使用できる。 ＢＥＯＣ社製レーザパワーコントローラ(ＬＰＣ）は、レーザビーム出力をＰＣで自動制御し、0.025％まで安定化することができる。 主な仕様： 　波長425〜1700nm のCWまたはモードロックレーザのノイズを5KHzまで削減でき、ビーム出力を0.025%まで安定化できる。最大入力4Wまで可能。USB標準装備。GPIBオプション。
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レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とするその他すべてのアプリケーション用途でのマスクやウェーハへの高速高精度パターニングが可能です。 グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。 【特長】 ■高い安定性・高速高解像度露光 ■5つの描画モードまで切替が可能 ■高精度アライメントカメラシステム ■グレースケール描画モード ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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垂直スタック

垂直スタック
株式会社ルクスレイ
当社で取り扱っている「垂直スタック」についてご紹介いたします。 動作は、Uncollimated(EN)とFast-Axis Collimated(EY)において 水冷によりCWとQCWが可能。おなじく水冷式でBoth Axis Collimated(EB)は CWで利用できます。 また、2,200本のバーと同じくらい高く、二次元の配列で 構成されることができます。 【特長】 ■水冷によりCWとQCWが可能 ■水冷式でBoth Axis Collimated(EB)はCWで利用可能 ■50％のデューティーが可能 ■2,200本のバーと同じくらい高く、二次元の配列で構成 ■ピークパワーは、2％のデューティで300Wに達することが可能 ■Fast-axisコリメートバージョンは1.6mmピッチが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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UV~IR　ダイオードレーザー

UV~IR　ダイオードレーザー
有限会社サンプラス
低価格、短納期を実現したＬＤ光源装置です。
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光半導体・電子デバイスにおけるレーザー加工の高速化

光半導体・電子デバイスにおけるレーザー加工の高速化とは？

光半導体や電子デバイスの製造プロセスにおいて、微細かつ高精度な加工を実現するためにレーザー技術が不可欠となっています。この「レーザー加工の高速化」とは、加工時間を短縮し、生産性を向上させることを目的としています。これにより、デバイスのコスト削減や市場投入までのリードタイム短縮が期待されます。

​課題

加工時間の長期化による生産性低下

従来のレーザー加工では、微細な加工を行うために時間を要し、これが全体の生産性を低下させる要因となっています。

熱影響によるデバイス性能への影響

高速化を目指すあまり、加工時の熱影響が大きくなり、光半導体や電子デバイスの性能を損なうリスクがあります。

加工精度維持の難しさ

加工速度を上げると、狙った箇所への精密な照射が難しくなり、歩留まりの低下を招く可能性があります。

多様な材料への対応の限界

光半導体や電子デバイスには様々な材料が使用されており、高速かつ均一に加工できるレーザー技術の適用範囲が限られています。

​対策

高出力・短パルスレーザーの活用

より短い時間で高エネルギーを照射できるレーザー光源を用いることで、加工時間を大幅に短縮します。

精密なビーム制御技術の導入

レーザー光の集光・走査を高度に制御することで、熱影響を最小限に抑えつつ、高精度な加工を実現します。

加工プロセス最適化ソフトウェア

AIなどを活用し、材料や加工内容に応じた最適なレーザー条件や加工パスを自動で生成・最適化します。

ハイブリッド加工プロセスの開発

レーザー加工と他の加工技術（例：機械加工、プラズマ加工）を組み合わせることで、それぞれの長所を活かし、効率的な加工を目指します。

​対策に役立つ製品例

超短パルスレーザー光源

極めて短いパルス幅で高ピークパワーのレーザーを発生させ、材料への熱影響を抑えつつ高速な加工を可能にします。

高精度ガルバノスキャナー

レーザー光を高速かつ正確に走査することで、微細なパターンを迅速に描画し、加工精度を維持します。

インライン計測・フィードバックシステム

加工中にリアルタイムで寸法や品質を計測し、その結果をレーザー制御にフィードバックすることで、不良品の発生を防ぎます。

多光子吸収レーザー加工装置

特定の波長のレーザーを複数重ねて照射することで、材料内部に選択的に加工を施し、表面へのダメージを抑えつつ高速化を図ります。

⭐今週のピックアップ

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